DE2163985A1 - Verfahren zum chemischen Lösen von Kupfer - Google Patents
Verfahren zum chemischen Lösen von KupferInfo
- Publication number
- DE2163985A1 DE2163985A1 DE19712163985 DE2163985A DE2163985A1 DE 2163985 A1 DE2163985 A1 DE 2163985A1 DE 19712163985 DE19712163985 DE 19712163985 DE 2163985 A DE2163985 A DE 2163985A DE 2163985 A1 DE2163985 A1 DE 2163985A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- group
- representative
- persulfate
- copper
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/32—Alkaline compositions
- C23F1/34—Alkaline compositions for etching copper or alloys thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
R. POSCHENRIEDEÄ O 1 C Q Q O C
DR. E. BOETTNER £ I O O Ό O
DIPL.-ING. H.-J. MULLH.
Pat^'j.iwälte , OO I
8 MÜNCHEN 80 / CL*
Luefie-Grahn-StreJ·* ·
Telefon 475155
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., No. 1-1, 2-chome,
Uchisaiwaicho, Chiyoda-lcur ffpkvo. Japan
Verfahren zum chemischen Lösen von Kupfer
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum chemischen Lösen von Kupfer in einer stabilisierten
wäßrigen Persulfatlösung.
Es ist bekannt, daß Persulfatlösungen sich als Ätzmittel
eignen, um Kupfer aus gedruckten elektrischen Schaltungs-Platten, wie sie auf dem Gebiet der elektronischen
Schaltungen Anwendung finden, herauszulösen. Um die Lösungszeit des Kupfers zu verkürzen, hat man bisher als Ätzmittel
meistens solche wäßrigen, persulfathaltigen Lösungen
verwendet, die einen geringen Gehalt an einem Katalysator aus einem Metall aufweisen, dessen Elektrodenpotential
stärker negativ als das Elektrodenpotential des Kupfers ist. Verwendet man zur Auflösung von Kupfer bei einer
Temperatur zwischen 40°C und 55°C z.B. eine wäßrige Lösung,
die etwa 20 Vol.-# (g/100 ecm) eines Ammoniumpersulfats
und etwa 5 Teile Merkuri-Ionen pro Million Teile
BAD
209829/1098
- als Merkurichlorid zugegeben - enthält, so soll die Lösungskapazität
für Kupfer in der ritzlösung etwa 40 g/l betragen. Bei den praktisch ausgeübten Verfahren zum
Herauslösen des Kupfers hat man Ätzvorrichtungen, die sowohl nach dem Tauchverfahren arbeiten, als auch solche,
die nach dem Sprühverfahren arbeiten, verwendet.
Die Arbeitsmethode, bei welcher die oben angegebene Ätzlösung verwendet wird, erweist sich jedoch nicht in
jedem Fall als technisch vorteilhaft, da mit ihr zahlreiche Nachteile verbunden sind, als "welche im einzelnen
P die folgenden zu nennen sind: wenn auch die Lösungsgeschwindigkeit
des Kupfers durch die Mitverwendung von Quecksilber als Katalysator erhöht wird, so stellt doch
das Quecksilber - insbesondere in Form von Quecksilberchlorid - ein tödliches Gift dar, so daß bei der Lagerung
und bei der Handhabung des Katalysators eine besonders große Sorgfalt aufgewendet v/erden muß; in Verbindung
hiermit ist das Quecksilber bekanntlich offiziell als gefährliche Substanz deklariert worden, und die Auswasch-
und Abflußleitungen müssen in gutem Zustand gehalten werden, und es muß eine genaue Dosierung erfolgen; außerdem
ist darauf hingewiesen worden, daß die Anwendung des Ka-
^ talysators mit dem weiteren Nachteil verbunden sein kann,
daß sie zu einem Abbruch des anschließenden Druck- oder sonstigen Prozesses führen kann, weil sich der Katalysator
auf der Oberfläche einer durch das Ätzen erhaltenen Kupferplatte ablagert.
