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DE2834941A1 - Vorsensibilisierte flachdruckplatte - Google Patents

Vorsensibilisierte flachdruckplatte

Info

Publication number
DE2834941A1
DE2834941A1 DE19782834941 DE2834941A DE2834941A1 DE 2834941 A1 DE2834941 A1 DE 2834941A1 DE 19782834941 DE19782834941 DE 19782834941 DE 2834941 A DE2834941 A DE 2834941A DE 2834941 A1 DE2834941 A1 DE 2834941A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
printing plate
radical
planographic printing
cii
plate according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19782834941
Other languages
English (en)
Inventor
Jacques Robert Georges Haeck
Simone Jeannine Kempen
George Achille Phlipot
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
Publication of DE2834941A1 publication Critical patent/DE2834941A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft eine vorsensibilisierte Flachdruckplatte oder lithographische Platte mit einem hydrophilen
Schichtträger und einer hierauf aufgetragenen Schicht mit
einer Diazoniumverbindung oder einem Diazoniumsalz.
Es ist bekannt, für die Herstellung von vorsensibilisierten
Platten lichtempfindliche Verbindungen zu verwenden, die aus
den Kondensationsprodukten von Carbonylverbindungen, beispielsweise Aldehyden, z.B. Formaldehyd, mit einem Diazoniumsalz
eines p-Phenylendiamins bestehen. Derartige Kondensationsprodukte werden ganz allgemein als Diazoharze bezeichnet.
Die Harze werden dabei im allgemeinen dadurch stabilisiert,
daß man sie in Form ihrer Doppelsalze mit bivalenten Metallen, beispielsweise Zink oder Cadmium mit einem oder gegebenenfalls zwei sauren Anionen herstellt.
In der Zeitschrift J. Appl. Pol. Sei., Band 8, Seiten 1379 bis 1381 (1964), wird das Diazoniumsalz von N-Äthyl-N-hydroxyäthylp-phenylendiamin als schwaches Photohärtungsmittel für Polyvinylalkohol beschrieben. In der Literaturstelle finden sich jedoch keinerlei Hinweise darauf, daß sich das Phenylendiamindiazoniumsalz zu einer Bis-Verbindung modifizieren läßt, die besonders
geeignet für die Herstellung von lithographischen Druckplatten oder Flachdruckplatten ist.
Aus der US-PS 3 778 270 sind des weiteren durch Einwirkung von Licht härtbare lichtempfindliche Massen bekannt, die ein lichtempfindliches Bis-Diazoniumsalz enthalten und ein Polymer, das in Gegenwart des Bis-Diazoniumsalzes in einem alkalischen Medium durch Einwirkung von Licht quervernetzt werden kann. Besonders vorteilhafte Bis-Diazoniumverbindungen entsprechen dabei der
Formel: ®NO-R·-Y-(CII0) -Y-R'-N ® * 2ΧΘ worin R* ein Benzol-,
2 Zn I
Naphthalin-, Anthracen- oder Phenanthrenrest ist, Y für
einen Rest der Formeln -COO- oder -SO,- steht, η = 4 bis 18
ist und X die Bedeutung eines Anions hat. Das erwähnte durch
-f-
Licht quervernetzbare Polymer kann aus einem makromolekularen organischen Kolloid mit Hydroxyl- oder Aminogruppen bestehen oder aus einem Polymer wie beispielsweise Gelantine oder Polyvinylalkohol) . Die bekannten lichtempfindlichen Massen eignen sich für die Herstellung von vorsensibilisierten Platten.
Die unter Verwendung von Diazoniumsalzen des Standes der Technik hergestellten lithographischen Druckplatten oder Eachdruckplatten haben den Nachteil, daß die Druckbezirke eine ungenügende Affinität für Druckfarbe aufweisen. Es hat sich gezeigt, daß die oleophilen Eigenschaften der üruckbezirke nicht stark genug sind, und daß, werden derartige Druckplatten in einer Druckpresse verwendet, die Einfärbung der ersten Kopien ungenügend ist.
uberraschendenv'eise wurde gefunden, daß sich diese Nachteile dadurch belieben lassen, daß man zur Herstellung der Flachdruckplatten die im folgenden näher beschriebenen neuen Diazoi lumverbindungen verwendet.
