DE202013012571U1 - Manufacturing plant for the production of a photovoltaic module and photovoltaic module - Google Patents
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Abstract
Photovoltaikmodul, hergestellt mittels eines Verfahrens mit den Schritten: – Bereitstellen eines Schichtstapels (101) mit einer ersten elektrisch leitfähigen Schicht (102), einem Absorber (103) und einer zweiten elektrisch leitfähigen Schicht (104) auf einem Substrat (105), und nachfolgend: – Durchtrennen der ersten Schicht (102), des Absorbers (103) und der zweiten Schicht (104) und dabei Ausbilden eines ersten Grabens (106), – Durchtrennen der zweiten Schicht (104) und des Absorbers (103) und dabei Ausbilden eines zweiten Grabens (107), – nochmaliges Durchtrennen zumindest der zweiten Schicht (104) und dabei Ausbilden eines dritten Grabens (108) so, dass der zweite Graben (107) zwischen dem ersten (106) und dem dritten (108) Graben angeordnet ist, – Auffüllen des ersten Grabens (106) mit einem elektrisch isolierenden Material (109), – Überschreiben des aufgefüllten ersten Grabens (106) und Auffüllen des zweiten Grabens (108) mit einem elektrisch leitfähigen Material (110) zur elektrischen Kontaktierung von zweiter Schicht (104) und erster Schicht (102).Photovoltaic module, produced by a method comprising the steps of: - providing a layer stack (101) with a first electrically conductive layer (102), an absorber (103) and a second electrically conductive layer (104) on a substrate (105), and subsequently Cutting the first layer (102), the absorber (103) and the second layer (104) and thereby forming a first trench (106), - severing the second layer (104) and the absorber (103) and thereby forming a second trench (107), - again severing at least the second layer (104) and thereby forming a third trench (108) such that the second trench (107) is arranged between the first (106) and the third (108) trench, - Filling the first trench (106) with an electrically insulating material (109), - Overwriting the filled-in first trench (106) and filling the second trench (108) with an electrically conductive Materia l (110) for electrically contacting the second layer (104) and the first layer (102).
Description
Die Erfindung betrifft weiterhin ein Photovoltaikmodul mit einer Vielzahl von elektrisch in Reihe geschalteten Segmenten. Die Erfindung betrifft weiterhin eine Herstellungsanlage zur Herstellung eines Photovoltaikmoduls.The invention further relates to a photovoltaic module having a plurality of electrically connected in series segments. The invention further relates to a manufacturing plant for producing a photovoltaic module.
Photovoltaikmodule können als sogenannte Kristalline Photovoltaikmodule ausgebildet sein. Die hierfür beispielsweise verwendeten monokristallinen Photovoltaikzellen werden aus einkristallinen Siliciumscheiben hergestellt. Polykristalline Photovoltaikzellen bestehen aus Scheiben, die nicht überall die gleiche Kristallorientierung aufweisen. Sie können durch Gießverfahren hergestellt werden. Quasikristalline Photovoltaikzellen weisen mono- und polykristalline Bereiche auf.Photovoltaic modules can be designed as so-called crystalline photovoltaic modules. The monocrystalline photovoltaic cells used for this purpose, for example, are produced from monocrystalline silicon wafers. Polycrystalline photovoltaic cells consist of disks that do not all have the same crystal orientation. They can be produced by casting. Quasicrystalline photovoltaic cells have mono- and polycrystalline regions.
Dünnschichtsolarzellen-Module, auch Dünnschichtphotovoltaikmodule genannt, weisen photoaktive Schichten mit Schichtdicken in der Größenordnung von Mikrometern auf. Das in der oder den photoaktiven Schichten eingesetzte Halbleitermaterial kann dabei amorph oder mikrokristallin sein. Auch eine Kombination von Schichten aus amorphen und Schichten aus mikrokristallinem Halbleitermaterial innerhalb einer Zelle ist möglich, zum Beispiel bei den so genannten Tandemzellen und den so genannten Tripelzellen. Als Halbleitermaterialien kommen Si, Ge und Verbindungshalbleiter wie CdTe oder Cu(In, Ga)Se2 (kurz CIS oder CIGS genannt) sowie Polymere zum Einsatz.Thin-film solar cell modules, also called thin-film photovoltaic modules, have photoactive layers with layer thicknesses in the order of micrometers. The semiconductor material used in the photoactive layer or layers may be amorphous or microcrystalline. A combination of layers of amorphous and layers of microcrystalline semiconductor material within a cell is also possible, for example in the so-called tandem cells and the so-called triple cells. The semiconductor materials used are Si, Ge and compound semiconductors such as CdTe or Cu (In, Ga) Se2 (abbreviated CIS or CIGS) and polymers.
