DE3835767C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer
Kühlvorrichtung für ein Halbleitermodul mit Halbleiterelemen
ten gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Die EP 01 51 068 zeigt eine Kühlvorrichtung für ein Halblei
termodul mit Federbälgen, die durch den Kontakt einer Kühl
platte mit den zu kühlenden Halbleiterelementen zusammenge
drückt werden, wobei kleinere Unebenheiten bzw. Schrägstel
lungen der Halbleiterelemente durch die elastischen Eigen
schaften der Federbälge ausgeglichen werden. Diese bekannte
Anordnung hat jedoch den Nachteil, daß bei größeren Höhenun
terschieden, zum Beispiel zwischen mehreren Halbleiterelemen
ten, die gemeinsam gekühlt werden sollen, auf die Kühlvor
richtung ein erheblicher Druck aufgebracht werden muß, um
auch die tieferliegenden Halbleiterelemente ausreichend ther
misch zu kontaktieren. Der auf die Kühlvorrichtung insgesamt
aufgebrachte Druck konzentriert sich dabei jedoch auf die
höheren Bauelemente, die dadurch sehr stark belastet werden
und dabei sogar brechen können.
Die EP-A-01 96 054 beschreibt ein sehr aufwendiges Herstel
lungsverfahren für Federbälge, wobei eine Anzahl von ringför
migen Elementen aufeinandergesetzt und miteinander verbunden
wird.
Die US-PS-45 93 342 betrifft eine Kühlvorrichtung ohne Kanäle
für ein Kühlmedium und daher auch ohne Federbälge und der
gleichen.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Kühlvorrichtung zu schaf
fen, bei der die auf die Halbleiterelemente übertragenen
Kräfte und Spannungen verringert sind, wobei jedoch eine aus
reichende thermische Kontaktierung aller Elemente sicherge
stellt sein soll.
Diese Aufgabe wird, ausgehend von der im Oberbegriff des neu
en Patentanspruchs 1 genannten Kühlvorrichtung, dadurch ge
löst, daß die im Kennzeichen des Anspruchs 1 angegebenen
Herstellungsschritte angewendet werden.
Bei der erfindungsgemäß hergestellten Kühlvorrichtung ist so
mit das Material der Federbälge durch Ausheizen weicher ge
macht und die Streckgrenze herabgesetzt. Die Länge der Feder
bälge kann somit leicht auf verschiedene Chiphöhen einge
stellt werden, wobei die auf die Chips ausgeübten Kräfte ge
ring und relativ gleichmäßig sind.
Gemäß Hütte: Des Ingenieurs Taschenbuch; Theoretische Grund
lagen, 28. Auflage, Berlin 1955, Seite 1069-1077 ist zwar
bei Stahl die Wärmebehandlung durch Glühen allgemein üblich,
aber Hinweise auf die erfindungsgemäße Verfahrensausbildung
werden nicht gegeben.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung des Verfahrens nach Anspruch
1 ist im neuen Patentanspruch 2 angegeben.
Ausführungsbeispiele des erfindungsgemäßen Herstellungsver
fahrens werden anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zei
gen:
Fig. 1 den Schnitt durch ein Halbleitermodul;
Fig. 2 die Beziehung zwischen einer Verschiebung des Balges
und der Last bei den bekannten Beispielen;
Fig. 3 die Beziehung zwischen einer Verschiebung des Balges
und der Last gemäß der Erfindung;
Fig. 4 (a), 4 (b) und 4 (c) den Vorgang des Zusammensetzens
des erfindungsgemäßen Halbleitermodules;
Fig. 5 den Schnitt durch ein anderes Halbleitermodul.
Bei dem in der Fig. 1 gezeigten Halbleitermodul ist jeder
LSI-Chip 9 mit einer Kühlplatte 6 versehen. An der Kühlplatte
6 ist eine Schürze oder Einfassung 5 befestigt, und die Kühl
platte 6 und die Leiterplatte 12 sind über die Schürze 5 mit
einander verbunden. In einem Gehäuse 1 befinden sich Kanäle
für den Kreislauf von Kühlwasser 13, und ein Kühlelement 68
ist entsprechend jedem LSI-Chip 9 vorgesehen. Das Kühlelement
68 umfaßt die Kühlplatte 6 und zwei Metallbälge 2 zum Zufüh
ren und Ableiten des Kühlmediums. Die Kühlplatte 6 umfaßt ei
ne Kühlrippe 4 zum wirksamen Übertragen der Wärme vom LSI-
Chip 9 in das Kühlmedium und eine Kappe 3 zum Einleiten des
Kühlmediums.
