[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

DE3439750A1 - Galvanisierverfahren - Google Patents

Galvanisierverfahren

Info

Publication number
DE3439750A1
DE3439750A1 DE19843439750 DE3439750A DE3439750A1 DE 3439750 A1 DE3439750 A1 DE 3439750A1 DE 19843439750 DE19843439750 DE 19843439750 DE 3439750 A DE3439750 A DE 3439750A DE 3439750 A1 DE3439750 A1 DE 3439750A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
hollow rail
electrolyte
anodes
electrolyte solution
coated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19843439750
Other languages
English (en)
Other versions
DE3439750C2 (de
Inventor
Erwin A. Dr. 7531 Neulingen Sauter
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Inovan GmbH and Co KG Metalle und Bauelemente
Original Assignee
Inovan Stroebe KG
Inovan Stroebe GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inovan Stroebe KG, Inovan Stroebe GmbH and Co KG filed Critical Inovan Stroebe KG
Priority to DE19843439750 priority Critical patent/DE3439750A1/de
Priority to AT85113105T priority patent/ATE54474T1/de
Priority to EP85113105A priority patent/EP0183034B1/de
Priority to JP60241781A priority patent/JPS61113790A/ja
Publication of DE3439750A1 publication Critical patent/DE3439750A1/de
Priority to US06/926,818 priority patent/US4721554A/en
Application granted granted Critical
Publication of DE3439750C2 publication Critical patent/DE3439750C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614Strips or foils
    • C25D7/0685Spraying of electrolyte
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/08Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)

