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DE2810597A1 - Elektrische bauelementstruktur mit einer mehrschichtigen isolierschicht - Google Patents

Elektrische bauelementstruktur mit einer mehrschichtigen isolierschicht

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DE2810597A1
DE2810597A1 DE19782810597 DE2810597A DE2810597A1 DE 2810597 A1 DE2810597 A1 DE 2810597A1 DE 19782810597 DE19782810597 DE 19782810597 DE 2810597 A DE2810597 A DE 2810597A DE 2810597 A1 DE2810597 A1 DE 2810597A1
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oxide layer
insulating layer
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layer
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Donald R Young
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International Business Machines Corp
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Publication date
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Description

Anmelderin: International Business Machines
Corporation, Armonk, N.Y. 10504
itioe-bd
Elektrische Bauelementstruktur mit einer mehrschichtigen Isolierschicht
Die Erfindung bezieht sich auf elektrische Bauelementstrukturen mit Ladungsträgerinjektion bzw. -speicherung in einer mehrschichtigen Isolierschicht entsprechend dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1. Bevorzugte Anwendung können derartige Strukturen in elektrischen Speichern, insbesondere Halbleiterspeichern, finden.
Halbleiterspeicheranordnungen sind in vielfältiger Weise bekanntgeworden. Eine als strahladressierter MOS-Speicher bekanntgewordene Anordnung verwendet eine Metall-Oxid-Halbleiterstruktur, enthaltend einen PN-Übergang, in welcher nach dem Einschreiben mit einem Elektronenstrahl elektrische Ladungen gespeichert werden können. Der Auslesevorgang erfolgt dabei ebenfalls mittels eines allerdings energiemäßig schwächeren Elektrodenstrahls. Es handelt sich hierbei insofern um einen nicht völlig die Speicherinformation zerstörenden Auslesevorgang als größenordnungsmäßig mehr als zehn derartiger Auslesevorgänge durchgeführt werden können, bevor die in einer derartigen Speicherzelle gespeicherte Ladung erneuert werden muß. Vorteilhaft bei dieser Speicheranordnung ist die sehr hohe erreichbare Speicherdichte. Dem stehen jedoch die damit verbundenen Nachteile aus dem Erfordernis einer Hochvakuum-Elektronenstrahlapparatur, einer sehr genauen Elektronenoptik und -ablenkung usw. gegenüber, was letztlich einen erheblichen Kostenaufwand bedeutet.
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Es sind auch bereits Speicherelemente mit Feldeffekttransistoren (FET) bekanntgeworden. Eine derartige Anordnung benutzt auch bereits eine MI1I-S-Struktur. Darin bedeuten I1 und I„ eine zweischichtige Isolierschichtstruktur. Die I11-Grenzfläche kann dabei metallische Verunreinigungen zur Bereitstellung eines gut definierten Elektronen-Fangstellengebiets enthalten. Das Vorhandensein oder Fehlen in diesem Fangstellengebiet vorhandener Elektronen wird dabei für die Speicherfunktion ausgenutzt, wobei entweder die unterschiedlichen Kapazitätswerte einer derartigen Struktur oder deren unterschiedlicher, beim Anlegen einer geeigneten Gatespannung zustandekommender Source-Drainstrom ausgewertet wird. Es sind auch nicht in jedem Fall metallische Verunreinigungen an der I..I_-Grenzfälle erforderlich. Vielmehr kann derselbe Effekt auch durch Einsatz zweier unterschiedlicher Isolierschichtmaterialien erreicht werden. Beispielsweise benutzt eine derartige als MNOS-Struktur bekanntgewordene Anordnung eine erste sehr dünne und direkt auf dem Siliciumsubstrat ausgebildete Oxidschicht, über die eine erheblich dickere Siliciumnitridschicht aufgebracht ist. Elektronen oder Löcher werden bei dieser Struktur in der Siliciumnitridschicht eingefangen. Verglichen mit dem erwähnten strahladressierbaren MOS-Speicherelement weist diese Anordnung den Vorteil einer erheblich einfacheren apparativen Durchführung des Lese- und Schreibvorgangs im Speicherbetrieb auf. Der mit dem letztgenannten Strukturaufbau jedoch verbundene hauptsächliche Nachteil besteht in dem Erfordernis der dünnen Oxidschicht. Diese Oxidschicht muß sehr dünn gehalten werden, größenordnungsmäßig etwa 20 Ä, um ein Tunneln der Elektronen oder Löcher vom Siliciumsubstrat zuzulassen. Derart ausgebildete Speicheranordnungen weisen bezüglich dieser dünnen Tunneloxidschicht angesichts der hohen darüber im Betrieb anliegenden Feldstärken erhebliche Zuverlässigkeitsprobleme auf.
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Es ist Aufgabe der Erfindung die bei derartigen Bauelementstrukturen mit Ladungsträgerinjektion bzw. -speicherung in einer mehrschichtigen Isolierschicht genannten Nachteile zu vermeiden und insbesondere dahingehend zu verbessern, daß die von einer äußeren Grenzfläche ausgehende Ladungsträgerinjektion nicht durch eine kompensierende Ladungsträgerinjektion von der gegenüberliegenden Grenz- oder Kontaktfläche im Ergebnis wieder aufgehoben wird.
Die zur Lösung dieser Aufgabe im Rahmen der Erfindung vorgesehenen Maßnahmen finden sich in den Patentansprüchen. Zusammengefaßt sieht die Erfindung die Vorsehung einer Bauelementstruktur mit im zugehörigen Bändermodell zum Ausdruck kommenden abgestuften Bandabständen in einer noch näher zu erläuternden Weise vor. Als Beispiel für eine solche Struktur mit verringerten Bandabständen ist eine sog. MGOS-Feldeffekttransistorstruktur (metal-graded oxide-semiconductor) anzusehen. Eine derartige Struktur verwendet dabei Löcherfangstellen in der Nähe der Si-SiO2~Grenzflache der Gate-Struktur in einer ansonsten üblichen Feldeffekttransistorkonfiguration. Das Einschreiben erfolgt bei mäßiger Vorspannung durch Löcherinjektion von der Gate-Elektrode, woraufhin die Ladungsträger zur Si-SiO2-Grenzflache wandern und einige der Ladungsträger dort stabil eingefangen werden. Das Löschen erfolgt mit mäßiger negativer Vorspannung durch Injektion von Elektronen ,von der Gate-Elektrode, woraufhin die Elektronen zur Si-SiO„-Grenzfläche gelangen und die dort aufgrund der eingefangenen Löcher gespeicherte Ladung kompensieren. Beim Lesen wird zum Abfühlen der jeweiligen Ladungszustände in der Nähe Si-SiO„- -Grenzflache der daraus resultierende jeweilige Leitfähigkeitsizustand der Siliciumoberflache abgefühlt, wobei zur Verhinderung einer weiteren Aufladung geringe Gate-Spannung eingesetzt iwerden.
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Die mit abgestuften Bandabständen ausgestattete Struktur kann hergestellt werden, indem man auf einer relativ dicken thermischen SiO„-Schicht mehrere pyrolithisch oder durch chemischen Niederschlag erzeugte SiO„-Schichten ausbildet, wobei diese pyrolithischen SiO„-Schichten einen in der Reihenfolge ihres Aufbringens zunehmenden Gehalt an überschüssigem Silicium enthalten. Weiterhin läßt sich eine derartige Bauelementstruktur durch kontrollierte Silicium-Ionenimplantation in die thermische SiO„-Schicht aufbauen.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungsbeispielen unter Zuhilfenahme der Zeichnungen näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 eine Bändermodelldarsteilung einer konven
tionellen MOS-Struktur;
Fig. 2 eine grundsätzlich mit Fig. 1 vergleichbare
Bändermodelldarsteilung, bei der jedoch die Bandabstände der Oxidschicht kontinuierlich zur Metallelektroden-Grenzfläche hin abnehmen ;
Fig. 3 eine Approximation der Bändermodelldarstei
lung von Fig. 2 durch Vorsehung gestufter Bandabstände;
Fig. 4 eine Querschnittsdarstellung einer MGOS-
Struktur, die hinsichtlich ihres Bändermodells die in Fig. 3 gezeigten Verhältnisse
aufweist;
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Fig. 5 eine Darstellung des Bändermodells der MGOS-
Struktur von Fig. 4 bei positiver Gate-Vorspannung und damit bei Löcherinjektion und -speicherung;
Fig. 6 die zu Fig. 5 vergleichbaren Verhältnisse
im Bändermodell bei negativer Gate-Vorspannung und damit bei einer Elektroneninjektion und Kompensation von eingefangenen Löchern bzw. Defektelektronen und
Fig. 7 eine verallgemeinerte Querschnittsdar
stellung einer MGOS-Feldeffekttransistorstruktur nach der Erfindung.
In Fig. 1 ist das Bändermodell einer konventionellen MOS-Struktur gezeigt, wobei das Valenzband mit ε und das Leitungsband im Silicium mit ε bezeichnet ist. Die Kante des Leitungsbandes liegt typisch etwa ein Elektronenvolt (eV) höher als die des Valenzbandes. Mit ef ist das Fermi-Niveau der Metall-Elektrode, in diesem Fall Aluminium, bezeichnet. Das Fermi-Niveau liegt im Bändermodell zwischen Valenz- und Leitungsband des Siliciumsubstrats. Zwischen dem Siliciumsubstrat und dem Aluminiumkontakt befindet sich eine Isolierschicht aus thermischem SiO„. In dieser Isolierschicht beträgt der Bandabstand zwischen Valenz- und Leitungsband größenordungsmäßig etwa 9eV. Die Differenz zwischen dem Fermi-Niveau ε~ des Aluminiumkontakts und dem Leitungsband im thermischen SiO » beträgt etwa 3eV. Im Ergebnis stellt !somit das thermische SiO „ eine erhebliche Leitungsbarriere zwischen dem Siliciumsubstrat und dem Aluminiumkontakt dar.
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Durch Verringerung des Bandabstandes der SiO^-Isolierschicht in der Nähe der Al-SiO„-Grenzflache können Löcher oder Elektronen (je nach der Vorspannung) unter mäßigen elektrischen Feldbedingungen von dem Aluminiumkontakt in die Isolierschicht injiziert werden. Dabei wird infolge des größeren Bandabstandes der Isolierschicht an der gegenüberliegenden Si-SiO3-Grenzflache eine derartige Elektronen- oder Löcherinjektion unterbunden. Ein Bändermodell mit derart abfallenden Bandabständen ist in Fig. 2 gezeigt. Der kontinuierliche Abfall der Bandkanten der Isolierschicht kann beispielsweise durch Ionenimplantation von Silicium in bestimmte Tiefen benachbart zur Al-SiO2-Grenzflache hergestellt werden.
Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung wird der kontinuierliche Kantenabfall im Bändermodell der Isolierschicht, entsprechend Fig. 2, durch eine stufenförmige Ausbildung entsprechend Fig. 3 angenähert. Die dazugehörige Bauelementstruktur ist in allgemeiner Form in Fig. 4 dargestellt. Ausgehend von einem einkristallinen Siliciumsubstrat wird darüber eine relativ dicke thermische SiO„-Isolierschicht durch Aufwachsen gebildet. Über dieser thermischen Oxidschicht werden nacheinander pyrolithisch oder durch chemischen Niederschlag weitere SiO„-Schichten aufgebracht. Zum Zwecke der Veranschaulichung und ohne die Erfindung darauf zu beschränken sind in Fig. 4 drei solche Schichten gezeigt. Jede einzelne pyrolithische Oxidschicht ist verglichen mit der thermischen Oxidschicht relativ dünn, wobei weiterhin in jeder der aufeinanderfolgenden pyrolithischen Oxidschichten ein zunehmender Anteil von überschuß-Silicium enthalten ist. Die Vorsehung pyrolithischer Oxidschichten mit Überschuß-Silicium ist beispielsweise aus der US-Patentschrift 3 649 884 bekannt. Anzahl und Dicke dieser pyrolithischen Schichten sowie der Anteil an Überschuß-Silicium in jeder der aufeinanderfolgenden Schichten
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richten sich nach dem jeweiligen gewünschten Betriebsverhalten. Festzustellen ist in dem Zusammenhang, daß eine genauere Approximation der in Fig. 2 gezeigten Bändermodelldarstellung durch entsprechend viele kleine Schritte erreicht werden kann. Auf der anderen Seite sollte die thermische Oxidschicht relativ zu den Stufenoxidschichten dick gehalten werden, um beim Abfühlen der resultierenden Zustände an der Oberfläche des Halbleitersubstrats eine weitere Ladungsbeeinflussung aus-'zuschalten. Durch die dicke thermische Oxidschicht wird zudem das eingangs erwähnte Zuverlässigkeitsproblem gegenüber Speicherstruktüren mit dünnen Tunnel-Oxidschichten, z.B. in ■ MNOS-Struktüren, vermieden.
■Fig. 5 zeigt eine Bändermodelldarstellung für den Fall einer positiven Gate-Spannung am Metallkontakt in einer Struktur entsprechend Fig. 4. In anderen Worten wird bei einer positiven Gate-Vorspannung das Fermi-Niveau ε^ des Aluminiumkonitaktes wesentlich gegenüber dem Valenzband ε des Siliciums abgesenkt. Bei solchen Vorspannungsbedingungen werden die ;durch Kreise dargestellten Löcher bzw. Defektelektronen ;von der Gateelektrode in das Valenzband der ersten pyro- ;lithischen Oxidschicht tunneln und von dort sequentiell von 'einer Oxidschicht zur nächsten weitergeleitet, wie das durch '. die Pfeilrichtung angedeutet ist. Das Loch wird schließlich in einem Abstand von etwa 50 A* von der Si-SiO2-Grenzflache festgehalten, was durch die in unterbrochenen Linien gezeigten ■Pfeile angedeutet ist. Eine Löcheransammlung an dieser Grenz- :fläche stellt somit eine gespeicherte Ladung bereit, die zur :
! ι
Ausnutzung einer Speicherfunktion verwendet werden kann. Ein ' derartiger Einschreibvorgang geht somit durch eine unter | mäßigen positiven Vorspannungsbedingungen vom Gate ausgehende Injektion von Löchern zur Si-SiO„-Grenzflache vor sich, wo ' einige der positiven Ladungsträger in außerordentlich stabiler ■,
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Weise festgehalten werden.
Beim Anlegen einer negativen Gate-Vorspannung wird das Fermi-Niveau ef des Aluminiumkontakts wesentlich über die Leitungsbandkante ε des Siliciumsubstrats angehoben, was in Fig. 6 gezeigt ist. Unter diesen Umständen einer negativen Vorspannung werden Elektronen vom Aluminiumkontakt in das Leitungsband der ersten pyrolithischen Oxidschicht injiziert und von dort sequentiell von einer Oxidschicht zur nächsten weitergeleitet. Sobald diese Elektronen in das Leitungsband des thermischen Oxids eintreten, können die Elektronen mit den vorher dort eingefangenen Löchern rekombinieren. Durch diesen Schritt wird somit ein Löschvorgang dargestellt, der in der Injektion von Elektronen vom Gate unter mäßigen negativen Vorspannungsbedingungen und Tunneln dieser Elektronen zur Si-SiO„-Grenzfläche besteht, wo diese Elektronen die dort befindliche Ladung aufheben.
Beim Lesevorgang wird die Auswirkung auf die Leitfähigkeit der Siliciumoberflache ausgenützt, um den Ladungszustand des Oxidbereichs in der Nähe des Si-SiO„-Grenzflache abzufühlen. Dies erfolgt bei niedrigen Gate-Spannungen, um eine weitere Ladungsbeeinflussung dieses Gebiets zu verhindern. Wegen der Dicke der thermischen Oxidschicht erfolgt beim Lesen keine weitere ladungsaufbauende oder -abbauende Beeinflussung in dem gestuften pyrolithischen Oxid. Ferner ist beim Auslesevorgang das angelegte elektrische Feld erheblich kleiner als im Injektionsfall.
In Fig. 7 ist die Struktur eines als MGOS-Feldeffekttransistors: !bezeichneten Bauelements dargestellt. Dieses Bauelement beinutzt eine Gate-Struktur entsprechend Fig. 4 und ist im übrigen jkonventionell ausgelegt. Eine umfangreichere Anordnung solcher
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Feldeffekttransistoren kann somit für relativ langzeitige Speicherung und zerstörungsfreie Auslesung bei relativ geringen Betriebsspannungen zum Treiben eingesetzt werden.
Obwohl die Erfindung anhand von MOS- bzw. MIS-Strukturen erläutert wurde, lassen sich die vorgeschlagenen Maßnahmen gleicher Weise auch auf Metall-Isolierschicht-Metall-Strukturen anwenden. Auch sind die weiteren in den Ausführungsbeispielen angenommenen Einschränkungen, z.B. auf Aluminium als Kontaktmaterial und Silicium für das Halbleitermaterial, nicht in jedem Fall erforderlich. Insbesondere kann auch zur Bildung der Gate-Elektrode polykristallines Silicium über die pyrolithischen Oxidschichten aufgebracht werden.
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Claims (6)

  1. PATENTANSPRÜCHE
    Elektrische Bauelementstruktür mit Ladungsträgerinjektion bzw. -speicherung in einer mehrschichtigen Isolierschicht, an deren äußeren Grenzflächen Halbleiter und/oder metallische Schichten angrenzen, dadurch gekennzeichnet, daß der Bandabstand der an der einen äußeren Grenzfläche angrenzenden Isolierschicht geringer ist als der Bandabstand der an der anderen äußeren Grenzfläche angrenzenden Isolierschicht, so daß eine Ladungsträgerinjektion lediglich über die eine Grenzfläche mit geringerem Bandabstand erfolgt.
  2. 2. Bauelementstruktur nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch ein Siliciumsubstrat, auf dem eine relativ dicke thermische Oxidschicht aufgebracht ist, auf der sich eine metallische oder halbleitende elektrische Anschlußzone befindet, wobei die thermische Oxidschicht zum elektrischen Anschlußgebiet hin abnehmende Bandabstände aufweist, die durch eine entsprechende Ionenimplantationsbehandlung definiert sind.
  3. 3. Bauelementstruktur nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch ein Siliciumsubstrat mit einer darauf angeordneten relativ dicken thermischen Oxidschicht, sowie darauf aufgebrachte mehrere dünne pyrolithische Oxidschichten, die aufeinanderfolgend mit zunehmendem Gehalt an Überschuß-Silicium ausgebildet sind sowie durch ein metallisches oder halbleitendes elektrisches Anschlußgebiet auf der zuletzt aufgebrachten pyrolithischen Oxidschicht.
  4. 4. Bauelementstruktur nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Feldeffekttran-
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    ο
    sistorstruktur, deren Gate-Dielektrikum zwischen der Gate-Elektrode und dem Halbleiterkörper abgestufte Bandabstände aufweist.
  5. 5. Bauelementstruktur nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Gate-Dielektrikum eine relativ dicke thermische Oxidschicht auf einem Siliciumsubstrat umfaßt, und daß darauf mehrere relativ dünne pyrolithisehe Schichten mit zunehmendem Gehalt an Überschuß-Silicium angeordnet sind.
  6. 6. Verwendung einer Bauelementstruktur nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche als Speicherelement, dessen Speicherzustände durch das Vorhandensein oder Fehlen in der Isolierschichtstruktur gespeicherter Ladungen dargestellt sind.
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DE2810597A 1977-06-21 1978-03-11 Elektrische Bauelementstruktur mit einer mehrschichtigen Isolierschicht Expired DE2810597C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/808,501 US4104675A (en) 1977-06-21 1977-06-21 Moderate field hole and electron injection from one interface of MIM or MIS structures

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2810597A1 true DE2810597A1 (de) 1979-01-11
DE2810597C2 DE2810597C2 (de) 1987-03-05

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ID=25198955

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2810597A Expired DE2810597C2 (de) 1977-06-21 1978-03-11 Elektrische Bauelementstruktur mit einer mehrschichtigen Isolierschicht

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Country Link
US (2) US4104675A (de)
JP (1) JPS548479A (de)
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GB (1) GB1596445A (de)

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