Bei so genannten kristallinen Dünnschichtphotovoltaikmodulen wird zunächst eine große Menge eines Halbleitermaterials, beispielsweise Silizium, auf ein Substrat abgeschieden, beispielsweise durch Verdampfung, CVD oder ein weiteres Abscheideverfahren. Das Halbleitermaterial wird dann rekristallisiert. Dies geschieht beispielsweise mittels Laser oder thermisch. Die Schichtdicken sind beispielsweise im Bereich von 3 bis 50 µm. In so-called crystalline thin-film photovoltaic modules, first of all a large amount of a semiconductor material, for example silicon, is deposited on a substrate, for example by evaporation, CVD or another deposition method. The semiconductor material is then recrystallized. This happens for example by means of laser or thermally. The layer thicknesses are for example in the range of 3 to 50 μm.
Um wirtschaftliche Module mit möglichst großer Fläche einsetzen zu können, ohne dass der in den Elektroden der Solarzellen lateral abgeführte Strom so groß wird, dass hohe ohmsche Verluste auftreten, werden Dünnschichtphotovoltaikmodule üblicherweise in eine Vielzahl von Segmenten unterteilt. Die streifenförmigen und in der Regel einige Millimeter bis Zentimeter breiten Segmente verlaufen dabei meist parallel zu einer Kante des Moduls. Die Segmente werden gebildet, indem bei durchgehendem Substrat einzelne Schichten des Schichtaufbaus der Solarzelle durch dünne Trennlinien unterbrochen werden. Die Trennlinien führen zum einen dazu, dass gleiche Schichten benachbarter Segmente gegeneinander elektrisch isoliert sind und zum anderen dazu, dass nachfolgend aufgebrachte Schichten entlang einer Kontaktierung mit darunter liegenden Schichten elektrisch verbunden werden können. Bei geeigneter Anordnung der Trennlinien lässt sich auf diese Weise eine Reihenschaltung der einzelnen Segmente erreichen. In dem Bereich der Trennlinien wird kein elektrischer Strom erzeugt. Bei kristallinen Dünnschichtphotovoltaikmodulen wird die Serienverschaltung beispielsweise vergleichbar wie bei Dünnschichtphotovoltaikmodulen durchgeführt. Dabei ist es möglich, dass statt einer separaten Vorderseitenkontaktschicht ein hochdotierter Bereich des Absorbers als elektrisch leitfähige Schicht zum Stromtransport dient. Weiter ist es möglich, dass bei kristallinen Dünnschichtphotovoltaikmodulen nur von der Rückseite kontaktiert wird. Dabei wird zunächst ein Emitter hergestellt. Kontaktiert werden dann abwechselnd der Emitter und freigelegte Basisbereiche. Hier gibt es keine Reihenverschaltung und die Spannung bleibt gleich. Diese Kontaktierung wird beispielsweise durch Laserstrahlung und Drucktechniken hergestellt. Gemäß weiteren Ausführungsformen erfolgt eine Reihenverschaltung von Emitter zu Basis vergleichbar zu der Reihenverschaltung bei Dünnschichtphotovoltaikmodulen, nur dass die erste leitfähige Schicht nicht freigelegt wird und die komplette Verschaltung von hinten erfolgt.In order to be able to use economic modules with the largest possible area without the current dissipated laterally in the electrodes of the solar cells becoming so large that high ohmic losses occur, thin-film photovoltaic modules are usually divided into a plurality of segments. The strip-shaped and usually a few millimeters to centimeters wide segments usually run parallel to an edge of the module. The segments are formed by individual layers of the layer structure of the solar cell are interrupted by thin dividing lines in continuous substrate. On the one hand, the separating lines lead to the fact that identical layers of adjacent segments are electrically insulated from one another and, on the other hand, that subsequently applied layers can be electrically connected along a contact with underlying layers. With a suitable arrangement of the separating lines can be achieved in this way a series connection of the individual segments. No electrical current is generated in the area of the dividing lines. In the case of crystalline thin-film photovoltaic modules, for example, the series connection is carried out in a manner comparable to thin-film photovoltaic modules. It is possible that instead of a separate front-side contact layer, a highly doped region of the absorber serves as an electrically conductive layer for current transport. It is also possible for crystalline thin-film photovoltaic modules to be contacted only from the rear side. At first an emitter is produced. The emitter and exposed base areas are alternately contacted. There is no series connection here and the voltage remains the same. This contacting is produced for example by laser radiation and printing techniques. According to further embodiments, a series connection of emitter-to-base is made comparable to the series connection in the case of thin-film photovoltaic modules, except that the first conductive layer is not exposed and the complete interconnection takes place from the rear.