Description

HANS TRAPPENBERG · PAT-£>M^Ne«N-rEUfr · Karls ruh e
EUROPÄISCHER PATENTVERTRETER
30.1Π.19ΒΑ n2fl IT 0316
Firma INQVAN-Stroebe GmbH & Co. KG
Incfustriestr. 44, 7534 Birkenfeld
Galvanisierverfahren
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufbringen metallischer Schichten durch Galvanisieren auf band- oder seilförmige Materialien, wobei die mit dem Minuspol einer Stromquelle verbundenen zu beschichtenden Materialien, durch eine in einem geeigneten Gefäß befindliche Elekrolytlnsung, vorbei an einer dort mit dem Pluspol der Stromquelle verbundenen Anode, kontinuierlich hindurchgeführt werden sowie eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens.
Zum Beschichten der Oberfläche von Drähten, Bändern, Stanzgittern, Seilen oder sonstigen bandförmigen Materialien durch Galvanisieren, werden diese Materialien kontinuierlich durch ein GefäB bindurcngeführt, in dem sich eine Elektrolytlösung (oder auch Salzschmelze) befindet. Hierbei bildet das zu beschichtende Material die Kathode, an der
-2-
sich infolge der Innenwanderung die in Elektrolyten gelösten Metalle anlagern. Durch diese Ionenwanderung verarmt der Elektrolyt in der Umgebung der Kathode an abscheidbaren Metallionen, so daß stets für die Zufuhr von frischem Elektrolyt gesorgt werden muß. Dies geschieht bei den bekannten Galvanisierbädern im allgemeinn bereits dadurch, daR das bandförmige Material durch die Elektrolytlösung hindurchgeführt wird, also stets mit neuer Elektrolytlösung in Berührung kommt. Bei modernen Anlagen wird außerdem der Elektrolyt stetig umgepumpt und erneuert, so daß sich zumindest im Gefäß, durch das die bandartigen Materialien hindurchgeführt werden, stets eine genügend Metallionen aufweisende Elektrolytlösung befindet. Dies besagt allerdings noch nicht, daß in der unmittelbaren Umgebung der Kathode, also des zu beschichtenden Materials, ebenfalls genügend Metallioen vorhanden sind. Nur aber dann, wenn genügend Ionen (beziehungsweise Anionen) für den Stromtransport zur Verfügung stehen, kann entsprechend viel Metall auf der Kathode abgeschieden beziehungsweise kann mit einer guten Stromausbeute gerechnet werden. Daraus ergibt sich, daß, je besser der Elektrolytaustausch an der Oberfläche des zu beschichtenden Teiles durchgeführt wird, desto höher die Abscheidungsqeschwindiqkeit und die Stromausbeute ist beziehungsweise desto schneller das Metall in erwünschter Weise auf dem Material abgeschieden wird bei gleichzeitig verbessertem Wirkungsgrad der Galvanisierungseinrichtung.
Um dieser Verarmung in der Nähe des zu beschichtenden Materials zu begegnen, wurde, wie oben erwähnt, bereits vorgeschlagen, die Elektrolytlösung kontinuierlich zu erneuern und auch die Elektrolytlösung innerhalb des Elektrolysegefäßes in Bewegung zu halten. Durch diese Maßnahme sollte erreicht werden, daß sich immer frische Elektrolytlösung mit genügend abzuscheidenden Metallionen in der Umgebung des zu beschichtenden Materials befindet.
-3-
Mit diesen bekannten, dem Stande der Technik zuzuzählenden Anlagen, waren bereits recht hohe Abscheidegeschwindigkeiten zu erzielen. Die Erfindung hat sich jedoch die Aufgabe gestellt, diese Abscheidegeschwindigkeiten noch weiter zu
erhöhen.
Dies gelingt nach der Erfindung dadurch, daß die Elektrolytlösung in Gegenrichtung zur Bewegungsrichtung des zu beschichtenden Materials bewegt wird.
Augangspunkt der Erfindung war hierbei die Überlegung, daß t ein hoher Elektrolytaustausch an der Oberfläche des zu beschichtenden Materials erzielt wird bei hoher Relativgeschwindigkeit zwischen dem zu beschichtenden Material und
der Elektrolytlösung, wobei die höchste Relativgeschwindigkeit dann erreicht wird, wenn die Bandbewegung und die
Elektrolytströmung in genau entgegengesetzter Richtung verlaufen. Dadurch ist gewährleistet, daß dann, wenn die Umgebung der Kathode, also des zu beschichtenden Materials, an abzuscheidenden Metallionen beginnt zu verarmen, bereits
frische Elektrolytflüssigkeit herangeführt wird, so daß
stets ein ununterbrochener Zustrom von Meta11 ionen zur
Kathode gesichert ist.
Es muß allerdings hinzugefügt werden, daß diese Überlegung zwar theoretisch richtig, in der Praxis aber nicht immer zu treffend ist. Insbesondere trifft diese theoretische Überlegung dann nicht zu, wenn die Elektrolytströmunq laminar
verläuft. Es wird daher nach der Erfindung festgelegt, daß die Strömungsgeschwindigkeit des Elektrolyten und darüber
hinaus auch die Relativgeschwindigkeit in der Grenzschicht zwischen der Bewegung des zu beschichtenden Materials und
derjenigen des Elektrolyten im Bereich der turbulenten
Strömung liegen soll. Dies setzt im allgemeinen voraus, daß die Rewegunqsgeschwindigkeit des bandförmigen Materials
oberhalb von 0,1 m/s und die Geschwindigkeit der entgegen-
-4-
gerichteten Strömung des Elektrolyten oberhalb von 1 m/s bei einer Reynolds-Zahl oberhalb RO.OfIG liegt. Maßgebend für die laminare oder turbulente Strömung ist die Reynolds-Zahl, also das Verhältnis der Trägheitskräfte zu den Zähigkeitskräften, wobei die Strömungsgeschwindigkeit beziehungsweise die Relativgeschwindigkeit zwischen dem bandförmigen Material und dem Elektrolyten in diesem Falle die ausschlaggebende Rolle spielt. Maßgebend ist ja nicht, daß in dem Elektrolysebad, also in dem die Elektrolytlösung enthaltenden Gefäß stets frische Elektrolytlösung zur Verfugung steht, sondern daß diese frische Elektrolytlösung mit einer hohen Anzahl von abscheidbaren Metallionen in unmittelbarer Umgebung des zu beschichtenden Materials vorhanden ist. Dies wird zwar nach der Erfindung dadurch erreicht, daß die Elektrolytlösung in Gegenrichtung zur Bewegungsrichtung des zu beschichtenden Materials bewegt wird, daß also eine höchste Relativgeschwindigkeit zwischen dem Material und der Elektrolytlösung herbeigeführt wird. Die Verarmung wird jedoch nit Sicherheit dann vermieden, wenn auch in der Grenzschicht eine turbulente Strömung vorherrscht die bewirkt, daß die Metallionen nicht nur in die Nähe der Kathode gebracht werden, sondern, durch die turbulente Strömung, auch noch die Elektronenwanderung zur Kathode unterstützt. Es darf in diesem Zusammenhang auch darauf hingewiesen werden, daß die Grenzschicht bei turbulenter Strömung um Größenordnungen kleiner ist als bei laminarer Strömung, daß also die nach der Erfindung angestrebte hohe Relativgeschwindigkeit und die damit herbeigeführte Turbulenz maßgebend für die hohe Abscheidegeschwindigkeit ist. Turbulente Strömung herrscht jedoch nach empirisch festgelegten Werten bereits ab einer Reynolds-Zahl, die größer als 2.32Π ist. Bei einer Reynolds-Zahl, wie dies von der Erfindung festgelegt wird, von RE 8Π.Π0Π, ist also mit Sicherheit eine turbulente Strömung vorhanden.
- 5-
Zur Durchführung des Verfahrens wird nach der Erfindung eine Vorrichtung vorgeschlagen, die gekennzeichnet ist durch eine aus Isoliermaterial bestehenden Hohlschiene, deren freier Durchtrittsquerschnitt etwa dem Querschnitt des zu beschichtenden Materials entspricht, durch in die Hohlschiene eingefügte Anoden sowie durch eine beidseits an die Hohlschiene angeschlossene, den Elektrolyten führende Ringleitung, in die eine Umwälzpumpe eingefügt ist. Selbstverständlich kann in diese Ringleitung noch ein Sammelbecken für Elektrolytflüssigkeit eingefügt werden, dem dann auch stets frische Elektrolytflüssigkeit zur Beibehaltung der zuvor bestimmten optimalen Werte hinzugefügt werden kann. Die Länge der Hohlschiene wird hierbei nach der aufzubringenden Schichtdicke festgelegt, wobei, bei konstanten Geschwindigkeiten und Stromstärken, die Schichtdicke der Länge der Hohlschiene proportional ist. Der Proportionalitätsfaktor ist allerdings material abhängig; so müßte zum Abscheiden von Palladium unter sonst gleichen Bedingungen die Länge der Hohlschiene etwa zehnmal größer sein als für diejenge zum Beschichten mit Silber.
Die Anoden können in erfindungsgemäßer Weise die gesamte Innenwandfläche des freien Durchgangsquerschnitts der Hohlschiene bedecken oder auch nur Teile hiervon. So können die Anoden beispielsweise nur einseitig angebracht sein, um vorzugsweise eine Seite eines bandförmigen Materials zu beschichten, wobei zweckmäßigerweise die den Anoden abgekehrte Bandseite durch eine in der Hohlschiene angebrachte oder mitlaufende Maske abgedeckt wird. Es können jedoch auch die Anoden streifenförmig in Längsrichtung der Hohlschiene verlaufen, um einen Beschichtungsstreifen auf einem bandförmigen Material oder selbstverständlich auch mehrere derartige Streifen zu erzeugen. Auch dann, wenn die gesamte Fläche des bandförmigen Materials zu beschichten ist, empfiehlt es sich, die Anoden streifenförmig innerhalb der Hohlschiene anzuordnen, wobei die einzelnen Steifen zweck-
-6-
mä^ioerweise in Längsrichtung unhertpi.lt und gegeneinander versetzt anzuordnen sind. Möglich ist auch, die Anoden in gleichmäßigem Abstnnd hintereinander innerhalb der Hohlschiene anzubringen und eine Vorrichtunci vorzusehen, die das zu beschichtende Material Jeweils im Abstand der Anoden voneinander taktweise vorbewegt. Dadurch können sowohl in der Breite wie auch in der Länge des bandförmigen Materials selektierte Reschichtungslinien beziehungsweise Beschichtung sρuηkte erzeugt pierden.
Zweckmäßigerweise wird der Abstand der Anoden von dem zu beschichtenden Material einstellbar ausgeführt, indem die Anoden an quer zur Längsrichtung der bandförmigen Materialien verstellbaren Justierschrauben angebracht werden. Dadurch kann, durch Änderung des Randwiderstandes, Einfluß auf die Abscheidungsgeschwindigkeit, jedoch auch auf die geometrischen Abmessungen der Abscheidung genommen werden.
Es wurde schon erwähnt, daß es vorteilhaft sein kann, in der Hohlschiene eine das durchlaufende Material teilweise abdeckende Maske anzuordnen. Um nur selektiv zu beschichten, besteht selbstverständlich auch die Möglichkeit, auf dem Band mitlaufende Abdeckunqen vorzusehen.
Hinsichtlich der Aufstellung der Hohlschiene hat es sich, wie Versuche gezeigt haben, bewährt, daß die"Hohlschiene senkrecht aufgestellt wird, so, daß das bandförmige Material von unten nach oben bewegt wird und der Elektrolyt die Hohlschiene von oben nach unten durchströmt.
Auf der Zeichnung ist schematisch ein Ausführungsbeispiel der erfindunqsgemnßen Vorrichtung dargestellt. Durch eine Hohlschiene 1 mit einem Durchtrittsquerschnitt, der etwa dem Querschnitt des durchzuführenden bandförmigen Materials 2 entspricht, wird von unten nach oben, wie dies die Pfeile 3 andnuten, das bandförmige Material ?. hindurchge-
-7 -
führt. Exakt in Gegenrichtung hierzu strömt Elektrolyt flüssigkeit durch diese Hohlschiene 1, darnestellt durch die gestrichelten Pfeile &. Die Elektrolytflüssigkeit wird von einen Sammelbehälter 3 mittels einer Umwälzpumpe 6 über eine Rinn leitung 7, die beidseits an die Höh !schiene 1 angeflanscht ist, im Kreislauf geführt.
Bei Einhaltung der oben annegebenen Hedingunnen, also einer Bewegungsoeschii/indiakei t des bandf nrniqen Materials 2 oberhalb von Π,1 m/s und einer unteren Strömungsgeschwindigkeit des Elektrolyten von 1 m/s ergeben sich damit tatsächlich, wie V/ersuche gezeigt haben, deutlich erhöhte Abscheidegeschwindigkeiten, die bis zum zehnfachen der AbscheideqeschBindigkeit reichen, die bei den zum Stande der Technik gehörenden Anlagen zu erzielen sind, bei einer Stromausbeute zwischen 97 % und mn %.
- Leerseite -