Das eine Ende der Einfassung 5 ist mit der Kühlplatte 6 und
das andere Ende mit der Leiterplatte 12 durch Lot 11 verbun
den. Vorzugsweise bestehen das Gehäuse 1, die Bälge 2 und
die Kappe 3 aus einem Metall hoher Korrosionsfestigkeit,
beispielsweise Ti, Ti-Legierungen, Ni oder Ni-Legierun
gen. Die Kühlrippe 4 besteht vorzugsweise aus einem Metall
mit großer thermischer Leitfähigkeit, beispielsweise Cu, Ni,
Ag, keramisches AlN, SiC, AL2O3 etc. Die Einfassung 5 be
steht wiederum vorzugsweise aus einer Fe-Ni-Legierung oder
einem keramischen Material entsprechend der Leiterplatte,
damit die thermischen Ausdehnungskoeffizienten gleich sind.
Die Verbindung zwischen dem Gehäuse 1 und den Bälgen 2, den
Bälgen 2 und der Kappe 3, der Kappe 3 und der Kühlrippe 4
sowie der Kühlrippe 4 und der Einfassung 5 werden durch eine
Diffusionsverbindung oder ein Lot mit hohem Schmelzpunkt wie
Ag-Lot, Ni-Lot oder Au-Lot geschaffen. Die Rückseite des
LSI-Chips 9 weist eine Isolationsschicht mit bei hoher Tem
peratur oxidiertem SiO2 auf, die mit Cr-Ni-Au metallisiert
und durch ein Lot 7 mit niedrigem Schmelzpunkt über die
Metallisierungsschicht 8 mit der Kühlrippe 4 verbunden ist.
Die Leiterplatte 12 und die Einfassung 5 sind luftdicht mit
einander verbunden. Als niedrigschmelzendes Lot wird Pb-Sn-
In verwendet. Der Raum 67, in dem sich der LSI-Chip 9 befin
det, ist mit He gefüllt.
Gemäß der in der Fig. 1 gezeigten Ausführungsform ist die
thermische Leitfähigkeit des LSI-Chips 9 hoch und die Kühl
leistung hervorragend, da der LSI-Chip 9 und die Kühlrippe 4
mechanisch durch das Lot 7 mit niedrigem Schmelzpunkt ver
bunden sind. Auch wenn zwischen der Leiterplatte und dem Ge
häuse durch Wärme usw. eine Lücke entsteht, wird keine Span
nung aufgrund einer Verformung der Bälge zu den Lötstellen
10 zwischen dem LSI-Chip 9 und der Leiterplatte 12 übertra
gen, da die Kühlplatte durch Lot mit der Leiterplatte ver
bunden ist; die Lebensdauer der Lötstellen ist daher nicht
durch thermische Ermüdung verringert. Da der LSI-Chip 9
luftdicht in einer He-Atmosphäre eingeschlossen ist, kann er
nicht beschädigt werden, wenn an den Verbindungsstellen des
Kühlelementes oder der Bälge Wasser austritt, und die Chip-
Verdrahtung und die Lötstellen können nicht durch Feuchtig
keit korrodieren. Die Zuverlässigkeit der Halbleitervor
richtung ist daher bei der Ausführungsform der Fig. 1 we
sentlich erhöht.
Das Merkmal des erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren be
steht darin daß die durch plastische Deformation oder durch
Bearbeiten und Zusammensetzen einer zusammengedrückten Platte
hergestellten Bälge bei einer vorbestimmten Temperatur ausge
glüht werden.
Wenn die Kühlvorrichtung des erfindungsgemäßen Halbleiter
modules zu einer Halbleitervorrichtung zusammengesetzt wird,
werden die Bälge zuerst gedehnt, dann die an der Kühlplatte
befestigten Bälge gedehnt und anschließend die Bälge auf die
Oberfläche der Halbleiterelemente wie der Chips, der Chip
fassungen oder das die Chips umgebende Gehäuse gedrückt, die
zu der Oberfläche der Kühlplatte gerichtet ist, um die Bälge
alle zusammenzudrücken und eine plastische Deformation davon
derart zu erreichen, daß die Höhe und die Neigung eines je
den Balges der eines jeden Halbleiterelementes entspricht.