Gegenstand der Erfindung ist demzufolge eine vorsensivilisierte Flachdruckplatte, die durch einen Gehalt an einer üiazoniumverbindung einer der folgenden Formeln gekennzeichnet ist:
I. N
H(CH7)
oder
909808/0958
283A941
OO
Il Il
III. G1 -C-R-C-
•θ γ θ
2 λ
0 0'
Il Il
-N—(-CHj^-O-C-R-C-
ΓΛ
909808/09S8
worin bedeuten:
1 2
G und G die die gleiche oder eine verschiedene Bedeutung
haben können, jeweils eine Hydroxylgruppe oder einen Rest der Formel:
Ν® Χθ ι Z
—0-e- CH2-^j- N-f- CHj-^- H
R (a) einen Alkylenrest mit 1 bis 12 C-Atomen,
einen Arylenrest mit 6 bis 10 C-Atomen, einen Alkylarylenrest oder einen Alkylarylalkylenrest mit 8 bis 16 C-Atomen;
(b) einen bivalenten, photo-quervernetzbaren, äthylenisch ungesättigten Rest mit 4 bis C-Atomen oder
(c) einen bivalenten Rest mit einer Agidfunktion; m = 2, 3, 4 oder 5;
n, s und r die die gleiche oder eine verschiedene Bedeutung haben können, jeweils * 1, 2, 3 oder 4 und
X ein Anion.
Die erfindungsgemäßen Diazoniumverbindungen stellen vorteilhafte photosensitive Verbindungen dar, die in vorteilhafter Weise zur Herstellung vorsensibilisierter lithographischer Druckplatten verwendet werden können. Derartige Druckplatten können aufgebaut sein aus einem Schichtträger sowie einer hierauf aufgebrachten Schicht aus einem in entweder Wasser oder nicht wäßrigen Lösungsmitteln löslichen Bindemittel sowie einer der angegebenen Diazoniumverbindungen gemäß Formeln I, II oder III,
i-
Die erfindungsgemäßen Diazoniumverbindungen lassen sich in vorteilhafter Weise herstellen durch Umsetzung eines Säurebischlorides der Formel Cl-CO-R-CO-Cl, worin R die bereits angegebene Bedeutung hat, mit einem p-t.-Aminobenzoldiazoniumsalz, beispielsweise einem Salz einer der folgenden Formeln:
CH2-CH2OH CH2-CH3
CH0-CH0OH 2 2
oder Mischungen hiervon.
Die erfindungsgemäßen photosensitiven Diazoniumverbindungen eignen sich deshalb besonders für die Herstellung von sog. vorsensibilisierten lithographischen Druckplatten oder Flachdruckplatten, da die Verbindungen in wäßrigen organischen Lösungsmitteln, z.B. organischen Lösungsmitteln mit bis zu etwa 80% Wasser ausgezeichnet löslich sind. In den exponierten Bezirken einer vorsensibüsierten Druckplatte bilden die erfindungsgemäßen Diazoniumverbindungen demgegenüber in Wasser unlösliche organische Verbindungen, die so stark oleophil sind, daß sich unter Verwendung der Diazoniumverbindungen hergestellte Druckplatten leicht einfärben lassen. Die Diazoniumverbindungen der nicht exponierten Bezirke lassen sich demgegenüber leicht, z.B. durch Waschen mit Wasser,entfernen.
Beispiele für besonders vorteilhafte photosensitive Diazoniumverbindungen nach der Erfindung sind solche der folgenden Formeln:
909808/0958
,CH2-CH2-O-CO-(CH2)2-CO-O-CH2-CH2\
CH2-CH3
CH9-CH9-O-CO-(CH9) .-C0-0-CHo-CH ζ 2 ζ 4 2
H 0-CH2-CH2-N-CH2-CH2-O-CO-(CH2)6-C0
•OH
Weitere besonders vorteilhafte photosensitive Diazoniumverbindungen nach der Erfindung, die den Formeln I, II und III entsprechen sind solche, in denen der bivalente Rest R aus einem Rest besteht, der eine oder mehrere äthylenisch ungesättigte Bindungen aufweist, die lichtvernetzbar oder photovernetzbar sind. Typische derartige Reste sind beispielsweise der
Cinnamylidenrest, z.B. der Formel: C=CH-CH=CH
ein Di(p-vinyl)phenylenrest, z.B. der Formel -CH=CH
CH=CH-;
ein sich von Stilben ableitender Rest, z.B. ein Rest der Formel
■—CH=CH
909808/0958
■«■
ein Rest mit einer «-Äthylenketonfunktion, z.B. ein Rest, der sich von Dibenzylidenaceton ableitet:
V-GH=CH-CO-CH=CH—« ■
ein Rest, der sich vom Dibenzylidencyclohexanon ableitet, z.B.
ein Rest der Formel:
oder ein Rest, der sich vom Benzylidenacetophenon ableitet, z.B. der Formel:
Die Herstellung erfindungsgemäßer Diazoniumverbindungen lcann beispielsweise dadurch erfolgen, daß man ein Bissäurechlorid der bereits angegebenen Formel mit einem p-Aminobenzoldiazonium salz mit 1 oder 2 Hydroxyallcylgruppen, die am Stickstoffatom sitzen, nach einem der beiden folgenden ReaktionsSchemen A oder B umsetzt:
(CH ^-OH
Δ Γ
+ Cl-CO-R-CO-Cl +
xö,
x » Ν2~Λ /1^
+2 Cl-CO-R-CO-Cl
HOCCH
OH
worin R, m, n, r, s und X die bereits angegebene Bedeutung haben.
Die Umsetzungen können dabei in einem wasserfreien organischen Lösungsmittel durchgeführt werden, z.B. Trifluoressigsäure, beispielsweise bei einer Temperatur von 25 bis etwa 70 C. Die Umsetzungsdauer kann beispielsweise etwa 5 bis etwa 12 Stunden betragen.
Die Herstellung von vorsensibilisierten Druckplatten kann ausgehend von lichtempfindlichen Beschichtungsmassen erfolgen, beispielsweise einer Lösung einer der Diazoniumverbindungen in einer Mischung von Wasser und einem hydrophilen organischen Lösungsmittel, beispielsweise einem Alkohol mit 1 bis etwa 3 C-Atomen, wobei der Anteil des Wassers bei 20 bis 801 der Gesamtlösungsmittelmischung liegen kann. In vorteilhafter Weise verwendet man dabei verdünnte Lösungen, insbesondere Lösungen mit etwa 0,5 bis etwa 5 Gew.-I der lichtempfindlichen Diazoniumverbindung.
Die lichtempfindlichen Beschichtungsmassen können auf einen Träger mit oder ohne Bindemittel aufgetragen werden, wobei der Diatoniumgehalt in vorteilhafter Weise bei etwa 1 bis
2
etwa 20 mg/dm liegen kann. Zur Herstellung der Druckplatten können jedoch auch in Wasser lösliche Bindemittel wie auch solche Bindemittel, die in nicht wäßrigen Lösungsmitteln, löslich sind, z.B. sog. organischenLösungsmittelnverwendet werden.
Zur Herstellung der Druckplatten können die üblichen bekannten Schichtträger verwendet werden, beispielsweise Träger aus Metall, beispielsweise Aluminiumfolien oder Aluminiumblätter, Träger aus synthetischen Polymeren, z.B. Celluloseacetatfolien oder Folien aus Vinylpolymeren, Polyolefinen, Polyestern und dergleichen. Des weiteren lassen sich in vorteilhafter Weise Papierschichtträger verwenden, die in vorteilhafter Weise in feuchtem oder naßen Zustand einen großen Widerstand aufweisen, z.B. Papierträger, die beidseitig mit einer Schicht aus einem Polyolefin, z.B. Polyäthylen beschichtet sind, das einer Corona-Entladung ausgesetzt wurde, um.die Haftung der hydrophilen lithographischen Schicht zu verbessern, die auf die PoIyolefinschicht aufgebracht wird.
Schichtträger, die an sich nicht ausreichend hydrophil sind, können vor Auftragen der lichtempfindlichen Diazoniumverbindung mit einer hydrophilen lithographischen Schicht beschichtet werden, beispielsweise einer Schicht, die die nicht einfärbbaren bildfreien Bezirke der Flachdruckplatte oder lithographischen Platte nach Exponieren und Waschen der vorsensibilisier- -ten Platte bildet.
In besonders vorteilhafter Weise lassen sich zur Herstellung der Druckplatten Papierschichtträger verwenden, die mit Polyethylen beschichtet worden sind, z.B. wie aus der GB-PS 1 111 bekannt und die einer Elektronenbestrahlung ausgesetzt wurden und danach mit einer hydrophilen lithographischen Schicht beschichtet worden sind, d.h. einer Schicht mit einem Bindemittel, z.B. Poly(vinylalkohol), kolloidaler Kieselsäure, größeren inerten Teilchen, z.B. aus Kieselsäure oder Aluminiumoxidteilchen
und in besonders vorteilhafter Weise dem Hydrolyseprodukt von Tetraäthylorthosilicat. Derartige hydrophile lithographische Schichten sind beispielsweise aus der FR-PS 2 167 655 bekannt.
In vorteilhafter Weise lassen sich hydrophile lithographische Schichten des weiteren erhalten durch Verwendung einer Masse, hergestellt durch Hydrolyse eines Esters der ortho-Titansäure in einer verdünnten Wasserstoffperoxidlösung, wie es beispielsweise aus den FR-PS 1433 616 und 1 497 404 bekannt ist.
Des weiteren lassen sich beispielsweise zur Herstellung der Flachdruckplatten hydrophile lithographische Schichten verwenden, die fest auf dem Träger haften und abriebwiderstandsfähig sind und erzeugt werden, ausgehend von einer wäßrigen Dispersion von Titandioxid und hydrolysiertem Tetraäthylorthosilicat in einer wäßrigen Polyvinylalkohollösung.
Des weiteren lassen sich vorteilhafte hydrophile lithographische Schichten dadurch herstellen, daß man auf einen Träger eine wäßrige Dispersion von kolloidaler Kieselsäure und Titandioxid in einer wäßrigen Lösung eines Copolymere'n aus Acrylamid und 2-Acetoacetoxyäthylmethacrylat, wie in der FR-PS 2 121 057 beschrieben, aufbringt.
Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen.
909308/0958
■ . 2.83Λ9ΑΤ
Beispiel 1 : Herstellung eines Kondensationsproduktes aus einem p-(N-Äthyl)-N-ß-hydroxyäthyl)aminobenzoldiazoniumsalz mit Succinoylchlorid.
-(^Rührer, ihermometer und/ In einem 250 ml fassenden Kolben, ausgerüstet initf Rückflußkühler und einem CaIciumchlοridröhrchen zum Binden von Feuchtigkeit wurden die folgenden Bestandteile eingeführt:
Trifluoressigsäure 50 ml
p-(N-Äthyl-N-ß-hydroxyäthyl)-aminobenzoldiazoniumchlorzinkat . 5,9g
Succinoylchlorid 1,55 g
Die Mischung wurde dann solange gerührt, bis die Komponenten sich vollständig gelöst hatten. Daraufhin wurde die Lösung 5 Stunden läng bei 500C und 1 Stunde lang bei 70°C aufbewahrt. Daraufhin wurde die Lösung in das 10-fache ihres Volumens von Diäthyläther eingegossen, wodurch das Reaktionsprodukt ausgefällt wurde. Es wurde abfiltriert, zunächst mit Äther und dann mit Xylol gewaschen und in einem Desikkator in Vakuum getrocknet.
Beispiel 2: Herstellung und Verwendung einer vorsensibilisierten Druckplatte unter Verwendung der Verbindung des Beispieles, 1
Zunächst wurde eine lichtempfindliche Beschichtungsmasse durch Lösen von 0,45 g der gemäß Beispiel 1 hergestellten lichtempfindlichen Verbindung in einer Mischung von 10 ml Wasser und 20 ml Äthanol hergestellt.
Die Beschichtungsmasse wurde dann zur Herstellung einer Flachdruckplatte verwendet. Zunächst wurde ein mit Polyäthylen beschichteter Papierträger der Einwirkung einer Corona-Entladung ausgesetzt, worauf auf den Träger eine hydrophile lithographische Schicht aufgetragen wurde, ausgehend von einer Dispersion, die durch Vermischen der folgenden Bestandteile erhalten wurde:
S09808/0958
350 g
700 ml
110 g
2 1
1. Titandioxid Wasser
2. Polyvinylalkohol Wasser
3. Hydrolysiertes Tetraäthylorthosilicat, hergestellt aus Tetra»
äthylorthosilicat 600 ml
Wasser 100 ml
2$ige Chlorwasserstoffsäurelösung 50 ml
Nach Auftragen dieser hydrophilen Schicht wurde die lichtempfindliche Schicht aufgebracht.
Die erhaltene vorsensibilisierte Platte wurde getrocknet und danach 2 Minuten lang durch ein Strichnegativ belichtet. Zur Belichtung wurde ein Satz von 160 Watt Lampen verwendet, die in einer Entfernung von 20 cm aufgestellt waren.
Die nicht exponierten Bezirke wurden dann innerhalb von etwa 10 Sekunden mit Wasser abgewaschen. Auf diese Weise wurde eine Flachdruckplatte erhalten, die eine Resistschicht mit einem stark ausgeprägten oleophilen Charakter aufwies, die leicht ölige Druckfarben aufnahm.
Die Platte wurde in einer Qffset~Druckpresse verwendet. Es wurden mehrere tausend Kopien guter Qualität erhalten, insbesondere zeigte sich, daß die Druckqualität auch bereits bei den ersten Abzügen ausgezeichnet war.
Beispiel 5; Herstellung eines Kondensationsproduktes aus p-(N-Äthyl-N-ß-hydroxyäthyl)aminobenzoldiazoniumsalz mit Sebacylchlorid.
Zur Herstellung des Kondensationsproduktes wurde eine Vorrichtung wie in Beispiel 1 beschrieben verwendet, die mit den folgenden Verbindungen beschickt wurde:
Triflporessigsäure 50 ml
p-(N-Äthyl-N-ß-hydroxyäthyl)-aminobenzoldiazoniumchlorzinkat 5,9 g
Sebacylchlorid 2,39 g
Die erhaltene Lösung wurde zunächst auf 50 0C erhitzt und 7 1/2 Stunden lang bei dieser Temperatur gehalten. Daraufhin wurde sie abkühlen gelassen. Die Lösung wurde dann in 500 ml Diäthyläther gegossen, wobei das Reaktionsprodukt ausfiel. Der ausgefallene Niederschlag wurde abfiltriert, mit Äther und dann mit Xyolol gewaschen und im Vakuum getrocknet.
Beispiel 4: Herstellung einer vorsensibilisierten Druckplatte unter Verwendung der lichtempfindlichen Verbindung von Beispiel 3 und Verwendung der Druckplatte.
Nach dem in Beispiel 2 beschriebenen Verfahren wurde unter Verwendung der lichtempfindlichen Verbindung von Beispiel 3 eine weitere Druckplatte hergestellt und getestet. Es wurden entsprechende Ergebnisse wie in Beispiel 2 beschrieben erhalten.
Beispiel 5; Herstellung eines Kondensationsproduktes aus p-(N-Äthyl-N-ß-hydroxyäthyl)aminobenzoldiazoniumsalz mit Cinnamylidenmalonylchlorid.
In einer Vorrichtung wie in Beispiel 1 beschrieben wurde zunächst eine Mischung aus folgenden Bestandteilen hergestellt:
Trifluoressigsäure 50 ml
p-(N-Äthyl-N-ß-hydroxyäthyl)-aminobenzoldiazoniumchlorzinkat 5,9 g
Cinnamylidenmalonylchlorid 2,55 g
. ie Mischung wurde solange gerührt, bis eine Lösung erhalten wurde. Daraufhin wurde die Lösung 5 Stunden lang bei 50 C aufbewahrt und daraufhin noch 1 Stunde lang auf 700C erhitzt. Dann wurde die Lösung in das 10-fache ihres Volumens von Diäthyläthyläther eingegossen, wobei das Reaktionsprodukt ausfiel. Der
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ausgefallene Niederschlag wurde abfiltriert, mit Äther gespült und dann in einem Desikkator im Vakuum getrocknet.
Das U.V.-Spektrum des erhaltenen Reaktionsproduktes zeigte eine Absorptionsspitze bei 378 nm, entsprechend dem Diazoniumsalz und eine Spitze bei 320 nm, entsprechend der Cinnamylidenmalonatgruppe. Die Überlagerung der beiden Absorptionszonen war gering und die Lichtempfindlichkeit des Reaktionsproduktes sehr gut.
Beispiel 6: Herstellung einer vorsensibilisierten Druckplatte unter Verwendung der in Beispiel 5 hergestellten Verbindung und Verwendung der Druckplatte.
0,25 g der gemäß Beispiel 5 hergestellten lichtempfindlichen Verbindung wurden in 18 ml Wasser gelöst. Ein geringer unlöslicher Anteil wurde abzentrifugiert, worauf die zentrifugierte Lösung auf einen lithographischen Träger wie in Beispiel 2 beschrieben, aufgetragen wurde.
Die hergestellte vorsensibilisierte Druckplatte wurde dann wie in Beispiel 2 beschrieben getrocknet, exponiert und entwickelt. Die erhaltene Druckplatte war durch einen stark ausgeprägten oleophilen Charakter gekennzeichnet. Sie wurde in eine Offset-Druckpresse eingespannt. Es wurden mehrere tausend Abzüge ausgezeichneter Qualität erhalten, wobei auch bereits die ersten Abzüge eine ausgezeichnete Druckqualität aufwiesen.
Beispiel 7: Herstellung eines Kondensationsproduktes aus p-(N-Methyl-N-ß-hydroxyäthyl)aminobenzoldiazoniumsalz mit Cinnamylidenmalonylchlorid.
Die im folgenden aufgeführten Verbindungen wurden in einen 50 ml fassenden Kolben, ausgerüstet mit Rührwerk und Rückflußkühler wie in Beispiel 1 beschrieben eingebracht:
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Trifluoressigsäure 10 ml
p-(N-Methyl-N-ß-hydroxyäthyl)-aminobenzoldiazoniumchlorzinkat 0,9 g
Cinnamylidenmalonylchlorid 0,4 g
Durch Rühren bei Raumtemperatur wurde eine Lösung hergestellt, die zunächst drei Stunden lang bei Raumtemperatur aufbewahrt wurde und dann noch 5 Stunden lang auf 500C erwärmt wurde.
Daraufhin wurde die Lösung abkühlen gelassen,, worauf das Reaktionsprodukt nach dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren abgetrennt wurde.
Beispiel 8
Es wurde das in Beispiel 6 beschriebene Verfahren unter Verwendung der lichtempfindlichen Verbindung von Beispiel 7 wiederholt. Es wurden entsprechende Ergebnisse wie in Beispiel 6 beschrieben erhalten.
Beispiel 9: Herstellung eines Kondensationsproduktes aus p-(N-Äthyl-N-ß-hydroxyäthyl)aminobenzoldiazoniumsalz mit p-Phenylendiacryloylchlorid.
Nach dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren wurden verwendet:
Trifluoressigsäure 50 ml
p-(N-Äthyl-N-ß-hydroxyäthyl)-aminobenzoldiazoniumchlorzinkat 5,9 g
p-Phenylendiacryloylchlorid 2,55 g
Zunächst wurde eine Lösung hergestellt, worauf die Lösung auf 500C erwärmt wurde. Bei dieser Temperatur wurde die Lösung 7 1/2 Stunden lang aufbewahrt. Die Lösung wurde dann abkühlen gelassen, worauf sie in 500 ml Diäthyläther gegossen wurde. Dabei fiel das Reaktionsprodukt aus. Es wurde abfiltriert, abtropfen gelassen,
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mit Äther und dann mit Xylol gewaschen. Daraufhin wurde es im Vakuum getrocknet.
Beispiel 10
Das in Beispiel 6 beschriebene Verfahren wurde unter Verwendung der in Beispiel 9 beschriebenen lichtempfindlichen Verbindung wiederholt. Es wurden entsprechende Ergebnisse wie in Beispiel 6 beschrieben erhalten.
Beispiel 11: Herstellung eines Kondensationsproduktes aus p-(N,N-Di-ß-hydroxyäthyl)aminobenzoldiazoniumsalz mit Cinnamylidenmalonylchlorid.
Die Herstellung erfolgte nach dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren unter Verwendung von:
Trifluoressigsäure 20 ml
p-(N,N-Di-ß-hydroxyäthyl)aminobenzoldiazoniumchlorzinkat 1,75 g
Cinnamylidenmalonylchlorid 1,27 g
Die Mischung wurde bis eine Lösung erhalten wurde gerührt, worauf die Temperatur auf 50°C erhöht wurde. Bei dieser Temperatur wurde die Lösung 5 Stunden lang aufbewahrt. Das Reaktionsprodukt wurde dann wie in Beispiel 9 beschrieben abgetrennt.
Beispiel 12: Herstellung einer vorsensibilisierten Druckplatte unter Ver\irendung der lichtempfindlichen Verbindung von Beispiel 11 und Verwendung der Druckplatte.
Das in Beispiel 6 beschriebene Verfahren wurde unter Verwendung der in Beispiel 11 beschriebenen lichtempfindlichen Verbindung wiederholt. Es wurden entsprechende Ergebnisse wie in Beispiel 6 beschrieben erhalten.

Claims (8)

  1. PATENTANWÄLTE
    Reg.Nr. 125 630
    üastwan Kodak Company, 343 State Street, Rochester, Staat New York, Vereinigte Staaten von Amerika
    Vorsensibilisierte Flachdruckplatte p H. Bartels
    Dipl.-Chem. Dr. Brandes Dr.-Ing. Held
    Dipl.-Phys. Wolff
    8 München 22, ThierschstraSe 8
    Tel. (089) 293297 Telex 0523325 (patwo d> Telegrammadresse: wolffpatent, münchen Postscheckkonto Stuttgart 7211 BLZ 600100 70
    Deutsche Bank AQ, 14/28S30 BLZ 60070070
    Bürozeit: 8-12 Uhr, 13-16.30 Uhr außer samstags
    08. August 1978 25/24
    Patentansprüche
    (i .) Vorsensibilisierte Flachdruckplatte mit einem hydrophilen Schichtträger und einer hierauf aufgetragenen Schicht mit einer Diazoniuraverbindung, dadurch gekennzeichnet, daß die Diazonxumverbindung einer der folgenden Formeln entspricht:
    ü 0
    I. Λ
    II. H
    011 oder
    III. G1-C-R-
    worin bedeuten:
    909808/0958 Telefonische Auskünfte und Aufträge sind nur nach schriftlicher Bestätigung verbindlich
    1 2
    G und C die die gleiche oder eine verschiedene Bedeutung haben können, jeweils eine Hydroxylgruppe oder einen Rest d&r Formel:
    \r*JJ
    R Ca) einen Alkylrest mit 1 bis 12 C-Atomen,
    einen Arylenrest mit 6 bis 10 C-Atomen, einen Alkylarylenrest oder einen Alkylarylkylenrest mit 8 bis 16 C-Atomen;
    (b) einen bivalenten, photo-quervernetzbaren, äthylenisch ungesättigten Rest mit 4 bis 30 C-Atomen oder
    Cc) einen bivalenten Rest mit einer Azidfunktion; m =2,3,4 oder 5;
    n, s und r die die gleiche oder eine verschiedene Bedeutung haben können, jeweils = 1, 2, 3 oder 4 und
    X ein Anion.
  2. 2. Flachdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie eine Uiazoniumverbindung einer der Formeln I, II und III enthält, worin R für einen Alkylenrest mit 1 bis 8 C-Atomen steht und n, r und s jeweils = 1 oder 2 sind.
    909808/0958
    7 _
  3. 3. Flachdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie eine Diazoniumverbindung einer der angegebenen Fornein enthält, worin R eine oder mehrere photo-quervernetzbare Doppelbindungen aufweist.
  4. 4. Flachdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet., daß sie eine üiazoniumverbindung einer der angegebenen Formeln enthält, worin R für einen Rest einer der folgenden Formeln steht:
    C = Qi-CH=CIi
    -CIi-CH J/ % CH=CII-,
    CH=CH
    = CII-C -CII= CH
    It
    CH=C
    IL
    C=CH-Y V- oder
    -CH,
  5. 5. Fiachdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet; daß sie eine Diazoniumverbindung einer der folgenden Formeln enthält:
    909808/0958
    CH7-CH -0-C-(QIJ ,-C-O-Z Z 2 2
    VI. H-
    ο ο
    Il Il
    CII9-CH7-U-C- (CH7). -C-O-
    0-T
    -0-CH2-CH2-N-CH9-CIi2-O-C-(CH9) 6-C-
    >H
  6. 6. Flachdruckplatte nach einen der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen hydrophilen Schichtträger aus mit Polyäthylen beschichtetem Papier und einer hydrophilen Schicht aus einer wäßrigen Dispersion von Titandioxid und hydrolysiertem Tetraäthylorthosilikat in einer Polyvinylalkohollösung aufx^eist.
  7. 7. Flachdruckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß sie die Diazoniumverbindung in einer
    2 Konzentration von 1 bis 20 mg/dm enthält.
  8. 8. Flachdruckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnetf daß die die üiazoniumverbindung enthaltende Schicht ein in Wasser oder nichtwäßrigen Lösungsmitteln lösliches Bindemittel enthält.
DE19782834941 1977-08-09 1978-08-09 Vorsensibilisierte flachdruckplatte Withdrawn DE2834941A1 (de)

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FR7724471A FR2400221A1 (fr) 1977-08-09 1977-08-09 Compose de diazonium photosensible utile, en particulier, pour preparer des planches d'impression lithographique, procede de preparation de ce compose et plaque presensibilisee avec ce compose

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