Wenn auch die Persulfatlösung zur Kupferätzung im Zuge
der Herstellung von gedruckten elektrischen Schaltungsplatten, deren Muster im Hinblick auf die nicht-korrosive
Natur der Löt-Überzugsmetalle mit einer ätzbeständigen,
BAD ORIGINAL
209329/1098
im Lötverfahren aufgebrachten Blei/Zinn-Plattierung überzogen
ist, durchaus geeignet ist, so ist hiermit doch der weitere Nachteil verbunden, daß die Ätzlösung, die ein
Persulfat und Quecksilber enthält, die Oberfläche des im Lötverfahren aufgebrachten Überzuges schwarz verfärbt
oder einen weissen dünnen Film auf diesem Überzug bildet, so daß diese verformten Materialien nach dem Ä'tzvorgang
entfernt werden müssen.
Es wurde nun eine Arbeitsmethode zum Ätzen von Kupfer mit einer wäßrig-ammoniakalischen Persulfatlösung aufgefunden,
bei welcher zwar das Merkmal der Verwendung von Persulfat als Ätzmittel beibehalten worden ist, mit
der jedoch die vorstehend angeführten Nachteile nicht mehr verbunden sind. Die Methode zum Lösen von Kupfer
besteht - kurz gesagt - darin, das Kupfer mit einer wäßrigen Lösung in Kontakt zu bringen, die 5 bis 40 Vol.-$
(g/100 ecm) eines Persulfats und Ammoniak in einer Menge, als Molmenge ausgedrückt, enthält, die das 1- bis
10-fache der molaren Persulfatmenge ausmacht.
Die vorstehend angeführte Methode weist den Vorteil auf, daß das Verfahren bei verhältnismäßig niedrigeren Temperaturen
durchgeführt werden kann, da es möglich ist, die Lösungsgeschwindigkeit des Kupfers bis zu einem solchen
Ausmaß zu erhöhen, daß sie im wesentlichen ebenso groß oder noch größer als die Lösungsgeschwindigkeit ist,
die erreicht wird, wenn Quecksilber als Katalysator in der Persulfat-Ätzlösung verwendet wird, und außerdem kann
durch den erzeugten Salzkomplex das Auskristallisieren verhindert werden. Ein weiteres Merkmal der vorstehend
beschriebenen Methode besteht darin, daß alle Arten von
BAD ORIGINAL
209829/1098
Reserven, wie eine Druckfarben-Reserve, eine Foto-Reserve
und eine Metallplattierungs-Reserve, ohne Auftreten einer Korrosion Anwendung finden können.
Wird eine ammoniakalische Persulfatlösung verwendet, so
erhebt sich die Frage nach der Stabilität der Lösung. Der Grad der Stabilität schwankt in Abhängigkeit von
verschiedenen Faktoren, wie den Bedingungen, unter denen mit der Ätzlösung gearbeitet wird, der Ammoniak-Konzentration,
der Temperatur der Lösung und der Menge Kupfer, die in der Lösung gelöst ist.
Ein Gegenstand der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine Persulfatlösung innerhalb eines weiten Bereiches
von Arbeitsbedingungen zu stabilisieren.
Beim Gebrauch von Ätzlösungen ist es im allgemeinen erwünscht, daß die Menge der Zersetzungsprodukte und der
nicht umgesetzten Rückstände der Ingredienzien klein ist im Vergleich zu den Mengen, die beim Lösen des Kupfers
verbraucht werden, bis die Lösungsgeschwindigkeit eine für den praktischen Betrieb nicht mehr tragbare Grenze
erreicht hat, d.h. die Wirksamkeit des Lösens von Kupfer wird so weit wie möglich verbessert.
Die Erfinder haben Versuche unternommen, um ein Material zu finden, welches die ein Persulfat und Ammoniak enthaltende
Ätzlösung wirksam zu stabilisieren und dabei die katalytische Einwirkung auf die Ätzgeschwindigkeit beizubehalten
vermag. Als Ergebnis dieser Versuche sind Stabilisierungsmittel gefunden worden, die eine ausgezeichnete
209829/1098
Wirksamkeit aufweisen und dazu beitragen, die dargelegten Ziele der Erfindung zu erreichen.
Mit der vorliegenden Erfindung wird daher eine verbesserte Ätzlösung zur Verfügung gestellt, die ein Persulfat, Ammoniak
und ein Stabilisierungsmittel enthält, und zugleich eine Methode zum Lösen von Kupfer in der stabilisierten Ätzlösung
offenbart.
Zu den erfindungsgemäßen Stabilisierungsmitteln gehören polare organische Verbindungen, die in Wasser löslich sind
und außerdem mit einem Persulfat keine oder nur eine äußerst geringe Reaktion eingehen, z.B. ein-, zwei- oder
mehrwertige Alkohole, wie Methylalkohol, Äthylenglykol, Glycerin und Mannit, Aldehyde, wie Propionaldehyd und
Butyraldehyd, Ketone, wie Aceton, 'Methyl-äthylketon und Methyl-isobutylketon, Carbonsäuren,wie Propionsäure und
Buttersäure, Ester, wie Propionsäuremethylester und Buttersäuremethylester, Äther, wie Isopropyläther und Dioxan,
Sulfoxyde, wie Dimethylsulfoxyd, Amine, Sulfonsäuren und
ferner nicht-ionische, oberflächenaktive Mittel, wie PoIyoxyäthylen-alkyläther,
kationische oberflächenaktive Mittel, wie Polyoxyäthylen-alkylamine, und anionische oberflächenaktive
Mittel, wie höhermolekulare Alkoholsulfonate, deren Moleküle die oben genannte Gruppe oder Gruppen enthalten.
Zur Herstellung der erfindungsgemäßen Ätzlösung ist es äußerst empfehlenswert, das Ammoniumpersulfat und das
Natriumpersulfat zu verwenden, weil diese Substanzen
eine hohe Löslichkeit in Wasser aufweisen, wenngleich auch andere Persulfate, die in Wasser löslich sind, Anwendung
finden können.
209829/1098
Die Ätzlösung enthält 5 bis 40 VoI.-^, vorzugsweise 10
bis 30 Vol.-# (g/100 ecm) Persulfat und Ammoniak in
einer Molmenge, die dem 1-bis 10-fachen der Molmenge des Persulfats entspricht, und daneben weniger als 5 Vol.-^
vorzugsweise weniger als 1 VoI.-^ (g/100 ecm) des oben angeführten
Stabilisierungsmittels.
Nach der Lehre der vorliegenden Erfindung ist es möglich,
das Ätzen von Kupfer in einem weiten Temperaturbereich durchzuführen, da die ammoniakalische Alkalipersulfatlösung
hervorragende Eigenschaften aufweist, wie eine hohe Ρ Löslichkeit für das erzeugte Kupfersalz, eine hohe Lösungsgeschwindigkeit
selbst bei niedrigeren Temperaturen und eine verbesserte Stabilität bei höheren Temperaturen
dank der Stabilisatorwirkung.
Die erfindungsgemäßen Ätzmittel weisen die erhöhte Lösungskapazität
und Lösungswirksamkeit für Kupfer im Vergleich zu den Persulfat-Ätzlösungen auf, die Quecksilber
als Katalysator enthalten. Sf besitzt 1 Mol Persulfat die
Lösungskapazität für etwa 2 Mol Kupfer, wenn das Kupfer in der Ätzlösung vermittels einer Ätzmaschine, wie einer
Schaufel- oder Zerstäubungs-Ätzvorrichtung, gelöst wird,
^ deren Mechanismus die Ätzlösung mit Luft in Kontakt zu
" bringen vermag.
Die Ätzlösung gemäß der Lehre der vorliegenden Erfindung
weist im praktischen Betrieb verschiedene Vorteile auf, weil sie innerhalb eines weiten Temperaturbereiches stabil
ist. Zunächst einmal kann die Ätzlösung so, wie sie bei der Herstellung anfällt, direkt verwendet werden,
wenngleich die Lösung durch die Lösungswärme der Persulfats
209829/1098
— 1 ~
auf eine Temperatur unter Zimmertemperatur abgekühlt wird. Ferner kann die Ätzlösung, deren Temperatur mit der fortschreitenden
Lösung des Kupfers ansteigt, kontinuierlich weiterverwendet werden, so daß sie eine hohe Temperatur
erreicht, kurz bevor der Abbau der Lösung einsetzt, und so kann das Ätzmittel unter idealen Temperaturbedingungen
Anwendung finden. Darüber hinaus kann die Ätzlösung, die bei einem nicht vollständig durchgeführten Betrieb in der
Maschine aufbewahrt worden ist, an dem darauffolgenden Tag so, wie sie vorliegt, weiterverwendet werden.
Die Stabilisierungsmittel der vorliegenden Erfindung können verwendet werden, ohne daß hiermit irgendeine Beeinträchtigung
der Lösungsgeschwindigkeit des Kupfers in der ammoniakalischen Alkalipersulfat-Ätzlösung oder
der IzLstungsfähigkeit der durch das Ätzen erhaltenen gedruckten
Schaltung verbunden ist.
Es wurden wäßrige Persulfatlösungen hergestellt, wobei man die in Tabelle 1 angeführten Stabilisierungsmittel
jeweils zu einer Lösung zusetzte, die 10 Vol.-# (g/100 ecm)
Ammoniumpersulfat, 5*8 Vol.-$ (g/100 ecm) Ammonsulfat,
7,0 Vol.-# (g/100 ecm) Kupfersulfat und 5,26 Mol/Liter Ammoniak enthielt. Nachdem man diese Lösungen 4 Stunden
lang bei einer Temperatur von 30°C hatte stehen lassen,
wurde der Zersetzungsgrad des Ammoniumpersulfats bestimmt.
Die Ergebnisse dieser Bestimmungen sind in Tabelle 1 zusammengestellt.
2098 29/1098
In diesem Pall entsprechen die Gehalte an Ammonsulfat
und Kupfersulfat den Mengen an Nebenprodukten bei der Umsetzung des Kupfers mit dem 10-volumenprozentigen
(g/100 ecm) Ammoniumpersulfat.
(g/100 ecm) Ammoniumpersulfat.
Tabelle 1 | Zerset zungs grad (%>) |
|
71,4 | ||
Stabilisierungsmittel | Konz entrat ion in Vol.-# (g/100 ecm) |
2,52 |
_ | _ | 2,00 |
Me thylalkohol | 1 | 2,63 |
Methylalkohol | 0,2 | 5,37 |
Isobutylalkohol | 1 | 4,64 |
Hexylalkohol | 0,2 | 4,73 |
Ä'thylenglykol | 1 | 5,54 |
1,3-Butandiol | 1 | 8,70 |
Triäthylenglykol | 1 | 4,2y |
Glycerin | 1 | 3,91 |
Cyclohexanol | 1 | 3,37 |
Aceton | 1 | 3,33 |
Aceton | 0,2 | 1,14 |
Methyl-isobutylketon | 1 | 2,78 |
Hexanon-3 | 1 | 2,66 |
Acetophenon | 0,2 | 5,72 |
Methylformiat | 1 | 3,45 |
Methylpropionat | 1 | 2,26 |
Propionsäure | 5 | 4,03 |
Propionsäure | 1 | 5,04 |
Capronsäure | 0,2 | 2,68 |
Adipinsäure | 1 | 3,17 |
Isovaleraldehyd | 1 | |
Capronaldehyd | 1 | |
209829/1098
Chloral | 1 | 0,5 | 3,01 |
Isopropyläther | 1 | 0,5 0,5 |
3,36 |
Äthylenglykolmonomethyläther (Methylcellosolve) |
1 | kationische oberflächenaktive Mittel | 5,o6 |
Trimethylamin | .1 | 14,54 | |
Äthanolamin | 1 | 9,65 | |
Dimethylsulfoxyd | 1 | 7,29 | |
Benzolsulfonsäure | 1 | 8,61 | |
Butyrolacton | 1 | 5,65 | |
nicht-ionische oberflächenaktive Mittel | |||
Polyoxyäthylen-alkyläther | 2,24 | ||
Polyoxyäthylen-fettsäureester Polyoxyäthylen-sorbil^-fett- säureester |
3,95 3,63 |
||
Polyoxyäthylen-alkylamin 0,5 11,49 Alkyl-trimethylammoniumchlorid 0,2 5,03
anionische oberflächenaktive Mittel
Natrium-Dialkylsulf ObCmStCInSaU-
reester 0,5 4,05
höhermolekularer Alkoholschwefelsäureester 0,5 5,82
Natrium-Polyoxyäthylen-alkyl-
sulfat 0,5 4,77
In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurden wäßrige Persulfatlösungen hergestellt durch Zugabe der in Tabelle
2 angeführten Stabilisierungsmittel zu einer Lösung, die 10 Vol.-# (g/100 com) Natriumpersulfat, 6,0
(g/100 ecm) Natriumsulfat, 6,7 Vol.-^ (g/100 com) Kupfer
sulfat und 5,04 Mol/Liter Ammoniak enthielt. Nachdem die
209829/1098
Lösungen 4 Stunden auf einer Temperatur von 300C gehalten
worden waren, wurde der Zersetzungsgrad des Natriumpersulfats bestimmt. Die Ergebnisse dieser Bestimmungen sind
in Tabelle 2 zusammengestellt.
Konzentration Zerset
Stabilisierungsmittel in Vol.-$ zungs-
(g/100 ecm) grad (
Methylalkohol
Aceton Dioxan
- | 75,2 |
1 | 2,47 |
1 | 3,95 |
1 | 6,26 |
Eine Lösung, die 20 Vol.-# (g/100 ecm) Ammoniumpersulfat,
3,51 Mol/Liter Ammoniak und eines der in Tabelle 3 angeführten Stabilisierungsmittel enthielt, wurde jeweils in
ein Becherglas gefüllt.
Dann wurde eine Kupferfolie vom Format 25 χ 25 mm und
einer Dicke von 0,035 nun in die Lösung getaucht und unter ständigem Rühren bei einer Temperatur von 40°C In
Lösung gebracht. Durch gelegentliches Zusetzen von Ammoniak wurde das pH der Lösung auf einem Wert von 9 bis 9,5 gehalten. Es wurden die Lösungszeit der Kupferfolie und die
Konzentration an Ammoniumpersulfat bestimmt, und aus diesen Werten wurde das Verhältnis zwischen Menge und Zeit
der Lösung des Kupfers und der Wirksamkeit des Ammonium-
209829/1098
persulfats bei der Auflösung des Kupfers errechnet. Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle 3 zusammengestellt.
Stabi- lisie- rungs- mittel |
Konzen tration in VoI.-% (g/100 ocm) |
innerhalb einer.Zeit von 4 Minuten *' |
durch schnitt liche Lö sung s- zeit |
Wir kungs grad |
innerhalb einer von 8 Minuten * |
durch schnitt liche Lösungs zeit |
.Zeit |
Methyl alkohol |
1 | Lö sung s- menge Kupfer (g/l) |
2124» | 56,6 | Lö sung s- menge Kupfer (g/1) |
3*16" | Wir kungs grad |
Aceton | 1 | 32 | 2» 45" | 61,2 | 41 | y4o" | 73,0 |
Propion säure |
1 | 34 | 21^l" | 49,3 | 51 | 2*57" | 92,5 |
Diac e ton· alkohol |
1 | 28 | 2*52" | 72,9 | 34 | 3*29" | 6o,o |
41 | 52 | 93,9 ·! |
Um einen Vergleich mit den oben angegebenen Werten zu ermöglichen, wurde ein mit diesem Beispiel analoger Versuch
unter Verwendung einer Lösung durchgeführt, die 20 Vol.-$ (g/100 ecm) Ammoniumpersulfat und 5 Teile pro
Million Teile Quecksilber-Ion enthielt. Die Ergebnisse dieses Versuches sind in Tabelle 4 zusammengestellt.
209829/1098
Temperatur der Lösung (°c) |
innerhalb einer Zeit von 4 Minuten *) |
durch schnitt liche Lösungs- zeit |
Wir kung s- grad {%) |
innerhalb einer Zeit von 8 Minuten *) |
durch schnitt liche Lösungs- zeit |
Wir kungs grad (*) |
40 50 |
Lö sungs menge Kupfer (g/l) |
31I" 2f49" |
36,0 51,8 |
Lö sung s- menge Kupfer (g/l) |
415» | 72,0 73,3 |
20 30 |
40 41 |
«0
Die angegebenen Zahlenwerte stellen die Lösungsmengen Kupfer dar, die durch Auflösen eines Stückes einer
Kupfer folie innerhalb einer
Zeit von 4 bzw. 8 Minuten erhalten wurden, wobei die durchschnittliche Lösungszeit für das Stück
des kupfer-plattierten Schichtstoffes und der Wirkungsgrad des Ammoniumpersulfats zur Auflösung des
Kupfers beitrugen.
Eine kupfer-plattierte Schichtstoffplatte, die mit einer
0,035 nun dicken Kupferfolie überzogen war, auf deren Oberfläche eine Schaltung durch Lötplattierung aufgedruckt war,
die Stromleiter von 0,08 mm Breite und 0,1 bis 1,0 mm Abstand aufwies, wurde mittels einer Sprüh-Ätzvorrichtung
mit einer Ätzlösung geätzt, die 20 Vol.-Ji (g/100 ecm)
Ammoniumpersulfat, 3*51 Mol/Liter Ammoniak und 1 Vol.-%
(g/100 ecm) Diacetonalkohol enthielt. Die Temperatur der
209829/1096
Ätzlösung wurde von der niedrigeren Temperatur, die sie unmittelbar nach der Herstellung aufwies, allmählich auf
40°C erhöht und letztlich auf 40°C gehalten. Der pR-Wert
der Lösung wurde durch gelegentlichen Zusatz von Ammoniak auf einem Wert von 9*5 gehalten.
Nachdem die mit der Schaltung bedruckte Platte, deren Oberfläche bis zu einem Anteil von etwa H-O % des Kupfers
mit der Lötplattierung abgedeckt war, innerhalb der Zeitspanne von K Minuten geätzt worden war, wurde festgestellt,
daß die Lösungsmenge des Kupfers und der Wirkungsgrad des Ammoniumpersulfats 105 g/l bzw. 188 %
betrugen.
Die durch dieses Ätzverfahren erhaltene, mit der Schaltung bedruckte Platte ist klar und frei von irgendeiner
Verfärbung der Lötplattierung, und sie weist eine glänzende Oberfläche auf. Die Hinterschneidung (under-cut)
und der Ätzgrad betrugen 15*0 bzw. 2,72, so daß ein technisch
befriedigendes Ergebnis erhalten worden ist.
209829/1Ö98
Claims (18)
- PatentansprücheΠ ·) Verfahren zum chemischen Lösen von Kupfer, dadurch gekennzeichnet, daß man das Kupfer mit einer wäßrigen Lösung in Kontakt bringt, die 5 bis 40 Vol.-$ (g/100 ecm) eines Persulfats, ferner Ammoniak in einer Mol-Menge, die das 1- bis 10-fache der Mol-Menge des Persulfats beträgt, und einen Stabilisator enthält, der aus einem Vertreter der Gruppe der ein-, zwei- oder mehrwertigen Alkohole, der Aldehyde, Ketone, Carbonsäuren, Ester, Äther, Sulfoxyde, Amine, P Sulfonsäuren und oberflächenaktiven Mittel besteht.
- 2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Persulfat aus Ammoniumpersulfat oder Natriumpersulfat besteht.
- 3. Verfahren gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Persulfats in der Lösung 10 bis 30 Vol.-Ji (g/100 ecm) beträgt.
- 4. Verfahren gemäß Anspruch 3* dadurch gekennzeichnet, daß der Vertreter der Gruppe der ein-, zwei- oder^ mehrwertigen Alkohole aus Methylalkohol, Isobutyl-alkohol, Hexylalkohol, Äthylenglykol, 1,3-Butandiol, Triäthylenglykol, Glycerin, Cyclohexanol oder Mannit besteht.
- 5· Verfahren gemäß Anspruch 3* dadurch gekennzeichnet, daß der Vertreter der Gruppe der Aldehyde aus Propionaldehyd, Butyraldehyd, Isovaleraldehyd, Capronaldehyd oder Chloral besteht.209829/1098
- 6. Verfahren gemäß Anspruch 3* dadurch gekennzeichnet, daß der Vertreter der Gruppe der Ketone aus Aceton, Methyl-äthylketon, Methyl-isobutylketon, Hexanon-(3), Acetophenon oder Diacetonalkohol besteht.
- 7. Verfahren gemäß Anspruch 3* dadurch gekennzeichnet, daß der Vertreter der Gruppe der Carbonsäuren aus
Propionsäure, Buttersäure, Capronsäure oder Adipinsäure besteht. - -8. Verfahren gemäß Anspruch 3* dadurch gekennzeichnet, daß der Vertreter der Gruppe der Ester aus Ameisensäuremethylester, Propionsäuremethylester, Buttersäuremethylester oder Butyrolacton besteht.
- 9. Verfahren gemäß Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Vertreter der Gruppe der Äther aus Isopropyläther, Dioxan oder A'thylenglykolmonomethyläther (methyl "Cellosalve") besteht.
- 10. Verfahren gemäß Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Vertreter der Gruppe der Sulfoxyde aus
Dimethylsulfoxyd besteht. - 11. Verfahren gemäß Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Vertreter der Gruppe der Amine aus Trimethylamin oder Äthanolamin besteht.
- 12. Verfahren gemäß Anspruch 3» dadurch gekennzeichnet, daß der Vertreter der Gruppe der Sulfonsäuren aus
Benzolsulfonsäure besteht.209829/1098 - 13· Verfahren gemäß Anspruch 3* dadurch gekennzeichnet, daß der Vertreter der Gruppe der oberflächenaktiven Mittel aus einem nicht-ionischen oberflächenaktiven Mittel, einem kationischen oberflächenaktiven Mittel oder einem anionischen oberflächenaktiven Mittel besteht.
- 14. Verfahren gemäß Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel aus einem Polyoxyäthylen-alkyläther, einem Polyoxyäthylenfettsäureester oder einem Polyoxyäthylen-sorbitanfettsäureester besteht.
- 15. Verfahren gemäß Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das kationische oberflächenaktive Mittel aus einem Polyoxyäthylen-alkylaniin od-r einem Alkyltrimethylammoniumchlorid besteht,
- iö. Verfahren gemäß Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive Mittel aus einem Natrium-Dialkylsulfobernsteinsäureester, einem Schwefelsäureester eines höhermolekularen Alkohols oder einem Natrium-Polyoxyäthylen-alkylsulfat besteht.
- 17. Verfahren gemäß den Ansprüchen 4- bis l6, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Stabilisierungsmittels in der Lösung weniger als 5 Vol.-J^ (g/100 ecm) beträgt.
- 18. Verfahren gemäß Anspruch I7, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Stabilisierungsmittels in der Lösung weniger als 1 Vol.-^ (g/100 ecm) beträgt.209829/1098
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11900570A JPS5010698B1 (de) | 1970-12-26 | 1970-12-26 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2163985A1 true DE2163985A1 (de) | 1972-07-13 |
Family
ID=14750622
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19712163985 Pending DE2163985A1 (de) | 1970-12-26 | 1971-12-22 | Verfahren zum chemischen Lösen von Kupfer |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5010698B1 (de) |
DE (1) | DE2163985A1 (de) |
GB (1) | GB1316030A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2364162A1 (de) * | 1972-12-22 | 1974-07-11 | Furukawa Electric Co Ltd | Saure waessrige beizloesung zur behandlung von metallen |
DE4024909A1 (de) * | 1990-08-06 | 1992-02-13 | Kernforschungsz Karlsruhe | Selektive alkalische aetzloesung fuer kupfer oder kupferlegierungen |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1083401B (it) * | 1977-05-27 | 1985-05-21 | Alfachimici Spa | Soluzione acida per l'attacco selettivo del rame |
US5855805A (en) * | 1996-08-08 | 1999-01-05 | Fmc Corporation | Microetching and cleaning of printed wiring boards |
CN1865366B (zh) * | 2005-05-16 | 2010-12-15 | 3M创新有限公司 | 提高有机聚合物涂层对铜表面附着力的方法和组合物 |
WO2019013160A1 (ja) * | 2017-07-14 | 2019-01-17 | メルテックス株式会社 | 銅エッチング液 |
CN115613032B (zh) * | 2022-10-11 | 2024-09-20 | 苏州华星光电技术有限公司 | 蚀刻液 |
CN117328066B (zh) * | 2023-10-07 | 2024-03-22 | 江苏贺鸿电子有限公司 | 一种线路板用粗化微蚀剂及其制备方法 |
-
1970
- 1970-12-26 JP JP11900570A patent/JPS5010698B1/ja active Pending
-
1971
- 1971-12-21 GB GB5939371A patent/GB1316030A/en not_active Expired
- 1971-12-22 DE DE19712163985 patent/DE2163985A1/de active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2364162A1 (de) * | 1972-12-22 | 1974-07-11 | Furukawa Electric Co Ltd | Saure waessrige beizloesung zur behandlung von metallen |
DE4024909A1 (de) * | 1990-08-06 | 1992-02-13 | Kernforschungsz Karlsruhe | Selektive alkalische aetzloesung fuer kupfer oder kupferlegierungen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5010698B1 (de) | 1975-04-23 |
GB1316030A (en) | 1973-05-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102004064161B4 (de) | Verfahren zum Ätzen von Metallen, ausgewählt aus Nickel, Chrom, Nickel-Chrom-Legierungen und/oder Palladium | |
DE69218892T2 (de) | Komplexierungsmittel für das Zinnplattieren nach der Austauschmethode | |
DE1298383B (de) | Verfahren und Mittel zum chemischen Aufloesen von Kupfer | |
DE2848453C2 (de) | Verfahren zur Auflösung von Metallen, Zusammensetzungen dafür und Verwendung | |
DE2536404A1 (de) | Saure waessrige loesung fuer die selektive entfernung von zinn oder zinn-blei-legierungen von kupfersubstraten | |
DE1277480B (de) | Lackabbeizmittel | |
DE1621419B2 (de) | Mittel und verfahren zum aetzen von metallen insbesondere kupfer | |
EP0595881B1 (de) | Verwendung von halogenkohlenwasserstoff-freien reinigungsmitteln zur fluxentfernung von elektronischen und elektrischen baugruppen | |
DE2701409A1 (de) | Verfahren zur oberflaechenbehandlung von kupfer und seinen legierungen | |
DE1521663A1 (de) | AEtzmittel und Verfahren zur Aufloesung von Metallen | |
DE2163985A1 (de) | Verfahren zum chemischen Lösen von Kupfer | |
DE2137329C3 (de) | Lotflußmittel | |
DE3430345A1 (de) | Verfahren zum loesen von metallen | |
DE2848475C2 (de) | ||
DE2412134A1 (de) | Mittel und verfahren zum reinigen von zinn-blei-legierungen | |
DE2314378A1 (de) | Verfahren zur herstellung von gedruckten schaltungen aus kupfer und aetzmittel zur durchfuehrung des verfahrens | |
DE1621454B2 (de) | Bad und verfahren zum partiellen aetzen von kupfergegen staenden | |
CH647001A5 (de) | Verfahren zur selektiven entfernung von kupferverunreinigungen aus palladium und zinn enthaltenden waessrigen aktivatorloesungen. | |
AT395177B (de) | Aetzloesung | |
DE2028827A1 (de) | Atzbad und Verfahren zum Atzen nach der pulverlosen Atztechnik | |
DE1771064A1 (de) | Verfahren zur chemischen Aufloesung von Metall | |
DE1160270B (de) | Verfahren zur Aufloesung von Kupfer | |
DE2321880C2 (de) | Lösungsmittelgemische für die Reinigung von gelöteten elektrischen Bauteilen und ihre Verwendung | |
DE2055251C3 (de) | Verwendung von Ätzlösungen bei der Herstellung gedruckter Schaltungen | |
DE2050499C3 (de) | Pulverfreies, Ätzbad für Aluminium oder Legierungen davon |