Es ist wünschenswert, ein Photovoltaikmodul anzugeben, das effizient ist. Es ist wünschenswert, eine Herstellungsanlage anzugeben, die eine einfache und effektive Herstellung von Photovoltaikmodulen ermöglicht. It is desirable to provide a photovoltaic module that is efficient. It is desirable to provide a manufacturing facility that enables simple and effective production of photovoltaic modules.
Ein Verfahren zur Herstellung eines Photovoltaikmoduls wird beschrieben sowie eine Herstellungsanlage, die zur Durchführung des Verfahrens geeignet ist. A method of manufacturing a photovoltaic module is described, as well as a manufacturing plant suitable for carrying out the method.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform der Erfindung wird zur Herstellung eines Photovoltaikmoduls ein Schichtstapel auf einem Substrat bereitgestellt. Der Schichtstapel weist eine erste elektrisch leitfähige Schicht, einen Absorber und eine zweite leitfähige Schicht auf. Die erste Schicht, der Absorber und die zweite Schicht werden zur Ausbildung eines ersten Grabens durchtrennt. Die zweite Schicht und der Absorber werden zum Ausbilden eines zweiten Grabens durchtrennt. Insbesondere ist der zweite Graben beabstandet zu dem ersten Graben. Zumindest die zweite leitfähige Schicht wird nochmals durchtrennt und dabei ein dritter Graben ausgebildet. Der zweite Graben ist zischen dem ersten und dem dritten Graben angeordnet. Der erste Graben wird mit einem elektrisch isolierenden Material aufgefüllt. Der aufgefüllte erste Graben wird mit einem elektrisch leitfähigen Material überschrieben. Der zweite Graben wird mit dem elektrisch leitfähigen Material aufgefüllt. Durch das elektrisch leitfähige Material, das den ersten Graben überbrückt und den zweiten Graben auffüllt, werden die zweite Schicht und die erste Schicht elektrisch miteinander kontaktiert. In accordance with at least one embodiment of the invention, a layer stack is provided on a substrate for producing a photovoltaic module. The layer stack has a first electrically conductive layer, an absorber and a second conductive layer. The first layer, the absorber and the second layer are severed to form a first trench. The second layer and the absorber are severed to form a second trench. In particular, the second trench is spaced from the first trench. At least the second conductive layer is severed again, thereby forming a third trench. The second trench is arranged between the first and the third trench. The first trench is filled with an electrically insulating material. The filled-in first trench is overwritten with an electrically conductive material. The second trench is filled with the electrically conductive material. By the electrically conductive material, which bridges the first trench and the second trench fills up, the second layer and the first layer are electrically contacted with each other.
Durch das Ausbilden der Gräben werden Segmente des Photovoltaikmoduls gebildet. Durch das Ausbilden des ersten Grabens werden insbesondere die ersten Schichten benachbarter Segmente gegeneinander isoliert. Durch das Ausbilden des dritten Grabens werden insbesondere die zweiten Schichten benachbarter Segmente gegeneinander elektrisch isoliert. Mittels des elektrisch leitfähigen Materials in dem zweiten Graben werden die erste Schicht und die zweite Schicht benachbarter Segmente miteinander elektrisch verbunden. Somit sind die benachbarten Segmente elektrisch in Reihe geschaltet. By forming the trenches, segments of the photovoltaic module are formed. In particular, the first layers of adjacent segments are insulated from one another by forming the first trench. In particular, the second layers of adjacent segments are electrically insulated from one another by the formation of the third trench. By means of the electrically conductive material in the second trench, the first layer and the second layer of adjacent segments are electrically connected to one another. Thus, the adjacent segments are electrically connected in series.
