DE2313202C2 - Optical waveguide - Google Patents
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Description
aU5gWellenleher nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Kernschicht (12) aus einem Material besteht, das wenigstens mit einem der Oxide von Titan, Tantal, Zinn, Niobium, Zirkon, Aluminium, Lanthan, Germanium oder Bor dotiert ist. . _ . AU 5 g wave guide according to claim 4, characterized in that the core layer (12) consists of a material which is doped with at least one of the oxides of titanium, tantalum, tin, niobium, zirconium, aluminum, lanthanum, germanium or boron. . _.
6 Wellenleiter nach wenigstens einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daü die Kernschicht (12) aus Schmelzkieselsäure besteht, die mit höchstens 20 Gew.-% Titanoxid dotiert ist.6 waveguide according to at least one of the preceding claims, characterized in that the Core layer (12) consists of fused silica which is doped with a maximum of 20% by weight of titanium oxide.
7. Wellenleiter nach wenigstens einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis aus Breite und Dicke der Kernschicht (12) gleich oder kleiner als 10 ist7. Waveguide according to at least one of the preceding claims, characterized in that the The ratio of the width and thickness of the core layer (12) is equal to or less than 10
8 Wellenleiter nach wenigstens einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein ungesinterter Teil der Kernschicht (12) vor Aufbringen der Deckschicht (20) entfernt ist8 waveguide according to at least one of the preceding claims, characterized in that a unsintered part of the core layer (12) is removed before application of the cover layer (20)
9. Wellenleiter nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der gesinterte Teil der Kernschicht (12) und ein Teil des Substrates (10) mit der Deckschicht (20) versehen sind.9. Waveguide according to claim 8, characterized in that the sintered part of the core layer (12) and a part of the substrate (10) are provided with the cover layer (20).
10. Wellenleiter nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Brechungsindex /72 der Kernschicht größer als der Brechungsindex nt des Substrates (10) ist10. Waveguide according to one of the preceding claims, characterized in that the refractive index / 7 2 of the core layer is greater than the refractive index n t of the substrate (10)
Die Erfidung betrifft einen optischen Wellenleiter gemäß dem Oberbegriff der Patentansprüche 1 und 2The invention relates to an optical waveguide according to the preamble of claims 1 and 2
Ein optischer Wellenleiter gemäß dem Oberbegriff der Patentansprüche 1 und 2 ist aus der US-PS 33 8b 787 bekannt Ferner gibt die US-PS 33 86 787 auch im wesentlichen die Formel des Patentanspruchs 2 fur die Dicke der Kernschicht als bekannt an. . .An optical waveguide according to the preamble of claims 1 and 2 is disclosed in US Pat. No. 3,388,787 Furthermore, the US-PS 33 86 787 is also essentially the formula of claim 2 for the thickness the core layer as known. . .
Der optische Wellenleiter nach der US-PS 33 86 787 besteht aus zwei Schichten, zwischen welchen ein Hohlraum zur Aufnahme eines gasförmigen oder flüssigen Mediums ausgebildet ist, wobei der Hohlraum mit dem gasförmigen oder nüssigen Medium den Kernbereich des Wellenleiters bildet Wenn der Brechungsindex im Kernbereich größer als der Brechungsindex der Deckschichten sein soll, wie dies z. B. in Spalte 3, Zeile 51 Befördert ist ist im Falle des Einsatzes eines gasförmigen Mediums im Kernbereich die Erfüllung vorbestimmter Temperaturbedingungen notwendig, um einen Brechungsindexgradienten im Kernbereich sicherzustellen oder es wird eine Mischflü^igkeit im Kernbereich verwendet deren Brechungsindex im allgemeinen großer als der Brechungsindex von Feststoffen ist Sowohl beim Einsatz eines gasförmigen Mediums, in welchem Falle die Einhaltung vorbestimmter Temperaturerfordernisse unabdingbar ist, als auch bei Verwendung eines flussigen so Mediums ergeben sich zwangsläufig wesentlich größere Probleme und Schwierigkeiten als bei einem optischen Wellenleiter, der nur aus Feststoffen aufgebaut ist. . . . .The optical waveguide according to US-PS 33 86 787 consists of two layers, between which one Cavity is designed for receiving a gaseous or liquid medium, the cavity with the gaseous or nutty medium forms the core area of the waveguide when the refractive index in the core area should be greater than the refractive index of the cover layers, as z. B. in column 3, line 51 Is conveyed in the case of the use of a gaseous medium in the core area, the fulfillment of predetermined ones Temperature conditions necessary to ensure a refractive index gradient in the core area or a mixed liquid is used in the core area whose refractive index is generally greater than that Refractive index of solids is both when using a gaseous medium, in which case the Compliance with predetermined temperature requirements is essential, as well as when using a liquid so Medium inevitably results in much greater problems and difficulties than with an optical one Waveguide that is composed only of solids. . . . .
Aus der DE-CS 19 24 994 ist ein Wellenleiter bekannt, bei welchem zur Fortpflanzung einer einzigen bcnwingungsform ein dielektrischer Hohlleiter verwendet wird, nach dem gemäß 3eite 3, Absatz 2, die Verwendung eines in ein Substrat eingebetteten Kernes als nachteilig angesehen wird.From DE-CS 19 24 994 a waveguide is known in which a single vibration form is used to propagate a dielectric waveguide is used, after which according to 3eite 3, paragraph 2, the use a core embedded in a substrate is considered to be disadvantageous.
Aus der DE-OS 21 22 896 ist ein optischer Wellenleiter bekannt, welcher bei koaxialem Aufbau einen mittigenFrom DE-OS 21 22 896 an optical waveguide is known which, with a coaxial structure, has a central one
rjer^rf'indung Hegt die Aufgabe zugrunde, einen planebenen optischen Wellenleiter mit möglichst geringen Dämpfung*- und Absorptionsverlusten sowie geringer Streuung, insbesondere an den Grenzflächen von KernThe underlying task is to create a planar optical waveguide with the smallest possible Attenuation * and absorption losses as well as low scatter, especially at the interfaces of the core
und Mantel zu schaffen. „ , ,and create coat. ",,
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch den kennzeichnenden Teil der Patentansprüche 1 bzv. 2 gelost Weitere Ausgestaltungen ergeben sich aus den Unteransprüchen.According to the invention, this object is achieved by the characterizing part of claims 1 or 2 drawn Further refinements result from the subclaims.
Wellenleiter nach der Erfindung werden im folgenden anhand der Zeichnung näher erläutert Es zeigt F i g. 1 eine auf ein Substrat aufgebrachte erste Schicht,Waveguides according to the invention are explained in more detail below with reference to the drawing. It shows F i g. 1 a first layer applied to a substrate,
F i g 2 eine auf die j'Ste Schicht aufgebrachte zweite Schicht,F i g 2 a second layer applied to the j'th layer,
F i g. 3 einen aus Kern- und Mantelschicht aufgebauten, planebenen optischen Wellenleiter, F i g. 4 eine in Form eines schmalen Streifens vorgesehene erste Schicht, F i e. 5 die auf die e ?'.e Schicht nach F i g. 4 aufgebrachte zweite Schicht,F i g. 3 a planar optical waveguide made up of a core and cladding layer, F i g. 4 a first layer, F i e, provided in the form of a narrow strip. 5 the on the e? '. E layer according to F i g. 4 applied second layer,
F i g. 6 einen optischen Wellenleiter, dessen erste Schicht einen durch Laserstrahlen erzeugten Streifen enthält, F i g. 6 an optical waveguide, the first layer of which contains a stripe generated by laser beams,
F i g. 7 die auf die erste Schicht aufgebrachte zweite Schicht bei der Ausführungsform nach F i g. 6, undF i g. 7 shows the second layer applied to the first layer in the embodiment according to FIG. 6, and
F i g. 8 einen fertigen planebenen optischen Wellenleiter entsprechend dem Aufbau nach F i g. 6 und F i g. 7.
Fig. 1 zeigt ein Substrat 10 eines optischen Wellenleiters, auf welchem zumindest teilweise ein Oberzug 12
aus einem Glas mit größeren Brechungsindex als dem des Substrats aufgebracht ist, beispielsweise durch
Flammhydrolyse. Zur Aufbringung wird einem Brenner 14 ein Gasdampfgemisch zugeführt und durch dessen
Flamme 16 zu Ruß hydrolysiert, der in Form eines Stromes auf eine der Flächen des Substrats 10 aufgetragen
wird; während das Substrat vor- und zurück sowie hin- und herbewegt wird. Die Bewegung in nur einer
ίο Richtung genügt, wenn mehrere Brenner über die Substratflächc verteilt vorgesehen sind.F i g. 8 shows a finished planar optical waveguide corresponding to the structure according to FIG. 6 and FIG. 7th
1 shows a substrate 10 of an optical waveguide, on which at least partially a coating 12 made of a glass with a higher refractive index than that of the substrate is applied, for example by flame hydrolysis. For application, a gas vapor mixture is fed to a burner 14 and hydrolyzed by its flame 16 to soot, which is applied in the form of a stream to one of the surfaces of the substrate 10; while the substrate is moved back and forth and back and forth. The movement in only one direction is sufficient if several burners are provided distributed over the substrate surface.
F i g. 2 zeigt, daß auf die erste Schicht eine zweite Überzugsschicht 20, z. B. ebenfalls durch Flammhydrolyse, aufgebracht ist. Soll die Schicht 12 den Kern und die Schicht 20 den Mantel des optischen Wellenleiters bilden, wird der Brechungsindex des Mantels kleiner als der des Kerns gewählt. Der durch Flammhydrolyse niedergeschlagene Ruß wird beim Aufbringen oder danach gesintert. Beide Schichten können gleichzeitig oder getrennt gesintert werden.F i g. Figure 2 shows that a second coating layer 20, e.g. B. also by flame hydrolysis, is upset. If the layer 12 is to form the core and the layer 20 is to form the cladding of the optical waveguide, the refractive index of the cladding is selected to be smaller than that of the core. The one knocked down by flame hydrolysis Carbon black is sintered when it is applied or afterwards. Both layers can be used simultaneously or separately be sintered.
Wie die Ausführungsformen nach F i g. 4 und F i g. 5 zeigen, wird die erste Schicht 26 auf das Substrat 28 als schmaler Grat, z. B. mit einem Verhältnis von Breite zu Dicke kleiner als 10 aufgebracht. Ein Wellenleiter mit derart schmalem Kern ist besonders for integrierte optische Schaltungen mit genngs'em Raumaufwand geeignet Danach ist z. B. ebenfalls durch Flammhydrolyse auf die Oberfläche 32 der ersten Schicht 26 eine zweite Schicht 30 mit kleinerem Brechungsindex aufgebracht worden (F i g. 5). Bei einem sehr schmalen Grat werden entsprechend F i g. 5 auch die Seitenwände der den Kern bildenden Schicht 26 überdeckt, wodurch bei kleinem Verhältnis von Breite zu Dicke die Signalverluste des Wellenleiters reduziert sind.As the embodiments according to FIG. 4 and FIG. 5 show, the first layer 26 is applied to the substrate 28 as a fine line, e.g. B. applied with a ratio of width to thickness less than 10. A waveguide with Such a narrow core is particularly suitable for integrated optical circuits that require little space Then z. B. also by flame hydrolysis on the surface 32 of the first layer 26 a second Layer 30 has been applied with a smaller refractive index (Fig. 5). Be at a very fine line according to FIG. 5 also covers the side walls of the layer 26 forming the core, whereby with small Ratio of width to thickness the signal losses of the waveguide are reduced.
Eine weitere Ausgestaltung eines ebenen optischen Wellenleiters zeigen die F i g. 6 bis 8. Ein Laserstrahl 22Another embodiment of a planar optical waveguide is shown in FIGS. 6 to 8. A laser beam 22
wurde bei dieser Ausführungsform auf bestimmte Teile der ersten Schicht 12 gerichtet. Zur Erzeugung sehr enger oder schmaler Teile bzw. Bahnen läßt sich ein fokussierendes Linsensystem 26 in den Strahlengang des Lasers 24 eingesetzt verwenden. Die Wellenlänge ist derart gewählt, daß das Laserlicht von wenigstens einer Komponente der Glaspartikel der Schicht 12 absorbiert wird. Die V>llenlänge bestimmt auch die Brechung und damit auch den Mindestdurchmesser der mit entsprechend qualifizierten Linsen auf Durchmesser von z. B. 2,44 λ punktförmig fokussierbaren Laserfläche. Eine dünne Schicht pulverförmiger Schmelzkieselsäure absorbiert etwa 90% der einfallenden Strahlung einer CO2 Laserquelle mit einer Wellenlänge von 10,6 μ: die Mindestgröße des fokussierten Punkts ist dannwas directed to certain parts of the first layer 12 in this embodiment. A focusing lens system 26 inserted into the beam path of the laser 24 can be used to produce very narrow or narrow parts or paths. The wavelength is selected such that the laser light is absorbed by at least one component of the glass particles of the layer 12. The V> llen length also determines the refraction and thus also the minimum diameter of the lenses with a correspondingly qualified diameter of z. B. 2.44 λ point-like focusable laser surface. A thin layer of powdered fused silica absorbs around 90% of the incident radiation from a CO 2 laser source with a wavelength of 10.6 μ: the minimum size of the focused point is then
2,44x10,6 = 26 μ.2.44x10.6 = 26 µ.
Bei kurzen Wellenlängen, also im ultravioletten Bereich, bedingen die molaren Löschungskoeffizienten verschiedener Dotierstoffe eine starke Absorption; die absorbierten Energiemengen ergeben sich aus der Gleichung At short wavelengths, i.e. in the ultraviolet range, the molar extinction coefficients cause different ones Dopants strong absorption; the amounts of energy absorbed result from the equation
I(itnorbien) = !(einfallend) (1 — e-'od) 40 I (itnorbien) = ! (Incident) (1 - e- ' od ) 40
worin ε der molare Löschungskoeffizient des Dotiermittels, cdie Konzentration der absorbierenden ionen und d die Dicke der absorbierenden ,Schicht ist Aufgrund der erwähnten Beziehung von Wellenlänge und Puntkdurchmesser kann UV-Licht also auf einen kleineren Punkt fokussiert werden als z. B. CO2 Strahlung, z. B. auf eine Punktgröße von nur 0,8 μπι bei einer Wellenlänge von 0,3 μπι. Noch kleinere Punkte erhält man durch Eintauchen in ein Medium mit einem Brechungsindex größer als der von Luft, womit sich gleichzeitig die Intensität der auf die ungesinterten Glasteilchen fallenden Strahlung regeln läßt Durch die bei der Absorption des Laserlichts freiwerdende Wärmeenergie werden die Glasteilchen gesintert und zu einer Bahn 28 von gleichmäßiger Dichte konsolidiert Der Laserstrahl kann hierbei der gewünschten Bahn entsprechend gelenkt werden. Die Dicke der gesinterten Bahn 28 ist geringer ais die der Schicht 12.where ε is the molar extinction coefficient of the dopant, c is the concentration of absorbing ions and d is the thickness of the absorbing layer. B. CO2 radiation, e.g. B. to a point size of only 0.8 μπι at a wavelength of 0.3 μπι. Even smaller points are obtained by immersing in a medium with a refractive index greater than that of air, which at the same time regulates the intensity of the radiation falling on the unsintered glass particles 28 Consolidated of uniform density The laser beam can be steered along the desired path. The thickness of the sintered web 28 is less than that of the layer 12.
Der verbleibende ungesinterte Teil der Schicht 12 wurde bei diesem Wellenleiter auf geeignete Wf'?e entfernt beispielsweise mit einem Hochdruchstrahl, durch Bürsten oder Scheuern, Eintauchen in Detergentien, Lösungs- und Spülmittel oder dergleichen. Hartnäckige Reste können mit einer geeigenten Säure entfernt werden.The remaining unsintered part of the layer 12 was cut to a suitable thickness in this waveguide removes, for example, with a high pressure jet, by brushing or scrubbing, dipping in detergents, Solvents and detergents or the like. Stubborn residues can be removed with a suitable acid will.
Die Bahn 28 dient der Fortpflanzung von Lichtenergie. Der soweit hergestellte Körper ist daher grundsätzlich als optischer Wellenleiter geeignet. Weil aber auf der freien Fläche Staub und andere Verunreinigungen die Lichtfortpflanzung beeinträchtigen können und bessere Eigenschaften entstehen, wenn das Medium über der Bahn einen größeren Brechungsindex als Luft hat, wird der Körper mit der Bahn 28 entweder in eine Flüssigkeit mit entsprechendem Brechungsindex eingetaucht oder, vorzugsweise, mit einer Glasschicht überzogen, deren Brechungsindex niedriger als der der Bahn ist. Der Oberfläche der Bahn kann zunächst gereinigt werden. Darauf wird diese Glasschicht, entsprechend der zuvor geschilderten zweiten Glasschicht auf die Oberfläche der Bahn 28 und zumindest die angrenzenden Teile des Substrats 10 wie weiter oben näher erläutert aufgebrachtThe path 28 is used to propagate light energy. The body produced so far is therefore fundamental suitable as an optical waveguide. But because dust and other impurities are on the open surface Light propagation can be impaired and better properties arise when the medium is above the If the web has a greater refractive index than air, the body with the web 28 is either in a liquid immersed with a corresponding refractive index or, preferably, coated with a glass layer, their Refractive index is lower than that of the web. The surface of the web can first be cleaned. Thereon this glass layer, corresponding to the previously described second glass layer on the surface of the web 28 and at least the adjoining parts of the substrate 10 are applied as explained in more detail above
Besonders günstig ist die Aufbringung einer oder beider Schichten des optischen Wellenleiters durch Flammhydrolyse nach einer Abwandlung des in den US-PS 22 72 342 und 23 26 059 beschriebenen Verfahrens. Zur Herstellung beispielsweise eines Oberzugs aus mit Titanoxid dotierter Schmelzkieselsäure wird trockener Sauerstoff bei 35°C durch einen 53 Gew.-% SiCl4 und 47% TiCl4 enthaltenden Tank geperlt; die vom Sauerstoff aufgenommenen Dämpfe werden durch eine Gas-Sauerstoffflamme geleitet, hydrolysiert und der entstehende Ruß aus feinen Teilchen aus 95% SiO2 und 5% TiO2 m ständigem Strom auf der zu beschichtenden Fläche niedergeschlagen. Die Schichtdicke richtet sich hauptsächlich nach dem Durchsatz, der Niederschlagsdauer undIt is particularly advantageous to apply one or both layers of the optical waveguide by flame hydrolysis after a modification of the process described in US Pat. No. 2,272,342 and 2,326,059. For the preparation for example, a Oberzugs of titanium oxide doped fused silica dry oxygen at 35 ° C is bubbled through a 53 wt .-% SiCl 4 and 47% TiCl 4 containing tank; the vapors absorbed by the oxygen are passed through a gas-oxygen flame, hydrolyzed and the resulting soot, consisting of fine particles of 95% SiO 2 and 5% TiO 2, is deposited on the surface to be coated in a continuous flow. The layer thickness depends mainly on the throughput, the duration of precipitation and
der Bewegungsgeschwindigkeit des Substrats. Die Schicht wird gleich beim Aufbringen oder später, gegebenenfalls zusammen mit der zweiten Schicht, die in entsprechender Weise aufgebracht werden kann, gesintert. Bei dem beschriebenen Beispiel enthält das Ausgangsmaterial zur Herstellung der zweiten RnlLehicht weniger oder gar kein TiCU, damit der Brechungsindex des Mantels oder der ersten Schicht niedriger als der des Kerns oder der zweiten Schicht wird.the speed of movement of the substrate. The layer is applied immediately or later, if necessary sintered together with the second layer, which can be applied in a corresponding manner. at In the example described, the starting material for the production of the second RnlLehicht contains less or less No TiCU at all, so the refractive index of the cladding or the first layer is lower than that of the core or the second layer will.
Das Substrat- und Überzugsmaterial soll Licht möglichst wenig absorbieren. Grundsätzlich sind alle Gläser opt;"chcr Qualität geeignet. Besonders günstig ist Schmelzkieselsäureglas. Zweckmäßig haben Kern- und Mantelg!?s gleiche oder ähnliche physikalische Merkmale und bestehen z. B. aus dem gleichen Glas, das für den Kern aber zwecks Erhöhung des Brechungsindex mit einem geeigneten Material leicht dotiert wird. Beispiele eines geeigneten Dotiermaterials sind z. B. dm Oxide von Titan, Tantal, Zinn, Niobium, Zirkonium, Aluminium, Lenthan, Germanium, Bor.The substrate and coating material should absorb light as little as possible. Basically all glasses are opt ; Fused silica glass is particularly favorable. The core and cladding elements have the same or similar physical characteristics and consist, for example, of the same glass that is lightly doped with a suitable material for the core in order to increase the refractive index is. Examples of a suitable dopant are, for. example dm oxides of titanium, tantalum, tin, niobium, zirconium, aluminum, Lenthan, germanium, boron.
Die Menge muß genau eingestellt werden, weil zuviel Dotiermaterial die Lichtdurchlässigkeit schwächt und weil bei zu großer Brechungsindexdifferenz die zulässige Kerndicke geringer wird. Zweckmäßig wird der Anteil unter 40 Gew.-% der Gesamtmenge gehalten, z. B. 40% bei Aluminiumoxid, unter 20% bei Titanoxid. Die Aufbringung erfolgt durch Flammhydrolyse oder z. B. durch chemische Niederschlagung aus der Dampfphase, durch Sputtern mit Radiaofrequenz, durch Aufbringen und Sintern einer Glasfritte, usw., wobei die beiden Schichten jeweils auch auf unterschiedliche Weise aufgebracht werden können.The amount must be set precisely because too much doping material weakens the light transmission and because if the refractive index difference is too great, the permissible core thickness is smaller. The proportion becomes appropriate kept below 40% by weight of the total, e.g. B. 40% for aluminum oxide, below 20% for titanium oxide. the Application takes place by flame hydrolysis or z. B. by chemical precipitation from the vapor phase, by sputtering at radio frequency, by applying and sintering a glass frit, etc., the two being Layers can each also be applied in different ways.
Bei dem optischen Weilenleiter ist eine besonders saubere und feste Haftung der Schichten erwünscht. Dadurch werden auf Verunreinigungen oder Lufteinschlüsse besonders an den Grenzflächen von Kern und Mantel zurückzuführende Lichtstreuungszentren weitgehend ausgeschaltet. Die Schichten zeichnen sich durch große Reinheit aus. Günstig ist auch eine leichte Veränderbarkeit der Schichtzusammensetzung. Vorteilhafterweise ist auch eine Kontrolle von OH im Glas möglich. Auch auf größeren Flächen ist bei dem optischen Wellenleiter eine sehr gleichmäßige Beschichtung erzielbar.In the case of the optical waveguide, particularly clean and firm adhesion of the layers is desired. This means that contamination or air inclusions, especially at the interfaces between the core and Light scattering centers that can be traced back to the jacket are largely eliminated. The layers stand out great purity. It is also favorable that the composition of the layers can be changed easily. Advantageously It is also possible to check OH in the glass. The optical one also works on larger surfaces Waveguide a very uniform coating can be achieved.
In einem aus drei Medien bestehenden planebenen optischen Wellenleiter müssen eine Reihe von Parametern entsprechend den folgenden Gleichungen koordiniert werden, um die Fortpflanzung entlang dem Wellenleiter auf eine oder mehrere Wellenformen (modes) zu beschränken. Von den drei Medien Substrat, Kern und Mantel bzw. Deckschicht muß der Brechungsindex des Kerns nj größer als der Brechungsindex des Mantels oder der des Substrats (n\, /J3) sein.In a three-media planar optical waveguide, a number of parameters must be coordinated according to the following equations in order to constrain propagation along the waveguide to one or more waveforms (modes). Of the three media substrate, core and cladding or cover layer, the refractive index of the core nj must be greater than the refractive index of the cladding or that of the substrate (n \, / J3).
Es gilt:The following applies:
fü. TMom Formen, wenn /nein gerades Ganzzahliges ist: NS. TMom forms if / no is an even integer:
β --V' (1) für TMom Formen, wenn/nein ungerades Ganzzahliges ist: β - V ' (1) for TMom forms if / no is odd integer:
ßa- π (/η +1) = -cot"1 — (—2-J - cot"1 — i-jjM > ^ ' ß a - π (/ η +1) = -cot " 1 - ( —2-J - cot" 1 - i-jjM> ^ '
für TEom Formen, wenn /n ein gerades Ganzzahliges ist:for TEom forms if / n is an even integer:
ßa-x(m+ 1) = tan-'-^ + tan-'-^-, (3) ßa-x (m + 1) = tan -'- ^ + tan -'- ^ -, (3)
und für TEon, Formen, wenn m ein ungerades Ganzzahliges ist:and for TEo n , forms when m is an odd integer:
ßc- x(m + 1) - -cot-'-j-cot-'-ζ·. ßc- x (m + 1) - -cot -'- j-cot -'- ζ ·.
(4)(4)
5050
(5)(5)
(6)(6)
5555
(7)(7)
(9)(9)
ss (10)ss (10)
IOIO
2020th 2525th 3030th 3535 4040 4545 5050 5555 6060
Diese Gleichungen gelten, wenn die Fortpflanzungskonstante h des plaijibenen Wellenleiters gleich oder klein« ist, als der Größere der Werte Ki und K3 und die Kernbreite unendlich ist. Zur Vereinfachung gelten 1 und 3 für die Parameter sowohl des Substrats als auch des Mantels.These equations are valid if the propagation constant h of the plaijible waveguide is equal to or small, than the larger of the values Ki and K 3 and the core width is infinite. For the sake of simplicity, 1 and 3 apply to the parameters of both the substrate and the clad.
Ist K\ größer als Ki, so definiert K\ die abschneidende Fortpflanzungskonstante h für die /n-te Form. Durch Einsetzen in die Gleichungen (1), (2), (3) und (4) erhält man die folgenden GleichungenIf K \ is greater than Ki, then K \ defines the cutting propagation constant h for the / nth form. Substituting into equations (1), (2), (3) and (4), the following equations are obtained
für TMom Formen, wenn m ein gerades Ganzzahliges ist:for TMom forms when m is an even integer:
+ l + itan-'(44) ff \ "2 — "ι / + l + itan - '(44) ff \ "2 -" ι /
'2 ' 2
für TMom Formen, wenn w ein ungerades Ganzzahliges ist:for TMom forms when w is an odd integer:
Il (n2_n2y/2 = m + 1 _ J_cot-i ("\-"lY2 (jhY λ Tt \Hi~~ ϊ\\ J \i3/ Il (n 2_ n 2y / 2 = m + 1 _ J_ cot -i ("\ -" lY 2 (jhY λ Tt \ Hi ~~ ϊ \\ J \ i3 /
fürTMom Formen, wenn m ein gerades Ganzzahliges ist:for TMom forms if m is an even integer:
if {n\ -n\)m = m + 1 + — tan"1 ("\~n\Y\ λ π \Π2~ηι/ if {n \ -n \) m = m + 1 + - tan " 1 (" \ ~ n \ Y \ λ π \ Π2 ~ η ι /
und für TMom Formen, wenn m ein ungerades Ganzzahliges ist:and for TMom forms, if m is an odd integer:
-2f- 2 f
worin mi 10 und die größte Ordnung der von einem Wellenleiter mit einem Kern der Dicke »a« und unendlicher Breite fortzupflanzenden Wellenform ist, λ die Wellenlänge in einem solchen Wellenleiter ist, tii den Brechungsindex des Kerns, /?i und Tt3 den Brechungsindex des Substrats bzw. der zweiten Schicht bezeichnen. Der planebene optische Wellenleiter hat einen Kern von beliebiger begrenzter Breite und eine Kerndicke gemäß den Gleichungen 11 bis 14 für einen Kern unendlicher Breite und m gleich einer ganzen Zahl bis 10. Obwohl für eine unendliche Breite aufgestellt, ergeben diese Gleichungen auch eine genaue Berechnung für ein Verhältnis von Kernbreite zu Dicke bis herunter zu 10; darunter entstehen Fehler, und die Berechnung muß nach Marcatili vorgenommen werden.where mi is 10 and the largest order of the waveform to be propagated by a waveguide with a core of thickness "a" and infinite width, λ is the wavelength in such a waveguide, tii is the refractive index of the core, /? i and Tt 3 is the refractive index of the Designate the substrate or the second layer. The planar optical waveguide has a core of any limited width and a core thickness according to equations 11 to 14 for a core of infinite width and m equal to an integer up to 10. Although established for an infinite width, these equations also give an exact calculation for a Ratio of core width to thickness down to 10; errors arise below this, and the calculation must be carried out according to Marcatili.
Für den Sonderfall von n\ = /73 und einem Kern von unendlicher Breite können die Gleichungen 11 bis 14 sowohl für TEn™ wie für TMo™ Formen vereinfacht werden:For the special case of n \ = / 73 and a kernel of infinite width, equations 11 to 14 can be simplified for both TEn ™ and TMo ™ forms:
2a2a
11/211/2
m+ 1 m + 1
Ein Ausführungsbek^iel mit einem Substrat aus reiner Schmelzkieselsäure mit einer Dicke von wenigstens 20 μΐη wurde sorgfältig poliert und gereinigt, sodaß eine optische Fläche entstand. Eine 26,1 Gew.-% TiCU und 73,9% SiCU enthaltende Mischung wurde auf 35° erhitzt Durch perlenden Sauerstoff nahm SiCU und TiCU Dämpfe auf und wurde in eine Gas-Sauerstoffflamme geleitet, in der die Dämpfe zu einem ununterbrochenen Rußstrom hydrolisiert wurdea Dieser bestand aus etwa 0,1 μ großen Teilchen und enthielt nahezu 2% T1O2 und 98% S1O2. Der Rußstrom wurde auf die optische Fläche gerichtet, bis eine nicht ganz 5,4 μΐη dicke Schicht aufgebaut war. Sodann wurde auf 35° erwärmtes, flüssiges SiCU mit Sauerstoff durchperlt, der SiCU Dämpfe aufnahm. Der die Dämpfe enthaltende Sauerstoff wurde in die Flamme geleitet, in der die Dämpfe zu 100% aus S1O2 bestehendem Ruß hydrolysiert wurden. Der Strom wurde auf die freie Oberfläche der ersten Schicht gerichtet, bis eine 40 μτη dicke Rußschicht aufgebaut war. Das beschichtete Stück wurde dann in einen Induktionsofen mit einer 1500° heißen Sauerstoff atmosphäre gelegt, wobei die beiden Rußschichten gesintert wurden. Hierbei verringerte sich ihre Dicke auf etwa die Hälfte. Der so entstehende planebene optische Wellenleiter hatte einen Kern mit einer Dicke unter 2,7 μ und beidseitig einen 20 μ dicken Mantel. Der Brechungsindex der ersten Schicht, d. h. des Kerns, betrug 1,4633, der der zweiten Schicht oder des Mantels 1,4584 (1,4584 ist der allgemein angenommene Brechungsindex von Schmelzkieselsäure für Natriumlicht mit einer Wellenlänge von 5893 A). Dieser Wellenleiter ist nur für die Fortpflanzung der Rechtwinkligen TE« und TMot Wellenform geeignetAn embodiment with a substrate made of pure fused silica with a thickness of at least 20 μm was carefully polished and cleaned so that an optical surface was created. A 26.1 wt% TiCU and Mixture containing 73.9% SiCU was heated to 35 °. SiCU and TiCU were taken through bubbling oxygen Vapors and was directed into a gas-oxygen flame in which the vapors become uninterrupted Soot stream was hydrolyzeda This consisted of about 0.1 micron particles and contained nearly 2% T1O2 and 98% S1O2. The soot stream was directed onto the optical surface until a layer not quite 5.4 μm thick was built. Then liquid SiCU heated to 35 ° was bubbled through with oxygen, the SiCU vapors recorded. The oxygen containing the vapors was passed into the flame, in which the vapors were 100% off S1O2 existing soot were hydrolyzed. The electricity was applied to the free surface of the first layer directed until a 40 μm thick layer of soot was built up. The coated piece was then placed in an induction furnace placed with a 1500 ° hot oxygen atmosphere, the two layers of soot were sintered. In doing so, their thickness was reduced to about half. The resulting planar optical waveguide had a core with a thickness of less than 2.7 μ and a 20 μ thick jacket on both sides. The index of refraction of the first layer, d. H. of the core, was 1.4633, that of the second layer or clad was 1.4584 (1.4584 is the generally accepted refractive index of fused silica for sodium light with a wavelength of 5893 A). This waveguide is only for the propagation of the rectangular TE «and TMot waveforms suitable
Die Länge der Wellenleiter richtet sich nach dem jeweiligen Verwendungszweck. Dabei gilt die planebene Form für die jeweils funktionelle, begrenzte Länge und Breite, während über die gesamte Länge auch eine gewisse Krümmung möglich ist Auch Kern und Mantel können in beiden Richtungen eine gewisse Krümmung aufweisen. Eine zu starke Krümmung führt jedoch wie von Wellenleitern bekannt zu Lichtverlusten.The length of the waveguide depends on the intended use. The plane level applies Form for the respective functional, limited length and width, while also one over the entire length Certain curvature is possible The core and cladding can also have a certain curvature in both directions exhibit. However, as is known from waveguides, too great a curvature leads to light losses.
Hierzu 4 Blatt ZeichnungenFor this purpose 4 sheets of drawings
6565
Claims (2)
daß Kt > K3 ist, mit K 1 = -
that K t > K 3 , with
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Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH553428A (en) * | 1970-09-04 | 1974-08-30 | Ciba Geigy Ag | USE OF QUINOXALINES AS A HYDROGEN TRANSFER. |
JPS5342051A (en) * | 1976-09-28 | 1978-04-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Light wave guide |
JPS5370839A (en) * | 1976-12-07 | 1978-06-23 | Fujitsu Ltd | Production of optical wave guide circuit |
JPS5371845A (en) * | 1976-12-08 | 1978-06-26 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Optical wave guide thin film and its production |
JPS5753701A (en) * | 1980-09-16 | 1982-03-30 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Volume lens |
JPS57132137U (en) * | 1981-02-10 | 1982-08-17 | ||
DK147064C (en) * | 1981-10-15 | 1984-10-22 | Int Ostomy Products Aps | VENTILATION UNIT FOR STOMIPOSE |
FR2534034B1 (en) * | 1982-10-05 | 1986-02-28 | Lyonnaise Transmiss Optiques | LIGHT WAVEGUIDE, AND MANUFACTURING METHODS THEREOF |
JPS61158303A (en) * | 1984-12-29 | 1986-07-18 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Formation of quartz optical waveguide |
GB8523433D0 (en) * | 1985-09-23 | 1985-10-30 | Gen Electric Co Plc | Channel waveguides |
DE3543002A1 (en) * | 1985-12-05 | 1987-06-11 | Bodenseewerk Geraetetech | METHOD FOR PRODUCING INTEGRATED-OPTICAL STRUCTURES IN GLASS |
GB8603119D0 (en) * | 1986-02-07 | 1986-03-12 | Gen Electric Co Plc | Optical channel waveguides |
US9133050B2 (en) * | 2008-11-13 | 2015-09-15 | Corning Incorporated | Glass bodies and methods of making |
CN108817686A (en) * | 2018-07-03 | 2018-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | Substrate placing stage and cutter device |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3386787A (en) * | 1963-10-25 | 1968-06-04 | Hazeltine Research Inc | Macroscopic optical waveguides |
SE346873B (en) * | 1968-05-17 | 1972-07-17 | Western Electric Co | |
US3711262A (en) | 1970-05-11 | 1973-01-16 | Corning Glass Works | Method of producing optical waveguide fibers |
CA951555A (en) * | 1970-05-11 | 1974-07-23 | Robert D. Maurer | Glass optical waveguide |
US3674336A (en) | 1970-08-28 | 1972-07-04 | Bell Telephone Labor Inc | Light wave coupling into thin film light guides with bragg type gratings |
-
1973
- 1973-03-16 DE DE19732313202 patent/DE2313202C2/en not_active Expired
- 1973-03-28 JP JP48035570A patent/JPH0361163B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1973-03-29 GB GB1526373A patent/GB1421401A/en not_active Expired
- 1973-03-29 NL NL7304380A patent/NL7304380A/xx unknown
- 1973-03-29 FR FR7311332A patent/FR2178176B1/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
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FR2178176A1 (en) | 1973-11-09 |
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JPH0361163B2 (en) | 1991-09-19 |
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