DE2901675A1

DE2901675A1 - Reflexionsminderungsbelag mit einer asphaerischen schicht

Info

Publication number: DE2901675A1
Application number: DE19792901675
Authority: DE
Inventors: Osamu Kamiya; Mitsuharu Sawamura
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1978-01-20
Filing date: 1979-01-17
Publication date: 1979-07-26
Also published as: US4261645A; JPS5498257A; JPS6051081B2

Description

Tr D IX^- Patentanwälte:

IEDTKE - DÜHLING " IVlNNE Dipl.-lng. H.Tiedtke

Gn Dipl.-Chem. G. Bühling

RUPE - rELLMANN Dipl.-lng. R. Kinne

Dipl.-Ing. R Grupe _ 3 _ Dipl.-lng. B. Pellmann

Bavariaring 4, Postfach 20 2403

2 ι· U ] 6 7 5 ⁸⁰⁰° München 2

Tel.: 089-539653

Telex: 5-24 845 tipat

cable: Germaniapatent München

17. Januar 197 B 9426

CANON KABUSHlKI KAISHA Tokyo , Japan

Reflexionsminderungsbelag mit einer

asphärischen Schicht
20

Die Erfindung bezieht sich auf einen asphärischen Reflexionsminderungsbelag bzw. Antireflexbelag, in dem eine asphärische Dünnfilm-Schicht enthalten ist.

Die Herstellung einer asphärischen Linse durch Schleifen erfordert viel Zeit und Arbeit, was sich an Massenproduktions-Artikeln wie fotografischen Linsen mit Normalbrennweite als hohe Herstellungskosten widergespiegelt.Zur Vermeidung derartiger hoher Herstellungskosten wurden bisher unterschiedliche Verfahren versucht, wie beispielsweise ein Verfahren zur Veränderung des Brechungsindex durch Ioneninjektion, ein Verfahren zum £tzen der Schleiffläche mit einem Ionenstrahl usw. Von diesen Verfahren ergibt die Herstellung eines asphärischen Films bzw. einer asphärischen Schicht durch Aufdampfungs-Ablagerung eine zufriedenstellende Möglichkeit zur Massenproduktion der Artikel·,, wenn die

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Deutsche Bank (München) Klo. 51/61070 Dresdner Bank (München) KIo. 3939 844 Postscheck (München] KIo. 670-43-804

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Dicke der asphärischen Schicht nicht ungefähr 10 um übersteigt.

Durch Aufdampfungs-Ablagerung ist es jedoch schwierig,eine asphärische Beschichtung mit dem gleichen Brechungsindex wie eine Linse mit einem Brechungsindex von 1,45 bis 1,82 oder dergleichen herzustellen, da hinsichtlich der Art des für die Aufdampfungs-Ablagerung verwendeten Materials Einschränkungen bestehen. Wenn demnach der Brechungsindex der Linse nahe demjenigen der asphärischen Schicht liegt, wie zum Beispiel bei einer Linse aus BK-7 mit einem Brechungsindex 1,52, der nahe dem Brechungsindex 1,49 eines SiO-'-Films liegt, bestehen überhaupt keine Schwierigkeiten. Wenn jedoch der Brechungsindex der Linse von demjenigen der asphärischen Schicht verschieden ist, tritt der Fall auf, daß durch Anbringen eines Reflexionsminderungsfilms bzw. -belags an der asphärischen Schicht keine Wirkung erzielt werden kann, da die Reflexion an der Grenzfläche zwischen der Linse und der asphärischen Schicht auftritt. Folglich ist dann, wenn der asphärische Dünnfilm direkt auf das Substrat aufgebracht wird und ferner zur Reflexionsverminderung eine Gruppe von Dünnfilm-Schichten aufgebracht wird , das restliche Reflexionsvermögen groß, so daß die Reflexionsminderungs- oder Antireflex-Eigenschaften der Dünnfilm-Schichten einschließlich des asphärischen Dünnfilms nicht als zufriedenstellend bezeichnet werden können.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen asphärischen Reflexionsminderungsbelag zu schaffen, der eine hervorragende Reflexionsminderungs-Wirkung hat und bei dem die vorstehend genannten Nachteile ausgeschaltet sind.

Der erfindungsgemäße asphärische Reflexionsminderungsbelag ist mit einer ersten Dünnfilm-Gruppe aus

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einer Dünnfilm-Schicht oder mehreren Dünnfilm-Schichten mit gleichförmiger Dicke, einem asphärischen Dünnfilm, der auf die erste Dünnfilm-Gruppe aufgebracht ist und der an der einem Substrat abgewandten Fläche asphärische Form hat, und einer zweiten Dünnfilm-Gruppe aufgebaut, die aus einer Dünnfilm-Schicht oder mehreren Dünnfilm-Schichten besteht und die auf dem asphärischen Dünnfilm aufgebracht ist. Der hier verwendete Ausdruck "Dünnfilm bzw. Dünnfilm-Schicht gleichförmiger Dicke" bedeuted, daß die Film- oder Schichtdicke an jeglichem Teilbereich der Schicht konstant ist.

Wenn bei dem erfindungsgemäßen asphärischen Reflexionsminderungsbelag oder Antireflex-Belag die vorstehend angeführte erste Dünnfilm-Gruppe eine einzige Schicht aufweist, wird der Brechungsindex η* des für die erste Dünnfilm-Gruppe bzw. die einzelne Schicht verwendeten Materials im wesentlichen zu V na.ng gewählt (wobei na den Brechungsindex des asphärischen Dünnfilms bezeichnet und ng den Brechungsindex des Substrats bezeichnet). Ferner soll die geometrische Filmdicke d., des Dünnfilms die Beziehung n* d.5^<^_o/4 erfüllen, in welcher j} „ eine Bezugswellenlänge (Konstruktionswellenlänge) bezeichnet.

Wenn ferner die erste Dünnfilm-Gruppe aus zwei Schichten besteht, können folgende Beziehungen erfüllt werden: ng ^n*, n-^ na oder ng)>n^, n, >na, bei welchen n.. der Brechungsindex der einen Dünnfilm-Schicht an der Sexta des Substrats ist und n₂ der Brechungsindex der zweiten Dünnfilm-Schicht an der Seite des asphärischen Films ist. Wenn dabei die Dicke des Films mit dem Brechungsindex n^ mit d- gegeben ist und die Dicke des Films mit dem Brechungsindex n₂ mit d₂ gegeben ist, können die Bedingungen für die Reflexionsminderung bzw. -unterdrückung dann festgelegt werden, wenn die folgenden Beziehungen erfüllt werden:

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B 9426 jia.ng = η., .n^

η ( η., .n^(ng - na) tan⁴" — =

2

I n₂ ng = η. na und zwar unter der Bedingung, daß

χ ⁿi^di '

ά ₇ = -3- n₂d_? ^ Λ ^ ² gilt, wobei λ eine Wellenlänge bezeichnet.

Bei dem erfindungsgemäßen asphärischen Refexionsminderungsbelag ist es möglich, bei der vorangehend genannten zweiten Dünnfilm-Gruppe den Aufbau eines herkömmlichen Reflexionsminderungs- oder Antireflexbelags zu verwenden. Es ist ferner möglich, den asphärischen Dünnfilm in dieser zweiten Dünnfilm-Gruppe anzubringen.

Das heißt, bei dem erfindungsgemäßen asphärischen Reflexionsminderungsbelag ist eine Dünnfilm-Schichtung aus mindestens einem Dünnfilm gleichmäßiger Dicke zwischen dem Substrat und dem asphärischen Dünnfilm angebracht, um dadurch irgendwelche zwischen dem Substrat und dem asphärischen Dünnfilm mit den von einander verschiedenen Brechungsindezes auftretenden störenden Reflexionen wirkungsvoll auszuschalten und einen asphärischen Reflexionsminderungsbelag mit hervorragender Lichtdurchlässigkeit zu erhalten.

Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert.

Fig. 1A und 1B zeigen ein Beispiel für einen

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nicht zu erstrebenden Reflexionsmin-

derungsbelag mit einem asphärischen Dünnfilm, v/obei die Fig. 1A den Aufbau des Belags zeigt, während die Fig. 1E seine Reflexionseigenschaf

ten darstellt.

Fig. 2A und 2B zeigen ein Ausführungsbeispiel des

asphärischen Reflexionsminderungsbelags, v/obei die Fig. 2A den Aufbau

des Belags veranschaulicht, während die Fig. 2B seine Reflexionseigenschaften zeigt.

Fig. 3A und 3B zeigen ein zweites Ausführungsbeispiel des Reflexionsminderungsbelags, wobei die Fig. 3A den Aufbau des Belags veranschaulicht, während die Fig. 3B seine Reflexionseigenschaften zeigt.

Fig. 4A und 4B zeigen ein drittes Ausführungsbeispiel des asphärischen Reflexionsminderungsbelags, wobei die Fig. 4A den Aufbau des Belags veranschaulicht,

während die Fig. 4B seine Reflexionseigenschaften zeigt.

Fig. 5 ist eine grafische Darstellung, die die Reflexionsvermögens-Kennlinien

eines Ausführungsbeispiels des asphärischen Reflexionsminderungsbelags zeigt.

Fig. 6A und 6B zeigen ein viertes Ausführungsbeispiel des asphärischen Reflexions-

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minderungsbelags, wobei die Fig. 6Λ den

Aufbau des Belags veranschaulicht, während die Fig. 6B seine Reflexionseigenschaften zeigt.

Fig. 7A und 7B zeigen ein fünftes Ausführungsbeispiel

des asphärischen Reflexionsminderungsbelags, wobei die Fig. 7A den Aufbau des Belags veranschaulicht, während die Fig. 7B seine Reflexionseigenschaften

zeigt.

Fig. 8A und 8B zeigen ein sechstes Ausführungsbeispiel

des asphärischen Reflexionsminderungsbelags, wobei die Fig. 8A den Aufbau des

Belags veranschaulicht, während die Fig. 8B seine Reflexionseigenschaften zeigt.

Fig. 9A und 9B zeigen ein siebentes Ausführungsbeispiel

des asphärischen Reflexionsminderungsbelags, wobei die Fig. 9A den Aufbau des Belags veranschaulicht, während die Fig. 9B seine Reflexionseigenschaften zeigt.

Die Fig. TA und 1B zeigen ein Beispiel eines asphärischen Reflexionsverminderungs- bzw. Antireflexbelags, bei welchem eine asphärische Dünnfilm-Schicht direkt auf ein Substrat aufgebracht ist und über dieser asphärischen Dünnfilm-Schicht eine mehrlagige Dünnfilm-Beschichtung angebracht ist. Die Fig. 1A zeigt den Aufbau des in Lagen bzw. Schichten ausgebildeten Belags, während die Fig. 1B eine Kennlinienkurve seines Reflexionsvermögens zeigt.

Gemäß der Darstellung in Fig. 1A ist ein asphärischer

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Dünnfilm aus Siliciumdioxid SiO₂ mit einem Brechungsindex von 1,49 und einer Maximalabweichung von 2 _;um gegenüber der sphärischen Fläche direkt auf einem Substrat mit einem Brechungsindex von 1,80 abgelagert. Auf diesen asphärischen Dünnfilm sind von dem asphärischen Dünnfilm her in Aufeinanderfolge ein Dünnfilm aus Aluminiumoxid Al₂O-, mit einer optischen Filmdicke von Λ„/4, ein Dünnfilm

aus Zirkondioxid ^Zr02 ^m^*~ ^ei^ner optischen Filmdicke von Aq/2 und ein Dünnfilm aus Magnesiumfluorid MgF₂ mit einer optischen Filmdicke νοηΛ_/4 aufgebracht. Die Reflexionseigenschaften an dem optisch dicksten Filmbereich (mit der Dicke 2 pm) des asphärischen Dünnfilms ist in der grafischen Darstellung in Fig. 1B gezeigt, in welcher an der Ordinate das Reflexionsvermögen R und an der Abszisse die Viellenlänge X aufgetragen sind. \_Q bezeichnet eine Bezugswellenlänge (oder Konstruktionsv/ellenlänge) .

Da bei diesem Beispiel A_Q = 500 nm ist,haben die Dünnfilm-Schichten aus Al₂Oo, 2rO₂ und MgF- die jeweilige optische Filmdicke von 125 nm, 250 nm bzw. 125 nm.

Wie aus der Fig. 1B ersichtlich ist, übersteigt bei direktem Aufbringen des asphärischen Dünnfilms auf das Glas-Substrat und Darüberlagern von Dünnfilmen zum Vermindern der Reflexion das restliche Reflexionsvermögen 2 % , so daß die Reflexionsverminderungs- bzw. Antireflex-Eigenschaften der Dünnfilm-Beschichtung einschließlich des asphärischen Dünnfilms nicht als zufriedenstellend bezeichnet werden können.

In Fig. 2A ist als erstes Ausführungsbeispiel des Reflexionsminderungs- bzv/. Antireflexbelags der Eelag so aufgebaut, daß eine Einzelschicht mit einem Brechungsindex von 1,54, wie beispielsweise aus ThF. oder ThOF₂ unter Aufdampfen auf ein Glas-Substrat mit einem Brechungsindex von 1,60 in einer optischen Filmdicke von

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125 nm abgelagert ist. Auf diese Einzelschicht ist im Weiteren ein asphärischer Dünnfilm aus SiO₂ mit einem Brechungsindex von 1,49 aufgebracht. Auf diesen asphärischen Dünnfilm sind v/eiter in Aufeinanderfolge vom asphärischen Dünnfilm her gesehen die in Fig. 1Λ gezeigten drei Antireflex-Schichten als zweite Gruppe von Dünnfilmen mit Al₂O^ in einer optischen Filmdicke von 125 nm, ZrO- in einer optischen Filmdicke von 250 nm bzw. MgF- in einer optischen Filmdicke von 125 nm aufgeschichtet. Die Bezugsweilenlänge Aq ist 500 nm. Der asphärische Dünnfilm hat die maximale Abweichung von 2 μτα gegenüber der sphärischen Fläche. Die grafische Darstellung in Fig. 2B gibt die Reflektxonseigenschaften des Bereichs des asphärischen Dünnfilms mit der größten optischen Filmdicke an.während der in Fig. 2A gezeigte asphärische Dünnfilm gemäß den vorstehenden Ausführungen die maximale Abweichung von 2 pm hat, ist die Filmdicke am dünnsten Teilbereich gleich null. Der Grund zur Angabe der Reflexionseigenschaften bzw. der Reflexionskennlinie an diesem dicksten Teilbereich des asphärischen Dünnfilms liegt darin, daß die Eigenschaften bzw. die Kennlinie an diesem Filmbereich unter allen anderen Teilbereichen des Films die schlechtesten

κ
sind. Die Reflexionskennlinien der anderen Teilbereiche des Films mit geringerer Dicke zeigen bessere Reflexionseigenschaften. Wie aus der Kennlinienkurve in Fig. 2B ersichtlich ist, kann in einem gewünschten Wellenlängenbereich das restliche Reflexionsvermögen innerhalb von höchstens 0,5 % gehalten werden, so daß daher im Vergleich zu der Kennlinie in Fig. 1B die Wirksamkeit des asphärisehen Reflexionsverminderungsbelags ersichtlich ist.

Bei den nachstehend beschriebenen weiteren Ausführungsbeispielen des Belags ist der dünnste Teil des asphärischen Dünnfilms gleich null, während der dickste Teil desselben der maximalen Abweichung entspricht. Die grafischen Darstellungen, die jeweils die Reflexionsei-

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genschaften ( oder in Umkehrung die Durchlaßeigenschaften) darstellen, zeigen für das jeweilige Ausführungsbeispiel die Eigenschaften an dem dicksten Teil das asphärischen Dünnfilms. Bei den asphärischen Reflexionsverminderungsbelägen, die den in den nachstehend erläuterten Fig. 3B bis 8B gezeigten Kennlinien entsprechen, ist ferner die Bezugswellenlänge Λ Q = 500 nm und der Aufbau der zweiten Gruppe der Dünnfilme ist genau der gleiche wie der in den Fig. 1A und 2A gezeigte, so daß irgendwelche ausführlichen Erläuterungen des Aufbaus weggelassen sind.

Bei den Fig. 3Λ und 3B ist der asphärische Reflexionsminderungsbelag so aufgebaut, daß ein Einzelschichtfilm mit einem Brechungsindex von 1,59 wie beispielsweise aus ThOF- oder LaF., unter Aufdampfen auf einem Glas-Substrat mit einem Brechungsindex von 1,70 zu einer optischen Filmdicke von 125 nm abgelagert ist. Auf diesem Einzelschichtfilm ist unter Aufdampfen ein asphärischer Dünnfilm aus SiO₂ mit einem Brechungsindex von 1,49 abgelagert. Auf diesen asphärischen Dünnfilm ist im weiteren die vorstehend genannte zweite Gruppe von Dünnfilmen aufgebracht. Der asphärische Dünnfilm hat eine maximale Abweichung von 2 run gegenüber der sphärischen Fläche.

Bei den Fig. 4A und 4B ist der asphärische Reflexionsminderungsbelag so aufgebaut, daß unter Aufdampfen eine Einzelschicht mit einem Brechungsindex von 1,64 wie beispielsweise aus Al-O- oder dergleichen auf ein Glas-Substrat mit einem Brechungsindex von 1,80 zu einer optischen Filmdicke von ¹J25 nm abgelagert ist. Auf diese Einzelschicht ist unter Aufdampfen ein asphärischer Dünnfilm von SiO- mit einem Brechungsindex von 1,49 abgelagert. Über diesen asphärischen Dünnfilm ist im weiteren die zweite Dünnfilm-Gruppe mit dem vorstehend beschriebe-

*" nen Aufbau geschichtet. Der asphärische Dünnfilm hat eine

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] maximale Abweichung von 2 μτη. gegenüber der sphärischen Fläche.

Die Fig. 5 zeigt die Reflexionseigenschaften c des asphärischen Reflexionsminderungsbelags mit dem anhand der Fig. 4A beschriebenen Aufbau bei Veränderung der maximalen Abweichung des asphärischen Dünnfilms. In dieser grafischen Darstellung zeigt die mit der ausgezogenen Linie dargestellte Kennlinie den Fall, daß die maxi-IQ male Abweichung gegenüber der sphärischen Fläche gleich 1 um ist, während die mit der gestrichelten Linie dargestellte Kennlinie den Fall zeigt, bei dem die maximale Abweichung gegenüber der sphärischen Fläche 3 pm ist.

Die in den Fig. 2B bis 5 gezeigten Kennlinien gelten alle für Fälle, bei welchen die erste Dünnfilm-Gruppe in einer einzigen Schicht besteht. Im folgenden werden Fälle erläutert, bei denen die erste Dünnfilm-Gruppe aus zwei Schichten besteht.

Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß den Fig. 6A

und 6B ist der asphärische Reflexionsminderungsbelag so aufgebaut, daß auf ein Glas-Substrat mit einem Brechungsindex von 1,60 als erste Dünnfilm-Gruppe unter Aufdampfen eine zweischichtige Auflage aufgebracht ist. Auf diese zweischichtige Auflage sind aufeinanderfolgend der asphärische Dünnfilm und die zweite Dünnfilm-Gruppe mit dem gleichen Aufbau wie dem in Fig. 2A gezeigten abgelagert. Die mit der ausgezogenen Linie dargestellte Kennlinie in Fig. 6B zeigt den Fall, daß die erste Schicht der ersten Dünnfilm-Gruppe den Brechungsindex 1,57 und die zweite Schicht den Brechungsindex 1,52 hat, wobei die Schichten jeweils in dieser Aufeinanderfolge vom Substrat her angeordnet sind, und daß die optische Filmdicke eines jeden Films 125 nm ist. Die mit der gestrichelten Linie dargestellte Kennlinie zeigt den Fall, daß die erste

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Schicht den Brechungsindex 1,547 und die zweite Schicht

den Brechungsindex 1,541 hat und die optische Filmdicke einer jeden Schicht 125 nm ist.

Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß den Fig. 7A und 7B ist der asphärische Reflexionsminderungsbelag so aufgebaut, daß die zweischichtige Auflage als erste Dünnfilm-Gruppe unter Aufdampfen auf ein Glas-Substrat mit einem Brechungsindex von 1,70 aufgebracht ist. Auf diese zweischichtige Auflage sind in Aufeinanderfolge der asphärische Dünnfilm und die zweite Dünnfilm-Gruppe mit dem Aufbau gemäß Fig. 2A aufgebracht. Die durch die ausgezogene Linie dargestellte Kennlinie in Fig. 7 B zeigt den Fall, daß die erste Schicht und die zweite Schicht in der ersten DünnfiIm-Gruppe gemäß der Anordnung von dem Substrat her jeweilige Brechungsindezes von 1,64 bzw. 1,54 haben und ihre optische Filmdicke jeweils 125 nm ist. Die mit der gestrichelten Linie dargestellte Kennlinie zeigt den Fall, daß die erste bzv/. die zweite Schicht Brechungsindizes von 1,619 bzw. 1,564 haben und die optische Filmdicke einer jeden Schicht 125 nm ist.

Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß den Fig. 8Λ und 8B ist der asphärische Reflexionsminderungsbelag so aufgebaut, daß als erste Dünnfilm-Gruppe eine zweischichtige Auflage unter Aufdampfen auf ein Glas-Substrat mit einem Brechungsindex von 1,80 abgelagert ist. Auf die zweischichtige Auflage sind aufeinanderfolgend der asphärische Dünnfilm und die zweite Dünnfilm-Gruppe mit dem Aufbau gemäß Fig. 2A aufgebracht. Die mit der ausgezogenen Linie dargestellte Kennlinie in Fig. 8B zeigt den Fall, daß die in Anordnung vom Substrat her erste und zweite Schicht in der ersten Dünnfilm-Gruppe jeweils Brechungsindezes von 1,72 und 1,56 haben. Die mit der gestrichelten Linie dargestellte Kennlinie zeigt den Fall, daß die erste bzw. die zweite Schicht jeweils Brechungsindezes

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von 1,69 bzw. 1,587 haben; die optische Filmdicke einer jeweiligen Schicht ist 125 nm.

Eei dem Ausführungsbeispiel gemäß den Fig. 9Λ und 9B ist der asphärische Reflexionminderungsbelag so aufgebaut, daß eine Schicht mit einem Brechungsindex von 1,55 und einer optischen Filmdicke von 125 nm sowie eine weitere Schicht mit einem Brechungsindex von 1,60 und einer optischen Filmdicke von 125 nm aufeinanderfolgend auf ein Glas-Substrat mit einem Brechungsindex von 1,52 aufgebracht sind. Auf diese zweischichtige Auflage ist ein asphärischer Dünnfilm aus Aluminiumoxid mit einem Brechungsindex von 1,63 aufgeschichtet. Über diesen asphärischen Dünnfilm ist eine vierschichtige Auflage geschichtet. Diese vier Schichten in Zählung von der asphärischen Fläche her haben Brechungsindezes und 'optische Filmdicken gemäß folgendem:erste Schicht: 1,4 9 bzw. 125 nm, zweite Schicht: 1,63 bzw. 125 nm, dritte Schicht: 2,1 bzw. 250 nm und vierte Schicht: 1,38 bzw.

125 nm.

Wie aus den Fig. 6B bis 9B ersichtlich ist, zeigen die Kennlinien zufriedenstellende Reflexionsminderungs- bzw. Antireflex-Wirkungen selbst dann an, wenn die erste Dünnfilm-Gruppe aus zwei Schichten besteht, wobei in diesem Fall die Wahl des Materials für die Aufschichtung unter Aufdampfen erleichtert ist.

Mit der Erfindung ist ein asphärischer Reflexionsminderungsbelag bzw. eine asphärische Antireflex-Beschichtung angegeben, die aus einer ersten Dünnfilm-Gruppe aus einer Dünnfilm-Schicht oder mehreren Dünnfilm-Schichten gleichförmiger Dicke, einem asphärischen Dünnfilm, der auf diese. Dünnfilm-Gruppe aufgebracht ist und an der von dem Substrat abgewandten Seite asphärische Form hat,

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und einer zweiten Dünnfilm-Gruppe gebildet ist, die auf den asphärischen Dünnfilm aufgebracht ist und die eine Dünnfilm-Schicht oder mehrere Dünnfilm-Schichten aufweist, wobei die Filme bzw. Schichten vom Substrat her in der vorstehend genannten Reihenfolge angeordnet sind.

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IC

Leerseite

Claims

Patentansprüche

[I J Reflexionsininderungsbelag mit einer asphärischen Dünnfilm-Schicht, gekennzeichnet durch ein'Substrat, eine auf dem Substrat angebrachte erste Dünnfilm-Gruppe aus mindestens einer Dünnfilm-Schicht, einen auf der ersten Dünnfilm-Gruppe angebrachten asphärischen Dünnfilm, dessen der Substrat-Seite abgewandte Oberfläche asphärische Form hat, und eine auf dem asphärischen Dünnfilm angebrachte zweite Üünnfilm-Gruppe aus mindestens einer Dünnfilm-Schicht,
2. Reflexionsminderungsbelag nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Dünnfilm-Gruppe durch eine Einzelschicht gebildet ist, deren Brechungsindex im wesentlichen gleich V ng-na ist, v/obei ng den Brechungsindex des Substrats bezeichnet und na den Brechungsindex des asphärischen Dünnfilms bezeichnet, und deren Schichtdicke im wesentlichen gleich dem Viertel einer Bezugswellenlänge

A₀ ^ist·
3. Reflexionsminderungsbelag nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Dünnfilm-Gruppe aus zwei Schichten gebildet ist, die jeweils der Beziehung ng/ n.. bzw. n~ <C na entsprechen, wobei n₁ der Brechungsindex

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] der Dünnfilm-Schicht an der Seite des Substrats ist, n~ der Brechungsindex der Dünnfilm-Schicht an der Seite des asphärischen Dünnfilms ist, ng der Brechungsindex des Substrats ist und ,na der Brechungsindex des asphärischen Dünnfilms ist.
4. Reflexionsminderungsbelag nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Dünnfilm-Gruppe aus zwei Schichten gebildet ist, die jeweils der Beziehung ng>n.. bzw. n^ )na entsprechen, wobei n. der Brechungsindex der Schicht an der Seite des Substrats ist, n^ der Brechungsindex der Schicht an der Seite des asphärischen Dünnfilms ist, ng der Brechungsindex des Substrats ist und na der Brechungsindex des asphärischen Dünnfilms ist.
5. Reflexionsminderungsbelag nach Anspruch 3

oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichtdicke einer jeden der beiden die erste Dünnfilm-Gruppe bildenden Schichten im wesentlichen überall gleich ist und im wesentlichen gleich einem Viertel einer Bezugswellenlänge A₀ ^ist·

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