Gemäß Ausführungsformen sind die Gräben beabstandet zueinander ausgebildet. Gemäß weiteren Ausführungsformen grenzen die Gräben unmittelbar aneinander an, insbesondere werden zunächst der erste und der dritte Graben angrenzend aneinander ausgebildet. Nachfolgend wird beispielsweise der erste und der dritte Graben mit dem elektrisch isolierenden Material gefüllt und der zweite Graben neben dem ersten Graben in das elektrisch isolierende Material eingebracht, um die erste elektrisch leitfähige Schicht im Bereich des zweiten Grabens freizulegen.According to embodiments, the trenches are spaced from one another. According to further embodiments, the trenches adjoin one another directly, in particular firstly the first and the third trench are formed adjacent to one another. Subsequently, for example, the first and third trenches are filled with the electrically insulating material and the second trench is inserted next to the first trench in the electrically insulating material to expose the first electrically conductive layer in the region of the second trench.
Das Ausbilden des ersten Grabens und das nachfolgende Auffüllen mit dem isolierenden Material ermöglicht ein verlässliches Ausbilden der Isolierung der ersten Schicht, so dass es zu keinen Kurzschlüssen in der ersten Schicht zwischen benachbarten Segmenten kommen kann. Durch das Ausbilden des dritten Grabens beabstandet zu dem zweiten Graben ist eine verlässliche Isolierung der zweiten Schichten von benachbarten Segmenten möglich. Beim Aufbringen des elektrisch leitfähigen Materials können somit größere Toleranzen erlaubt werden und gleichzeitig werden Kurzschlüsse in der zweiten Schicht verlässlich vermieden. The formation of the first trench and the subsequent filling with the insulating material allow a reliable formation of the insulation of the first layer, so that there can be no short circuits in the first layer between adjacent segments. By forming the third trench spaced from the second trench, reliable isolation of the second layers from adjacent segments is possible. When applying the electrically conductive material thus greater tolerances can be allowed and at the same time shorts are reliably avoided in the second layer.
Gemäß Ausführungsformen werden zum Ausbilden des dritten Grabens die zweite Schicht und der Absorber durchtrennt. Somit können zum Ausbilden des zweiten und des dritten Grabens die gleichen Prozessparameter verwendet werden. Beispielsweise werden alle drei Gräben durch Einstahlen von Laser ausgebildet. Gemäß weiteren Ausführungsformen ist eine mechanische Strukturierung möglich, bei der die drei Gräben jeweils durch ein Kratzen ausgebildet werden. Gemäß weiteren Ausführungsformen ist eine Strukturierung durch Ätzen möglich, bei der die drei Gräben jeweils durch Aufdrucken von Ätztinten ausgebildet werden. Beispielsweise wird eine Tinte aufgedruckt, die auf Kaliumhydroxid basiert. Die Ätztinte ätzt den Schichtstapel insbesondere selektiv so, das dass das Ätzen vorgegebene Schichten abträgt und bei einer vorgegebenen Schicht stoppt. Es ist auch eine Kombination aus mechanischer Strukturierung, Laserstrukturierung und/oder Ätzen möglich oder ein anderes Schichtentfernungsverfahren. According to embodiments, to form the third trench, the second layer and the absorber are severed. Thus, the same process parameters can be used to form the second and third trenches. For example, all three trenches are formed by laser beaming. According to further embodiments, a mechanical structuring is possible in which the three trenches are each formed by scratching. According to other embodiments, structuring by etching is possible, in which the three trenches are each formed by printing on etching inks. For example, an ink based on potassium hydroxide is printed. In particular, the etching ink selectively etches the layer stack in such a way that the etching removes predetermined layers and stops at a predetermined layer. It is also possible a combination of mechanical structuring, laser structuring and / or etching or another layer removal method.
Gemäß Ausführungsformen wird das elektrisch isolierende Material mittels eines Tintenstrahldruckverfahrens in den ersten Graben eingebracht. Beispielsweise wird elektrisch isolierende Tinte oder ein Polymer in den ersten Graben gedruckt. Gemäß weiteren Ausführungsformen wird das elektrisch leitfähige Material durch ein Tintenstrahldruckverfahren aufgebracht. Das elektrisch leitfähige Material umfasst insbesondere eine silberhaltige Tinte. Gemäß weiteren Ausführungsformen wird ein anderes elektrisch leitfähiges Material aufgedruckt, beispielsweise Aluminium oder Kupfer. Das elektrisch isolierende Material und/oder das elektrisch leitfähige Material werden gemäß weiteren Ausführungsformen mittels eines Siebdruckverfahrens oder einem anderen Verfahren zum strukturierten Aufbringen aufgebracht. According to embodiments, the electrically insulating material is introduced into the first trench by means of an inkjet printing process. For example, electrically insulating ink or a polymer is printed in the first trench. According to further embodiments, the electrically conductive material is applied by an inkjet printing process. The electrically conductive material comprises in particular a silver-containing ink. According to further embodiments, another electrically conductive material is printed, for example aluminum or copper. The electrically insulating material and / or the electrically conductive material are applied according to further embodiments by means of a screen printing method or another method for structured application.
