DE2306524A1 - Verfahren zur wiedergewinnung von geloestem metall aus einer aetzloesung unter regenerierung derselben - Google Patents
Verfahren zur wiedergewinnung von geloestem metall aus einer aetzloesung unter regenerierung derselbenInfo
- Publication number
- DE2306524A1 DE2306524A1 DE2306524A DE2306524A DE2306524A1 DE 2306524 A1 DE2306524 A1 DE 2306524A1 DE 2306524 A DE2306524 A DE 2306524A DE 2306524 A DE2306524 A DE 2306524A DE 2306524 A1 DE2306524 A1 DE 2306524A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- cathode
- solution
- etching
- copper
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C1/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions
- C25C1/12—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions of copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/46—Regeneration of etching compositions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Description
SHIPLEY COMPANY, INC.
2300 Washington Street
Newton, Massachusetts /V,St.A.
2300 Washington Street
Newton, Massachusetts /V,St.A.
unser Zeichen: S 2752
Verfahren zur Wiedergewinnung von gelöstem Metall aus einer Itzlösung unter Regenerierung derselben
Die Erfindung "betrifft ein Verfahren zur Extraktion von
gelöstem Metall in Form von Metall aus einer Perriionen als Oxidationsmittel enthaltenden verbrauchten Ätzlösung
unter gleichzeitiger Regenerierung derselben für die Wiederverwendung· Das Verfahren besteht in der Elektrogewinnung
eines Teils des in Lösung befindlichen Metalls unter Bedingungen, die zwar für eine Elektrogewinnung,
nicht jedoch für ein Ätzen geeignet sind. Diese Bedingungen sind u.a. nahezu vollständige Sauerstoffreiheit
in Nähe der Katode, nahezu völliges Fehlen einer Bewegung
der Lösung während der Rückgewinnung und vorzugsweise, für eine gute Katodenleistung, eine relativ niedrige Lösungstemperatur
an der Zwischenfläche von Lösung und Katode, wobei diese Temperatur typischerweise unter 490C
(1200P) liegt. Das Verfahren ist wirtschaftlich, da das
3 0 9 8 3 4/1132
Dr.Ha/Gl
ORIGINAL
während des Ätzvorgangs zu Ferroion reduzierte Ferriion
an der Anode während der Elektrogewinnung in die Ferriform
zurückoxidiert wird. Das Ätzmittel wird somit regeneriert und zur ¥iederverwendung geeignet. Außerdem wird
nur ein Teil des gelösten Metalls aus der Lösung entfernt, während der Rest in der Lösung verbleibt. Das Verfahren
bildet einen wichtigen Beitrag zur Lösung des Umweltverschmutzungsproblems , da nunmehr die Notwendigkeit der
Vernichtung von bei Ätzverfahren anfallendem verbrauchtem Ätzmittel und gelösten Metallabfällen entfällt.
1. Technisches Gebiet
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abtrennung gelöster Metalle aus einem Ätzmittel, das Perriionen als
Oxidationsmittel enthält, sowie ein kontinuierliches Ätzverfahren.
2. Stand der Technik
Perrichlorid—Ätzmittel sind bekannt und finden verbreitet
zum Ätzen von Kupfer, Kupferlegierungen, Kovar und Stahl Anwendung und zwar bei der Herstellung gedruckter Schaltungen,
elektronischer Vorrichtungen, zur Photogravierung und Metallbearbeitung. Typische Anwendungsgebiete umfassen
Leiter auf keramischen flachen Bauteilen mit Festkörperschaltungen und feinlinige Metallisierungsmasken. Für
diese Anwendungszwecke sind die Perrichlorid-Ätzmittel
am meisten geeignet und derzeit viel verwendet, da sie eine hohe Verträglichkeit für gelöstes Metall, insbesondere
Kupfer, besitzen und billig sind. v
30 9 834/1132
-'- 230652A
Die Zusammensetzung eines typischen Ferrichlorid-Ätzraittels
ist bekannt und ein solches besteht hauptsächlich aus Ferrichlorid, gelöst in Wasser, mit einer
Ferrichloridkonzentration von üblicherweise zwischen 28 und 42 Gew.?6. Freie Säure ist infolge der Hydrolyse
zwischen dem Ferrichlorid und Wasser zugegen. Die Salzsäure wird für gewöhnlich durch zusätzliche Mengen Salzsäure
ergänzt, um die Bildung eines unlöslichen Niederschlags aus Ferrihydroxid zu verhindern.
Technische Zusammensetzungen enthalten auch noch Netz-
und Antischaummittel,
Bei Verwendung der vorstehend beschriebenen Ätzmittel in Anwendung beispielsweise auf Kupfer als bevorzugter
Ausführungsform der Erfindung oxidiert das Ferriion metallisches Kupfer in die Cuproform unter Bildung von
grünem Ferrochlorid nach der Gleichung:
FeCl- + Cl0 » FeOl2 + CuCl (1)
Im Innern der Lösung wird Cuprochlorid weiter zu Cuprichlorid
oxidiert, insbesondere bei einer Sprühätzung, bei welcher das Ätzmittel stark lufthaltig ist; das wirkt
als sekundäres Ätzmittel, da das Cupriion das Kupfermetall nach der folgenden Gleichung in die Cuproform überführt:
CuCl2 + Cu0—^2CuCl (2)
Es wurde festgestellt, daß bei 50 $iger Erschöpfung
(H Unzen pro Gallone gelöstes Kupfer) einer Ferrichloridlösung mit 42° Baume, 84 $>
des Kupfeis gemäß Gleichung (2) geätzt wird. In der Praxis wird, wenn eine Lösung mit
309834/1132
42° Baume 8 Unzen gelöstes Kupfer pro Gallone enthält,
die Ätzzeit langer als erwünscht. Das Verhältnis zwischen der relativen Ätzzeit und der Konzentration an gelöstem
Kupfer ist in Fig. 1 der Zeichnung dargestellt. Wegen der
abnehmenden Ätzgeschwindigkeit mit zunehmendem Gehalt an gelöstem Kupfer wird das Ätzmittel bei 8 Unzen pro Gallone
gelöstes Kupfer üblicherweise verworfen. Bisher wurde eine Regenerierung des verbrauchten Ferrichlorid-Ätzmittels
wegen der verhältnismäßig geringen Gestehungskosten des Ätzmittels nicht ernsthaft in Betracht gezogen. Wegen der
neuerlichen strengen Vorschriften, die in einigen Fällen das Verwerfen von Stoffen mit schädlicher"Wirkung auf die
Umwelt verbieten, ist das Wegschütten von verbrauchtem Ferrichlorid-Ätzmittel, insbesondere von gelöstes Kupfer
enthaltendem, nicht mehr erlaubt. Es besteht daher jetzt ein Bedürfnis nach einem billigen Regenerierungsverfahren,
insbesondere nach einem solchen, bei dem gelöste Metallanteile in wirtschaftlich brauchbarer Form, z.B. in Form
von Schrott oder in als Rohmaterial verwendbarer Weise wiedergewonnen werden können.
Verschiedene Methoden zur Behandlung solcher verbrauchter
Ätzmittel wurden bereits vorgeschlagen. Z.B. wurde vorgeschlagen, Wasser aus dem Ätzmittel zu verdampfen und die
Feststoffe zu sammeln. Diese Methode ist jedoch unwirtschaftlich und die gewonnenen Feststoffe müssen zur Gewinnung
der einzelnen Komponenten in brauchbarer' Form weiterbehandelt werden. Auch wurde vorgeschlagen, das
Ätzmittel durch Kühlmittel zur Ausfällung des gelösten Metalls aus seiner Lösung zu schicken, den Niederschlag,
abzutrennen, z.B. durch Filtration und das Filtrat als frisches Ätzmittel in die Ätzvorrichtung zurückzuführen.
Diese Methode besitzt bestimmte günstige Aspekte, da sie
309834/113 2
verhältnismäßig billig und einfach ist, es fällt jedoch ungenügend Metall selbst bei den angewendeten niedrigen
Temperaturen aus, so daß das Filtrat noch eine beträchtliche
Menge gelöstes Metall enthält und die Ätzkapazität des im Kreislauf geführten Ätzmittels nicht so hoch ist als
wünschenswert wäre. Ferner befindet sich der Niederschlag wahrscheinlich in Form des Oxids, Hydroxids oder eines
anderen Salzes und besitzt somit nicht den Wert von elementarem Schrottmetall. Außerdem muß das in den
Kreislauf zurückgeführte Ätzmittel zur Überführung des Ferroions in Ferriion oxidiert werden, um es wieder als
Ätzmittel brauchbar zu machen.
Das erfindungsgemäße Verfahren betrifft die Rückgewinnung von Metall in im wesentlichen metallischer Form aus den
vorstehend beschriebenen verbrauchten Ferrichlorid-Ätzmitteln.
Das Verfahren kann ggf. kontinuierlich durchgeführt werden, ist wirtschaftlich, ergibt im wesentlichen
das Metall in Metallform und regeneriert gleichzeitig das Ätzmittel für eine etwa gewünschte Wiederverwendung.
Das Verfahren zur Behandlung der Ätzlösung gemäß der Erfindung besteht darin, daß man einen Teil des gewünschten
Metalls aus der Lösung unter für die Elektrogewinnung günstigen und für das. Ätzen ungünstigen Bedingungen auf
elektrischem Wege gewinnt. Als Elektrogewinnung ist hier die elektrolytisch^ Abtrennung von Metall aus Lösung zu
verstehen. Die für die Elektrogewinnung geeigneten Bedingungen umfassen nahezu vollständiges Fehlen von Sauerstoff
in Kahe der Katode, nahezu vollständiges Ruhen der Lösung während der Behandlung und vorzugsweise eine verhältnismäßig
niedrige Losungstemperatur an der Zwischen-
309834/1132
fläche von lösung und Katode, vorzugsweise unter 12O0P
(490C) in Nahe der Katode und an der Zwischenfläche der
Katode und der Lösung; bevorzugt ist eine Temperatur von nicht über etwa 320C (900F).
Da etwas gelöstes Metall in der regenerierten Ätzlösung
verbleiben kann und i,m Fall von Kupfer sogar wünschenswert
sein kann, da das Kupfer in die Cupriform übergeführt wird und als Sekundärätzmittel wirkt, wird nur ein Teil
des gelösten Metalls durch Elektrogewinnung entfernt. Im Gegensatz dazu wurde bei früheren Verfahren, bei denen
die Elektrolyse zur Behandlung verbrauchter Ätzmittel versucht wurde, z.B. bei der Behandlung verbrauchter
Ammoniumpersulfat - Ätzmittel, nahezu das gesamte gelöste Metall entfernt, so daß der Rest der Lösung verworfen
werden konnte. Das erfindungsgemäße Regenerierungsverfahren ist somit wesentlich billiger als die bekannten
Verfahren, da weniger Metall entfernt wird. Gemäß der Erfindung müssen nicht verbleibende Restbestände von gelöstem
Metall aus verdünnten Lösungen abgetrennt werden, wie dies bisher der Pail war. In dieser Beziehung sei bemerkt,
daß die Abtrennung der letzten gelösten Metallrückstände aus einer verdünnten Lösung der kostspieligste
Teil der Wiedergewinnung wegen einer geringen Katodenleistung ist.
Außer den vorstehend erwähnten Kostenvorteilen besitzt das erfindungsgemäße Verfahren den weiteren Vorteil, daß
die behandelte Lösung nach Abtrennung des Metalls nach
nur geringer oder überhaupt keiner Auffrischung wiederverwendet
werden kann, da die Hauptmenge des Perroions während der Elektrogewinnung zu Ferriion oxidiert wird.
