[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

DE4203464B4 - Katadioptrisches Reduktionsobjektiv - Google Patents

Katadioptrisches Reduktionsobjektiv Download PDF

Info

Publication number
DE4203464B4
DE4203464B4 DE19924203464 DE4203464A DE4203464B4 DE 4203464 B4 DE4203464 B4 DE 4203464B4 DE 19924203464 DE19924203464 DE 19924203464 DE 4203464 A DE4203464 A DE 4203464A DE 4203464 B4 DE4203464 B4 DE 4203464B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
lens
concave mirror
beam splitter
mirror
objective
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE19924203464
Other languages
English (en)
Other versions
DE4203464A1 (de
Inventor
Gerd FÜRTER
Wilhelm Ulrich
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE19924203464 priority Critical patent/DE4203464B4/de
Publication of DE4203464A1 publication Critical patent/DE4203464A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4203464B4 publication Critical patent/DE4203464B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08Catadioptric systems
    • G02B17/0892Catadioptric systems specially adapted for the UV
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/14Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
    • G02B13/143Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation for use with ultraviolet radiation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/22Telecentric objectives or lens systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/24Optical objectives specially designed for the purposes specified below for reproducing or copying at short object distances
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08Catadioptric systems
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70225Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Lenses (AREA)

Abstract

Katadioptrisches Reduktionsobjektiv mit Hohlspiegel (15), Strahlteiler (300) und mehreren Linsengruppen (100, 200, 400), dadurch gekennzeichnet, daß der Lichtweg zwischen Hohlspiegel (15) und Strahlteiler (300) frei von Linsengruppen angeordnet ist, und daß der Hohlspiegel (15) einen wesentlich verkleinernden Abbildungsmaßstab hat.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein katadioptrisches Reduktionsobjektiv mit Hohlspiegel, Strahlteiler und mehreren Linsengruppen. Aus EP 0 350 955 A , US-Anmeldung Ser. No. 223 968/1988, ist ein solches bekannt. Dieses weist vier Linsengruppen auf, wobei die dritte zwischen Strahlteiler und Hohlspiegel angeordnet ist. Diese soll Koma niedriger Ordnung und sphärische Aberration des Spiegels sowie den Gaußfehler korrigieren. Ihre Anordnung zwischen Strahlteiler und Spiegel und die daraus resultierende zweimalige Passage des Lichts bedingen jedoch eine hohe Toleranzempfindlichkeit auf Dezentrierung mit Einfluß auf die Koma-Korrektion. Die Brechkraft dieser dritten Linsengruppe ist nahezu Null, um eine breitbandige spektrale Korrektion nicht zu gefährden.
  • Bei einer deutlichen Vergrößerung der bildseitigen Apertur bedingt der Platzbedarf dieser dritten Linsengruppe die Forderung nach einem sehr großen Abstand der vierten Linsengruppe vom Spiegel, der im Extremfall größer als deren Brennweite werden kann. Dies ergibt zusätzlich zu wesentlich erhöhtem Fertigungsaufwand auch eine enorme Vergrößerung der Schwierigkeiten für die optische Korrektion.
  • Aus US 3 698 808 , dort insbesondere Anspruch 6 und 4 ist ein mikrolithographischer Projektionsapparat bekannt mit einer ersten Linsengruppe, einem teildurchlässigen Planspiegel unter 45 Grad, einem konkaven Spiegel und einer unter 90 Grad zur Achse von erster Linsengruppe und konkavem Spiegel angeordneten zweiten Linsengruppe. Die Aufteilung des Projektionsobjektivs und die Einführung des Planspiegels dient der Überlagerung einer zweiten Lichtquelle mit sichtbarem Licht zur Positionskontrolle über das UV-Licht einer ersten Licht quelle, das die eigentliche Lithographie bewirkt. Der Vergrößerungsmaßstab ist minus Eins bei gleich hoher Apertur beider Linsengruppen. Der Übergang zu einem Objektiv mit wesentlicher Verkleinerung ist jedoch schwierig, wie auch in der Einleitung von US 4 953 960 angegeben.
  • Aus der nicht vorveröffentlichten DE 41 10 296 A1 ist ein katadioptrisches Reduktionsobjektiv mit polarisierendem Strahlteilerspiegel bekannt.
  • Aus dem deutschen Gebrauchsmuster DE 69 44 528 U ist ein katadioptrisches Objektiv mit einer Vergrößerung von 1,5 : 1 bekannt, bei dem zwischen Strahlteiler und Konkavspiegel eine plankonvexe Linse vorgesehen ist.
  • Es ist die Aufgabe der Erfindung, ausgehend von einem gattungsgemäßen Reduktionsobjektiv, deutlich höhere bildseitige Apertur bei reduzierter Justierempfindlichkeit und günstiger Konstruktion darzustellen. Das Objektiv soll für die Projektions-Mikrolithografie geeignet sein.
  • Diese Aufgabe wird für ein gattungsgemäßes Reduktionsobjektiv dadurch gelöst, daß zwischen Hohlspiegel und Strahlteiler keine Linsengruppe angeordnet ist und daß der Hohlspiegel eine erhebliche Reduktionswirkung hat.
  • Vorteilhafte Ausführungen und Weiterbildungen sind Gegenstand der Unteransprüche 2 bis 11.
  • Näher erläutert wird die Erfindung an den in der Zeichnung und den Tabellen dargestellten Ausführungsbeispielen.
  • 1 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel im schematischen Schnitt;
  • 2 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel im schematischen Schnitt;
  • 3 zeigt ein drittes Ausführungsbeispiel im schematischen Schnitt;
  • 4 zeigt schematisch einen mikrolithographischen Projektionsapparat, bekannt als Wafer Stepper, mit dem katadioptrischen Reduktionsobjektiv der 3.
  • In der 1 und der Tabelle 1 sind für das erste Beispiel die Objektebene (O), die optischen Grenzflächen (1) bis (26) gemäß der Tabelle 1 und die Bildebene (27) dargestellt. In der Objektebene (O) liegt vorzugsweise eine Lithografievorlage (Retikel), in der Bildebene (27) ein zu belichtender Wafer. Die erste Linsengruppe (100) besteht lediglich aus einer Einzellinse mit den Grenzflächen (1) und (2). Die Grenzflächen (3) bis (12) bilden eine zweite Linsengruppe (200). Ihr Abstand zur ersten (100) ist größer als der Lichtbündeldurchmesser, so daß im Zwischenraum bei Bedarf ein Umlenkspiegel diagonal angeordnet werden kann, entsprechend der EP 0 350 955 A und nach der 3. Der Strahlteiler (300) hat die Eintrittsfläche (13), die Austrittsfläche (14) identisch mit der Wiedereintrittsfläche (16), die diagonal angeordnete teilende Spiegelfläche (17) und die Austrittsfläche (18).
  • Der Strahlteiler (300) hat genaue Würfelform, was fertigungstechnisch einfacher ist als der Pyramidenstumpf nach der EP 0 350 955 A . Ohne Zwischenglieder ist der Hohlspiegel (15) nahe am Strahlteiler (300) angeordnet. Der Hohlspiegel (15) definiert durch seinen Rand die Blende des Systems. Die Blende kann jedoch auch auf der Austritts- und Wiedereintrittsfläche (14, 16) des Strahlteilers (300) liegen oder durch ein gesondertes Teil im Raum zwischen diesen beiden realisiert sein. Eine dritte Linsengruppe (400) mit den Grenzflächen (19) bis (26) vervollständigt den Aufbau, Bild der Objektebene (O) ist die Bildebene (27).
  • Alle Glasteile sind aus dem gleichen Quarzglas mit n 1,50855 bei 248 nm gefertigt.