Gemäß weiterer Ausführungsformen werden eine Mehrzahl von Leitungsbereichen ausgebildet, die voneinander beabstandet entlang des ersten Grabens angeordnet sind. Die Leitungsbereiche weisen jeweils das leitfähige Material zur elektrischen Kontaktierung von der zweiten Schicht und der ersten Schicht auf. Die zweite Schicht ist in weiteren Bereichen zwischen den Leitungsbereichen frei von dem elektrisch isolierenden Material. Die elektrische Kontaktierung zwischen der zweiten Schicht und der ersten Schicht erfolgt also nur abschnittsweise. Somit ist es möglich, leitfähiges Material einzusparen. Zudem wird bezogen auf das Photovoltaikmodul weniger Fläche für die Kontaktierung benötigt. Bei gleichbleibender Modulgröße wird somit die Effizienz des Photovoltaikmoduls gesteigert. According to further embodiments, a plurality of conductive regions are formed, which are arranged spaced apart along the first trench. The conductive regions each comprise the conductive material for electrical contacting of the second layer and the first layer. The second layer is free of the electrically insulating material in further regions between the line regions. The electrical contact between the second layer and the first layer is thus only partially. Thus, it is possible to save conductive material. In addition, based on the photovoltaic module requires less surface for contacting. If the module size remains the same, the efficiency of the photovoltaic module is thus increased.
Gemäß weiteren Ausführungsformen wird eine Mehrzahl von Isolierungsbereichen ausgebildet, die beabstandet voneinander entlang des ersten Grabens angeordnet sind. Die Isolierungsbereiche umfassen jeweils das elektrisch isolierende Material. Der erste Graben ist in einem weiteren Bereich frei von dem elektrisch isolierenden Material. Die Isolierungsbereiche korrespondieren mit den Leitungsbereichen. Somit kann elektrisch isolierendes Material eingespart werden und dennoch eine verlässliche Isolierung der ersten Schicht realisiert werden. Lediglich in den Bereichen, in denen das elektrisch leitfähige Material aufgebracht wird, wird das elektrisch isolierende Material in den ersten Graben eingebracht. According to further embodiments, a plurality of isolation regions are formed, which are spaced apart along the first trench. The isolation regions each include the electrically insulating material. The first trench is free of the electrically insulating material in a wider area. The isolation areas correspond to the line areas. Thus, electrically insulating material can be saved and yet a reliable insulation of the first layer can be realized. Only in the areas in which the electrically conductive material is applied, the electrically insulating material is introduced into the first trench.
Gemäß weiteren Ausführungsformen wird der aufgefüllte erste Graben so mit dem leitfähigen Material überschrieben, dass eine Oberfläche des leitfähigen Materials eine vorgegebene Rauheit aufweist, um im Betrieb eintreffende Strahlung zu streuen. Durch die interne Reflektion der eintreffenden Strahlung an dem hoch reflektierenden leitfähigen Material wird die Strahlung aus dem Kontaktierungsbereich der Gräben in die Segmente reflektiert. Somit ist es möglich, auch diese Strahlung zumindest teilweise in elektrische Energie umzuwandeln. Durch die vorgegebene Rauheit, die beispielsweise durch geeignete Abscheidebedingungen vorgegeben wird, wird der Anteil der Strahlung erhöht, der in elektrische Energie umgewandelt wird. Somit wird die Effizienz des Photovoltaikmoduls erhöht. In other embodiments, the filled-in first trench is overwritten with the conductive material such that a surface of the conductive material has a predetermined roughness to scatter radiation incident during operation. Due to the internal reflection of the incident radiation at the highly reflective conductive Material is the radiation from the contacting region of the trenches reflected in the segments. Thus, it is possible to at least partially convert this radiation into electrical energy. Due to the predetermined roughness, which is predetermined for example by suitable deposition conditions, the proportion of radiation is increased, which is converted into electrical energy. Thus, the efficiency of the photovoltaic module is increased.
Gemäß weiteren Ausführungsformen wird das leitfähige Material so aufgebracht, dass ein Großteil einer dem Absorber abgewandten Oberfläche der zweiten Schicht von dem leitfähigen Material bedeckt ist. Ein zu dem dritten Graben benachbarter Bereich bleibt frei von dem leitfähigen Material. Dies bietet sich insbesondere an, wenn das leitfähige Material in den zueinander beabstandeten Leitungsbereichen aufgebracht wird. Dadurch, dass nahezu die gesamte Oberfläche der zweiten Schicht mit der elektrisch leitfähigen Schicht bedeckt ist, wird die Leitfähigkeit der zweiten Schicht erhöht. Somit ist es möglich, die einzelnen Segmente breiter als herkömmlich auszubilden. Dies bedeutet weniger Kontaktierungsbereiche und somit eine höhere Effizienz. According to further embodiments, the conductive material is applied such that a major part of an absorber-facing surface of the second layer is covered by the conductive material. An area adjacent to the third trench remains free of the conductive material. This is particularly useful when the conductive material is applied in the spaced line regions. By covering almost the entire surface of the second layer with the electrically conductive layer, the conductivity of the second layer is increased. Thus, it is possible to make the individual segments wider than conventional. This means fewer contacting areas and thus a higher efficiency.
Gemäß weiteren Ausführungsformen wird der Schichtstapels mit der ersten elektrisch leitfähigen Schicht und dem Absorber ohne die zweite elektrisch leitfähige Schicht bereitgestellt.According to further embodiments, the layer stack is provided with the first electrically conductive layer and the absorber without the second electrically conductive layer.
Anschließen wird die erste Schicht und der Absorber durchtrennt und dabei der erste Graben ausgebildet. Der Absorber wird durchtrennt und dabei der zweite Graben ausgebildet. Insbesondere ist der zweite Graben beabstandet zu dem ersten Graben. Der erste Graben wird mit dem elektrisch isolierenden Material gefüllt. Eine der ersten elektrisch leitfähigen Schicht abgewandte Seite des Absorbers wird mit einer zweiten elektrisch leitfähigen Schicht des leitfähigen Materials so bedruckt, dass der aufgefüllte erste Graben überschrieben wird und der zweite Grabens mit dem elektrisch leitfähigen Material aufgefüllt wird und ein dritter Graben in der zweiten Schicht frei von dem elektrisch leitfähigen Material bleibt, wobei der zweite Graben zwischen dem ersten Graben und dem dritten Graben angeordnet ist.Subsequently, the first layer and the absorber are severed, thereby forming the first trench. The absorber is severed, thereby forming the second trench. In particular, the second trench is spaced from the first trench. The first trench is filled with the electrically insulating material. A side of the absorber facing away from the first electrically conductive layer is printed with a second electrically conductive layer of the conductive material so that the filled-in first trench is overwritten and the second trench is filled up with the electrically conductive material and a third trench is freed in the second layer remains of the electrically conductive material, wherein the second trench between the first trench and the third trench is arranged.
Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die Erfindung ein Photovoltaikmodul mit einer Vielzahl von elektrisch in Reihe geschalteten Segmenten. Das Photovoltaikmodul ist insbesondere durch ein anmeldungsgemäßes Verfahren hergestellt. According to a further aspect, the invention relates to a photovoltaic module with a plurality of electrically connected in series segments. The photovoltaic module is produced in particular by a method according to the application.
Gemäß Ausführungsformen umfasst das Photovoltaikmodul einen auf einem Substrat angeordneten Schichtstapel. Der Schichtstapel weist eine erste elektrisch leitfähige Schicht, einen photoaktiven Absorber und eine zweite elektrisch leitfähige Schicht auf. Ein erster Graben unterbricht den Absorber und die erste elektrisch leitfähige Schicht. In dem ersten Graben ist ein elektrisch isolierendes Material angeordnet. Ein zweiter Graben unterbricht den Absorber. Ein dritter Graben unterbricht zumindest die zweite leitfähige Schicht. Der erste, der zweite und der dritte Graben sind insbesondere jeweils beabstandet zueinander angeordnet. Das Photovoltaikmodul weist eine Kontaktierung auf. Die Kontaktierung koppelt die zweite Schicht elektrisch mit der ersten Schicht zur Reihenschaltung der Segmente. Die Kontaktierung ist auf einer der ersten leitfähigen Schicht abgewandten Seite des Absorbers aufgebracht zur elektrischen Überbrückung des ersten Grabens. Die Kontaktierung ist in dem zweiten Graben mit der ersten Schicht elektrisch gekoppelt. Die Kontaktierung ist in dem zweiten Graben mit der ersten Schicht in Kontakt. According to embodiments, the photovoltaic module comprises a layer stack arranged on a substrate. The layer stack has a first electrically conductive layer, a photoactive absorber and a second electrically conductive layer. A first trench interrupts the absorber and the first electrically conductive layer. In the first trench an electrically insulating material is arranged. A second trench interrupts the absorber. A third trench interrupts at least the second conductive layer. The first, the second and the third trench are in particular each spaced from each other. The photovoltaic module has a contact. The contact electrically couples the second layer to the first layer for series connection of the segments. The contacting is applied on a side of the absorber remote from the first conductive layer for electrical bridging of the first trench. The contacting is electrically coupled in the second trench to the first layer. The contacting is in the second trench in contact with the first layer.