In einigen Fällen jedoch kann eine Oxidation des Eerroions zu dem Ferriion erforderlich werden, wenn nämlich das
309834/1132
gesamte Perroion nicht an der Anode in das Perriion umgewandelt wird. Wenn Kupfer das gelöste Metall ist
kann außerdem eine gewisse Oxidation der Cuproform des Kupfers in die Cupriform erforderlich werden, um
das C.upriion als sekundäres Ätzmittel ausnutzen zu können. Die Oxidation der Perro- und Cuproionen kann
ganz einfach so erfolgen, daß man Luft durch die Ätzlösung perlen läßt oder indem man einen Sprühätzer
verwendet, wenn die Stoffe durch Belüftung oxidierbar Bind. Die die Ätzlösung bildenden Chemikalien gehen
somit nicht verloren und es braucht nichts verworfen zu werden. Die hier "beschriebene Erfindung stellt somit
einen wertvollen.Beitrag zur Lösung des Umweltverschmutzungsproblems
dar.
Beschreibung der Zeichnung In der Zeichnung zeigen:
Pig. 1 eine graphische Darstellung der relativen Ätzzeit als Punktion des gelösten Kupfers in einer
Perrichlorid-Ätzlösung;
Pig. 2 eine schematische Darstellung eines kontinuierlichen Verfahrens gemäß der Erfindung und
Pig. 3 eine Schnittansicht durch eine Elektrogewinnungsvorrichtung
gemäß der Erfindung.
Wie vorstehend bemerkt, dienen Perrichlorid-Ätzmittel hauptsächlich zum Ätzen von Kupfer, Kupferlegierungen,
309834/1132
Kovar und Stahl. Für die erfindungsgeraäßen Zwecke werden
die Ätzlösungen in Verbindung mit allen bisher geätzten Metallen verwendet, obwohl Kupfer und Eisen aus den nachstehend
im einzelnen näher beschriebenen Gründen die bevorzugten Metalle darstellen.
In der Elektrogewinnungsvorrichtong gemäß der Erfindung
wird Metall aus seiner Lösung auf eine. Katode j vorzugsweise unter Verwendung, einer unlöslichen Anode, plattiert.
Verwendet man beispielsweise Kupfer, so beträgt die maximal entfernbare Kupfermenge theoretisch 0,042 Unzen
Kupfer pro Ah. Die Katodenleistung des Gesamtverfahrens wird somit als ein Prozentgehalt, bezogen auf die tatsächlich
entfernte Kupfermenge relativ zu der theoretisch entfernbaren Kupfermenge ausgedrückt. Da Kupfer aus einer
zur Lösung von Kupfer bestimmten Ätzlösung abgetrennt wird, ist eine· niedrige Katodenleistung· zu erwarten. Die
Erfindung hat jedoch überraschend gezeigt, daß Leistungen von 90 io oder höher durch Herabsetzung des Ätzpotentials
der Ätzlösung erzielbar sind. Es wird dies durch eine Kombination von Maßnahmen erreicht, einschließlich des
Vermeidens einer Bewegung der Lösung, der Herabsetzung des Sauerstoffgehalts in Nähe der Katode und vorzugsweise
durch Aufrechterhaltung einer relativ niedrigen Lösungstemperatur mindestens an der Zwischenfläche der Ätzlösung
und der Katode. Diese Maßnahmen können einzeln oder in
Kombination miteinander zur Anwendung kommen.
Was die Herabsetzung der Sauerstoffkonzentration im Katodenbereich betrifft, muß der Tatsache Rechnung getragen
werden, daß bei der Elektrogewinnung an der Anodenoberfläche Sauerstoff erzeugt wird. Dieser Sauerstoff
wird nun vorzugsweise dem Katodenbereich fern gehalten. Das läßt sich leicht dadurch erzielen, daß
309834/1132
man die Anoden in einem geeigneten Abstand von einer Katode hält, während man gleichzeitig eine Bewegung
der Lösung verhindert oder indem man die Anoden mit einer Hülle versieht. Die Erzeugung von Sauerstoff ist
wünschenswert, da er das Perroion in die Ferriform oxidiert und somit das Ätzmittel regeneriert.
Was die Lösungstemperatur betrifft, so kann die gesamte
Ätzlösung zur Erzielung einer ausreichen!hohen
Katodenleistung gekühlt werden. Das·Verfahren ist jedoch
auch "bei Temperaturen von 490C (12O0P) und höher
durchführbar. Bei diesen Temperaturen liegt die Katodenleistung typischerweise bei etwa 25 bis 45 f°, je nach
der Temperatur und anderen Bedingungen, z.B. der Stromdichte. Vom wirtschaftlichen Standpunkt aus soll die
ÄtzlöBung bei der Temperatur behandelt werden, bei welcher sie zum Ätzen verwendet wird, so daß eine Abkühlung
der Lösung vor der Elektrogewinnung und eine erneute Aufheizung vor dem Ätzen entfallen. Bei einer
Ausführungsform der Erfindung unter Verwendung einer gekühlten Katode, wie nachstehend im einzelnen besprochen
wird, kann eine heiße Lösung zur Entfernung von Metall mit hoher Katodenleistung und ohne die Notwendigkeit
entweder eine Abkühlung oder Aufheizung der Masse der Ätzlösung behandelt werden. Der Grund dafür ist,
daß eine gekühlte Katode eine niedrigere Temperatur an der Zwischenfläche zwischen der Lösung und der Katode
erzeugt. Es ist eine.überraschende Feststellung der Erfindung, daß die Katodenleistung höher ist', wenn eine
warme Lösung unter Verwendung einer kalten Katode regeneriert wird, als wenn die gesamte Ätzlösung unterhalb
Raumtemperatur abgekühlt wird.
309834/1132
Die Betriebstemperatur von Ferriehlorid-Ätzmittel ist nicht kritisch. Zufriedenstellende Ergebnisse
erzielt man bei Temperaturen unterhalb normaler Raumtemperatur bis zum Siedepunkt des Ätzmittels, obwohl
in der Regel die Temperatur zweckmäßig auf Raumtemperatur
gehalten wird. Bei der höheren Temperatur, ober-halb Raumtemperatur, ist eine größere Ätzgeschwindigkeit
möglich, obwohl das Ätzmittel dann schwieriger zu kontrollieren ist.
Eine Ausführungsform der Erfindung zum Ätzen und Regenerieren
ist in Fig. 2 der Zeichnung dargestellt, die eine schematische Darstellung des erfindungsgemäßen
Verfahrens zeigt. Bei einem chargenweisen Betrieb unter beispielsweise Verwendung von Kupfer, wird Kupfermetall
in der Ätzvorrichtung geätzt, bis die Kupferko&zentration
in der Lösung für einen praktischen Betrieb zu hoch wird. Unter Bezugnahme auf Pig. 1 der Zeichnung sieht man, daß
diese Konzentration zwischen etwa 12 und 16 Unzen Kupfer
pro Gallone Lösung liegt, da bei dieser Konzentration die Ätzgeschwindigkeit für einen praktischen Betrieb
zu langsam ist. Wenn die Kupferkonzentration diesen Wert oder einen niedrigeren, je nach der Betriebspraxis,
erreicht, wird das Ätzmittel in äie Elektrogewinnungsvorrichtung gepumpt.
Zur Abtrennung von Kupfer aus der Ätzlösung und um zu
verhindern, daß die Ätzlösung das gelöste Kupfer erneut auflöst bzw. das Material der Vorrichtung bei Verwendung
einer heißen Ätzlösung angreift, können Kühlmittel vorgesehen sein, um die Temperatur des Ätzmittels und damit
sein Ätzpotential herabzusetzen. Diese Kühlmittel können äußere sein, z.B. Wärmeaustauscher oder sie befinden sich
vorzugsweise innerhalb der Vorrichtung, z.B. in Form
309834/1132
einer gekühlten Katode. Die gekühlte Katode ist bevorzugt, so daß die Ätzlösung an der Stelle, wo Metall
aus der Lösung ausplattiert gekühlt wird, während der Rest der Lösung, wenn diese heiß zur Anwendung gelangt,
heiß bleibt. Das ergibt eine unerwartet größere Katodenleistung und ist auch wirtschaftlicher, da die Hauptmasse
der Lösung während des Zyklus nicht erhitzt und gekühlt zu werden braucht.
Die Bedingungen innerhalb der Elektrogewinnungsvorrichtung
hängen z.T. von der Zusammensetzung des geätzten Metalls ab. Im allgemeinen kann die Stromdichte zwischen
O für einige Metalle, die auf der Katode beim Eintauchen
eine Abscheidung'bilden, bis zu über 150 Ampere/Fuß
(AS?) für die schwieriger auszuplatfcierenden Metalle
betragen. Vorzugsweise variiert die Stromdichte zwischen etwa 20 und 140 ASi1 bei ausreichend hoher Spannung, um
diese gewünschte Stromdichte aufrechtzuerhalten.
Die in der Praxis am meisten bevorzugte Ausführungsform der Erfindung ist die Behandlung von Lösungen, die zum
Ätzen von Kupfer und Eisen verwendet wurden. Der Grund hierfür ist, daß mit anderen Metallen als Kupfer und
Eisen eine selektive Ausplattierung dieser Metalle ohne gleichzeitiges Ausplattieren von Eisen schwierig
ist. Infolgedessen baut sich die Konzentration des geätzten Metalls auf, während die Eisenkonzentration abnimmt.
Mit Kupfer ist eine selektive Ausplattierung von Kupfer möglich. Da die Ätzlösung eine Ferrichlorid-Ätzlösung
ist, ist bei Eisen kein anderes Metall in Lösung und daher keine Selektivität erforderlich.
Nach der Elektrogewinnung von gelöstem Metall aus dem Ätzmittel wird dieses zurück in die Ätzvorrichtung
309834/1132
gepumpt. Das Ätzmittel kann für einen Betrieb "bei
höheren Temperaturen erhitzt werden, und zwar außerhalb
der Ätzvorrichtung, indem man es durch Wärmeaustauscher laufen läßt oder es können auch Heizelemente
in der Ätzvorrichtung vorhanden sein. An dieser Stelle ist das Ätzmittel für die Wiederverwendung mit
nur geringer Auffrischung geeignet, da das Ferroion durch die Anode während der Elektrogewinnung in die
Ferriform oxidiert wird. Hierzu kann es erforderlich sein, Luft durch die Ätzvorrichtung perlen au lassen,
um etwa noch vorhandenes Perroion in die Ferriform
umzuwandeln; eine soche Umwandlung kann auch durch luftoxidation bei einer Sprühätzung erfolgen.
Das vorstehend "beschriebene Verfahren basiert auf einem
chargenweisen Betrieb. Natürlich"eignet sich das Verfahren auch für einen kontinuierlichen Betrieb, bei
dem ein Ätzmittelstrom kontinuierlich aus der Ätzvorrichtung in die Plattierungsvorriehtung zur. Ausplattierung
des Metalls und zurück in die Ätzvorrichtung geführt wird» Die Temperatur» die Stärke des Ätzmittels
und die Stromdichte werden dann so eingestellt, daßdie
Konzentration des gelösten Metalls nach Regenerierung des Ätzmittels und bei Einführung in die Ätzvorrichtung
so ist, daß das Ätzmittel zur Lösung von mehr Metall geeignet ist. Auch hier sieht man unter Bezugnahme auf Mg. 1 daß für Kupfer zwischen 12 und .16
Ifesen Kupfer in dem Ätzmittel vor -einer stärkeren Abnahme
der Ätsgeschwindigkeit gelöst werden könneno
Andererseits kann Kupfer aus der Ätzlösung während der El@ktrogewinniing bis auf einen Kupfergehalt von
etwa 1/4 "bis 1 Unze pro'' Gallone Ätzmittel ohne merkliche
Abnahme der Plattierungsleistung ausplattiert werden. Im allgemeinen soll Metall von einem praktischen
309834/1132
Standpunkt aas bis zur Sättigung geätzt werden und die
Konzentration des gelösten Metalls wird bei der Elektrogewinnung zweckmäßig bis zu einen Punkt Verringert, an
welchem die Plattierungsleistung keine wesentliche Einbuße erleidet. Pur Zupfer besteht ein weiter Bereich
bis zu 16 Unzen Kupfer pro Gallone beim Ätzen und bis herab zu etwa 1/4 TJnze Kupfer pro Gallone bei der Elektrogewinnung.
Pig. 3 ist eine Querschnittansioht einer Torrichtung
zur Entfernung von gelöstem Metall aus einer verbrauchten Ätzlösung gemäß der Erfindung. Die Vorrichtung umfaßt
einen Behälter 1» und zwar einen doppelwandigen, nicht-metallischen Behälter, z.B. einen doppelwandigen
Polyäthylenbehälter in Kombination mit chemieh inerten,
in einem symmetrischen Abstand voneinander angeordneten Anoden. Eine Katode 2 ist zentral in dea Behälter 1 angeordnet;
sie ist vorzugsweise hohl, so daß ein Kühlmittel hindurchfließen kann und sie besteht aus einem
korrosionsbeständigen Material, vorzugsweise einem Metall, z.B. rostfreiem Stahl. Kühlmittel wird der
Katode 2 durch ein durch die ga&se länge der Katode
verlaufendes Rohr 3 zugeführt, das am Boden der Katode einen Auslaß besitzt» Kühlmittel fließt nach unten
durch das Rohr 3» durch die Zatods 2 aufwärts und vexvläßt
die Katode durch den Auslaß 4· Es ist dies eine günstige Bauweise, da sie eine lokalisierte Kühlung
nur im Katodenbereich. ergibt, während der Rest der
lösung nicht gekühlt wird, Das Itzpotential eier Lösung
nimmt daher im Katodenbereich ab. Me Lösung wird niolrc
merklich gekühlt, da die durch die Katoäenkühlung abgeführte Wärme teilweise wieder durch den Siromdurchg&zig
durch die lösung ersetzt wird. Gegebenenfalls kann der Auslaß 4 mit dem Kühlmpntel 5 des Behälters 1 in Reihe
309834/1132
geschaltet sein, obwohl bei bevorsctgten Ausführungsformen dieser Mantel nioht erforderlieh iste Das
Kühlmittel tritt aas dem Kühlmantel 5 durch den Auslaß 6 aus. Mit der Katode 2 sind vorzugsweise mehrere
,Anoden 7 aus einem sich nicht lösenden leitenden Material,
a.B. Graphit, in symmetrischem. Abstand" rund um den Behälter 1 angeordnet«, Strom idLrd den Elektroden
mittels eines Grleiehriohters (nicht dargestellt) durch
die Kupferstromschiene 8 in"Kontakt mit einer.anderen
Stromschiene 9 zugeführts die zu der Eapferplatte 10
führts welche die Katode 2 speist„ "Die Kupferstromschiene 9 ist durch die Isolierschicht 11 isoliert.
33ie Katode"ist vorzugsweise auch nit einer Isolierung
an den Stellen überzogen,,- wo keine Aasplattierutig erfolgen
solle" Isolierschichten 12 und 13 können sioh somit- am- oberen Ende und am Boden bzt?o am Boden der
Katode befinden« In Betrieb bildet sieh eine lockere
körnige dendritische Metallschicht 14 -auf der freiliegenden Oberfläche der Katode 2O Die- Metallschicht läßt
sieh leicht von der Katodes soBo nittels eines kreisförmigen
Schabers (nicht dargestellt) abstreifen der
über -die .Oberfläche der Katode 2 gleitete Das von der
Katodenoberfläohe abgestreifte Metall se-tzt sich am
Boden des Plattierungsbehg-lters als Schicht 15 ab,
von wo es durch den Auslaß 14 abgeführt oder in einem nicht dargestellten Korb gesammelt werden kann. Überraschenderweise
wird &B.p Metall an Boden des Plattie-"rungsbehälters
nicht duruh das Ätzmittel gelösto Es
ist dies wahrscheinlich auf die Bildung einer ober·=
flächlichen Oxidschicht auf dem Metall in dem ruhenden niaht-belüfteten. Ätzmittel zurückzuführen9 welche aas
Metall passiviert und so seine Auflösung verhindert»
Dae Metall muB kontinuierlich, oder in bestimmten Intervallen
aus der Plattierungsvorrichtung entnommen werden.
^n Qft^ L I 1 1 27
Etwa 30 Gallonen einer Ferrichloridlösung mit 34° Baume
werden zum Pullen einer Sprühätzvorrichtung verwendet und Kupfer wird von bestimmten Stellen an mit Kupfer
beschichteten Epoxydplatten entfernt. Das verwendete Kupferlaminat ist eine etwa 0,0013 Zoll dicke dünne
Platte mit einem Gewicht von einer Unze. Das Ätzmittel wird bei einer Temperatur zwischen etwa 21 und 270C bei
einem pH Wert gut unter 1 angewendet. Wenn die Gesamtkonzentration an gelöstem Kupfer in der Lösung etwa
16 Unzen pro Gallone erreicht oder wenn insgesamt 540 Unzen in den' 30 Gallonen Ätzmittel erreicht sind,
wird der Ätzvorgang abgebrochen.
Das verbrauchte Ätzmittel wird in eine Plattierongsvorrichtung
gepumpt, die aus einem Polyäthylenplattierungsbehälter mit einem Durchmesser von 22 Zoll, einer
Höhe von 32 Zoll und eines» gewölbten Boden mit einem
in der Mitte angeordneten Auslaß besteht. Eine ortsfeste zylindrische Katode aus rostfreiem Stahl mit einem
Durchmesser von 8 Zoll, einer Länge von 20 Zoll und einer
ρ Gesamtplattierungsoberfläche von 500 Zoll wird zentral in den Plattierungsbehälter eingesetzt. Die Enden der
Katode sind mit Epoxydharz überzogen. Strom wird der Katode durch eine Kupferstromschiene mit einem Durchmesser
von 1 Zoll zugeführt und durch die Katode mittels einer an die Katodenoberfläche angeschweißten Kupferplatte
verteilt. Die Katode besitzt einen Einlaß und einen Auslaß für Kühlwasser. Zehn 34 Z Il lange Graphitanoden mit
einer Abmessung von 1*5 Zoll werden rund um den Umfang des Plattierungsbehälters angeordnet. Die gesamte Arbeits-
2 fläche der Anode beträgt etwa 1200 Zoll . Strom wird
309834/T132
mittels eines 750,Ampere-12 YoIt Gleichrichters zugeführt.
Der Plattierungsbehälter ist mit Anschlußstrom- ;
schienen für Anoden und Katoden, Haltern, Befestigungen, einer Pumpe, Leitungen und allem zur Handhabung von
"Lösungen und Kupferablagerungen erforderlichen Zubehör ausgerüstet.
Die Ätzlösung tritt zunächst in die Vorrichtung mit , einer Temperatur von etwa 240C ein und in dem Plattierungsbehälter
wird die Lösung nicht in Bewegung gehalten. Eine Stromdichte von etwa 40 ASi1 wird erzeugt und
Kupfer.plattiert mit einer Geschwindigkeit von etwa
1 Unze pro Gallone Lösung pro Stunde aus. Die Gesarat*-
plattierungsdauer beträgt etwa 400 Stunden und das Gesamtgewicht von aus der Lösung ausplattiertem Kupfer
beträgt etwa 420 Unzen. In Lösung verbleiben etwa
2 Unzen Kupfer pro Gallone.
Anschließend an die Elektrogewinnung des Kupfers wird
das Ätzmittel in den Ätzbehälter gepumpt und mit kleinen Mengen Salzsäure aufgefrischt. Das Ätzmittel ist dann
zur Wiederverwendung geeignet. -
Das vorstehende Verfahren kann mehrfach wiederholt werden.
•Beispiel 2 .
Alle Versuche wurden mit einer in einem Vier-Liter-Becher enthaltenen Gallone Lösung durchgeführt. Ein Keramikgefäß
wirkte als Wassermantelszur Kühlung der Lösung. Die Katode
war ein dünnwandiges rostfreies Stahlrohr, Typ 321, mit einem Durchmesser von 3,4 Zoll und einer Länge von etwa
18ZoIl. Eine Plattierungsfläche von 12,8 Zoll2 wurde
309834/1 132
geschaffen, indem man das Rohr 5,43 Zoll vom unteren
Ende mitVinylband abdeckte. Das Ende wurde mit einem Guramistopfen verschlossen und zwei durch den Stopfen
verlaufende Kunststoffröhre dienten dazu, Kühlwasser
■ in die und aus der Katode zu leiten. Das gleiche Kühlwasser wurde in den Kühlmantel rund um den den Elektrolyt
enthaltenden Becher geleitet. Aus HELX 1085 National Electrolytic Graphite wurden vier Anoden mit Abmessungen
von 1/2 mal 3/4 mal 12 Zoll geschnitten und rund um den Rand des Bechers in gleichmäßigem Abstand von der in der
Mitte angeordneten Katode zur Gewährleistung einer gleichmäßigen Stromdichte gehängt. Der Abstand von Anode zu
Katode betrug etwa 2 Zoll. Eine zur Erzeugung eines konstanten Stroms von 16 Ampere ausreichende Spannung
wurde angelegt, was eine Katodenstromdichte von 0,05 Ampere pro Zoll und eine wirksame Anodenstromdichte
von 0,11 Ampere pro Zoll ergab. Die Temperatur in dem Bad und im Kühlmantel wurde, ebenso wie die Spannung
über die Zelle periodisch während eines achtstündigen Betriebs gemessen. Die Katode wurde in Abständen inspiziert
und die Abscheidungen wurden, wenn möglich, davon abgekratzt. Die Versuchsbedingungen und -ergebnisse sind"
in der folgenden Tabelle angegeben.
Spannungsbereich; Beginn-Ende 3,9 - 4,7 Badtemperatur 0C; Beginn-Ende 12,2 - 12,2
Temperatur im Wassermantel 0C;
Beginn-Ende 1,1-4,4
Kupfer, Unzen/Gallone zu Beginn 10 Kupfer, Unzen/Gallone am Ende 5
abgetrenntes Kupfer, Unzen/Gallone 5 Geschwindigkeit der Kupferabtrennung,
Unzen/Gallone/Stunde 0,67
prozentuale Leistung der Kupferabtrennung 52,6
Menge von in Perriionen übergeführten Ferro ionen, Unzen/Gallone/Std. 7,0
Anodenleistung 42 i»
309834/1132
Die Kupferabscheidung war etwa 1/16 Zoll dick, sehr
hart und haftete leicht an der Katodenoberfläche, sie war etwas rauh mit senkrechten linien. Sie ließ sich
nur mit einiger Schwierigkeit entfernen, obwohl dieses Problem sich leicht dadurch lösen läßt, daß man eine
dünne Schicht eines geeigneten Polymerisats auf die Katodenoberfläche aufbringt, z.B. eine Schicht aus
Teflon, Polystyrol und dergl., worauf die Metallabseheidung
in Form einer Muffe von der Katode heruntergeschoben
werden kann.
Die Ferrichloridlösung von Beispiel 1 wird zum Ätzen
von Nickel verwendet. Wenn die Lösung etwa 4,5 Unzen Nickel pro Gallone Lösung unter Verwendung der Vorrichtung
von Beispiel 2 enthält, wird das Nickel bei einer Stromdichte von über 140 ASF unter Erzielung
einer pulvrigen Abscheidung abgetrennt
Das Verfahren von Beispiel 3 wird mit rostfreiem Stahl anstelle von Nickel wiederholt. Eine Stromdichte von
etwa 50 ASF wird zur Erzielung der Abscheidung angewendet.
Das Verfahren von Beispiel 3 wird unter Ersatz des Nickels durch Kovar wiederholt. Eine Stromdichte von
etwa 20 ASF ist zur Erzielung der Abscheidung erforderlich.
309834/1132
Das Verfahren von Beispiel 1 wird wiederholt, jedoch so abgeändert, daß es kontinuierlich verläuft. Die
Abänderung besteht darin, daß man die Größe der Sprühätzvorrichtung
auf 10 Gallonen verkleinert und in der Regenerierungsvorrichtung einen Vorrat von 30 Gallonen
hält. Ätzmittel wird kontinuierlich langsam aus der Ätzvorrichtung in die Regenerierungsvorrichtung mit
einer Geschwindigkeit von 5 Gallonen pro Stunde im Kreislauf geführt· Auf diese Weise wird Kupfer kontinuierlich
mit einer Geschwindigkeit von 1 Unze pro Gallone pro Stund.e geätzt und mit etwa der gleichen
Geschwindigkeit in der Regenerierungsvorrichtung abgetrennt.
309834/1132
Claims (20)
- PatentansprücheΠ./Verfahren zur Abtrennung von gelöstem Metall aus einer Ferriionen als Oxidationsmittel enthaltenden Ferrichlorid-Ätzlösung unter Regenerierung derselben, dadurch gekennzeichnet, daß'man das Ätzpotential der Ätzlösung verringert und das-gelöste Metall auf elektrischem Wege daraus gewinnt, indem man-die Lösung mit einer Anode und einer Katode in kontakt bringt und zwischen Anode und Katode einen Strom erzeugt, so daß das Metall sich auf der Katode abscheidet und gleichzeitig Perroionen an der Anode zu Perrionen oxidiert werden.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nur ein Teil des gelösten Metalls aus der Ätzlösung abgetrennt wird.
- 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Gehalt an gelöstem Metall, ausschließlich der Perriionen, bis auf eine Mindestkonzentration von 1/4 Unze pro Gallone lösung herabgesetzt wird.
- 4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das gelöste Metall Kupfer oder Eisen ist.
- 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das gelöste Metall Kupfer ist.
- 6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß Ätzpotential mittels einer gekühlten Katode und unter Vermeidung einer Bewegung der lösung verringert wird.
- 7. Verfahren.nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur an der Zwischenfläche von lösung und Katode etwa 320C nicht übersteigt..309834/1132
- 8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Ätzpotential durch Fernhalten von.Sauerstoff aus dem Katodenbereich noch weiter verringert wird.
- 9. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daßdie Katodenstromdichte zwischen etwa O und 150 Ampere/ρ
Fuß variiert. - 10. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Katode
variiert.die Katodenstromdichte zwischen 20 und 140 Ampere/Fuß - 11. Verfahren zum ,kontinuierlichen Ätzen von Metallen mit einer Ferriionen als Oxidationsmittel enthaltenden Ferrichlorid-Ätzlösung, dadurch gekennzeichnet, daß man das Metall mit der Ätzlösung so lange zusammenbringt, bis der Metallgehalt in der Ätzlösung wesentlich· erhöht ist, daß man das Ätzpotential der Ätzlösung dann erniedrigt, einen Teil des gelösten Metalls.aus der Lösung durch Kontakt derselben mit einer Kombination aus Anode und Katode und Hindurchleiten eines Stroms auf elektrischem Wege gewinnt, wobei das Metall sich auf der Katode abscheidet und Ferroionen zu Ferriionen an der Anode oxidiert werden und daß man dann das Ätzpotential der Ätzlösung wieder erhöht und diese in den Kreislauf zurückführt.
- 12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß nur ein Teil des gelösten Metalls aus der Ätzlösung entfernt wird.
- 13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß gelöstes Metall, ausschließlich der Ferri- oder Ferroionen, bis auf eine Mindeetkonzentration von 1/4 Unze pro Gallone Lösung entfernt wird.309834/1132
- 14. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das gelöste Metall Kupfer oder Eisen ist.
- 15. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das gelöste Metall Kupfer ist.
- 16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, däß das Ätzpotential durch Verwendung einer gekühlten Katode und Vermeiden einer Bewegung der Lösung erniedrigt wird.
- 17. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur an der Zwischenfläche von Lösung und Katode etwa 320C nicht übersteigt.
- 18. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das Itzpotential durch Fernhalten von, Sauerstoff aus dem Katodenbereich noch weiter herabgesetzt wird.
- 19. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Katod
variiert.die Katodenstromdichte zwischen etwa O und 150 Ampere/Fuß - 20. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Katodenstromdichte zwischen etwa 20 und 140 Ampere/ Fuß variiert.21· Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, deß Kupfer mit einer Geschwindigkeit von etwa 1 Unze pro Gallone Lösung pro Stunde geätzt und abgetrennt wird.309834/1132Leerseite
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US22489472A | 1972-02-09 | 1972-02-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2306524A1 true DE2306524A1 (de) | 1973-08-23 |
Family
ID=22842662
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2306524A Pending DE2306524A1 (de) | 1972-02-09 | 1973-02-09 | Verfahren zur wiedergewinnung von geloestem metall aus einer aetzloesung unter regenerierung derselben |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3788915A (de) |
JP (1) | JPS4896430A (de) |
CA (1) | CA1028979A (de) |
DE (1) | DE2306524A1 (de) |
FR (1) | FR2171340B1 (de) |
GB (1) | GB1417246A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3141949A1 (de) * | 1980-10-30 | 1982-06-16 | TESLA koncernový podnik, Praha | Verfahren zur kontinuierlichen regeneration von eisentrichloridloesungen |
DE3340343A1 (de) * | 1983-04-13 | 1984-10-18 | Kernforschungsanlage Jülich GmbH, 5170 Jülich | Verfahren und anlage zum regenerieren einer ammoniakalischen aetzloesung |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5124537A (en) * | 1974-08-26 | 1976-02-27 | Hitachi Ltd | Etsuchinguyokuno saiseihoho |
US4107011A (en) * | 1975-03-17 | 1978-08-15 | Vladimir Ilich Kucherenko | Method of regeneration of spent etching solutions |
US4113588A (en) * | 1976-03-09 | 1978-09-12 | Solex Research Corporation Of Japan | Process for recovery of waste H2 SO4 and HCl |
US4177119A (en) * | 1976-03-09 | 1979-12-04 | Solex Research Corporation | Process for recovery of waste H2 SO4 and HCl |
US4073708A (en) * | 1976-06-18 | 1978-02-14 | The Boeing Company | Apparatus and method for regeneration of chromosulfuric acid etchants |
US4092211A (en) * | 1976-11-18 | 1978-05-30 | Northern Telecom Limited | Control of etch rate of silicon dioxide in boiling phosphoric acid |
DE2850564C2 (de) * | 1978-11-22 | 1982-12-23 | Kernforschungsanlage Jülich GmbH, 5170 Jülich | Verfahren und Vorrichtung zum Regenerieren einer Kupfer(II)-Chlorid und/oder Eisen(III)-Chlorid enthaltenden Ätzlösung in einer Elektrolysezelle |
DE2850542C2 (de) * | 1978-11-22 | 1982-07-01 | Kernforschungsanlage Jülich GmbH, 5170 Jülich | Verfahren zum Ätzen von Oberflächen aus Kupfer oder Kupferlegierungen |
JPS5931868A (ja) * | 1982-08-13 | 1984-02-21 | Toshiba Corp | 金属板のエツチング方法 |
GB2131454B (en) * | 1982-12-07 | 1986-06-25 | Jury Ivanovich Naumov | Process for regeneration of iron-copper chloride etching solution |
US4482426A (en) * | 1984-04-02 | 1984-11-13 | Rca Corporation | Method for etching apertures into a strip of nickel-iron alloy |
US4572824A (en) * | 1984-11-01 | 1986-02-25 | General Electric Company | Process for recovery of zirconium and acid from spent etching solutions |
US4944851A (en) * | 1989-06-05 | 1990-07-31 | Macdermid, Incorporated | Electrolytic method for regenerating tin or tin-lead alloy stripping compositions |
US5227010A (en) * | 1991-04-03 | 1993-07-13 | International Business Machines Corporation | Regeneration of ferric chloride etchants |
US7404904B2 (en) * | 2001-10-02 | 2008-07-29 | Melvin Stanley | Method and apparatus to clean particulate matter from a toxic fluid |
CN112626567B (zh) * | 2020-11-23 | 2022-03-29 | 江苏净源新材料有限公司 | 一种利用蚀刻液回收铜制备纳米铜粉的方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2748071A (en) * | 1951-08-30 | 1956-05-29 | Technograph Printed Circuits L | Apparatus for regeneration of etching media |
-
1972
- 1972-02-09 US US00224894A patent/US3788915A/en not_active Expired - Lifetime
-
1973
- 1973-02-08 CA CA163,197A patent/CA1028979A/en not_active Expired
- 1973-02-09 DE DE2306524A patent/DE2306524A1/de active Pending
- 1973-02-09 GB GB638573A patent/GB1417246A/en not_active Expired
- 1973-02-09 JP JP48015742A patent/JPS4896430A/ja active Pending
- 1973-02-09 FR FR7304607A patent/FR2171340B1/fr not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3141949A1 (de) * | 1980-10-30 | 1982-06-16 | TESLA koncernový podnik, Praha | Verfahren zur kontinuierlichen regeneration von eisentrichloridloesungen |
DE3340343A1 (de) * | 1983-04-13 | 1984-10-18 | Kernforschungsanlage Jülich GmbH, 5170 Jülich | Verfahren und anlage zum regenerieren einer ammoniakalischen aetzloesung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3788915A (en) | 1974-01-29 |
CA1028979A (en) | 1978-04-04 |
FR2171340A1 (de) | 1973-09-21 |
FR2171340B1 (de) | 1975-01-17 |
GB1417246A (en) | 1975-12-10 |
JPS4896430A (de) | 1973-12-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2306524A1 (de) | Verfahren zur wiedergewinnung von geloestem metall aus einer aetzloesung unter regenerierung derselben | |
DE1496886C3 (de) | Verfahren zum kontinuierlichen Regenerieren von chromsäurehaltigen elektrolytischen Behandlungslösungen mittels Dialyse | |
DE2537757A1 (de) | Verfahren zum regenerieren einer aetzloesung | |
DE2850564C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Regenerieren einer Kupfer(II)-Chlorid und/oder Eisen(III)-Chlorid enthaltenden Ätzlösung in einer Elektrolysezelle | |
EP0158910B1 (de) | Verfahren zur Rückgewinnung von Kupfer aus einer ammoniakalischen Kupfer-Ätzlösung und Rekonditionierung derselben | |
DE69219063T2 (de) | Verfahren zum Regenerieren von Ätzmitteln | |
DE69101621T2 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Regenerierung von ammoniakalischen Kupferätzbädern. | |
DE2508094A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum elektrolytischen abscheiden von metallen | |
DE2208076A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Behandlung von Industrieabwässern und Vorrichtung zur Durchführung desselben | |
DE2250072A1 (de) | Verfahren zur rueckgewinnung von kupfer aus verbrauchten aetzloesungen, sowie einrichtung zur durchfuehrung des verfahrens | |
DE1496907B2 (de) | Verfahren zum kontinuierlichen elektrolytischen entzundern von nickel und chrom enthaltenden staehlen | |
DE1301587B (de) | Verfahren und Vorrichtung zur elektrolytischen Abscheidung von Kupferpulver | |
DE2641905C2 (de) | Verfahren zur Regenerierung verbrauchter Ätzlösungen | |
DE2435206A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen gewinnung von kupfer aus kupferhaltigen feststoffen | |
DE3417839A1 (de) | Verfahren zur behandlung von dekontaminationsfluessigkeiten mit organischen saeuren und einrichtung dazu | |
EP0240589B1 (de) | Verfahren zur Regenerierung eines stromlosen Verkupferungsbades und Vorrichtung zur Durchführung desselben | |
EP1015667A2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur konzentrationsregulierung von stoffen in elektrolyten | |
DE2243559A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen reinigung von abwasser | |
DE2729387A1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen aufbereitung eines galvanischen nickelbades sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens | |
DE1944388A1 (de) | Verfahren zum Entzundern und Beizen eines Gegenstandes aus Titan oder einer Titanlegierung | |
DE19810859A1 (de) | Kombinationsverfahren zur Behandlung eines schäumend eingestellten galvanischen Bads | |
DE2105816B2 (de) | Verfahren zur kathodischen Entfernung von Eisenverunreinigungen eines Nitrierungssalzbades | |
DE1808471C3 (de) | Verfahren zur Rückgewinnung von Gold aus galvanischen Waschwässern | |
DE624723C (de) | Einrichtung zur elektrolytischen Scheidung von Kupfer-Silber-Legierungen | |
DE626996C (de) | Verfahren zur anodischen Aufloesung von Kupfer-Silber-Legierungen mit Silbergehalten ueber etwa 20% |