  • Das Objektiv hat so eine größte Objekthöhe von 60 mm bei telezentrischem Strahlengang. Mit der Verkleinerung von 4 : 1 ist bildseitig die Bildhöhe 15 mm, die numerische Apertur 0,52 und der Strahlengang ebenfalls telezentrisch. Der Spiegel hat einen freien Durchmesser von 139 mm, der größte Durchmesser des Strahlenbündels im Objektiv beträgt 159 mm an der Grenzfläche (3). Die Gesamtbrennweite der Linsengruppen (100) und (200) beträgt 475 mm, der Hohlspiegel (15) hat 158 mm und die nachfolgende dritte Linsengruppe (400) hat 129 mm Brennweite.
  • Der Abbildungsmaßstab des Hohlspiegels (15) ist 0,14. Er trägt zu einem erheblichen Teil zur gesamten Verkleinerung des erfindungsgemäßen Objektivs bei. Tabelle 4 verzeichnet bevorzugte Bereiche des Abbildungsmaßstabs des Hohlspiegels (15) für verschiedene Verkleinerungen des Gesamt-Objektivs.
  • Um Vignettierungen zu vermeiden, liegt die Aperturblende am Ort des Hohlspiegels. Zur Erfüllung der bildseitigen Telezentrie-Bedingung muß der Brennpunkt der dritten, dem Hohlspiegel (15) nachgeschalteten, Linsengruppe (400) in der Blende liegen, also im Hohlspiegel (15). Zugleich müssen zwischen der dritten Linsengruppe (400) und dem Hohlspiegel (17) der Strahlteiler (300) und, bei einer Ausführung nach EP 0 350 955 , die zusätzliche Linsengruppe Platz haben.
  • Das Objektiv nach EP 0 350 955 , 1, hat bei einer bild seitigen numerischen Apertur von 0,45, einem freien Spiegeldurchmesser von 112 mm und einer Brennweite der nachgestellten Linsengruppen von 131 mm einen auf Luft umgerechneten Mindestabstand zum Spiegel, herrührend vom Strahlteiler und der Linsengruppe zwischen diesem und dem Hohlspiegel, von 108 mm, und somit genug Spielraum zur Erfüllung der Lageforderung, wonach die Brennweite größer als die Schnittweite sein soll.
  • Auf Luft umgerechneter Abstand heißt die reduzierte Strecke, die als Summe der Quotienten aus den Einzelstrecken und den Brechungsindices der jeweiligen Medien definiert ist
    Figure 00050001
  • Mit der numerischen Apertur von 0,52 und den weiteren Daten des hier gezeigten Beispiels wird jedoch der entsprechende Abstand 115 mm, so daß die erfindungsgemäße Lösung ohne weiteres realisierbar ist, die Einfügung einer Linsengruppe mit etwa 25 mm entsprechendem Luftweg jedoch zur deutlichen Überschreitung der Brennweite (129 mm) führt. Ein dann auftretendes Retrofokusverhältnis (Pupillenabstand/Brennweite) größer Eins wäre sehr nachteilig und würde erhebliche Korrekturmaßnahmen und Mehraufwand in der dritten Linsengruppe (400), z.B. starke negative Brechkräfte nahe der Bildebene bedingen.
  • Die Brennweite der Linsengruppe (400) wird im wesentlichen nur durch das Verhältnis des Spiegeldurchmessers zur bildseitigen Apertur bestimmt. Eine Verlängerung dieser Brennweite würde also einen größeren Hohlspiegel (15) und somit auch einen größeren Strahlteiler (300) bedingen. Dies ist aus konstruktiven, wirtschaftlichen und fertigungstechnischen Gründen jedoch nicht erwünscht. Außerdem vergrößert sich wegen des zusätzlichen Platzbedarfs durch die größeren Durchmesser auch die erforderliche Schnittweite dieser Linsengruppe, so daß das definierte Retrofokusverhältnis nur unwesentlich günstiger wird.
  • Bei höheren Aperturen ab etwa 0,50 tritt also für eine Konstruktion nach EP 0 350 955 ein Platzproblem zur Unterbringung der optischen Baugruppen auf, was durch die hier vorgestellte Lösung vermieden wird.
  • Vorteilhaft für die Anwendung ist die Ausbildung der dritten Linsengruppe (400) mit geringer Krümmung der letzten Linsenfläche (26) und einer Schnittweite von 5 mm zur Bildebene und einem entsprechenden Arbeitsabstand der ein einfaches Handhaben der zu belichtenden Wafer erlaubt.
  • In der Tabelle 1 sind die genauen Objektivdaten angegeben. Tabelle 3 zeigt Vergleichsdaten für dieses Beispiel, das der 2 und die Ausführung nach EP 0 350 955 , 1.
  • Ein zweites Ausführungsbeispiel für gleiche Bestimmungsgrößen des Objektivs (Bildfeld, Abbildungsmaßstab, bildseitiger Arbeitsabstand, beidseitig telezentrisch, Grundwellenlänge 248 nm, eine Glassorte), bei weiter erhöhter bildseitiger Apertur von 0,58 zeigt 2. Die Daten sind in Tabelle 2 zusammengefaßt.
  • Dieses Beispiel hat in der dritten Linsengruppe (400) eine Linse mehr als das Beispiel der 1.
  • Weiter ist der Strahlteiler (300) – wie in EP 0 350 955 , 1 – als Pyramidenstumpf ausgebildet.
  • Die seitlichen Flächen des Pyramidenstumpfs einschließlich der Austrittsfläche (18') sind dem von der zweiten Linsengruppe (200') zum Hohlspiegel (15') laufenden Strahlenbündel angepaßt.
  • So entfällt Glasvolumen und es wird das bei Beispiel 1 beschriebene Abstandsproblem Hohlspiegel (15') – dritte Linsengruppe (400) etwas entschärft.
  • Die dadurch auftretende Schräglage der Austrittsfläche (18') gegen die optische Achse wird durch die ebenfalls entstehende Abweichung der Spiegelfläche (17') vom 45°-Winkel kompensiert.
  • Auch bei dieser Lösung für die große bildseitige Apertur von 0,58 gelingt es, eine Retrofokus-Objektivausführung der dritten Linsengruppe (400') zu vermeiden. Nur eine Linse macht der Mehraufwand für die höhere Apertur aus, abgesehen von den größeren Querschnitten der optischen Elemente.
  • Tabelle 3 zeigt im Vergleich wichtige Kenndaten der Beispiele nach 1 und 2 neben der Ausführung nach EP 0 350 955 , 1.
  • Bei beiden Beispielen ist die chromatische Korrektur für die Verwendung mit einem spektral nicht eingeengten Excimer-Laser mit der Wellenlänge 248 nm ausgelegt. Diese Beispiele können sehr leicht für andere Wellenlängen desselben Lasers bzw. für andere Laser umgerechnet werden. Außerdem können beispielsweise zur Steigerung der chromatischen Korrektion auch mehrere verschiedene Materialien wie etwa Quarz und Flußspat eingesetzt werden.
  • Auch ist die Telezentrie speziell der Objektseite erfindungsunerheblich. Eine weitere Leistungssteigerung durch – allerdings schwer herzustellende – Asphären ist ebenfalls möglich.
  • Der Strahlteiler ist auch in anderer Ausführungsform, beispielsweise als Strahlteilerplättchen, möglich.
  • 3 zeigt eine Abwandlung des Reduktionsobjektivs nach 2, wobei ein Umlenkspiegel (M) zwischen der ersten Linsengruppe (100') und der zweiten Linsengruppe (200') angeordnet ist. Damit können Objektebene (O') und Bildebene (29) parallel liegen.
  • 4 zeigt die Integration dieses katadioptrischen Reduktionsobjektivs (41) nach 3 in einem mikrolithographischen Projektionsapparat, bekannt als Wafer Stepper. In der Objektebene des Objektivs (41) ist eine Maske (42) mit einer x-y-z-Positioniereinheit (421) positioniert. Die Maske (42) wird mit Licht einer geeigneten Wellenlänge, von einer Lichtquelle (44), z.B. einem Excimerlaser, beleuchtet. In der Bildebene des Objektivs (41) ist ein Wafer (43) mittels einer zweiten x-y-z-Positioniereinheit (431) angeordnet.
  • Natürlich können auch die anderen Beispiele des katadioptrischen Reduktionsobjektivs nach 1 und 2 und andere erfindungsgemäße Ausführungen in ähnlicher Weise in einem solchen mikrolithographischen Projektionsapparat integriert sein.
  • Tabelle 1
    Figure 00090001
  • Tabelle 2
    Figure 00100001
  • Tabelle 3
    Figure 00110001
  • Tabelle 4
    Figure 00120001

Claims (12)

  1. Katadioptrisches Reduktionsobjektiv mit Hohlspiegel (15), Strahlteiler (300) und mehreren Linsengruppen (100, 200, 400), dadurch gekennzeichnet, daß der Lichtweg zwischen Hohlspiegel (15) und Strahlteiler (300) frei von Linsengruppen angeordnet ist, und daß der Hohlspiegel (15) einen wesentlich verkleinernden Abbildungsmaßstab hat.
  2. Objektiv nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die bildseitige Apertur mindestens 0,50 ist.
  3. Objektiv nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet daß eine Blende am Ort des Hohlspiegels (15), auf der Aus- und Eintrittsfläche (14, 16) des Strahlteilers oder im Raum zwischen diesen angeordnet ist, und daß der Abstand der Blende zu der dem Hohlspiegel (15) nachgeordneten Linsengruppe (400) in Luft umgerechnet kleiner als deren Brennweite ist.
  4. Objektiv nach den Ansprüchen 1, 2 und/oder 3, gekennzeichnet durch die Korrektur für Laserlicht bei einer Wellenlänge im UV- oder DUV-Bereich.
  5. Objektiv nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahlteiler (300) als Strahlteilerwürfel ausgeführt ist.
  6. Objektiv nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen zwei Linsengruppen (100, 200) vor dem Strahlteiler (300) ein ebener Umlenkspiegel angeordnet ist.
  7. Objektiv nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß alle Linsenelemente und der Strahlteiler (300) aus dem gleichen Material gefertigt sind.
  8. Objektiv nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, gekennzeichnet durch bildseitige Telezentrie.
  9. Objektiv nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, gekennzeichnet durch einen Abbildungsmaßstab im Bereich 1:2 bis 1:10.
  10. Objektiv nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 9, gekennzeichnet durch einen Abbildungsmaßstab des Hohlspiegels (15) im Bereich 0,55 bis–0,10.
  11. Objektiv nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10 gekennzeichnet durch die Verwendung zur mikrolithografischen Projektion mit Strukturen im Submikronbereich.
  12. Mikrolithographischer Projektionsapparat, dadurch gekennzeichnet, daß ein katadioptrisches Reduktionsobjektiv nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10 enthalten ist.
DE19924203464 1991-02-08 1992-02-07 Katadioptrisches Reduktionsobjektiv Expired - Fee Related DE4203464B4 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19924203464 DE4203464B4 (de) 1991-02-08 1992-02-07 Katadioptrisches Reduktionsobjektiv

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEP4103790.1 1991-02-08
DE4103790 1991-02-08
DE19924203464 DE4203464B4 (de) 1991-02-08 1992-02-07 Katadioptrisches Reduktionsobjektiv

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4203464A1 DE4203464A1 (de) 1992-08-13
DE4203464B4 true DE4203464B4 (de) 2007-02-01

Family

ID=25900849

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19924203464 Expired - Fee Related DE4203464B4 (de) 1991-02-08 1992-02-07 Katadioptrisches Reduktionsobjektiv

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE4203464B4 (de)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3235077B2 (ja) * 1991-09-28 2001-12-04 株式会社ニコン 露光装置、該装置を用いた露光方法、及び該装置を用いた半導体素子製造方法
US5537260A (en) * 1993-01-26 1996-07-16 Svg Lithography Systems, Inc. Catadioptric optical reduction system with high numerical aperture
US5559338A (en) * 1994-10-04 1996-09-24 Excimer Laser Systems, Inc. Deep ultraviolet optical imaging system for microlithography and/or microfabrication
US5488229A (en) * 1994-10-04 1996-01-30 Excimer Laser Systems, Inc. Deep ultraviolet microlithography system
US5650877A (en) * 1995-08-14 1997-07-22 Tropel Corporation Imaging system for deep ultraviolet lithography
DE19616922A1 (de) * 1996-04-27 1997-10-30 Zeiss Carl Fa Hochauflösendes lichtstarkes Objektiv
JPH103041A (ja) * 1996-06-14 1998-01-06 Nikon Corp 反射屈折縮小光学系
US5757493A (en) * 1996-10-16 1998-05-26 Tropel Corporation Interferometer with catadioptric imaging system having expanded range of numerical aperture
US6486940B1 (en) 2000-07-21 2002-11-26 Svg Lithography Systems, Inc. High numerical aperture catadioptric lens
DE10104177A1 (de) * 2001-01-24 2002-08-01 Zeiss Carl Katadioptrisches Reduktionsobjektiv
US7136220B2 (en) 2001-08-21 2006-11-14 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric reduction lens
DE10220324A1 (de) 2002-04-29 2003-11-13 Zeiss Carl Smt Ag Projektionsverfahren mit Pupillenfilterung und Projektionsobjektiv hierfür
CN116027528B (zh) * 2023-03-29 2023-06-09 深圳市东正光学技术股份有限公司 同轴远心光学成像系统、照明系统及成像设备

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE6944528U (de) * 1968-11-15 1970-02-12 Nat Res Dev Optische einrichtung mit einem konkavspiegel und mit einem korrekturteil
US3698808A (en) * 1970-03-06 1972-10-17 Anvar Optical masking device
US3917399A (en) * 1974-10-02 1975-11-04 Tropel Catadioptric projection printer
EP0350955A2 (de) * 1988-07-15 1990-01-17 Svg Lithography Systems, Inc. Optisches Verkleinerungssystem
DE4110296A1 (de) * 1990-03-30 1991-10-02 Nikon Corp Optisches system zur katadioptrischen verkleinerungsprojektion

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE6944528U (de) * 1968-11-15 1970-02-12 Nat Res Dev Optische einrichtung mit einem konkavspiegel und mit einem korrekturteil
US3698808A (en) * 1970-03-06 1972-10-17 Anvar Optical masking device
US3917399A (en) * 1974-10-02 1975-11-04 Tropel Catadioptric projection printer
EP0350955A2 (de) * 1988-07-15 1990-01-17 Svg Lithography Systems, Inc. Optisches Verkleinerungssystem
US4953960A (en) * 1988-07-15 1990-09-04 Williamson David M Optical reduction system
DE4110296A1 (de) * 1990-03-30 1991-10-02 Nikon Corp Optisches system zur katadioptrischen verkleinerungsprojektion

Also Published As

Publication number Publication date
DE4203464A1 (de) 1992-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3786648T2 (de) Optisches uebertragungssystem mit vergroesserung.
EP1282011B1 (de) Reflektives Projektionsobjektiv für EUV-Photolithographie
EP0687956B1 (de) Beleuchtungseinrichtung
DE69933973T2 (de) Katadioptrisches optisches system und damit ausgestattete belichtungsvorrichtung
DE69531153T2 (de) Optisches Projektionssystem mit Belichtungsgerät
EP0783137B1 (de) REMA-Objektiv für Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen
WO2000070407A1 (de) Projektionsobjektiv für die mikrolithographie
DE2828530A1 (de) Achromatisches optisches system
DE10143385C2 (de) Projektionsbelichtungsanlage
DE4203464B4 (de) Katadioptrisches Reduktionsobjektiv
DE10127227A1 (de) Katadioptrisches Reduktionsobjektiv
DE19855108A1 (de) Mikrolithographisches Reduktionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und -Verfahren
DE102008007449A1 (de) Beleuchtungsoptik zur Beleuchtung eines Objektfeldes einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
DE102009029471A1 (de) Spiegel zur Verwendung in einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
AT400492B (de) Uv-taugliches trockenobjektiv für mikroskope
DE19818444A1 (de) Abbildungsoptik, Projektionsoptikvorrichtung und Projektionsbelichtungsverfahren
DE10016176A1 (de) Mikrolithographisches Beleuchtungssystem und Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage damit
EP1344112A2 (de) Projektionsobjektiv
DE10320529B4 (de) Dunkelfeld-Beleuchtungssystem
DE102017207582A1 (de) Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren
DE102023200548A1 (de) Chromatisch korrigierte abbildende Beleuchtungsoptik zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Lithografie
DE60306042T2 (de) Relaisobjektiv in einem Beleuchtungssystem eines lithographischen Systems
DE2607710B2 (de) Fotografisches Objektiv mit großer relativer öffnung
DE102022205700A1 (de) Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren
DE2600998C3 (de) Objektiv vom abgewandelten Gauss-Typ

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: ZEISS OPTRONIK GMBH, 73447 OBERKOCHEN, DE

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: CARL ZEISS SMT AG, 73447 OBERKOCHEN, DE

8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee