DE3309709A1 - Gebilde von einrichtungen fuer akustische wellen - Google Patents
Gebilde von einrichtungen fuer akustische wellenInfo
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Description
PHB 32 βό5 * " ' 12.3.1983
Gebilde von Einrichtungen für akustische Wellen
Die Erfindung betrifft ein Gebilde von Einrichtungen für akustische Wellen, insbesondere, aber nicht ausschliesslich
ein Gebilde von Resonatoren für geräuscharme Oszillatoren. Derartige Gebilde von Einrichtungen lassen sich beispielsweise
auch in Filtern anwenden, die für den Betrieb bei hohen Energiepegeln ausgelegt sind. Die Einrichtungen
können für akustische Volumenwellen oder für akustische Oberflächenwellen (OFW-Einrichtungen) sein.
Die Energieabhängigkeit von Alterung in OFW-Resonatoren wurde in einer Veröffentlichung von W.R.Shreve et al
in "I.E.E.E.", 1981, "Ultrasonics Symposium Proceedings"
(I.E.E.E.-Veröffentlichung 81 CH 16 89.9), S. 9k ... 99 beschrieben.
In der Veröffentlichung sind Alterungsversuche mit Einpol-OFW-Resonatoren und mit Zweipol-OFW-Resonatoren
beschrieben. Diese beiden Welleneinrichtungen enthalten ein piezoelektrisches Substrat mit einem Schwingungshohlraum
zwischen einigen Wellenreflektoren (die Rillen in der Substratoberfläche
oder Metallstreifen auf der Substratoberfläche
sein können). Ein Einpolresonator verfügt über einen Wandler im Schwingungshohlraum und über einen Satz von
Anschlüssen zum Ein- oder Ausführen von Energie bei der Einrichtung. Der Zweipolresonator verfügt über einen Eingangswandler
mit einem Satz von Eingangsanschlüssen und einen Ausgangswandler mit einem Satz von Ausgangsanschlüssen.
Jeder Wandler besitzt kammartig ineinandergreifende Elektrodenfinger. In speziellen beschriebenen Zweipolresonatoren
ist auch ein geerdeter Metallstab in der Mitte des Hohlraums zwischen den Wandlern vorgesehen.
Diese OFW-AnOrdnungen (Oberflächenwelleneinrichtungen)
wiesen eine Alterung mit einer Geschwindigkeit auf, die bei ansteigender Betriebenergie grosser wird. Die Hauptursache
der ansteigenden Alterungsgeschwindigkeit ist eine von
akustischen Erscheinungen bewirkte Wanderung des Metalls
PHB 32 865 -''&"
12.3.1Q83
der Elektrodenfinger, des möglichen metallenen Zentrierstabs
und auch der Reflektoren, wenn sie aus Metall bestehen. Diese Metallwanderung tritt in Bereichen der Einrichtung
auf, in denen die mechanische Spannung am grössten ist, und zwar zur Mitte des Hohlraums hin. Die von akustischen
Erscheinungen bewirkte Wanderung ist insbesondere gross in OFW-Resona.toren, in denen ein Stehwellenmuster im
Hohlraum gebildet ist, aber sie tritt auch in anderen OFW-Einrichtungen auf. Hierdurch wird beim Emtwurf der
maximalen mechanischen Spannung eine Grenze gesetzt, welche Spannung die Einrichtung unter Beibehaltung des zuverlässigen
Betriebs aushält, wodurch die maximale Energie je wirksame Oberflächeneinheit, die eine bestimmte Einrichtung
auf zuverlässige Weise verarbeiten kann, beschränkt wird.
Für eine OFW-Einrichtung aus Quarz mit einer Metallisierung
aus reinem Aluminium zeigte es sich, dass die Höchstspannung etwa 6.10 N/m2 betrug. Wie in der Veröffentlichung
von Shreve et al beschrieben wurde, kann die von akustischen Erscheinungen ausgelöste Wanderung dadurch verringert
werden, dass eine geringe Kupfermenge in die Metallisierung aufgenommen wird. Von Anmelderin durchgeführte Versuche
zeigen jedoch, dass eine derartige Kupferdotierung der
Metallisierung den Gütefaktor einer OFW-Resonatoreinrichtung beeinträchtigen kann und somit nicht immer erwünscht ist.
Die Energieverarbeitungskapazität einer OFW-Einrichtung
lässt sich dux-ch Vergrösserung des wirksamen Bereichs der Einrichtung vergrössern, wodurch der relative
Energiepegel je Einheit der wirksamen Fläche tatsächlich herabgesetzt und also die mechanische Spannung verringert
wird. Die Abmessungen der Einrichtung werden jedoch in Abhängigkeit von den elektrischen Impedanz-, den Bandbreiten-
und Dämpfungen eigenschaft ten bestimmt, die für
die spezielle Anwendung der Einrichtung gewünscht sind. Bei der Vergrösserung der wirksamen Fläche der Einrichtung-SS
sinkt die Impedanz vom gewünschten Wert ab. Die Alterung, die Energieverarbeitungskapazität und die Impedanzwerte
von Volumenwelleneinriehtungen werden durch gleichartige Erwägungen beeinflusst.
PUB 32 «05 ·9
12.3.1983
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Gebilde von OFV-Einrichtungen zu schaffen, das einen gewünschten
elektrischen Impedanzwert und gleichzeitig eine bessere Energieverarbeitungskapazität besitzt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäss mit einem Gebilde
von ÜFV-Einrichtungen eingangs erwähnter Art dadurch gelöst, dass das Gebilde zumindest ein piezoelektrisches
Substrat mit N OFV-Einrichtungen mit nahezu gleichen elektrischen Impedanz— und Übertragungseigenschaften enthält,
wobei N eine ganze Zahl grosser als 1 ist und jede Einrichtung
zumindest einen Satz von Anschlüssen zum Zuführen und Ableiten von Energie bei der Einrichtung enthält, wobei
die genannten N~ Einrichtungen in einer Parallel/Seriensehaltung elektrisch angeordnet sind, die aus N Gruppen
^ besteht, die je N der erwähnten Einrichtungen enthalten,
deren entsprechenden Anschlusspaare elektrisch in Serie geschaltet sind, wobei die entsprechenden Anschlusspaare
in jeder Gruppe elektrisch zu den entsprechenden Anschlusspaaren
in der (den) anderen Gruppe(n) parallelgeschaltet sind, so dass das Gebilde von Einrichtungen nahezu dieselben
Impedanz- und Übertragungseigenschaften wie eine jede der
getrennten N*" Einrichtungen besitzt.
Durch die Verwendung einer derartigen Parallel/-
SerienschalLung von N~ Einrichtungen besitzt das so geformte,
vollständige Gebilde von OFV-Einrichtungen elektrische Impedanz- und Übertragungseigenschaften, die denen einer
jeden der getrennten Einrichtungen nahezu gleich sind, während die wirksame Fläche der Einrichtung um wenigstens
2
den Faktor N vergrössert wird. Diese Vergrösserung der -wirksamen Fläche der Einrichtung hat zur Folge, dass das ganze Gebilde von Einrichtungen eine höhere Energieverarbeitungskapazität besitzt. So können Gebilde erfindungsgemässer Einrichtungen für Filter verwendet werden, die derart ausgelegt sind, dass sie höhere Energiepegel aushalten. Sie sind insbesondere für geräuscharme Oszillatoren und andere Resonatoren wichtig, die feste Impedanzpegel besitzen, jedoch bei möglichst hohen Energiepegeln arbeiten, um das Verhältnis zwischen der Phasengeräuschenergie und
den Faktor N vergrössert wird. Diese Vergrösserung der -wirksamen Fläche der Einrichtung hat zur Folge, dass das ganze Gebilde von Einrichtungen eine höhere Energieverarbeitungskapazität besitzt. So können Gebilde erfindungsgemässer Einrichtungen für Filter verwendet werden, die derart ausgelegt sind, dass sie höhere Energiepegel aushalten. Sie sind insbesondere für geräuscharme Oszillatoren und andere Resonatoren wichtig, die feste Impedanzpegel besitzen, jedoch bei möglichst hohen Energiepegeln arbeiten, um das Verhältnis zwischen der Phasengeräuschenergie und
8 I Γ:-· i. W:.':
PHB 32 865 '*'
12.3. 19Ö3
der Tragwellenenergie auf ein Mindestmass zu beschränken.
Vie weiter unten anhand verschiedener besonderer Ausführungsformen und der beigefügten Zeichnungen näher
erläutert wird, können die N Einrichtungen diskrete Einrichtungen sein, oder sie können im verschiedenen Grade
zusammen integriert werden, wodurch sie einfachere und äusserst gedrängte Einrichtungsstrukturen auf einem einzigen
piezoelektrischen Substrat bilden. Obgleich die wirksame
2 Fläche der Einrichtung um den Faktor N vergrössert ist,
^q kann dadurch die Substratfläche, die für das ganze Gebilde
von N Einrichtungen erforderlich ist, viel kleiner als
das N -Fache der Substratfläche sein, die für eine der
N Einrichtungen erforderlich wäre.
So können beispielsweise folgende Integrationspegel
2 verwendet werden. Zumindest zwei der N Einrichtungen können Wandlerelektrodenfinger enthalten, die sich von einander
gegenüberliegenden Seiten eines Elektrodenschienenteils erstrecken, der einen gemeinsamen Anschluss der beiden Einrichtungen
bildet und ein Teil einer Serien- oder einer Parallelschaltung ist. Ein Satz zumindest zweier der erwähnten
N~ Einrichtungen kann in Parallelschaltung mit
Hilfe elektrischer Verbindungen zwischen den Gruppen in Serie geschalteter Einrichtungen angeordnet werden, wobei
insbesondere der genannte Satz zumindest zweier Einrichtungen ineinandergeschachtelte' kammartige Wandlerelektrodenfinger
enthalten kann, die sich von zwei einander gegenüberliegenden Elektrodenschienenteilen erstrecken, die
für die Einrichtungen des Satzes gemeinsam sind, wobei die Elektrodenfinger der einen Einrichtung des Satzes eine
longitudinale Verlängerung der Elektrodenfinger einer
anderen Einrichtung des Satzes bilden. Au«serdem kann bei OFW-Resonatoren zumindest eine Anzahl der N~ Einrichtungen
gemeinsame reflektierende Elemente enthalten, die getrennte Schwingungshohlräunie für die einzelnen Einrichtungen bilden.
Bei sog. "Einpoleinrichtungen" weist jede der X Einrichtungen ein Anschlusspaar auf, das zum Zuführen und
Ableiten von Energie bei der Einrichtung dient. Erfindungsgemässe
Parallel/Serienschaltungen können jedoch auch zwei
JJ
PHB 32 8ö5 ·&*'·' ■""' "■■"■' 12.3. 1903
PHB 32 8ö5 ·&*'·' ■""' "■■"■' 12.3. 1903
oder mehrere Pole enthalten, so dass jede der N Einrichtungen
zumindest ein Eingangsanschlusspaar und zumindest ein Ausgangsanschluss paar enthalten kann. Bei diesen Anordnungen
mit mehreren Polen können die seriengeschalteten Eingangsanschlusspaare auf gleiche oder auf eine andere
Weise als die seriengeschalteten Ausgangsanschlusspaare gruppiert werden; dies ist davon abhängig, zu welcher be-
stimmten Einrichtung der N Einrichtungen diese Anschlusspaare gehören» So können alle Paare zweiter Anschlüsse in
jeder Gruppe von N Gruppen zu einer Gruppe von N Einrichtungen gehören, von denen alle Paare erster Anschlüsse zu
einei' gemeinsamen Gruppe von N ersten Anschlusspaaren gehören;
auch können die Paare zweiter Anschlüsse in jeder Gruppe von N Gruppen zu einer Gruppe von N Einrichtungen
^ gehören, von denen die Paare erster Anschlüsse nicht zu
einer geineinsamen N Gruppe gehören.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend beispielsweise anhand der Zeichnung näher erläutert.
Es zeigen
Fig. 1 eine Draufsicht auf ein erstes Gebilde von Einrichtungen für akustische Oberflächenwellen nach der
Erfindung mit einer Parallel/Serienschaltung von vier
Einpolresonatoren A, B, S und T,
Fig. 2 ein Blockschaltbild einer derartigen Parallel/Serienschaltung von vier Resonatoren A, B, S und T
nach Fig. 1,
Fig. 3 ein Ersatzschaltbild eines der Resonatoren
A, B, S und T nach Fig. 1;
Fig. k ein Ersatzschaltbild der Parallel/Serienschaltung
der vier Resonatoren A-, B, S und T nach Fig. 1;
Fig. 5 eine Draufsicht auf ein zweites, gedrängtes Gebilde vonOFW-Einrichtungen nach der Erfindung gleichfalls
mit vier Einpolresonatoren A, B, S und T in Parallel/Serienschaltung,
Fig. 6 ein Blockschaltbild einer anderen Parallel/-Serienschaltung
von vier Resonatoren A, B, S und T in einem Gebilde von OFW-Einrichtungen nach der Erfindung,
Fig. 7 eine Draufsicht auf ein drittes, noch ge-
PHB 32 805 -'S-"--' ·-.·"..· "..*·.-■* 12.3.
drängteres Gebilde von OFV-Einrichtungen nach der Erfindung
mit vier Zweipolresonatoren A, B, S und T,
Fig. 8 eine Draufsicht auf ein viertes Gebilde von OFV-Einrichtungen nach der Erfindung mit vier Zveipolresonatoren
A, B, S und T, deren Eingangs- und Ausgangspole jedoch auf verschiedene Weise gruppiert sind,
Fig. 9 ein Blockschaltbild der Parallel/Serienschaltung
nach Fig. 8,
Fig. 10 ein Blockschaltbild einer Parallel/Serienschaltung
von neun OFW-Einrichtungen in einem erfindungsgemäsen
Gebilde, und
Fig. 11 zum Teil eine Draufsicht und zum Teil ein
Blockschaltbild eines weiteren Gebildes von OFV-Einrichtungen nach der Erfindung mit einer Parallel/Serienschaltung
von vier Einpolresonatoren, von der zumindest ein Resonator (a) aus seriengeschalteten Teilen aufgebaut ist.
Es sei bemerkt, dass die Zeichnungen schematisch und insbesondere die Draufsichten nach Fig. 1, 3, 7, 8 und Π
nicht masstabgereclu sind; mehrere Teile in diesen Gebilden
von Einrichtungen sind der Deutlichkeit halber übertrieben gross oder übertrieben klein dargestellt. Aussez^dem sind
entsprechende und gleichartige Teile in den verschiedenen Ausführungsformen im allgemeinen mit gleichen Bezugsziffern
für eine bessere Verständlichkeit der verschiedenen Ausführungsformen
und für eine Vergleichsmöglichkeit bezeichnet. -*" Das Gebilde von OFW-Einrichtungen nach Fig. 1 und
enthält zumindest ein piezoelektrisches Substrat 1, das
2
erfindungsgemäss N OFW-Einrichtungen mit nahezu gleichen
erfindungsgemäss N OFW-Einrichtungen mit nahezu gleichen
. elektrischen Impedanz- und Ubertragungseigenschaften enthält.
In dieser besonderen Ausführungsform sind vier solcher-Einrichtungen
A, B, S und T vorgesehen, (also X = 2). Das Substrat 1 kann aus jedem bekannten piezoelektrischen Quarzmaterial
bestellen, das akustische Wellen fortpflanzen kann. Vorzugsweise sind das Quarzmaterial und die Orien tierung
der Hauptfläche des Substrats 1 derart, dass Oberflächenwellen in der oberen Hauptfläche des Substi-ats fortgepflanzt
werden können, wobei das Substrat z.B. aus Lithiuinniobat
oder Quarz besteht. Das Substratmaterial kann auch
derart gewählt sein, dass statt Oberflächenwellen akustische Volumemvellen parallel zu und nahe bei der Hauptfläche
fortgepflanzt werden können. In diesem Fall kann das Substratmaterial
beispielsweise nach einem gedrehten Y-Schnitt orientierter Quarz sein, dessen Fortpflanzungsrichtung
senkrecht zur X-Achse verläuft. Unter der allgemeinen Bezeichnung "akustusche Wellen" werden in folgender Beschreibung
diese überflächenwellen oder akustische Volumenwellen
verstanden, in Abhängigkeit davon, welches bekanntes Subs trat materiell benutzt wird.
Eine jede der vier Einrichtungen A, B, S und T ist ein Wellenrasonator und besitzt ein Paar im Abstand voneinander
liegender Heflektoren, die je eine Reihe paralleler reflektierender Elemente 2 oder 3 enthalten, die sich auf
der oberen Hauptfläche des Substrats 1 befinden. Diese Reihe im Abstand voneinander liegender reflektierender
Elemente 2 und 3 (die je durch eine Rille in der Substratoberfläche
oder durch eine Schicht elektrisch leitenden Materials ciuf der Substratoberfläche gebildet sein können)
sind auf bekannte Weise bemessen und auf der Hauptfläche des Substrats positioniert und orientiert, damit für jeden
Resonator A, B, S und T ein getrennter Schwingungshohlraum gebildet wird, der akustische Stehwellenenergie im Substrat
1 bei Resonanzfrequenzen aufrechterhalten kann.
Eine jede der vier Einrichtungen A, B, S und T ist ein Einpolresonator und enthält also in ihrem Schwingungshohlraum
einen elektroakustischen Wandler mit einem Anschluüspaar
4, 5 und einer interdigitalen Reihe von Elektroden
b, 7. Jedes Anschlusspaar k und 5 wird durch zwei
einander gegenüberliegende Schienenabschnitte der Wandlerelektroden
in Fig. 1 gebildet und dient zum Einführen bzw. Ableiten von Energie bei den getrennten Resonatoren A, B, S
oder T. Wie in Fig. 1 dargestellt, erstreckt sich von jedem der einander gegenüberliegenden Schienenabschnitte h
und 5 ein Pacir Elektrodenfinger b, 7 aus, wobei die Finger υ
kamrnartig in die Finger 7 greifen. Diese Wandlerelektroden
sind auf bekannte Weise bernessen und auf der oberen Hauptfläche
zum Herstellen einer Verbindung mit der akustischen
PHB 32 805 & .:.".· ..-. 12:3.1983
Stehwellenenergie des Schwingungshohlraums positioniert und orientiert. Die ineinandergeschachtelten kammartigen
Teile der Finger 6 und 7 bestimmen die Breite der wirksamen Fläche der Einrichtung, über die akustische Stehwellen
im Schwingungshohlraum erzeugt werden. Die Wandlerelektroden k, 6 und 5» 7 sowie die reflektierenden Elemente
2 und 3 können aus dem gleichen Leitstoff, z. B. Aluminium, bestellen.
Zum Erhalten eines kompakten Gebildes mit auf zuverlässige Veise untereinander gleichen Eigenschaften für die
Einrichtungen A, B, S und T, empfiehlt es sich, alle vier Resonatoren A, B, S und T zusammen in gemeinsamen Bearbeitungsschritten
auf einem gemeinsamen Substrat. 1 herzustellen. Es sei jedoch bemerkt, dass die Anordnung der ineinandergeschachtelten
kammartigen Finger O und 7 und der reflektierenden Elemente 2 und 3 auf einem gemeinsamen Substrat 1
derart ist, dass die Resonatoren A, B, S und T keine grosse akustische Wechselwirkung aufweisen, sondern nur elektrisch
miteinander verbunden sind, wie nachstehend näher beschrieben wird. Nichtsdestoweniger sind die entsprechenden, Spannungen
führenden Elektrodenfinger alle vier getrennter Resonatoren A, B, S und T auf dem gemeinsamen Substrat gegeneinander
nahezu ausgerichtet, so dass sie ein nahezu ausgerichtetes
Stehwellenmuster im gemeinsamen Substrat 1 erzeugen.
Wie in Fig. 1 mit 8 bezeichnet, können nach Bedarf die Resonatorpaare A, B und S, T auf getrennten Substraten
angebracht und kann ein jeder der Resonatoren A, B, S und T sogar auf seinem eigenen getrennten Substrat angeordnet
werden.
Erfindungsgemäss sind die vier akustisch nahezu unabhängigen Resonatoren A, B, S und T in einer Parallel/-Serienschaltung
elektrisch kombiniert, die aus zwei Gruppen besteht, die je zwei Resonatoren A, B oder S, T enthalten,
deren Anschlusspaare 4, 5 elektrisch in Serie geschaltet
sind, während die Anschlusspaare 4, 5 einer jeden Gruppe A, B oder S, T elektrisch mit den Anschlusspaaren -+, 5 der
anderen Gruppe S, T oder A, B parallelgeschaltet sind.
Auf diese Weise ist das gcinze Gebilde von Einrichtungen
AO
m
PHB Ύ1 803 4 °'"°' 12/3.T983
nach Fig. 1 und 2, das mittels dieser Verbindungen erhalten
worden ist, ein Einpolresonator mit einem Anschlusspaar I, II, zwischen denen das Eingangssignal zugeführt und gleichfalls
das Ausgangssignal abgeleitet wird.
Der Anschluss I ist beispielsweise über Drähte 10 und 11 mit den Elektrodenschienenabschnitten k der Resonatoren
A und S verbunden. Der gegenüberliegende Elektrodenschienenabschnitt
5 des Resonators A ist beispielsweise über einen Draht 12 mit dem Schienenabschnitt k des Resonators
B verbunden, wodurch eine Serienschaltung von Resonatoren
A und B gebildet wird. Auf gleichartige Weise ist der Resonator S mit dem Resonator T in Serie geschaltet,
beispielsweise über einen Draht 13. Der andere Anschluss 2 ist z.B. über Drall te Ik und' 15 mit den Elektrodenschienen
der Resonatoren B und T verbunden.
Alle Resonatoren A, B, S und T nach Fig. 1 sind einander nahezu gleich. Die Geometrie und der Aufbau der
Elemente 2, 3, k, b und 7 der Resonatoren A, B, S und T
sind nahezu gleich und die elektrischen Impedanz- und Ubertragungseigenschaften
eines jeden dieser Resonatoren A, B, S und T sind datier auch nahezu gleich. Bekanntlich werden
die elektrischen Impedanz- und Ubertragungseigenschaften
eines derartigen Oberfläclienwellenresonators A, B, S oder T
vom elektrischen Schal Lp lan nach Fig. '} dargestellt.
Der Ersatzplan nach Fig. 3 gilt für Frequenzen in
der Reflektionsbandbreite der Reflektoren 2 und 3. In Fig. 3 wird der Schwingungshohlraum des Resonators A, B, S
oder T durch eine Serienresonanzersatzschaltung einer
Selbstinduktivität L(1), eines Kondensators C(i) und eines
Widerstands R(1) wiedergegeben. Der eigentliche elektroakustische
Wandler, der sich im Schwingungshohlraum befindet, wird von einem Kondensator C(o) dargestellt, der über
einen getrennten Transformator mit der Serienresonanzschal
lung L(1), C(i), R(1) verbunden ist. Der Ersatzplan der Parallel/Serienschaltung nach Fig. 1 ist in Fig. k dargestellt.
Eine Analyse des Schill tungsne tzes nach Fig. '(· zeigt, dass dies auf eine Serienresonanzschaltung L(1), C(i),
R(l) verringerbar ist, die über einen Transformator mit
PHB yi 865 ys .:.*..* "·-""··* 12V3.V983
einem Eingangs/Ausgangskondensator C(o) verbunden ist, wobei
der Transformator und C(o), L(1), C(i) und R(1) gleiche
Werte wie für einen einzelnen Resonator A, B, S oder T besitzen. So ist der Sclialtplan nach Fig. 3 gleichfalls der
Schaltplan des ganzen Gebildes von Einrichtungen nach Fig.1,
2 und k, wobei dieses ganze Gebilde von Einrichtungen nahezu
gleiche elektrische Impedanz an seinen Anschlüssen I, XI und gleiche Übertragungseigenschaften zwischen seinen Anschlüssen
I, II wie ein jeder der einzelnen Resonatoren A, B, S oder T an und zwischen seinen Elektrodenschienen 4
und 5 aufweist.
Ein grosser Vorteil der Parallel/Serienschaltung nach Fig. 1, 2 und 4 ist jedoch, dass (während gleiche
Impedanz- und Ubertragungseigenschaften eingehalten werden)
die wirksame Fläche der Einrichtung jetzt im Vergleich zu der eines einzelnen Resonators A, B, S oder T vervierfacht
ist. Wenn das ganze Gebilde von Einrichtungen derart betrieben wird, dass die einzelnen Resonatoren A, B, S und T
fast ihre jeweilige maximale Energieverarbeitungskapazität
in bezug auf die höchst zulässige Belastung für von akustischen
Erscheinungen bewirkte Wanderung der Metallisierung in ihren jeweiligen wirksamen Bereichen erreicht haben,
kann auf diese Weise die Gesamtenergie, die die ganze Parallel/Serienschaltung dieser Einrichtungen A, B, S.und T
verarbeitet, etwa das vierfache sein. Auf diese Weise kann das Gefüge von Oberflächenwellenresonatoren nach Fig. 1 wie
ein Frequenzsteuerelement zur Bildung einer stabilen Signalquelle
in einem geräuscharmen Oszillator verwendet werden. Es ist erforderlich, einen derartigen Oszillator derart
3Q zu betreiben, dass der Energiepegel im Oberflächenwellenresonator
zum Beschränken des Verhältnisses zwischen Phasengeräuschenergie
und Trägerwellenenergie auf ein Mindestmass maximal ist.
Viele Abwandlungen sind im Rahmen der Erfindung möglich, insbesondere hinsichtlich der- Anzahl einzelne!'
Einrichtungen, der Geometrie und der Integration der Einrichtungen, der Eigenschaften und der Verwendungsmöglichkeiten
der Einrichtungen. In Fig. 3 sind'mehrere Abwand-
yj \J {J \J I \J
/Q
PHB 32 805 yf
n in der Geometrie der Einrichtungen dargestellt. Zunächst besitzen die vier Resonatoren A, B, S und T gemeinsame
reflektierende Elemente 2 und 3» die die Schwingungshohlräume definieren. Diese gemeinsamen reflektierenden
Elemente 2 und 3 sind an einander gegenüberliegenden Seiten eines Bereichs angeordnet, in dem sich alle getrennten
Resonatoren A, B, S und T befinden. Obgleich die einzelnen Resonatoren A, B, S und T alle reflektierenden Elemente
und 3 gemeinsam haben, sind sie immer noch akustisch nahezu unabhängig durch, die Trennung zwischen ihren jeweiligen
wirksamen Flächen, wie sie vom überlappenden Teil der ineinandergeschachtelten
kamiiiartigen Finger 6 und 7 bestimmt sind,
NacIi Bedarf können nur einige der Resonatoren A, B, S und T
gemeinsame reflektierende Elemente 2 und 3 besitzen; so
^ könin-n ά.Ii. die Einrichtungen A und B einen Satz gemeinsamer
Elemente 2 und 3 besitzen, während die Einrichtungen S und T einen anderen Satz gemeinsamer Elemente 2 und 3
aufweisen können.
Eine zweite, in Fig. 5 dargestellte Abwandlung besteht
darin, dass statt Drahtverbindungen 12 und 13 die Serienverbindungen zwischen den zwei Resonatoren A und B
und zwischen den zwei Resonatoren S und T von gemeinsamen Elektrodenschienenabschnitten 5^· gebildet werden, wobei
sich die Elektrodenfinger 6 und 7 von den einander gegenüberliegenderi
Seiten dieser Abschnitte erstx^ecken. Diese gemeinsamen Schienenabschnitte 5^ zwischen den beiden
Resonatoren befinden sich in den parallelen Abzweigungen der Parallel/Serienschaltung und bilden einen gemeinsamen
Anschluss der' beiden Resonatoren A und B bzw. S und T.
Da die Anzahl der Elektrodenfinger, die in Gebilden erfindungsgemässer
Einrichtungen verwendet wird, auf bekannte Weise variierbar ist, um vorteilhafte Eigenschaften zu
erhalten, zeigt Fig. 5 ausserdem die Resonatoren A, B, S
und T mit mehr ineinandergeschachtelten kammartigen Elektrodenfingern
als in der Aus führung s form nach Fig. 1.
Eine dritte Abwandlung in Fig. 5 besteht darin,
dass stat L einer Drahtverbindung 15 für die Parallelschaltung
der Kejsona toi'eri B und T diese beiden Resonatoren
B und T c LiHMi gemeinsamen El ok t ruduiisrhi tiiiormlisclm L 1.1. 3 3
aufweisen, wobei die Elektroderifinger 7 dieser Resonatoren
sich von einander gegenüberliegenden Seiten dieses Abschnitts erstrecken. Dieser Schienenabschnitt 55 bildet
einen gemeinsamen Anschluss der Resonatoren B und T und die entsprechenden, Spannungen führenden Elektrodenfinger
aller Resonatoren liegen wieder nahezu in der gegenseitigen
Verlängerung auf dem Substrat 1. Diese zweiten und dritten Abweindlungen, bei denen gemeinsame Schienen j'-y und 55 verwendet
werden, ergeben eine viel gedrängtere Struktur als . die nach Fig. 1, obgleich der gleiche überlappende Teil
der ineinandergeschachtelten, kainmartigen Finger 6 und 7
wie im Gebilde der Einrichtungen nach Fig. 1 eingehalten
wird.
In Fig. 6 ist eine weitere Abwandlung dargestellt, bei der eine elektrische Verbindung 50 zwischen den parallelen Gruppen A, B und S, T an entsprechenden, nahezu die gleiche Spannung führenden Punkten zwischen den Einrichtungen A und B in der einen Gruppe und den Einrichtungen S und T in der anderen Gruppe vorhanden ist. Diese Verbindung 50 kann beispielsweise ein Draht sein, der zwischen den beiden Schienenabschnitten 5^ nach Fig. 5 angeschlossen ist. Wie nachstehend anhand der Fig. 7 beschrieben wird, kann eine derartige Verbindung 50 jedoch auch auf sehr gedrängte Weise mit Hilfe eines gemeinsamen Schienenabschnitts zwischen den zusammengefügten Wandlern A, S und B, T hergestellt werden. Die Verbindung 50 ist also einer Serienverbindung zwischen einem Satz paralleler Einrichtungen A, S und einem Satz paralleler Einrichtungen B und T gleichwertig. Ein Vorteil der Anordnung einer derartigen Verbindung 50 zwischen entsprechenden Punkten in den parallelen Gruppen A, B und S, T besteht darin, dass dadurch der Ausgleich möglicher geringer Schwankungen in den elektrischen Eigenschaften der einzelnen Einrichtungen A, B, S und T erleichtert wird. Obgleich im allgemeinen die elektrisehen Impedanz- und Übertragungseigensclu\ften aller Einrichtungen A, B, S und T nicht immer genau gleich sein werden, sind sie zumindest dermassen gleich, dass jede der Einrichtungen
In Fig. 6 ist eine weitere Abwandlung dargestellt, bei der eine elektrische Verbindung 50 zwischen den parallelen Gruppen A, B und S, T an entsprechenden, nahezu die gleiche Spannung führenden Punkten zwischen den Einrichtungen A und B in der einen Gruppe und den Einrichtungen S und T in der anderen Gruppe vorhanden ist. Diese Verbindung 50 kann beispielsweise ein Draht sein, der zwischen den beiden Schienenabschnitten 5^ nach Fig. 5 angeschlossen ist. Wie nachstehend anhand der Fig. 7 beschrieben wird, kann eine derartige Verbindung 50 jedoch auch auf sehr gedrängte Weise mit Hilfe eines gemeinsamen Schienenabschnitts zwischen den zusammengefügten Wandlern A, S und B, T hergestellt werden. Die Verbindung 50 ist also einer Serienverbindung zwischen einem Satz paralleler Einrichtungen A, S und einem Satz paralleler Einrichtungen B und T gleichwertig. Ein Vorteil der Anordnung einer derartigen Verbindung 50 zwischen entsprechenden Punkten in den parallelen Gruppen A, B und S, T besteht darin, dass dadurch der Ausgleich möglicher geringer Schwankungen in den elektrischen Eigenschaften der einzelnen Einrichtungen A, B, S und T erleichtert wird. Obgleich im allgemeinen die elektrisehen Impedanz- und Übertragungseigensclu\ften aller Einrichtungen A, B, S und T nicht immer genau gleich sein werden, sind sie zumindest dermassen gleich, dass jede der Einrichtungen
.PHB 3~
A, B, S und T der Spezifikationstoleranz für die Netto-Eigenschaften
des ganzen Gebildes parallel/seriengeschalteter Einrichtungen A, B, S, T, wie angegeben Tür ihre
bestimmte Verwendung, entspricht.
Xn Fig. 7 ist die Verwendung der Erfindung bei
einem Zheipolresonator mit zusammengefügten Wandlern A, S
und B, T dargestellt. Da das ganze Gebilde von Einrichtungen
nach Fig. 7 ein Zweipolresonator ist, weist er jetzt ein Paar Ausgangsanschlüsse III, IV auf, die von dem Eingangsanschlusspaar
I, II getrennt sind. Ein jeder der einzelnen Resonatoren A, B, S und T verfügt über einen Eingangswandler, der in einer Parallel/Serienschaltung zwischen dem
Eingangsanschlusspaar I, II angeordnet ist, und über einen Ausgaiiiisvandler, der in einer Parallel/Serienschaltung
zwischen dem Ausgangsanschlusspaar III, IV angeordnet ist.
Die Anzahl der Finger und die Geometrie der Eingangs— und Ausgangswamiler können verschieden sein, obgleich in Fig.
ein Beispiel dargestellt ist, in dem der Ausgangswandler gleich dem Eingangswandler ist. Der Ausgangswandler liegt
im Abstand vom Eingangswandler, der für alle Resonatoren A, B, S und T der gleiche ist.
Im Gebilde nach Fig. 7 sind die Wandler der Resonatoren
A und S zu einem Satz in Parallelschaltung durch
die elektrischen Verbindungen zusammengefügt, die zwischen diesen Einrichtungen durch die zwei einander gegenüberliegenden,
gemeinsamen Schienenabschnitte h und 50 für
den Eingangswandler und k', 50' für den Ausgangswandler
gebildet sind. Die ineinandergeschachtelten kammartigen
Wandlerelektrodenfinger 6 und 7 der Eingangswandler der
beiden Resonatoren A und S erstrecken sich von diesen gemeinsamen Schienenabschnitten k und 50, wobei die Finger
des Resonators S eine longitudinale Verlängerung der Finger 6 des Resonators A bilden, während die Finger 7 des
Resonators A eine longitudinale Verlängerung der Finger 7
des Resonators S bilden. Die Länge des überlappenden Teils zwischen den El cktrodenf ingern 0 und 7 in der inc1 i.minderycbchachtulLeii,
kammartigen Struktur ist nun das zweifache
der Länge der nicht-zusammengefügten, getrennten Wandler.
PHB 32 865 j4 .:-"..* 12.3.1983
Die Schienenabschnitte 4 und 50 bilden ein gemeinsames
Anschlusspaar der Eingangswandler der Resonatoren A und S.
Die Ausgangswandler dieser Zweipolresonatoren A und S sind auf gleichartige Weise zusammengefügt und enthalten ein
gemeinsames Anschlusspaar k1 und 50' und longitudinal verlängerte
Finger 6' und 71· Auf gleichartige Veise sind die
Resonatoren B und T zu einem Satz mit Hilfe ihrer gemeinsamen Schienenabschnitte (50 und 5 für den Eingangswandler
und 50' und 51 für den Ausgangswandler) in Parallelschaltung
zusammengefügt. Der Schienenabschnitt 50 (oder 50') bildet
gleichfalls eine Serienverbindung zwischen dem Satz paralleler Einrichtungen A, S und dem Satz paralleler Einrichtungen
B, T. Abweichend von den Ausführungsformen nach Fig. 1 und 5 ist der Resonator A im Gebilde nach Fig. 7
'5 nicht mehr vom Resonator S akustisch isoliert und ist der
Resonator B nicht mehr vom Resonator T akustisch isoliert. Die entsprechenden, Spannungen führenden Elektrodenfinger
aller Resonatoren A, B, S und T liegen jedoch wieder nahezu in der gegenseitigen Verlängerung auf dem Substrat 1, λν*ο-durch
ein nahezu ausgerichtetes Stehwellenmuster erzeugt wird.
In der Ausführungsform nach Fig. 7 sind die seriengeschalteten
Eingangsanschlusspaare h, 50 und 50, 5 der getrennten Zweipolresonatoren A, B, S und T auf gleiche
Weise wie die entsprechenden seriengeschalteten Ausgangsanschlusspaare
k1, 50' und 50', 5f gruppiert. Die Ausgangsanschlusspaare
derartiger Mehrpolresonatoren können jedoch auch auf andere Weise als die Eingangsanschlusspaare gruppiert
sein. Diese verschiedene Weise der Gruppierung kann eintreten, wenn die Ausgangswandler eine andere Geometrie
als die Eingangswandler besitzen, sie kann auch verwendet werden, wenn die Geometrie der Eingangs- und Ausgangswandler
gleich ist: Ein Beispiel davon ist in Fig. 8 dargestellt.
In Fig. 8 ist ein Gebilde von Zweipolresonatoren dargestellt, wobei die Eingangs- und Ausgangswandler der
einzelnen Zweipolresonatoren A, B, S und T den einfachen Wandlern der Einpolresonatoren A, B, S und T nach Fig. 1
PHB 32 805 )£ ·'" *12.3.1983
gleich sind. Die Eingangswandler in Fig. 8 sind auf gleiche Weise wie die einfachen Wandler nach Fig. 1 geschaltet.
Auf diese Weise sind die Eingangsanschlusspaare 4, 5 der Resonatoren A und B in einer Gruppe in Serie geschaltet,
während die Eingangsanschlusspaare -'4, 5 der Resonatoren
S und T in einer anderen Gruppe in Serie geschaltet sind, wobei diese beiden Gruppen über die Eingangsanschlüsse 1,11
des ganzen Gebildes von Einrichtungen parallelgeschaltet
sind. Die Ausgangsanschlusspaare k', 51 dieser Resonatoren
sind jedoch auf andere Weise gruppiert. Die Ausgangsanschlusspaare 4 ' , 5' der Resonatoren A und T sind in einer
Gi-uppe in Serie geschaltet, während die Ausgangsanschlusspaare
4 ' , 5' der Resonatoren B und S in einer anderen Gruppe in Serie geschaltet sind, wobei diese beiden Gruppen
über die Ausgangsanschlüsse III-IV parallelgeschaltet sind.
So gehören die Ausgangsanschlusspaare 41, 51 i-π jeder der
beiden Gruppen zu einer Gruppe von Einrichtungen A, T oder B, S, deren Eingangsanschlusspaare nicht zu einer gemeinsamen
Gruppe von Eingangsanschlüssen 4, 5 gehören. Fig. 9 zeigt ein Blockschaltbild eines Gebildes von Zweipolresonatoren,
das diese verschiedenen Parallel/Serienschaltungen für die Eingangs- und Ausgangsanschlusspaare besitzt.
In Fig. 10 ist ein Beispiel eines Gebildes erfindungsgemässer
Oberflächenwelleneinrichtungen mit mehr als vier Einrichtungen in einer Parallel/Serienschaltung dargestellt.
Im Beispiel nach Fig. 10 beträgt die Anzahl der Einrichtungen mit nahezu gleichen elektrischen Impedanz-
und Übertragungseigenschaften neun (also N = 3)· Diese
neun Einrichtungen sind in drei Gruppen in seriengeschalteter
Einrichtungen A, B, C, und S, T, U und W, X, Y in Parallelschaltung
geordnet. Die Verbindungen 50 können die Einrichtungen
A, S, W zu einem parallelen Satz und die Einrichtungen B, T, X zu einem anderen parallelen Satz kombinieren.
Derartige Verbindungen 50 können auch zwischen den Einrichtungen B, T, X und den Einrichtungen C, U, Y vorhanden
sein oder sie können zwischen zwei beliebigen der drei parallelen Gruppen oder sogar in Fig. 10 ganz und
gar fehlen.
Xn 1''Iy. 11 ist eine andere Abwandlung dargestellt,
wobei zumindest eine der Einrichtungen (A) eine Anzahl von Elementen enthält, die zur Bildung der genannten einen
Einrichtung (a) mit den erforderlichen elektrischen Impedanz-
und Übertragungseigenschaften elektrisch kombiniert sind.
Auf diese Weise wird die wirksame Fläche der Einrichtung weiter vergrössert, wodurch die Energieverarbeitungskapazität
der vollständigen Parallel/Serienschaltung von Einrichtungen A, B, S und T weiter gesteigert wird. Im
Beispiel nach Fig. 11 besitzt die Einrichtung A nahezu die gleiche Struktur wie die in Serie geschalteten, zusammengefügten
parallelen Wandler A, S bzw. B1 T nach Fig. 7. Als Beispiel im Gebilde nach Fig. 11 ist die Gruppe von
Einrichtungen S, T auf einem='anderen Substrat angeordnet
^ als die Gruppe von Einrichtungen A, B. Nur wenn alle N"~
Einrichtungen nahezu gleiche elektrische Impedanz- und
übertragungseigenschaften besitzen, brauchen die X~ Einrichtungen
nicht die gleiche Geometrie oder Struktur der Wandler aufzuweisen.
Die Erfindung ist auch bei Zweipolresonatoren verwendbar, bei denen ein geerdeter Metallstab oder eine sog.
Mehrstreifenverbindungseinrichtung in der Mitte des
Schwingungshohlraums zwischen den Eingangs- und Ausgangs-
wandler der N Resonatoren angeordnet ist. In diesem Fall kann die erfindungsgemäss erhaltene gröspere wirksame
Fläche zum Herabsetzen der von akustischen Erscheinungen ausgelösten Wanderung des Metalls eines derartigen Zentrierstabs
oder einer derartigen Mehrstreifenverbindungseinrichtung wichtig sein.
Insbesondere bei Volumenwellenresonatoren kann der Schwingungshohlraum von einigen einfachen tiefen Rillen
in der Substratoberfläche oder sogar durch die seitwärtsen Enden des Substrats definiert werden.
Obgleich die Gebilde von Einrichtungen nach Fig. 1,
^ 51 7>
8 und 11 Resonatoren mit Schwingungshohlräurnen sind,
die von Reflektoren definiert sind, können erfindungsgemässe
Parallel/Serienschaltungen auch bei Oberflächenwelleneinrichtungen verwendet werden, die keine Reflektoren
PHD 32 803 rf .:.'..' *.. 12.3.1983
enthalten. Derartige Einrichtungen können beispielsweise
OFV-Laui'zeitleitungen oder Transversalfilter sein. So kann
die vorliegende Erfindung beim Aufbau von OFV-Transversalfilter
verwendet werden, die hohe Energiepegel aushalten müssen.
Die Vergrösserung der wirksamen Fläche der Einrichtung durch.eine erfindungsgemässe Parallel/Serienr
schaltung kann statt der Dotierung einer Metallisierung aus Aluminium mit Kupfer zur Verringerung der von akusti-
^ sehen Erscheinungen ausgelösten Wanderung von Aluminium
von den Vaiicllereiektrodenfingern und von anderen verletzlichen
Teilen der Oberflächenwelleneinrichtungen verwendet
werden. Eine kupferdotierte Aluminiummetallisierung kann
jedoch auch in einer Parallel/Serienschaltung erfindungs-
1^ gemä.sser Einrichtungen zum Unterdrücken der Wanderung von
Aluminium bei noch höheren Energiepegeln verwendet werden. Abhängig von der Verwendung der Einrichtung ist eine derartige
Kupferdotierung in einem Gebilde erfindungsgemässer
Einrichtungen jedoch nicht immer erwünscht, weil sich
dadurch der Gütefaktor· verringern kann.
Leerseite
Claims (1)
- ftf-, ·*· β· *PHB 32 865 vrs *: *12.3.1983PatentansprücheGebilde von Oberflächenwelleneinrichtungen, dadurch gekennzeichnet, dass das Gebilde zumindest ein piezo-elektrisches Substrat (i) mit N Oberflächenwelleneinrichtungen (A, B, S, Τ) mit nahezu gleichen elektrischen Impedanz- und Ubertragungseigenschaften enthält, wobei N eine ganze Zahl grosser als 1 ist und jede Einrichtung zumindest ein Anschlusspaar k, 5 zum Zuführen und Ableiten von Energie bei der Einrichtung enthält, wobei die genannten X~ Einrichtungen elektrisch in einer Parallel/Serienschaltung angeordnet sind, die aus N Gruppen besteht, die je aus N der genannten Einrichtungen bestehen, deren entsprechende Anschlusspaare elektrisch in Serie geschaltet sind, wobei die entsprechenden Anschlusspaare in jeder Gruppe elektrisch mit den entsprechenden Anschlusspaaren in der (den) anderen Gruppe(n) parallelgeschaltet sind, so dass das Gebilde von Einrichtungen nahezu die gleichen elektrischen Impedanz- und Ubertragungseigenschaften wie eine jede der getrenntenN Einrichtungen besitzt.2. Gebilde von Einrichtungen nach Anspruch 1, dadurchgekennzeichnet, dass zumindest zwei der N Einrichtungen (A, B; T, s) Wandez-elektrodenfinger (6) enthalten, die sich von einander gegenüberliegenden Seiten eines Elektrodenschienenabschnitts (5'0 erstrecken, der einen gemeinsamen Anschluss der beiden Einrichtungen und eine elektrisehe Verbindung zwischen den beiden Einrichtungen bildet.3. Gebilde von Einrichtungen nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der genannte Elektrodenschienenabschnitt (5'0 sich zwischen zwei Einrichtungen (A, B) in einer der Gruppen befindet und die zwei Einrichtungen an der Stelle des gemeinsamen Anschlusses in Serie schaltet. •4. Gebilde von Einrichtungen nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrodenschienenabschnitt {55) sich an der Stelle einer Verbindung zwischen zwei GruppenPHB 32 865 ν^.:. *..' *.-**··' *·· "12.3.1983befindet und ein Teil einer Parallelschaltung der zwei Einrichtungen (B, T) an der Stelle des gemeinsamen Anschlusses ist.5. Gebilde von Einrichtungen nach einem oder mehreren der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine elektrische Verbindung (5^) zwischen zumindest zwei Gruppen an entsprechenden, nahezu die gleiche Spannung führenden Punkten in diesen Gruppen vorgesehen ist,6. Gebilde von Einrichtungen nach Anspruch 5» dadurch Ό gekennzeichnet, dass ein Satz zumindest zweier der N Einrichtungen (Α, S) in einer Parallelschaltung mit Hilfe der elektrischen Verbindungen zwischen den Gruppen zusammengefügt ist, welcher Satz von Einrichtungen ineinandergeschachtelte kammartige Wandler-Elektrodenfinger (o, 7)^ enthält, die sich von zwei einander gegenüberliegenden Elektrodenschienenabschnitten (4, 5^) erstrecken, die gemeinsame Anschlüsse der Einrichtungen des Satzes bilden, wobei die Elektrodenfinger einer Einrichtung des Satzes eine longitudinale Verlängerung der Elektrodenfinger eineriU anderen Einrichtung des Satzes bilden.Gebilde von Einrichtungen nach einem oder mehrerender vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dassr>
jede N~ Einrichtung zumindest erste und zweite Anschluss-') paare aufweist, wobei die ersten Anschlüsse der N~ Einrichtungen in N Gruppen angeordnet sind, die je N in Serie geschaltete Anschlusspaare enthalten, dass die zweiten Anschlüsse in N Gruppen angeordnet sind, die je N in Serie geschaltete Anschlusspaare enthalten, und dass alle Paare zweiter Anschlüsse in einer jeden der N Gruppen zu einer Gruppe von N Einrichtungen gehören, von denen alle Paare erster Anschlüsse gleichfalls zu einer gemeinsamen N Gruppe der ersten Anschlüsse gehören.8. Gebilde von Einrichtungen nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass jede N Einrichtung zumindest erste und zweite Anschlusspaare besitzt, dass die ersten Anschlüsse der N*~ Einrichtungen in N Gruppen angeordnet sind, die je N in Serie geschaltete Anschlusspatire enthalten, dass die zweiten Anschlüsse inPHB yi 805 2ö.:.*.." *..**·.* "..* *..f2.3.1983N Gruppen angeordnet sind, die je N in Serie geschaltete Anschlusspaare enthalten und dass die Paare zweiter Anschlüsse in einer jeden der N Gruppen zu einer Gruppe von N Einrichtungen gehören, deren Paare erster Anschlüsse nicht zu einer gemeinsamen N Gruppe erster Anschlüsse gehören.9. Gebilde von Einrichtungen nach einem oder mehreren der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine der N~ Einrichtungen Elemente einer Oberflächenwelleneinrichtung enthält, die elektrisch zu der einen Einrichtung mit den erforderlichen elektrischen Impedanz- und Ubertragungseigenschai1 ten, jedoch mit einer vergrösserten wirksamen Fläche, kombiniert sind.10. Gebilde von Einrichtungen nach einem oder mehreren der vorangellenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die N~ Einrichtungen Oberflächenwellenresonatoren sind, die je? einen Schwingungshohlraum besitzen, der auf dem Substrat definiert ist.11. Gebilde von Einrichtungen nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Schwingungshohlraum von einem Paar im Abstand voneinander liegender Reflektorreihen definiert ist, die je Reflektorelemente enthalten., die sich auf einer Hauptflache des Substrats befinden.12. Gebilde von Einrichtungen nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine Anzahl der x~ Einrichtungen gemeinsame reflektierende Elemente enthalten, die die Schwingungshohlräume definieren, dass die gemeinsamen Reflektorelemente nahe bei einander gegenüberliegenden Seiten eines Bereichs der Hauptfläche des Substrats angeordnet sind und dass alle Einrichtungen der3^ Anzahl Wandlerelektroden besitzen, die sich im genannten Bereich befinden.13· Gebilde von Einrichtungen nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass alle N Einrichtungen gemeinsame reflektierende Elemente auf einer Hauptfläche eines ge-meiiisamen Substrats besitzen.1'+. Gebilde von Einrichtungen nach einem oder mehreren der vorangehenden Ansprüche,. dadurch gekennzeichnet, dass die N~ Einrichtungen Einrichtungen für akustische Ober-PHB 32 865 2*1 -:·*··* * "12.3. 1983flächenwellen sind.15· Gebilde von Einrichtungen nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 131 dadurch gekennzeichnet, dass die N~ Einrichtungen Einrichtungen für akustische Volumenwellen sind.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB08208659A GB2117992B (en) | 1982-03-24 | 1982-03-24 | Parallel-series acoustic wave device arrangement |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3309709A1 true DE3309709A1 (de) | 1983-10-06 |
Family
ID=10529243
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19833309709 Withdrawn DE3309709A1 (de) | 1982-03-24 | 1983-03-18 | Gebilde von einrichtungen fuer akustische wellen |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4494031A (de) |
JP (2) | JPS58171120A (de) |
CA (1) | CA1194161A (de) |
DE (1) | DE3309709A1 (de) |
FR (1) | FR2524224B1 (de) |
GB (1) | GB2117992B (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3942140A1 (de) * | 1989-12-20 | 1991-06-27 | Siemens Ag | Oberflaechenwellen-reflektorfilter |
DE3942148A1 (de) * | 1989-12-20 | 1991-06-27 | Siemens Ag | Oberflaechenwellen-reflektorfilter |
DE19535538A1 (de) * | 1995-09-25 | 1997-03-27 | Siemens Ag | Mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bandpaßfilter-OFW-Bandpaßfilter |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4620191A (en) * | 1983-06-30 | 1986-10-28 | Halvor Skeie | Surface acoustic wave passive transponder having parallel acoustic wave paths |
JPS62256515A (ja) * | 1986-04-30 | 1987-11-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 弾性表面波共振子 |
JPS6423612A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-26 | Hitachi Ltd | Elastic surface wave device |
US4785270A (en) * | 1987-12-30 | 1988-11-15 | Motorola Inc. | Monolithic lattice saw filter |
JPH01260911A (ja) * | 1988-04-11 | 1989-10-18 | Hitachi Ltd | 弾性表面波共振器複合形フィルタ |
JPH0419020U (de) * | 1990-06-06 | 1992-02-18 | ||
GB2249681B (en) * | 1990-11-08 | 1994-06-01 | Stc Plc | Surface acoustic wave device |
JPH053417A (ja) * | 1991-04-19 | 1993-01-08 | Oki Electric Ind Co Ltd | 弾性表面波フイルタ |
USRE40036E1 (en) | 1991-10-28 | 2008-01-29 | Fujitsu Limited | Surface acoustic wave filter |
US5363074A (en) * | 1992-10-19 | 1994-11-08 | Motorola, Inc. | Saw structure having serially coupled transducers with overlapping fingers |
US5374908A (en) * | 1992-11-25 | 1994-12-20 | Rf Monolithics, Inc. | Surface acoustic wave device for generating an output signal with only a symmetric or only an asymmetric vibration mode acoustic wave |
JP3606944B2 (ja) * | 1994-04-25 | 2005-01-05 | ノキア コーポレイション | Sawフィルタ |
GB2289180B (en) * | 1994-04-25 | 1998-08-12 | Advanced Saw Prod Sa | Saw filter |
DE4439489C1 (de) * | 1994-10-26 | 1996-01-18 | Tele Filter Tft Gmbh | Akustisches Oberflächenwellenbauelement und Verfahren zur Herstellung |
US5545940A (en) * | 1994-11-07 | 1996-08-13 | Rf Monolithics, Inc. | Multitrack transversely folded surface acoustic wave structure |
US6107910A (en) | 1996-11-29 | 2000-08-22 | X-Cyte, Inc. | Dual mode transmitter/receiver and decoder for RF transponder tags |
DE19724259C2 (de) | 1997-06-09 | 2002-11-14 | Epcos Ag | Dualmode-Oberflächenwellenfilter |
US6208062B1 (en) | 1997-08-18 | 2001-03-27 | X-Cyte, Inc. | Surface acoustic wave transponder configuration |
US6060815A (en) * | 1997-08-18 | 2000-05-09 | X-Cyte, Inc. | Frequency mixing passive transponder |
US5986382A (en) * | 1997-08-18 | 1999-11-16 | X-Cyte, Inc. | Surface acoustic wave transponder configuration |
US6114971A (en) * | 1997-08-18 | 2000-09-05 | X-Cyte, Inc. | Frequency hopping spread spectrum passive acoustic wave identification device |
AU771327B2 (en) * | 1999-03-01 | 2004-03-18 | Harris Corporation | Low profile acoustic sensor array and sensors with pleated transmission lines and related methods |
DE10062847C1 (de) * | 2000-12-11 | 2002-05-23 | Dresden Ev Inst Festkoerper | Transversal gekoppeltes Resonatorfilter |
JP4303178B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2009-07-29 | 富士通メディアデバイス株式会社 | 弾性表面波装置 |
JP4537254B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2010-09-01 | 富士通メディアデバイス株式会社 | 弾性表面波フィルタおよび分波器 |
JP5776243B2 (ja) | 2011-03-18 | 2015-09-09 | 日本電波工業株式会社 | 弾性波フィルタ |
RU2633658C2 (ru) * | 2016-03-09 | 2017-10-16 | Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Радар ммс" | Резонатор на поверхностных акустических волнах |
KR102079659B1 (ko) * | 2018-04-05 | 2020-02-20 | 해성디에스 주식회사 | 광 센서 소자 및 이를 포함하는 광 센서 패키지 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2009550A (en) * | 1977-10-06 | 1979-06-13 | Philips Electronic Associated | Acoustic wave devices |
DE2906893A1 (de) * | 1978-02-23 | 1979-08-30 | Philips Nv | Akustische schallwellen-resonatoranordnung |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2246112B1 (de) * | 1973-08-21 | 1978-03-17 | Thomson Csf | |
US3886504A (en) * | 1974-05-20 | 1975-05-27 | Texas Instruments Inc | Acoustic surface wave resonator devices |
US3942140A (en) * | 1974-11-08 | 1976-03-02 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Method and means for coupling a multiplicity of surface acoustic wave transducers to a single electromagnetic wave transmission line |
JPS5245477A (en) * | 1975-10-03 | 1977-04-09 | Yoshizaki Kozo | Aparatus for conveyin in and out of material to be sterilized |
GB1554366A (en) * | 1977-02-04 | 1979-10-17 | Philips Electronic Associated | Acoustic surface wave devices |
JPS5513451A (en) * | 1978-07-12 | 1980-01-30 | Nec Corp | Pattern generator |
US4321567A (en) * | 1980-03-24 | 1982-03-23 | Raytheon Company | Combining series sections weighting with withdrawal weighting in SAW transducers |
US4331943A (en) * | 1980-12-22 | 1982-05-25 | Hewlett-Packard Company | Acoustic wave devices having transverse mode distortions eliminated structurally |
JPS57119509A (en) * | 1981-01-19 | 1982-07-26 | Toshiba Corp | Surface acoustic wave resonator |
-
1982
- 1982-03-24 GB GB08208659A patent/GB2117992B/en not_active Expired
-
1983
- 1983-03-16 US US06/475,800 patent/US4494031A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-03-17 CA CA000423804A patent/CA1194161A/en not_active Expired
- 1983-03-18 DE DE19833309709 patent/DE3309709A1/de not_active Withdrawn
- 1983-03-23 JP JP58047306A patent/JPS58171120A/ja active Pending
- 1983-03-23 FR FR8304730A patent/FR2524224B1/fr not_active Expired
-
1991
- 1991-01-17 JP JP1991013309U patent/JPH0496122U/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2009550A (en) * | 1977-10-06 | 1979-06-13 | Philips Electronic Associated | Acoustic wave devices |
DE2906893A1 (de) * | 1978-02-23 | 1979-08-30 | Philips Nv | Akustische schallwellen-resonatoranordnung |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
LAROSA R., VASILE C.F., Broadband Bulk-Wave Cancellation, in: Electronic Letters, 21.9.82, Vol.8 No.19, S.478,479 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3942140A1 (de) * | 1989-12-20 | 1991-06-27 | Siemens Ag | Oberflaechenwellen-reflektorfilter |
DE3942148A1 (de) * | 1989-12-20 | 1991-06-27 | Siemens Ag | Oberflaechenwellen-reflektorfilter |
DE19535538A1 (de) * | 1995-09-25 | 1997-03-27 | Siemens Ag | Mit akustischen Oberflächenwellen arbeitendes Bandpaßfilter-OFW-Bandpaßfilter |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2524224B1 (fr) | 1986-01-03 |
CA1194161A (en) | 1985-09-24 |
GB2117992A (en) | 1983-10-19 |
JPH0496122U (de) | 1992-08-20 |
GB2117992B (en) | 1985-09-18 |
US4494031A (en) | 1985-01-15 |
FR2524224A1 (fr) | 1983-09-30 |
JPS58171120A (ja) | 1983-10-07 |
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DE3321843C2 (de) | ||
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Representative=s name: KUPFERMANN, F., DIPL.-ING., PAT.-ANW., 2000 HAMBUR |
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8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
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