Claims (1)

  1. HANS TRAPPENBERG · PAT-fTN-t-JNGEN-fEUR-. Karlsruhe
    EUROPÄISCHER PATENTVERTRETER
    30.1Π.1984 n28 IT 0316
    Firma INOUAN-Stroebe GmbH & Co. KG
    Industriestr. 44, 7534 Birken feld
    PATENTANSPRÜCHE
    1. Verfahren zum Aufbringen metallischer Schichten durch Galvanisiern auf band- oder seilförmige Materialien, wobei die mit dem Minuspol einer Stromquelle verbundenen zu ' ' .· beschichtenden Materialien durch eine in einem geeigneten Gefäß befindlichen Elektrolytlösung, vorbei an einer dort mit dem Pluspol der Stromquelle verbundenen Anode kontinuierlich hindurchgeführt werden,
    dadurch gekennzeichnet,
    daß die Elektrolytlösung in Gegenrichtung (4) zur Bewegungsrichtung (3) des zu beschichtenden Materials (2) bewegt wird.
    -2-
    2. Verfahren nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet,
    daß die Strömungsgeschwindigkeit des Elektrolyten im Bereich der turbulenten Strömung liegt.
    3. Verfahren nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeicnet,
    daß die Relativgeschwindigkeit in der Grenzschicht zwischen der Bewegung des zu beschichtenden Materials (2) und derjenigen des Elektrolyten im Bereich der turbulenten Strömung legt.
    4. Verfahren nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche,
    dadurch gekennzeichnet,
    daß die Bewegungsgeschwindigkeit des Materials (2) oberhalb 0,1 m/s und die Geschwindigkeit der entgegengerichteten Strömung des Elektrolyten oberhalb von 1 m/s bei einer Reynolds-Zahl oberhalb 80.000 liegt.
    5. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach den Ansprüchen Ibis 4,
    gekennzeichnet
    durch eine aus Isoliermaterial bestehende Hohlschiene (1), deren freier Durchtrittsquerschnitt etwa dem Querschnitt des zu beschichtenden Materials (2) entspricht, durch ih die Hohlschiene (1) eingefügte Anoden sowie durch eine beidseits an die Hohlschiene (1) angeschlossene, den Elektrolyten führende Ringleitung (7), in die eine Umwälzpumpe (6) eingefügt ist.
    6. Vorrichtung nach Anspruch 5,
    dadurch gekennzeichnet,
    daß die Länge der Hohlschiene (1) proportional der aufzubringenden Schichtdicke ist.
    -3-
    7. Vorrichtung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Anoden die gesamte Innenimandflache des freien Durchgangsquerschnittes der Hohlschiene (1) bedecken oder auch nur Teile hiervon.
    8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Anoden streifenförmig in Längsrichtung der Hohlschiene (1) verlaufen.
    9. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Anoden in Längsrichtung unterteilt und verschiedenen Stromkreisen zugeordnet sind.
    10. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Anoden in gleichmäßigem Abstand hintereinander innerhalb der Hohlschiene (1) angebracht sind und daß eine Vorrichtung zum taktweisen Vorbeiwegen des zu beschichtenden Materials (2), jeweils im Abstand der Anoden voneinander, vorgesehen ist.
    11. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand der Anoden vom zu beschichtenden Material (2) einstellbar ist.
    1-2. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß in der Hohlschiene (1) eine das durchlaufende Material (2) teilweise abdeckende Maske angeordnet ist.
    -4-
    13. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Hohlschiene (1) senkrecht aufgestellt ist.
DE19843439750 1984-10-31 1984-10-31 Galvanisierverfahren Granted DE3439750A1 (de)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19843439750 DE3439750A1 (de) 1984-10-31 1984-10-31 Galvanisierverfahren
AT85113105T ATE54474T1 (de) 1984-10-31 1985-10-16 Galvanisierverfahren.
EP85113105A EP0183034B1 (de) 1984-10-31 1985-10-16 Galvanisierverfahren
JP60241781A JPS61113790A (ja) 1984-10-31 1985-10-30 金属層を電気メツキによりウエブ状‐またはロープ状材料に施こす方法および装置
US06/926,818 US4721554A (en) 1984-10-31 1986-10-31 Electroplating apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19843439750 DE3439750A1 (de) 1984-10-31 1984-10-31 Galvanisierverfahren

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3439750A1 true DE3439750A1 (de) 1986-04-30
DE3439750C2 DE3439750C2 (de) 1989-01-05

Family

ID=6249147

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19843439750 Granted DE3439750A1 (de) 1984-10-31 1984-10-31 Galvanisierverfahren

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4721554A (de)
EP (1) EP0183034B1 (de)
JP (1) JPS61113790A (de)
AT (1) ATE54474T1 (de)
DE (1) DE3439750A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0699781A1 (de) 1994-08-29 1996-03-06 Metallglanz Gesellschaft für Entgratung und Oberflächentechnik mbH Galvanisches Verfahren zum galvanischen oder chemischen Behandeln, insbesondere zum kontinuierlichen Aufbringen metallischer Schichten auf einen Körper

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1182782B (it) * 1985-07-18 1987-10-05 Centro Speriment Metallurg Perfezionamento nei procedimenti di zincatura elettrolitica
US4904350A (en) * 1988-11-14 1990-02-27 International Business Machines Corporation Submersible contact cell-electroplating films

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2917630A1 (de) * 1979-05-02 1980-11-13 Nippon Steel Corp Anordnung zur elektrolytischen verzinkung von walzband

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2370973A (en) * 1941-11-22 1945-03-06 William C Lang Method and apparatus for producing coated wire
US3441494A (en) * 1963-05-25 1969-04-29 Kokusai Denshin Denwa Co Ltd Apparatus to deposit a ferromagnetic film on a conductive wire
US3522166A (en) * 1967-04-21 1970-07-28 Reynolds Metals Co Electrical system for anodizing
SE335038B (de) * 1968-05-06 1971-05-10 Wennberg Ab C
US3644181A (en) * 1969-07-24 1972-02-22 Sylvania Electric Prod Localized electroplating method
US3975242A (en) * 1972-11-28 1976-08-17 Nippon Steel Corporation Horizontal rectilinear type metal-electroplating method
US3865701A (en) * 1973-03-06 1975-02-11 American Chem & Refining Co Method for continuous high speed electroplating of strip, wire and the like
JPS5116236A (en) * 1974-07-31 1976-02-09 Daiichi Denshi Kogyo Denkaishorihoho narabini sochi
US4039398A (en) * 1975-08-15 1977-08-02 Daiichi Denshi Kogyo Kabushiki Kaisha Method and apparatus for electrolytic treatment
LU80496A1 (fr) * 1978-11-09 1980-06-05 Cockerill Procede et diopositif pour le depot electrolytique en continu et a haute densite de courant d'un metal de recouvrement sur une tole
DE3017079A1 (de) * 1980-05-03 1981-11-05 Thyssen AG vorm. August Thyssen-Hütte, 4100 Duisburg Vorrichtung zum elektroplattieren
JPS5915996B2 (ja) * 1980-12-03 1984-04-12 新日本製鐵株式会社 連続金属板処理設備における電解処理装置
JPS57140890A (en) * 1981-02-24 1982-08-31 Nippon Kokan Kk <Nkk> Electric metal plating method for steel strip
DE3228641A1 (de) * 1982-07-31 1984-02-02 Hoesch Werke Ag, 4600 Dortmund Verfahren zur elektrolytischen abscheidung von metallen aus waessrigen loesungen der metallsalze auf stahlband und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
US4434040A (en) * 1982-09-28 1984-02-28 United States Steel Corporation Vertical-pass electrotreating cell

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2917630A1 (de) * 1979-05-02 1980-11-13 Nippon Steel Corp Anordnung zur elektrolytischen verzinkung von walzband

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0699781A1 (de) 1994-08-29 1996-03-06 Metallglanz Gesellschaft für Entgratung und Oberflächentechnik mbH Galvanisches Verfahren zum galvanischen oder chemischen Behandeln, insbesondere zum kontinuierlichen Aufbringen metallischer Schichten auf einen Körper
DE4430652A1 (de) * 1994-08-29 1996-03-14 Metallglanz Gmbh Galvanisches Verfahren zum galvanischen oder chemischen Behandeln, insbesondere zum kontinuierlichen Aufbringen metallischer Schichten auf einen Körper

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61113790A (ja) 1986-05-31
US4721554A (en) 1988-01-26
ATE54474T1 (de) 1990-07-15
EP0183034A2 (de) 1986-06-04
EP0183034B1 (de) 1990-07-11
EP0183034A3 (en) 1987-10-28
DE3439750C2 (de) 1989-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10153544B4 (de) Vorrichtung zur Steuerung des Durchflusses in einem Galvanisierungsprozeß
DE3228292C2 (de)
DE69923477T2 (de) Verfahren für ein feuerverzinkungs- und &#34;galvannealing&#34;-prozess in einem aluminium-haltigen zinkbad
DE1621184A1 (de) Vorrichtung zum Galvanisieren sich bewegender Metallstreifen
US3975242A (en) Horizontal rectilinear type metal-electroplating method
DE1118565B (de) Einrichtung zur Herstellung von Kupferblech durch galvanischen Niederschlag
DE3149519A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur galvanisierung /verzinkung) von metallband
DE2309056C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum galvanoplastischen Herstellen eines relativ dünnen, flexiblen, endlosen Metallbandes
EP0101429B1 (de) Verfahren zur elektrolytischen Beschichtung mit einer Metallschicht und gegebenenfalls elektrolytischen Behandlung eines Metallbandes
DE3317564A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur metallbandbeschichtung
DE1928062C3 (de) Galvanisierzelle
DE3100634A1 (de) &#34;vorrichtung zum galvanisieren eines bands&#34;
EP0038447B1 (de) Vorrichtung zum partiellen Galvanisieren von leitenden oder leitend gemachten Oberflächen
DE3439750A1 (de) Galvanisierverfahren
EP0030334A1 (de) Elektrolyseanlage zur galvanischen Verstärkung von leitend vorbeschichteten bandförmigen Kunststoff-Folien
AT392294B (de) Verfahren und vorrichtung zur kontinuierlichen elektroabscheidung von metallen bei hoher stromdichte in vertikalen zellen
DE3011005C2 (de)
DE3723745C1 (en) Process and device for breaking emulsions
EP0196420B1 (de) Hochgeschwindigkeits-Elektrolysezelle für die Veredelung von bandförmigem Gut
DE3782638T2 (de) Verfahren und vorrichtung zur kontinuierlichen elektrochemischen behandlung von metallen.
DE19633797B4 (de) Vorrichtung zum Galvanisieren von elektronischen Leiterplatten oder dergleichen
EP0142010B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum elektrolytischen Abscheiden von Metallen
EP0534269A2 (de) Galvanisiereinrichtung für im horizontalen Durchlauf zu behandelnde gelochte Leiterplatten
DE3625527A1 (de) Radialzellen-elektroplattiereinrichtung
DE2416269A1 (de) Anlage zur kontinuierlichen herstellung eines metallueberzuges auf einem laengs bewegten draht

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: INOVAN GMBH & CO KG METALLE UND BAUELEMENTE, 7534

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee