DE3817938A1 - Verfahren zur reinigung von chlorwasserstoff aus einer 1.2-dichlorethanpyrolyse - Google Patents
Verfahren zur reinigung von chlorwasserstoff aus einer 1.2-dichlorethanpyrolyseInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein dreistufiges Verfahren zur Ent
fernung von Acetylen und Ethylen aus Chlorwasserstoff aus
einer 1.2-Dichlorethanpyrolyse.
Beim großtechnischen Verfahren zur Herstellung von Vinyl
chlorid durch 1.2-Dichlorethanpyrolyse fallen bekanntlich
große Mengen an Chlorwasserstoff an. Dieser Chlorwasserstoff
ist mit 0.05 bis 0.5 Mol-% Acetylen und 0.005 bis 0.05 Mol-%
Ethylen verunreinigt und wird, nach Entfernen des Acetylens
durch selektive Hydrierung an Platinmetall- bzw. Platinme
talloxid-Kontakten zu überwiegend Ethylen, üblicherweise zur
Oxichlorierung von Ethylen zu 1.2-Dichlorethan eingesetzt
(DE-A 23 53 437; DE-B 15 68 679 = GB-A 10 90 499;
DE-A 30 43 442 = US-A 43 88 278).
Mit zunehmender Ausweitung der Siliciumchemie steigt auch
der Chlorwasserstoffbedarf für diesen Industriezweig immer
mehr an (Herstellung von Trichlorsilan als Ausgangsstoff für
die Reinstsiliciumchemie bzw. von Methylchlorid für die Si
liconchemie). Obwohl verschiedene Chlorwasserstoffquellen
bekannt sind, stellt vor allem Chlorwasserstoff aus einer
1.2-Dichlorethanpyrolyse zur Vinylchloridherstellung eine
besonders wirtschaftliche und jederzeit verfügbare Rohstoff
basis für die Siliciumchemie dar. Nachteilig an diesem
Chlorwasserstoff ist jedoch, daß die verfahrensbedingten
Verunreinigungen, wie Acetylen oder dessen Teilhydrierungs
produkt Ethylen, sowie bei der hydrogenolytischen Acetylen
entfernung entstehende und im Chlorwasserstoff verbleibende
Hydrochlorierungs- und Zersetzungsprodukte (Vinylchlorid,
Ethylchlorid, Ethan, (un)gesättigte C4-Kohlenwasserstoffe),
schon im Vol-ppm-Konzentrationsbereich bei der Synthese der
Zwischenprodukte für die Siliciumchemie äußerst störend
wirken.
Um diese Schwierigkeiten zu umgehen, benötigt man für die
Siliciumchemie hochreinen Chlorwasserstoff wie er zum Bei
spiel durch Chlorverbrennung im Wasserstoffstrom herstellbar
ist. Dieser synthetische Chlorwasserstoff ist jedoch sehr
teuer und enthält, um einen quantitativen Chlorumsatz zu
Chlorwasserstoff zu gewährleisten, Wasserstoff im Über
schuß.
Eine weitere Möglichkeit zur Herstellung von hochreinem
Chlorwasserstoff besteht im Prinzip darin, verunreinigten
Chlorwasserstoff aus einer 1.2-Dichlorethanpyrolyse durch
Absorption in azeotroper Salzsäure, unter Einblasen von Luft
als Strippgas, mit anschließender thermischen Desorption aus
konzentrierter Salzsäure zu reinigen. Dieses Verfahren ist
allerdings sehr aufwendig und mit enormen Korrosionsproble
men behaftet, so daß es insgesamt äußerst unwirtschaftlich
ist.
In der US-A 39 23 963 wird ein Verfahren zur Reinigung von
Chlorwasserstoff beansprucht, wobei ungesättigte Kohlenwas
serstoff- bzw. Chlorkohlenwasserstoffverbindungen, durch Um
setzung dieser Nebenprodukte mit mindestens stöchiometri
schen Mengen an Chlor über einem Aktivkohlebett bei mindes
tens 80°C und einem Druck von 4.5 bis 11.5 bar, entfernt
werden. Der Gehalt an chlorierten Nebenprodukten und über
schüssigem Chlor wird durch Absorption an der Aktivkohle je
weils auf unter 1 ppm gesenkt. Nachteilig bei diesem Ver
fahren ist vor allem, daß zwischenzeitlich immer wieder die
Aktivkohle durch Desorption regeneriert werden muß und die
Aktivität der Aktivkohle sehr stark abnimmt. Aufgrund des
Restgehalts an Chlor ist der so aufbereitete Chlorwasser
stoff in der Siliciumchemie nicht zu verwenden.
In der DE-A 35 08 371 wird vorgeschlagen, die Reinigung von
Pyrolyse-Chlorwasserstoff nach hydrogenolytischer Acetylen
entfernung in zwei Schritten durchzuführen, wobei in der
ersten Stufe Ethylen katalytisch zu Ethan hydriert wird, und
in der zweiten Stufe der Chlorwasserstoff durch Druckrekti
fikation bei tiefen Temperaturen von, die Hydrierung beglei
tenden, Hydrochlorierungs- und Zersetzungsprodukten befreit
wird. Nachteilig an diesem Reinigungsprozeß ist, daß der so
gereinigte Chlorwasserstoff Ethan und überschüssigen Wasser
stoff als Inertgas enthält, wodurch es zu Umwelt- und Kon
densationsproblemen kommt.
Es bestand daher die Aufgabe, ein wirtschaftliches Verfahren
zur Reinigung von Chlorwasserstoff aus einer 1.2-Dichlor
ethan-Pyrolyse zu entwickeln, das alle Belange hinsichtlich
Reinheitsanforderung und Inertgasanteil für den Einsatz in
der Siliciumchemie erfüllt.
Dies wurde durch das erfindungsgemäße Verfahren erreicht,
das in großtechnischem Maßstab das große Gebiet der Reinst
siliciumchemie und der Siliconchemie für die Verwendung von
Pyrolysechlorwasserstoff, ohne Reinheits-, Umwelt- und Inert
gasprobleme erschließt. Es wurde nämlich gefunden, daß durch
die im folgenden beschriebene Kombination einer zweistufi
gen, heterogen katalysierten Chlorierungsreaktion mit einer
anschließenden Tieftemperatur-Druckrektifizierung des Reak
tionsgemisches aus der Chlorierungsreaktion, alle, insbeson
dere die Siliciumchemie störenden, Verunreinigungen, unter
Vermeidung von Inertgasbildung praktisch quantitativ ab
trennbar sind. Die oben erwähnten Schwierigkeiten, bei der
Verwendung von derart gereinigtem Pyrolyse-Chlorwasserstoff
in der Siliciumchemie, treten bei dieser Verfahrensweise
nicht mehr auf.
Gegenstand der Erfindung ist ein mehrstufiges Verfahren zur
Reinigung von Acetylen und Ethylen enthaltendem Chlorwasser
stoff aus einer 1.2-Dichlorethan-Pyrolyse, dadurch gekenn
zeichnet, daß
- a) der Acetylen und Ethylen enthaltende Chlorwasserstoff bei einem Druck von 5 bis 20 bar absolut auf eine Tem peratur von 120 bis 220°C vorgewärmt wird und dann in einem ersten adiabatisch betriebenen Reaktor, in Gegen wart eines Katalysators, bestehend aus Aktivkohle, die mit Übergangsmetallchloriden imprägniert ist, mit Chlor gas in solchen Mengen umgesetzt wird, daß bei Austritt aus dem Reaktor im Chlorwasserstoff noch 100 bis 2000 Vol-ppm an freiem Chlor enthalten sind, und
- b) in einem zweiten adiabatisch betriebenen Reaktor, der mit dem selben Katalysator wie in Stufe a) gefüllt ist, das Reaktionsgemisch aus Stufe a), bei Temperaturen von 80 bis 180°C, mit bei Atmosphärendruck gasförmigen Ole finen bzw. Chlorolefinen, die bei Atmosphärendruck im Temperaturbereich von -50°C bis +10°C sieden, in solchen Mengen umgesetzt wird, daß in dem aus dem Reaktor aus tretenden Chlorwasserstoff noch 100 bis 1500 Vol-ppm dieser Olefine bzw. Chlorolefine enthalten sind, und
- c) das in Stufe b) erhaltene Reaktionsgemisch in einer Ko lonne bei einem Druck von 7 bis 15 bar rektifiziert wird, wobei reiner Chlorwasserstoff am Kopf der Kolonne partiell kondensiert wird und als Rücklauf in die Kolon ne zurückgeführt wird und die Sumpftemperatur bei 50 bis 80°C gehalten wird.
In der ersten Stufe des erfindungsgemäßen Verfahrens werden
die ungesättigten Beiprodukte des Chlorwasserstoffs aus der
1.2-Dichlorethanpyrolyse, speziell Acetylen und Ethylen, mit
einem Überschuß an Chlor und in Gegenwart eines Katalysa
tors, praktisch vollständig zu den entsprechenden gesättig
ten oder ungesättigten Chlorkohlenwasserstoffen chloriert.
Die Umsetzung erfolgt unter adiabatischen Bedingungen bei
Drücken von 5 bis 20 bar absolut und einer Temperatur von
120 bis 220°C, vorzugsweise 150 bis 170°C. Der Chlorüber
schuß wird dabei so eingestellt, daß das Reaktionsgemisch
nach erfolgter Chlorierung noch 100 bis 2000 Vol-ppm, vor
zugsweise 800 bis 1200 Vol-ppm Chlor enthält.
Als Aktivkomponente des Katalysators werden Übergangsmetall
chloride verwendet. Beispiele hierfür sind Chrom-III-
chlorid, Kobalt-II-chlorid, Lanthan-III-chlorid, Nickel-II-
chlorid, Eisen-III-chlorid, Kupfer-II-chlorid und Mangan-II-
chlorid oder Gemische dieser Verbindungen. Vorzugsweise
werden Kupfer-II-chlorid und Mangan-II-chlorid eingesetzt.
Die Aktivkomponente wird in Mengen von bis zu 40 Gew.%, be
zogen auf das Trägermaterial eingesetzt.
Als Trägermaterial eignet sich überraschenderweise nur
Aktivkohle mit einer spezifischen Oberfläche von 500 bis
2000 m2/g. Andere an sich bekannte Trägermaterialien wie
Aluminiumoxid, Kieselgel, Aluminiumsilikate und dergleichen
sind nicht brauchbar, weil bei deren Verwendung vor allem
die Chlorierung von Acetylen nur sehr unvollständig abläuft.
Überraschenderweise zeigen auch bei Chlorierungen sonst
übliche Promotoren bei dem erfindungsgemäßen Verfahren eine
eher bremsende Wirkung.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform des Kataly
sators wird daher das Trägermaterial Aktivkohle mit 16 Gew.%
Kupfer-II-chlorid und 16 Gew.% Mangan-II-chlorid, jeweils
bezogen auf das Trägermaterial, beladen.
Im ersten Reaktor beträgt die Raumströmungsgeschwindigkeit,
bezogen auf Normbedingungen, 2000 bis 6000 Raumteile
Chlorwasserstoffgas pro Raumteil Katalysator pro Stunde,
vorzugsweise 3000 bis 5000 h-1.
In der zweiten Stufe des beanspruchten Verfahrens wird der
Chlorüberschuß aus dem Produktstrom der ersten Stufe, der
aus Chlorwasserstoff, Chlorierungsprodukten und Chlor zu
sammengesetzt ist, entfernt. Dazu wird in einem zweiten
adiabatisch betriebenem Reaktor, unter Verwendung des
gleichen Katalysatorsystems wie in der ersten Stufe, das
Reaktionsgemisch der ersten Stufe bei Temperaturen von 80
bis 180°C, vorzugsweise 110 bis 130°C, mit bei Atmosphären
druck gasförmigen Olefinen bzw. Chlorolefinen, die bei
Atmosphärendruck im Temperaturbereich von -50°C bis +10°C
sieden, in Kontakt gebracht. Diese Olefine bzw. Chlorolefine
werden dabei, bezogen auf das Chlor, in einem solchen Über
schuß eingesetzt, daß nach erfolgter Umsetzung noch 100 bis
1500 Vol-ppm, vorzugsweise 500 bis 1000 Vol-ppm, im aus dem
Reaktor austretenden Chlorwasserstoffstrom verbleiben.
Als Olefine bzw. Chlorolefine finden Propylen, 1-Buten, cis-
2-Buten, trans-2-Buten, 1.3-Butadien und Vinylchlorid Ver
wendung. Vorzugsweise wird Vinylchlorid verwendet.
Im zweiten Reaktor beträgt die Raumströmungsgeschwindigkeit,
bezogen auf Normbedingungen, 5000 bis 10 000 Raumteile
Chlorwasserstoffgas pro Raumteil Katalysator pro Stunde,
vorzugsweise 6000 bis 8000 h-1.
Im letzten Verfahrensschritt wird das Reaktionsgemisch aus
der zweiten Stufe durch Tieftemperaturdruckrektifikation
getrennt, das heißt der Chlorwasserstoff wird von den
Chlorierungsprodukten und den überschüssigen Olefinen bzw.
Chlorolefinen abgetrennt. Das Reaktionsgemisch wird nach
Abkühlung in einer Kolonne bei einer Sumpftemperatur von 50
bis 80°C und einem Druck von 7 bis 15 bar absolut, vorzugs
weise 9 bis 14 bar absolut, rektifiziert. Die Sumpftempera
tur wird durch entsprechenden Abzug aus dem Sumpf bzw. durch
Zugabe von Stoffen mit geeigneter Siedetemperatur im oben
genannten Temperaturbereich gehalten. Vorzugsweise wird
Vinylchlorid zur Einstellung der erforderlichen Sumpftem
peratur zugegeben. Der reine Chlorwasserstoff wird am Kopf
der Kolonne bei -20°C bis -40°C partiell kondensiert und als
flüssiger Rücklauf in die Kolonne zurückgeführt. Der Rest
anteil des Chlorwasserstoffs verläßt die Kolonne gasförmig.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren gelingt es, die in der
Siliciumchemie störenden Verunreinigungen im Chlorwasser
stoff aus einer 1.2-Dichlorethan-Pyrolyse auf Werte kleiner
1 Vol-ppm (cm3 pro m3) zu reduzieren, ohne einen Anstieg im
Inertgasanteil hinnehmen zu müssen. Mit dem erfindungsgemäß
gereinigten Chlorwasserstoff kann beispielsweise hochreines
Trichlorsilan ohne Abgas- bzw. Umweltprobleme hergestellt
werden, bei dessen Umsetzung zu Reinstsilicium keine Kohlen
stoffprobleme mehr auftreten.
Anhand des folgenden Beispiels und der beigefügten Abbildung
(Fig. 1) wird die Erfindung noch näher erläutert. Die ange
gebenen Volumina sind auf die Standardbedingungen (1,013 bar,
0°C) umgerechnet.
3500 m3/h Chlorwasserstoff aus einer 1,2-Dichlorethanpyro
lyse verunreinigt mit 2500 Volppm Acetylen, 150 Volppm Ethy
len, 5 Volppm Vinylchlorid und 2 Volppm Ethylchlorid werden
über Leitung 1 mit einem Druck von 8 bar abs. angefordert
und im dampfbeheizten Wärmetauscher 2 auf eine Temperatur
von 160°C vorgewärmt. Nach Zugabe von 21,5 m3/h Chlorgas
über Leitung 3 mit einem Druck von 8,5 bar absolut strömt
das Gemisch über Leitung 4 in den Reaktor 5, der mit 0.8 m3
Trägerkatalysator bestehend aus Aktivkohle, die mit 16 Gew.%
CuCl2 und mit 16 Gew.% MnCl2 beschichtet ist, gefüllt ist
und adiabatisch betrieben wird. In dem Reaktor 5 findet die
Umsetzung zwischen Acetylen, Ethylen und Vinylchlorid mit
Chlor zu 1,1,2,2-Tetrachlorethan, 1,2-Dichlorethan und
1,1,2-Trichlorethan statt. Das Reaktionsgemisch verläßt den
Reaktor 5 über Leitung 6 und enthält einen Überschuß an
freiem Chlor von 985 Volppm, gemessen bei 7. Die Konzentra
tionen an Acetylen und Ethylen liegen bei Werten kleiner 1
Volppm. Nach Zumischen von 6 m3/h Vinylchloridgas mit einem
Druck von 8 bar abs. bei 8 strömt das Reaktionsgemisch mit
einer Temperatur von 125°C und einem Druck von 7,5 bar
absolut über Leitung 8 a zum Reaktor 9, der mit 0.5 m3 des
gleichen Trägerkatalysators wie in Reaktor 5 gefüllt ist und
ebenfalls adiabatisch betrieben wird. In Reaktor 9 findet
die Umsetzung zwischen dem freien Chlor im Chlorwasserstoff
strom nach Reaktor 5 mit Vinylchlorid zu 1,1,2-Trichlorethan
statt.
Das Reaktionsgemisch verläßt Reaktor 9 chlorfrei über
Leitung 10 mit einem Gehalt von 725 Volppm Vinylchlorid,
gemessen bei 11, wird im mit Kühlwasser betriebenen Wärme
tauscher 12 auf etwa 30° C abgekühlt und hinterher im
Kompressor 13 von 7 bar absolut auf einen Druck von 14 bar
absolut gebracht.
Nach Abführen der Kompressionswärme im Wasserkühler 14 und
nach weiteren Tiefkühlen im Gegenstromwärmetauscher 15, wo
bei die in den beiden Reaktoren gebildeten Chlorierungspro
dukte und auch überschüssiges Vinylchlorid zumindest teil
weise kondensieren und über die Leitungen 14 a bzw. 15 a im
Behälter 16 gesammelt werden, gelangt der Chlorwasserstoff
strom über Leitung 26 zur Rektifizierkolonne 25. Über
Leitung 17 wird mit der Pumpe 18 diskontinuierlich Vinyl
chlorid in den Behälter 16 gepumpt. Über Leitung 19 werden
mit der Pumpe 20 kontinuierlich etwa 20 kg/h der in Behälter
16 zwischengelagerten, hauptsächlich aus Vinylchlorid
bestehenden Flüssigkeit in die Blase der Kolonne 25 gepumpt,
um den Blasenstand konstant zu halten, da zur Aufrechter
haltung einer Blasentemperatur von etwa 75°C über die
Leitung 24 a und 24 etwa 20 kg/h Blasenprodukt entnommen und
nach Kühlung im Wasserkühler 21 über Leitung 37 zur Aufar
beitung in einer separaten nicht dargestellten Destillation
abgegeben werden. Die Kolonne 25 wird mit 1,2 bar-Dampf
beheizt, wobei das Blasenprodukt durch die Leitungen 24 a
und 23 sowie durch den Umlaufverdampfer 22 zirkuliert. Am
Kopf der Kolonne 25 fällt gasförmiger Chlorwasserstoff an,
der über Leitung 27 einem mit einem Kühlmittel, z. B.
Frigen-12 beaufschlagten Kondensator 28 aufgegeben wird.
Die Zuleitung des flüssigen Kühlmittels erfolgt über Leitung
34, das erwärmte, ggf. verdampfte Kühlmittel strömt über
Leitung 35 zur Kältemaschine (nicht dargestellt) zurück. Im
Kondensator 28 erfolgt Teilkondensation bei -24°C und 13,5
bar absolut Kolonnen-Kopfdruck, wobei etwa 2000 kg/h ver
flüssigter Chlorwasserstoff anfallen.
Der flüssige Chlorwasserstoff fließt über Leitung 29 in den
Sammler 30 und wird mit der Pumpe 31 über Leitung 32 der
Kolonne 25 als Rücklauf aufgegeben. Der gereinigte Chlor
wasserstoff verläßt gasförmig über Leitung 33 und den Gegen
stromwärmetauscher 15, in dem der -24°C kalte Chlorwasser
stoff durch Wärmetauscher mit ca. 30 grädigen rohen Chlor
wasserstoff angewärmt wird, die Reinigungsanlage wird bei 36
an die Siliciumbetriebe mit folgender Reinheit abgegeben:
Acetylen < 1 Volppm,
Ethylen < 1 Volppm,
Vinylchlorid < 1 Volppm,
Ethylchlorid < 1 Volppm,
Chlor nicht nachweisbar,
Chlorwasserstoff Balance,
Chlorierungs produkte < 1 Volppm.
Ethylen < 1 Volppm,
Vinylchlorid < 1 Volppm,
Ethylchlorid < 1 Volppm,
Chlor nicht nachweisbar,
Chlorwasserstoff Balance,
Chlorierungs produkte < 1 Volppm.
Das Blasenprodukt der Rektifizierkolonne 25 enthält neben
Vinylchlorid und Ethylchlorid die Chlorierungsprodukte 1,2-
Dichlorethan, 1,1,2-Trichlorethan und 1,1,2,2,-Tetrachlor
ethan.
Claims (2)
1. Verfahren zur Reinigung von Acetylen und Ethylen ent
haltendem Chlorwasserstoff aus einer 1.2-Dichlorethan-
Pyrolyse, dadurch gekennzeichnet, daß
- a) der Acetylen und Ethylen enthaltende Chlorwasserstoff bei einem Druck von 5 bis 20 bar absolut auf eine Tem peratur von 120 bis 220°C vorgewärmt wird und dann in einem ersten adiabatisch betriebenen Reaktor, in Gegen wart eines Katalysators, bestehend aus Aktivkohle, die mit Übergangsmetallchloriden imprägniert ist, mit Chlor gas in solchen Mengen umgesetzt wird, daß bei Austritt aus dem Reaktor im Chlorwasserstoff noch 100 bis 2000 Vol-ppm an freiem Chlor enthalten sind, und
- b) in einem zweiten adiabatisch betriebenen Reaktor, der mit dem selben Katalysator wie in Stufe a) gefüllt ist, das Reaktionsgemisch aus Stufe a), bei Temperaturen von 80 bis 180°C, mit bei Atmosphärendruck gasförmigen Ole finen bzw. Chlorolefinen, die bei Atmosphärendruck im Temperaturbereich von -50°C bis +10°C sieden, in solchen Mengen umgesetzt wird, daß in dem aus dem Reaktor aus tretenden Chlorwasserstoff noch 100 bis 1500 Vol-ppm dieser Olefine bzw. Chlorolefine enthalten sind, und
- c) das in Stufe b) erhaltene Reaktionsgemisch in einer Kolonne bei einem Druck von 7 bis 15 bar rektifiziert wird, wobei reiner Chlorwasserstoff am Kopf der Kolonne partiell kondensiert wird und als Rücklauf in die Kolon ne zurückgeführt wird und die Sumpftemperatur bei 50 bis 80°C gehalten wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der in den Stufen a) und b) eingesetzte Katalysator aus
Aktivkohle als Träger besteht, der mit 16 Gew.% Kupfer-
II-chlorid sowie 16 Gew.% Mangan-II-chlorid, jeweils
bezogen auf das Trägermaterial, als Aktivkomponenten
beschichtet ist.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3817938A DE3817938A1 (de) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | Verfahren zur reinigung von chlorwasserstoff aus einer 1.2-dichlorethanpyrolyse |
US07/348,283 US4986975A (en) | 1988-05-26 | 1989-05-05 | Process for purifying hydrogen chloride from pyrolysis of 1,2-dichloroethane |
IT8947989A IT1231688B (it) | 1988-05-26 | 1989-05-24 | Procedimento per depurare cloruro di idrogeno da una pirolisi di 1,2-dicloroetano |
JP1131695A JPH0218304A (ja) | 1988-05-26 | 1989-05-26 | アセチレンおよびエチレン含有塩化水素の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5437711A (en) * | 1993-12-16 | 1995-08-01 | Occidental Chemical Corporation | Method of purifying chlorine-containing gases |
EP1024294A3 (de) * | 1999-01-29 | 2002-03-13 | Ibiden Co., Ltd. | Motor und Turbomolekularpumpe |
US6719957B2 (en) * | 2002-04-17 | 2004-04-13 | Bayer Corporation | Process for purification of anhydrous hydrogen chloride gas |
KR100733701B1 (ko) * | 2005-02-07 | 2007-06-28 | 한국원자력연구원 | 크립저항성이 우수한 지르코늄 합금 조성물 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3508371A1 (de) * | 1985-03-08 | 1986-09-11 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur nachreinigung von chlorwasserstoff aus einer 1,2-dichlorethan-pyrolyse |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1262769A (en) * | 1915-06-23 | 1918-04-16 | Metals Res Company | Manufacture of chlorinated hydrocarbons. |
US1908312A (en) * | 1929-05-27 | 1933-05-09 | Dow Chemical Co | Separation of methane from hydrocarbon gas mixtures |
FR2252288B1 (de) * | 1973-11-27 | 1980-01-04 | Rhone Progil | |
US4035473A (en) * | 1975-07-03 | 1977-07-12 | The Dow Chemical Company | Method of removing acetylene from anhydrous-hydrogen chloride |
DE3043442A1 (de) * | 1980-11-18 | 1982-06-24 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zur reinigung von durch thermische 1,2-dichlorethanspaltung gewonnenem chlorwasserstoff |
DE3331962A1 (de) * | 1983-09-05 | 1985-03-21 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zur aufbereitung von chlorwasserstoff als einsatzstoff fuer den ethylenoxichlorierungsprozess |
-
1988
- 1988-05-26 DE DE3817938A patent/DE3817938A1/de active Granted
-
1989
- 1989-05-05 US US07/348,283 patent/US4986975A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-24 IT IT8947989A patent/IT1231688B/it active
- 1989-05-26 JP JP1131695A patent/JPH0218304A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3508371A1 (de) * | 1985-03-08 | 1986-09-11 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur nachreinigung von chlorwasserstoff aus einer 1,2-dichlorethan-pyrolyse |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IT8947989A0 (it) | 1989-05-24 |
JPH0571524B2 (de) | 1993-10-07 |
IT1231688B (it) | 1991-12-19 |
US4986975A (en) | 1991-01-22 |
JPH0218304A (ja) | 1990-01-22 |
DE3817938C2 (de) | 1991-08-14 |
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