DE3439750A1 - Galvanisierverfahren - Google Patents
GalvanisierverfahrenInfo
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Description
EUROPÄISCHER PATENTVERTRETER
30.1Π.19ΒΑ n2fl
IT 0316
Firma INQVAN-Stroebe GmbH & Co. KG
Incfustriestr. 44, 7534 Birkenfeld
Incfustriestr. 44, 7534 Birkenfeld
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufbringen metallischer Schichten durch Galvanisieren auf band- oder seilförmige
Materialien, wobei die mit dem Minuspol einer Stromquelle verbundenen zu beschichtenden Materialien, durch
eine in einem geeigneten Gefäß befindliche Elekrolytlnsung, vorbei an einer dort mit dem Pluspol der Stromquelle verbundenen
Anode, kontinuierlich hindurchgeführt werden sowie eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens.
Zum Beschichten der Oberfläche von Drähten, Bändern, Stanzgittern,
Seilen oder sonstigen bandförmigen Materialien durch Galvanisieren, werden diese Materialien kontinuierlich
durch ein GefäB bindurcngeführt, in dem sich eine
Elektrolytlösung (oder auch Salzschmelze) befindet. Hierbei
bildet das zu beschichtende Material die Kathode, an der
-2-
sich infolge der Innenwanderung die in Elektrolyten gelösten
Metalle anlagern. Durch diese Ionenwanderung verarmt der Elektrolyt in der Umgebung der Kathode an abscheidbaren
Metallionen, so daß stets für die Zufuhr von frischem Elektrolyt gesorgt werden muß. Dies geschieht bei den bekannten
Galvanisierbädern im allgemeinn bereits dadurch, daR das bandförmige Material durch die Elektrolytlösung
hindurchgeführt wird, also stets mit neuer Elektrolytlösung
in Berührung kommt. Bei modernen Anlagen wird außerdem der
Elektrolyt stetig umgepumpt und erneuert, so daß sich zumindest
im Gefäß, durch das die bandartigen Materialien hindurchgeführt
werden, stets eine genügend Metallionen aufweisende Elektrolytlösung befindet. Dies besagt allerdings
noch nicht, daß in der unmittelbaren Umgebung der Kathode, also des zu beschichtenden Materials, ebenfalls genügend
Metallioen vorhanden sind. Nur aber dann, wenn genügend Ionen (beziehungsweise Anionen) für den Stromtransport zur
Verfügung stehen, kann entsprechend viel Metall auf der Kathode abgeschieden beziehungsweise kann mit einer guten
Stromausbeute gerechnet werden. Daraus ergibt sich, daß, je besser der Elektrolytaustausch an der Oberfläche des zu
beschichtenden Teiles durchgeführt wird, desto höher die
Abscheidungsqeschwindiqkeit und die Stromausbeute ist beziehungsweise desto schneller das Metall in erwünschter Weise
auf dem Material abgeschieden wird bei gleichzeitig verbessertem Wirkungsgrad der Galvanisierungseinrichtung.
Um dieser Verarmung in der Nähe des zu beschichtenden Materials
zu begegnen, wurde, wie oben erwähnt, bereits vorgeschlagen, die Elektrolytlösung kontinuierlich zu erneuern
und auch die Elektrolytlösung innerhalb des Elektrolysegefäßes
in Bewegung zu halten. Durch diese Maßnahme sollte erreicht werden, daß sich immer frische Elektrolytlösung
mit genügend abzuscheidenden Metallionen in der Umgebung des zu beschichtenden Materials befindet.
-3-
Mit diesen bekannten, dem Stande der Technik zuzuzählenden
Anlagen, waren bereits recht hohe Abscheidegeschwindigkeiten zu erzielen. Die Erfindung hat sich jedoch die Aufgabe
gestellt, diese Abscheidegeschwindigkeiten noch weiter zu
erhöhen.
erhöhen.
Dies gelingt nach der Erfindung dadurch, daß die Elektrolytlösung
in Gegenrichtung zur Bewegungsrichtung des zu beschichtenden Materials bewegt wird.
Augangspunkt der Erfindung war hierbei die Überlegung, daß
t ein hoher Elektrolytaustausch an der Oberfläche des zu beschichtenden
Materials erzielt wird bei hoher Relativgeschwindigkeit zwischen dem zu beschichtenden Material und
der Elektrolytlösung, wobei die höchste Relativgeschwindigkeit dann erreicht wird, wenn die Bandbewegung und die
Elektrolytströmung in genau entgegengesetzter Richtung verlaufen. Dadurch ist gewährleistet, daß dann, wenn die Umgebung der Kathode, also des zu beschichtenden Materials, an abzuscheidenden Metallionen beginnt zu verarmen, bereits
frische Elektrolytflüssigkeit herangeführt wird, so daß
stets ein ununterbrochener Zustrom von Meta11 ionen zur
Kathode gesichert ist.
der Elektrolytlösung, wobei die höchste Relativgeschwindigkeit dann erreicht wird, wenn die Bandbewegung und die
Elektrolytströmung in genau entgegengesetzter Richtung verlaufen. Dadurch ist gewährleistet, daß dann, wenn die Umgebung der Kathode, also des zu beschichtenden Materials, an abzuscheidenden Metallionen beginnt zu verarmen, bereits
frische Elektrolytflüssigkeit herangeführt wird, so daß
stets ein ununterbrochener Zustrom von Meta11 ionen zur
Kathode gesichert ist.
Es muß allerdings hinzugefügt werden, daß diese Überlegung zwar theoretisch richtig, in der Praxis aber nicht immer zu
treffend ist. Insbesondere trifft diese theoretische Überlegung dann nicht zu, wenn die Elektrolytströmunq laminar
verläuft. Es wird daher nach der Erfindung festgelegt, daß die Strömungsgeschwindigkeit des Elektrolyten und darüber
hinaus auch die Relativgeschwindigkeit in der Grenzschicht zwischen der Bewegung des zu beschichtenden Materials und
derjenigen des Elektrolyten im Bereich der turbulenten
Strömung liegen soll. Dies setzt im allgemeinen voraus, daß die Rewegunqsgeschwindigkeit des bandförmigen Materials
oberhalb von 0,1 m/s und die Geschwindigkeit der entgegen-
verläuft. Es wird daher nach der Erfindung festgelegt, daß die Strömungsgeschwindigkeit des Elektrolyten und darüber
hinaus auch die Relativgeschwindigkeit in der Grenzschicht zwischen der Bewegung des zu beschichtenden Materials und
derjenigen des Elektrolyten im Bereich der turbulenten
Strömung liegen soll. Dies setzt im allgemeinen voraus, daß die Rewegunqsgeschwindigkeit des bandförmigen Materials
oberhalb von 0,1 m/s und die Geschwindigkeit der entgegen-
-4-
gerichteten Strömung des Elektrolyten oberhalb von 1 m/s bei einer Reynolds-Zahl oberhalb RO.OfIG liegt. Maßgebend
für die laminare oder turbulente Strömung ist die Reynolds-Zahl,
also das Verhältnis der Trägheitskräfte zu den Zähigkeitskräften,
wobei die Strömungsgeschwindigkeit beziehungsweise die Relativgeschwindigkeit zwischen dem bandförmigen
Material und dem Elektrolyten in diesem Falle die ausschlaggebende
Rolle spielt. Maßgebend ist ja nicht, daß in dem Elektrolysebad, also in dem die Elektrolytlösung enthaltenden
Gefäß stets frische Elektrolytlösung zur Verfugung steht, sondern daß diese frische Elektrolytlösung mit einer
hohen Anzahl von abscheidbaren Metallionen in unmittelbarer Umgebung des zu beschichtenden Materials vorhanden ist.
Dies wird zwar nach der Erfindung dadurch erreicht, daß die
Elektrolytlösung in Gegenrichtung zur Bewegungsrichtung des
zu beschichtenden Materials bewegt wird, daß also eine höchste Relativgeschwindigkeit zwischen dem Material und
der Elektrolytlösung herbeigeführt wird. Die Verarmung wird
jedoch nit Sicherheit dann vermieden, wenn auch in der
Grenzschicht eine turbulente Strömung vorherrscht die bewirkt, daß die Metallionen nicht nur in die Nähe der
Kathode gebracht werden, sondern, durch die turbulente Strömung, auch noch die Elektronenwanderung zur Kathode
unterstützt. Es darf in diesem Zusammenhang auch darauf hingewiesen werden, daß die Grenzschicht bei turbulenter
Strömung um Größenordnungen kleiner ist als bei laminarer Strömung, daß also die nach der Erfindung angestrebte hohe
Relativgeschwindigkeit und die damit herbeigeführte Turbulenz
maßgebend für die hohe Abscheidegeschwindigkeit ist.
Turbulente Strömung herrscht jedoch nach empirisch festgelegten Werten bereits ab einer Reynolds-Zahl, die größer
als 2.32Π ist. Bei einer Reynolds-Zahl, wie dies von der
Erfindung festgelegt wird, von RE 8Π.Π0Π, ist also mit
Sicherheit eine turbulente Strömung vorhanden.
- 5-
Zur Durchführung des Verfahrens wird nach der Erfindung
eine Vorrichtung vorgeschlagen, die gekennzeichnet ist durch eine aus Isoliermaterial bestehenden Hohlschiene,
deren freier Durchtrittsquerschnitt etwa dem Querschnitt des zu beschichtenden Materials entspricht, durch in die
Hohlschiene eingefügte Anoden sowie durch eine beidseits an die Hohlschiene angeschlossene, den Elektrolyten führende
Ringleitung, in die eine Umwälzpumpe eingefügt ist. Selbstverständlich
kann in diese Ringleitung noch ein Sammelbecken für Elektrolytflüssigkeit eingefügt werden, dem dann
auch stets frische Elektrolytflüssigkeit zur Beibehaltung der zuvor bestimmten optimalen Werte hinzugefügt werden
kann. Die Länge der Hohlschiene wird hierbei nach der aufzubringenden Schichtdicke festgelegt, wobei, bei konstanten
Geschwindigkeiten und Stromstärken, die Schichtdicke der
Länge der Hohlschiene proportional ist. Der Proportionalitätsfaktor ist allerdings material abhängig; so müßte zum
Abscheiden von Palladium unter sonst gleichen Bedingungen die Länge der Hohlschiene etwa zehnmal größer sein als für
diejenge zum Beschichten mit Silber.
Die Anoden können in erfindungsgemäßer Weise die gesamte
Innenwandfläche des freien Durchgangsquerschnitts der Hohlschiene bedecken oder auch nur Teile hiervon. So können die
Anoden beispielsweise nur einseitig angebracht sein, um vorzugsweise eine Seite eines bandförmigen Materials zu
beschichten, wobei zweckmäßigerweise die den Anoden abgekehrte
Bandseite durch eine in der Hohlschiene angebrachte oder mitlaufende Maske abgedeckt wird. Es können jedoch
auch die Anoden streifenförmig in Längsrichtung der Hohlschiene
verlaufen, um einen Beschichtungsstreifen auf einem bandförmigen Material oder selbstverständlich auch mehrere
derartige Streifen zu erzeugen. Auch dann, wenn die gesamte Fläche des bandförmigen Materials zu beschichten ist,
empfiehlt es sich, die Anoden streifenförmig innerhalb der
Hohlschiene anzuordnen, wobei die einzelnen Steifen zweck-
-6-
mä^ioerweise in Längsrichtung unhertpi.lt und gegeneinander
versetzt anzuordnen sind. Möglich ist auch, die Anoden in
gleichmäßigem Abstnnd hintereinander innerhalb der Hohlschiene
anzubringen und eine Vorrichtunci vorzusehen, die
das zu beschichtende Material Jeweils im Abstand der Anoden
voneinander taktweise vorbewegt. Dadurch können sowohl in der Breite wie auch in der Länge des bandförmigen Materials
selektierte Reschichtungslinien beziehungsweise Beschichtung
sρuηkte erzeugt pierden.
Zweckmäßigerweise wird der Abstand der Anoden von dem zu
beschichtenden Material einstellbar ausgeführt, indem die
Anoden an quer zur Längsrichtung der bandförmigen Materialien verstellbaren Justierschrauben angebracht werden. Dadurch kann, durch Änderung des Randwiderstandes, Einfluß
auf die Abscheidungsgeschwindigkeit, jedoch auch auf die
geometrischen Abmessungen der Abscheidung genommen werden.
Es wurde schon erwähnt, daß es vorteilhaft sein kann, in
der Hohlschiene eine das durchlaufende Material teilweise
abdeckende Maske anzuordnen. Um nur selektiv zu beschichten,
besteht selbstverständlich auch die Möglichkeit, auf
dem Band mitlaufende Abdeckunqen vorzusehen.
Hinsichtlich der Aufstellung der Hohlschiene hat es sich, wie Versuche gezeigt haben, bewährt, daß die"Hohlschiene
senkrecht aufgestellt wird, so, daß das bandförmige Material
von unten nach oben bewegt wird und der Elektrolyt die Hohlschiene von oben nach unten durchströmt.
Auf der Zeichnung ist schematisch ein Ausführungsbeispiel
der erfindunqsgemnßen Vorrichtung dargestellt. Durch eine
Hohlschiene 1 mit einem Durchtrittsquerschnitt, der etwa dem Querschnitt des durchzuführenden bandförmigen Materials
2 entspricht, wird von unten nach oben, wie dies die Pfeile 3 andnuten, das bandförmige Material ?. hindurchge-
-7 -
führt. Exakt in Gegenrichtung hierzu strömt Elektrolyt flüssigkeit
durch diese Hohlschiene 1, darnestellt durch die
gestrichelten Pfeile &. Die Elektrolytflüssigkeit wird von
einen Sammelbehälter 3 mittels einer Umwälzpumpe 6 über
eine Rinn leitung 7, die beidseits an die Höh !schiene 1
angeflanscht ist, im Kreislauf geführt.
Bei Einhaltung der oben annegebenen Hedingunnen, also einer
Bewegungsoeschii/indiakei t des bandf nrniqen Materials 2 oberhalb
von Π,1 m/s und einer unteren Strömungsgeschwindigkeit
des Elektrolyten von 1 m/s ergeben sich damit tatsächlich,
wie V/ersuche gezeigt haben, deutlich erhöhte Abscheidegeschwindigkeiten,
die bis zum zehnfachen der AbscheideqeschBindigkeit
reichen, die bei den zum Stande der Technik
gehörenden Anlagen zu erzielen sind, bei einer Stromausbeute zwischen 97 % und mn %.
- Leerseite -
Claims (1)
- HANS TRAPPENBERG · PAT-fTN-t-JNGEN-fEUR-. KarlsruheEUROPÄISCHER PATENTVERTRETER30.1Π.1984 n28 IT 0316Firma INOUAN-Stroebe GmbH & Co. KG
Industriestr. 44, 7534 Birken feldPATENTANSPRÜCHE1. Verfahren zum Aufbringen metallischer Schichten durch Galvanisiern auf band- oder seilförmige Materialien, wobei die mit dem Minuspol einer Stromquelle verbundenen zu ' ' .· beschichtenden Materialien durch eine in einem geeigneten Gefäß befindlichen Elektrolytlösung, vorbei an einer dort mit dem Pluspol der Stromquelle verbundenen Anode kontinuierlich hindurchgeführt werden,
dadurch gekennzeichnet,daß die Elektrolytlösung in Gegenrichtung (4) zur Bewegungsrichtung (3) des zu beschichtenden Materials (2) bewegt wird.-2-2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,daß die Strömungsgeschwindigkeit des Elektrolyten im Bereich der turbulenten Strömung liegt.3. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeicnet,daß die Relativgeschwindigkeit in der Grenzschicht zwischen der Bewegung des zu beschichtenden Materials (2) und derjenigen des Elektrolyten im Bereich der turbulenten Strömung legt.4. Verfahren nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,daß die Bewegungsgeschwindigkeit des Materials (2) oberhalb 0,1 m/s und die Geschwindigkeit der entgegengerichteten Strömung des Elektrolyten oberhalb von 1 m/s bei einer Reynolds-Zahl oberhalb 80.000 liegt.5. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach den Ansprüchen Ibis 4,
gekennzeichnetdurch eine aus Isoliermaterial bestehende Hohlschiene (1), deren freier Durchtrittsquerschnitt etwa dem Querschnitt des zu beschichtenden Materials (2) entspricht, durch ih die Hohlschiene (1) eingefügte Anoden sowie durch eine beidseits an die Hohlschiene (1) angeschlossene, den Elektrolyten führende Ringleitung (7), in die eine Umwälzpumpe (6) eingefügt ist.6. Vorrichtung nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,daß die Länge der Hohlschiene (1) proportional der aufzubringenden Schichtdicke ist.-3-7. Vorrichtung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Anoden die gesamte Innenimandflache des freien Durchgangsquerschnittes der Hohlschiene (1) bedecken oder auch nur Teile hiervon.8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Anoden streifenförmig in Längsrichtung der Hohlschiene (1) verlaufen.9. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Anoden in Längsrichtung unterteilt und verschiedenen Stromkreisen zugeordnet sind.10. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Anoden in gleichmäßigem Abstand hintereinander innerhalb der Hohlschiene (1) angebracht sind und daß eine Vorrichtung zum taktweisen Vorbeiwegen des zu beschichtenden Materials (2), jeweils im Abstand der Anoden voneinander, vorgesehen ist.11. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand der Anoden vom zu beschichtenden Material (2) einstellbar ist.1-2. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß in der Hohlschiene (1) eine das durchlaufende Material (2) teilweise abdeckende Maske angeordnet ist.-4-13. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Hohlschiene (1) senkrecht aufgestellt ist.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19843439750 DE3439750A1 (de) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | Galvanisierverfahren |
AT85113105T ATE54474T1 (de) | 1984-10-31 | 1985-10-16 | Galvanisierverfahren. |
EP85113105A EP0183034B1 (de) | 1984-10-31 | 1985-10-16 | Galvanisierverfahren |
JP60241781A JPS61113790A (ja) | 1984-10-31 | 1985-10-30 | 金属層を電気メツキによりウエブ状‐またはロープ状材料に施こす方法および装置 |
US06/926,818 US4721554A (en) | 1984-10-31 | 1986-10-31 | Electroplating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19843439750 DE3439750A1 (de) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | Galvanisierverfahren |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3439750A1 true DE3439750A1 (de) | 1986-04-30 |
DE3439750C2 DE3439750C2 (de) | 1989-01-05 |
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ID=6249147
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19843439750 Granted DE3439750A1 (de) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | Galvanisierverfahren |
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EP (1) | EP0183034B1 (de) |
JP (1) | JPS61113790A (de) |
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DE (1) | DE3439750A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0699781A1 (de) | 1994-08-29 | 1996-03-06 | Metallglanz Gesellschaft für Entgratung und Oberflächentechnik mbH | Galvanisches Verfahren zum galvanischen oder chemischen Behandeln, insbesondere zum kontinuierlichen Aufbringen metallischer Schichten auf einen Körper |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1182782B (it) * | 1985-07-18 | 1987-10-05 | Centro Speriment Metallurg | Perfezionamento nei procedimenti di zincatura elettrolitica |
US4904350A (en) * | 1988-11-14 | 1990-02-27 | International Business Machines Corporation | Submersible contact cell-electroplating films |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2917630A1 (de) * | 1979-05-02 | 1980-11-13 | Nippon Steel Corp | Anordnung zur elektrolytischen verzinkung von walzband |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2370973A (en) * | 1941-11-22 | 1945-03-06 | William C Lang | Method and apparatus for producing coated wire |
US3441494A (en) * | 1963-05-25 | 1969-04-29 | Kokusai Denshin Denwa Co Ltd | Apparatus to deposit a ferromagnetic film on a conductive wire |
US3522166A (en) * | 1967-04-21 | 1970-07-28 | Reynolds Metals Co | Electrical system for anodizing |
SE335038B (de) * | 1968-05-06 | 1971-05-10 | Wennberg Ab C | |
US3644181A (en) * | 1969-07-24 | 1972-02-22 | Sylvania Electric Prod | Localized electroplating method |
US3975242A (en) * | 1972-11-28 | 1976-08-17 | Nippon Steel Corporation | Horizontal rectilinear type metal-electroplating method |
US3865701A (en) * | 1973-03-06 | 1975-02-11 | American Chem & Refining Co | Method for continuous high speed electroplating of strip, wire and the like |
JPS5116236A (en) * | 1974-07-31 | 1976-02-09 | Daiichi Denshi Kogyo | Denkaishorihoho narabini sochi |
US4039398A (en) * | 1975-08-15 | 1977-08-02 | Daiichi Denshi Kogyo Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for electrolytic treatment |
LU80496A1 (fr) * | 1978-11-09 | 1980-06-05 | Cockerill | Procede et diopositif pour le depot electrolytique en continu et a haute densite de courant d'un metal de recouvrement sur une tole |
DE3017079A1 (de) * | 1980-05-03 | 1981-11-05 | Thyssen AG vorm. August Thyssen-Hütte, 4100 Duisburg | Vorrichtung zum elektroplattieren |
JPS5915996B2 (ja) * | 1980-12-03 | 1984-04-12 | 新日本製鐵株式会社 | 連続金属板処理設備における電解処理装置 |
JPS57140890A (en) * | 1981-02-24 | 1982-08-31 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | Electric metal plating method for steel strip |
DE3228641A1 (de) * | 1982-07-31 | 1984-02-02 | Hoesch Werke Ag, 4600 Dortmund | Verfahren zur elektrolytischen abscheidung von metallen aus waessrigen loesungen der metallsalze auf stahlband und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
US4434040A (en) * | 1982-09-28 | 1984-02-28 | United States Steel Corporation | Vertical-pass electrotreating cell |
-
1984
- 1984-10-31 DE DE19843439750 patent/DE3439750A1/de active Granted
-
1985
- 1985-10-16 AT AT85113105T patent/ATE54474T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-10-16 EP EP85113105A patent/EP0183034B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-10-30 JP JP60241781A patent/JPS61113790A/ja active Pending
-
1986
- 1986-10-31 US US06/926,818 patent/US4721554A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2917630A1 (de) * | 1979-05-02 | 1980-11-13 | Nippon Steel Corp | Anordnung zur elektrolytischen verzinkung von walzband |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0699781A1 (de) | 1994-08-29 | 1996-03-06 | Metallglanz Gesellschaft für Entgratung und Oberflächentechnik mbH | Galvanisches Verfahren zum galvanischen oder chemischen Behandeln, insbesondere zum kontinuierlichen Aufbringen metallischer Schichten auf einen Körper |
DE4430652A1 (de) * | 1994-08-29 | 1996-03-14 | Metallglanz Gmbh | Galvanisches Verfahren zum galvanischen oder chemischen Behandeln, insbesondere zum kontinuierlichen Aufbringen metallischer Schichten auf einen Körper |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61113790A (ja) | 1986-05-31 |
US4721554A (en) | 1988-01-26 |
ATE54474T1 (de) | 1990-07-15 |
EP0183034A2 (de) | 1986-06-04 |
EP0183034B1 (de) | 1990-07-11 |
EP0183034A3 (en) | 1987-10-28 |
DE3439750C2 (de) | 1989-01-05 |
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