Gemäß Ausführungsformen ist die Kontaktierung unmittelbar durch Teile der zweiten elektrisch leitfähigen Schicht ausgebildet. Auf eine separat zur der zweiten elektrisch leitfähigen Schicht ausgebildete Kontaktierung wird insbesondere verzichtet. Die Kontaktierung ist auf der der ersten leitfähigen Schicht abgewandten Oberfläche des Absorbers aufgebracht.According to embodiments, the contacting is formed directly by parts of the second electrically conductive layer. On a separately formed to the second electrically conductive layer contacting is particularly omitted. The contacting is applied to the surface of the absorber facing away from the first conductive layer.
Gemäß weiteren Ausführungsformen sind die Kontaktierung und die zweite elektrisch leitfähige Schicht separat zueinander ausgebildet. Insbesondere ist die zweite elektrisch leitfähige Schicht auf die der ersten leitfähigen Schicht abgewandten Oberfläche des Absorbers aufgebracht und jeweils von dem ersten, dem zweiten und dem dritten Graben durchbrochen. Die Kontaktierung ist auf der dem Absorber abgewandten Oberfläche der zweiten Schicht angeordnet.According to further embodiments, the contacting and the second electrically conductive layer are formed separately from one another. In particular, the second electrically conductive layer is applied to the surface of the absorber facing away from the first conductive layer and in each case penetrated by the first, the second and the third trench. The contacting is arranged on the surface of the second layer facing away from the absorber.
Die Kontaktierung weist gemäß Ausführungsformen auf einer dem Absorber abgewandten Oberfläche eine vorgegebene Rauheit auf, um im Betrieb eintreffende Strahlung zu streuen. Somit wird ein großer Teil der eintreffenden Strahlung in elektrische Energie umgewandelt. Das Photovoltaikmodul ist effizient. According to embodiments, the contacting has a predetermined roughness on a surface facing away from the absorber, in order to scatter radiation arriving during operation. Thus, a large part of the incoming radiation is converted into electrical energy. The photovoltaic module is efficient.
Gemäß Ausführungsformen ist die Kontaktierung in einer Mehrzahl von zueinander beabstandeten Leitungsbereichen entlang des ersten Grabens ausgebildet und insbesondere ist das elektrisch isolierende Material in dem ersten Graben nur in den Leitungsbereichen angeordnet. Dadurch ist das Photovoltaikmodul kostengünstig herstellbar und im Betrieb effizient. According to embodiments, the contacting is formed in a plurality of spaced-apart line regions along the first trench, and in particular the electrically insulating material is arranged in the first trench only in the line regions. As a result, the photovoltaic module is inexpensive to produce and efficient in operation.
Die Herstellungsanlage gemäß weiteren Aspekten der Erfindung ist gemäß Ausführungsformen ausgebildet zur Herstellung eines Photovoltaikmoduls mit einer Mehrzahl von Segmenten durch ein Strukturieren einer großflächigen Photovoltaikzelle in die Mehrzahl von Segmenten und durch ein Metallisieren zur Reihenverschaltung der Segmente.The manufacturing facility according to further aspects of the invention is configured according to embodiments for producing a photovoltaic module having a plurality of segments by structuring a large-area photovoltaic cell in FIG the plurality of segments and by metallizing for series connection of the segments.
Gemäß weiteren Ausführungsformen ist die Herstellungsanlage dazu ausgebildet zum Strukturieren und Verschalten von kristallinen Photovoltaikzellen durch eine Abfolge von Strukturierungsschritten und Metallisierungsschritten ohne die Herstellung einer Reihenverschaltung. Die Photovoltaikzellen sind danach vielmehr funktionsfähig und elektrisch kontaktierbar zur Verarbeitung zum Photovoltaikmodul.According to further embodiments, the manufacturing plant is designed for structuring and interconnecting crystalline photovoltaic cells by a sequence of structuring steps and metallization steps without the production of a series connection. The photovoltaic cells are then rather functional and electrically contactable for processing to the photovoltaic module.
Die beschriebenen Vorteile des Herstellungsverfahrens treffen sinngemäß auch auf die Herstellungsanlage und/oder das Photovoltaikmodul zu und umgekehrt. The described advantages of the manufacturing process apply mutatis mutandis to the manufacturing plant and / or the photovoltaic module and vice versa.
Weitere Vorteile, Merkmale und Weiterbildungen ergeben sich aus den im Folgenden in Verbindung mit den Figuren erläuterten Beispielen. In den Figuren können gleiche oder gleich wirkende Bestandteile jeweils mit den gleichen Bezugszeichen versehen sein. Die dargestellten Elemente und deren Größenverhältnisse zueinander sind nicht als maßstabsgerecht anzusehen. Vielmehr können einzelne Elemente wie beispielsweise Schichten, Strukturen, Bereiche und Komponenten zur besseren Darstellbarkeit und/oder zum besseren Verständnis übertrieben dick oder groß dimensioniert dargestellt sein. Further advantages, features and developments emerge from the examples explained below in connection with the figures. In the figures, the same or equivalent components may each be provided with the same reference numerals. The illustrated elements and their proportions to each other are not to be considered as true to scale. Rather, individual elements such as layers, structures, regions and components for exaggerated representability and / or better understanding can be shown exaggerated thick or large dimensions.
Es zeigen: Show it:
Das Photovoltaikmodul
Gemäß weiteren Ausführungsbeispielen, wie schematisch in
Quer zur flächigen Hauptausbreitungsrichtung des Photovoltaikmoduls
Gemäß Ausführungsformen ist die erste leitfähige Schicht
Beispielsweise ist diejenige Schicht der elektrisch leitfähigen Schichten
Der Absorber
Zur besseren Ausnutzung des Wellenlängenspektrums können mehrere pin-Schichtfolgen mit unterschiedlichen Absorptionsspektren übereinander in dem Absorber
Typischerweise ist die p-dotierte Schicht in Betrieb des Photovoltaikmoduls der Sonne zugewandt. Es ist auch möglich, dass die n-dotierte Schicht der Sonne zugewandt ist. Als Aufwachssubstrat
Als aktives Halbleitermaterial für den Absorber
In dem Kontaktierungsbereich
Im Kontaktierungsbereich
Der dritte Graben
Der erste Graben
Zur elektrischen Reihenschaltung der Segmente
Nachdem das elektrisch isolierende Material
Das elektrisch leitfähige Material
Das elektrisch leitfähige Material
Im Bereich des dritten Grabens
Der zweite Graben
Gemäß weiteren Ausführungsformen wird der Graben
Beispielsweise weist der Bereich
Gemäß weiteren Ausführungsformen wird der Graben
Insbesondere bedeckt das elektrisch leitfähige Material
An der rauen Struktur der Oberfläche
Das Deckelement
Die Strahlung wird teilweise am Übergang zwischen Substrat
Nachfolgend wird die zweite elektrisch leitfähige Schicht
Das leitfähige Material
Nachfolgend wird, wie in
Anschließend wird, wie in
Bei der Reihenfolge der Strukturierung und Metallisierung gemäß den Ausführungsbeispielen der
Gemäß weiteren Ausführungsformen werden die Gräben
Gemäß weiteren Ausführungsformen wird das isolierende Material
Die Herstellungsanlage
Das Substrat
Die Tintenstrahldruckvorrichtung
Wie in
Die Tintenstrahldruckvorrichtungen
Durch die Zusammenfassung der Strukturierungsschritte in die gemeinsame Strukturierungseinrichtung
Somit kann auch auf die dafür herkömmlich notwendigen Produktionsanlagen verzichtet werden. Thus, it is also possible to dispense with the conventionally necessary production facilities.
Durch die wegfallenden Vakuumschleuseschritte während der Herstellung des Schichtstapels
Durch die bewusste Reflexion und Streuung der Strahlung im Kontaktierungsbereich
Folglich ist es möglich, die Investitionskosten und die Herstellungskosten zu reduzieren. Zudem ist es möglich, die Effizienz der Photovoltaikmodule
Die Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele auf diese beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Ansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den Ansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist. Beispielsweise ist eine Kombination des elektrisch isolierenden Materials
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