Gemäß Fig. 2 ist die Streckgrenze der Bälge 2 durch Kaltbe
arbeitung zum Zwecke des Erweiterns des Bereiches der plas
tischen Deformation hinausgeschoben, so daß die Kennlinie
für die Abhängigkeit der Auslenkung von der Last nach dem
Fließpunkt eine große Steigung hat. Wenn die Länge der Bälge
auf herkömmliche Weise so eingestellt wird, daß der LSI-Chip
9 oder die Chipfassung auf herkömmliche Weise auf die Lei
terplatte gedrückt und durch eine kontrollierte Kollapsver
bindung (CCB) zur Einstellung der Länge der Bälge durch
plastische Verformung verbunden wird, kann der Chip 9 oder
die CCB-Lötstelle 10 brechen, da eine große Kraft am LSI-
Chip 9 angreift. Wenn der Chip B um δ höher liegt als der
Chip A und beide Chips A, B mit der Kühlplatte 6 ohne pla
stische Verformung in Kontakt gebracht werden, wird auf den
Chip B die Last σ aufgebracht. Andererseits kann, wenn
beide Bälge entsprechend der Chips A, B unter plastischer
Verformung zusammengedrückt werden, das heißt wenn beide
Bälge bis zu den Punkten A′, B′ der Fig. 2 verformt werden
und danach die an die Bälge gelegte Last zur Herstellung des
Kontakts zwischen Chip und Kühlplatten 6 entfernt wird, die
Länge der Bälge 2 nicht genügend durch die plastische Ver
formung eingestellt werden, da die Neigung der Kennlinie
zwischen den Punkten A′ und B′ nach dem Fließpunkt in der
Fig. 2 groß ist, so daß eine große Belastung σ′ am Chip B
verbleibt.
Die Fig. 3 zeigt die Federkennlinie der Bälge, wenn das Ma
terial durch Ausheizen weicher gemacht und die Streckgrenze
herabgesetzt ist. Obwohl durch das Ausheizen bzw. Ausglühen
der Elastizitätsmodul (Steigung der Linie für die Last ent
sprechend der Verschiebung) nicht so sehr beeinflußt ist,
wird die Streckgrenze herabgesetzt und die Steigung der
Linie, die sich auf eine Verschiebung gegenüber der Last be
zieht, wird nach der Streckgrenze klein. Wenn die Last ent
fernt wird und die Chips A, B mit der Kühlplatte 6 in Kon
takt stehen, nachdem die Bälge entsprechend den Chips A, B
und der Punkte A′, B′ der Fig. 3 verformt wurden, verbleibt
nur eine kleine Last σ′ am Chip B.
Wenn bei dem Halbleitermodul somit erfindungsgemäß ausge
glühte Bälge verwendet werden, kann die Länge der Bälge
leicht entsprechend der Höhe der Chips eingestellt werden.
Die Kontakte zwischen den Chips und den entsprechenden Kühl
platten sind dabei gut, auch wenn die verbleibenden Kräfte
an den Chips klein sind. Dies trägt dazu bei, daß die Le
bensdauer des Halbleitermodules nicht verkürzt ist und daß
dessen Kühleigenschaften hervorragend sind.
Gemäß Fig. 4(a) sind das Gehäuse 1, die Flansche 31, die
ausgeglühten Bälge 2 und die Kühlplatten 6 mittels Schwei
ßen, Löten oder einer Diffusionsverbindung zusammengebaut
worden, wonach die ausgeglühten Bälge 2 gedehnt wurden. Bei
dem Vorgang der Fig. 4(b) werden das Halbleitersubstrat mit
den Chips 9, der Leiterplatte 12 und den Lötstellen 10, die
in einem anderen Vorgang zusammengesetzt wurden, mit der
durch den Vorgang nach Fig. 4(a) hergestellten Kühlvorrich
tung zusammengesetzt. Danach werden die Bälge deformiert, um
den Bereich der plastischen Verformung zu erreichen. An
schließend wird die Kühlvorrichtung angehoben, um sie von
der Leiterplatte 12 zu trennen. Bei dem in der Fig. 4(c)
gezeigten letzten Vorgang werden die Chips 9 und die Kühl
platten 6 durch das Lot 7 mit niedrigem Schmelzpunkt und
hoher thermischer Leitfähigkeit miteinander verbunden. Ent
sprechend ist die Höhe zwischen dem Gehäuse 1 und der Lei
terplatte 12 derart eingestellt, daß alle Chips 9 und die
entsprechenden Kühlplatten perfekt miteinander verbunden
sind und die an den Chips 9 liegenden Kräfte jeweils
kleinstmöglich sind. Die Leiterplatte 12 und Seitenwände 18
der Vorrichtung werden durch das niedrigschmelzende Lot 16
und 17 luftdicht verbunden. Die Seitenwand 18 kann durch die
in der Fig. 1 gezeigte Einfassung 5 ersetzt werden.
Mit der in der Fig. 4 gezeigten Ausführungsform kann somit
die Länge der Bälge leicht entsprechend der Höhe und der
Neigung der Chips eingestellt werden. Entsprechend ist es
möglich, ein Halbleitermodul mit vielen Chips zu schaffen,
wobei das Kühlvermögen für die Chips verbessert und die Le
bensdauer der Lötverbindungen nicht verschlechtert ist und
wobei das Modul aufgrund seiner Luftdichtigkeit und geringen
Anfälligkeit für Korrosion zuverlässig ist. Bei der in den
Fig. 4(a) bis 4(c) dargestellten Ausführungsform kann die
Produktivität erhöht und es können die Herstellungskosten
verringert werden, da die Kühlvorrichtung und die bestückte
Leiterplatte in getrennten Vorgängen hergestellt werden und
das Zusammensetzen dieser Teile einfach ist.
Bei der Ausführungsform der Fig. 5 sind ein Gehäuse 45 für
einen Speicher und ein Gehäuse 46 für einen logischen
Schaltkreis, deren Größen unterschiedlich sind, mittels der
Lötstellen 10 auf der Leiterplatte 12 angeordnet. Jeweils
ein Kühlblock 42 mit einem Einlaß und einem Auslaß für Kühl
wasser ist mit dem Gehäuse 1 durch zwei Bälge 2 verbunden.
Im Weg des fließenden Wassers im Kühlblock 42 ist eine Kühl
rippe 43 in der Richtung des Flusses des Wassers vorgesehen.
Das in den Einlaß 110 der Vorrichtung eingegebene Kühlwasser
fließt durch jeden Kühlblock und wird aus dem Auslaß 100 ab
gegeben. Der ausgeglühte Balg 2 ist durch eine Diffusions
verbindung hergestellt. Das Zusammensetzen des Gehäuses 1
und des Kühlblockes 2 wird gleichzeitig mit der Herstellung
der Bälge durch Diffusionsverbindungen ausgeführt. Das Be
zugszeichen 7 bezeichnet wieder ein niedrigschmelzendes Lot
und 13 die Fließrichtung des Wassers. Die Anzahl der Zulei
tungen und die Dicke der Bälge entsprechen einander. Das
Zusammensetzen der Kühlvorrichtung und der Leiterplatte wird
mit den in den Fig. 4(a) bis 4(c) gezeigten Vorgängen ausge
führt. Wie bei der Ausführungsform der Fig. 4(c) kann auch bei
der der Fig. 5 eine Einfassung 5 vorgesehen werden.
Die in der Fig. 5 gezeigte Ausführungsform der Kühlvorrich
tung ist bezüglich der Stärke der Verbindungsabschnitte, der
Haltbarkeit und der Luftdichtigkeit sehr zuverlässig, da
jede Verbindung der Kühlvorrichtung durch einen Diffusions
verbindungsvorgang hergestellt ist. Da die Höhe des Kühl
blockes leicht durch einen einfachen Vorgang auf die Ober
fläche der zu kühlenden Gehäuse eingestellt werden kann,
auch wenn die Höhen der Gehäuse in der Größenordnung von
mehreren Millimetern sehr unterschiedlich sind, ist es mög
lich, den Zusammenbau und die Produktivität zu verbessern
und die Herstellungskosten für das Halbleitermodul zu ver
ringern. Darüberhinaus hat das Halbleitermodul hervorragende
Eigenschaften bezüglich der Kühlleistung und der Lebensdauer
der Lötverbindungen.
Claims (2)
1. Verfahren zur Herstellung einer Kühlvorrichtung für ein
Halbleitermodul mit Halbleiterelementen (9; 45, 46), die auf
einer Leiterplatte (12) angeordnet sind, wobei die Kühlvor
richtung eine Kühlplatte (6), die mit den Halbleiterelemen
ten (9; 45, 46) verbunden werden kann und die durch Kontakt
mit einem Kühlmedium (13) gekühlt werden kann, ein Gehäuse
(1) mit Kanälen für den Durchfluß des Kühlmediums (13), und
einen Faltenbalg (2) zum Verbinden des Gehäuses (1) mit der
Kühlplatte (6) und zum Zuführen des Kühlmediums (13) zu der
Kühlplatte (6) aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß der
Faltenbalg (2) ausgeglüht wird, und daß der Faltenbalg (2)
dann zum Zwecke des Erweiterns des Bereiches der plastischen
Deformation kaltbearbeitet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
zur Kaltbearbeitung der mit der Kühlplatte (6) verbundene
Faltenbalg (2) gedehnt wird, bevor er beim Aufsetzen der
Kühlplatte (6) auf die Halbleiterelemente (9; 45, 46) zu
sammengedrückt wird.
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