DE19721043C2 - Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der optischen Eigenschaften und Schichtdicke von Materialien - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der optischen Eigenschaften und Schichtdicke von MaterialienInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung der optischen
Eigenschaften und Schichtdicke von Materialien, bei dem vorpolarisiertes
Licht auf eine zu untersuchende Probe fällt und die Änderung des
Polarisationszustandes bei der Reflexion an der Probe mittels Einrichtungen
zur Analyse des reflektierten Lichts, aufweisend ein Detektorsystem,
gemessen wird, wobei eine mit einer Umdrehungsfrequenz f rotierende
optische Komponente vorgesehen ist, sowie eine Vorrichtung hierzu,
aufweisend Einrichtungen zur Erzeugung monochromatischen polarisierten
Lichts sowie Einrichtungen zur Analyse des von der Oberfläche der zu
untersuchenden Probe reflektierten Lichtstrahls mit verändertem
Polarisationszustand, wobei die Einrichtungen mindestens eine rotierende
optische Komponente aufweisen.
Derartige Vorrichtungen, Ellipsometer, sind hochgenaue optische Meß
systeme zur Bestimmung der Dicke dünner Schichten und der optischen
Konstanten von Materialien, wie sie beispielsweise in Surf. Sci. 96, p. 108
(1980) oder in "Optical Characterization of Epitaxial Semiconductor Layers",
G. Bauer, W. Richter (Eds.), Springer Verlag, 1996, S. 71 bis 79 und 95 bis
98 beschrieben sind. Das Prinzip basiert auf der Messung der Änderung des
Polarisationszustandes des vorpolarisierten Meßlichts, die bei der Reflexion
an der zu untersuchenden Probe auftritt. Hierbei wird das aus einer
Lichtquelle austretende Licht monochromatisiert und polarisiert. Dieses
vorpolarisierte Licht fällt auf die Probe, deren Oberfläche den Lichtstrahl mit
verändertem Polarisationszustand reflektiert. Der in seiner Polarisation
geänderte Lichtstrahl wird über einen Analysator einem Detektor zugeführt,
der die Intensität des durchtretenden Lichts mißt. Wahlweise kann
Polarisator, Analysator, Probe oder ein zusätzlich angeordneter Kompensator
rotieren.
Zur Bestimmung der Polarisation des reflektierten Lichts wird bei modernen
Ellipsometern beispielsweise die Lichtintensität nach Passieren eines
kontinuierlich rotierenden Polarisationsprismas bei einer bestimmten Anzahl
von Azimuthpositionen gemessen. Aus diesem mit der Umdrehungsfrequenz
der rotierenden optischen Komponenten modulierten Intensitätsverlauf
können die optischen Eigenschaften und Schichtdicken der Probe berechnet
werden. Dies kann sowohl für nur eine Wellenlänge des Meßlichts als auch
für einen größeren Spektralbereich erfolgen.
Die Winkelpositionen werden von einem Inkrementalenkoder vorgegeben,
der mit dem Polarisationsprisma auf einer Achse montiert ist und der bei der
Rotation Triggersignale jeweils nach Weiterdrehen eines konstanten
inkrementalen Winkels erzeugt. Bei Eintreffen dieser Signale wird jeweils von
einem Meß-Computer, einem Bestandteil der Einrichtung zur Analyse, die
Intensität gemessen. Außerdem erzeugt der Inkrementalenkoder einmal pro
Umdrehung einen Referenzimpuls. Ein derartiges Meßverfahren ist in Appl.
Opt., vol. 14, no. 1, pp. 220 (1975) dargestellt.
Da die signalverstärkende Elektronik in der Praxis eine nicht verschwindende
Integrationszeit besitzt, erfährt der gemessene sinusförmige Intensitätsverlauf
in Abhängigkeit vom Drehwinkel eines als Analysator eingesetzten
Polaristionsprismas gegenüber dem tatsächlich am Detektor auftretenden
eine Dämpfung η seiner Amplitude sowie eine Phasenverschiebung α0
bezüglich der Winkelposition des Referenzpulses. In Appl. Opt., vol. 14, no.
1, pp. 220 (1975) ist beschrieben, daß die elektronische Dämpfung η und die
damit zusammenhängende Phasenverschiebung α0 vor der eigentlichen
Messung in einer Kalibrierungsmessung bei einer Umdrehungsfrequenz f des
Polarisationsprismas bestimmt und nur einmal vor Beginn der Messung die
rotierende Komponente entsprechend eingestellt wird.
Die Parameter η und α0 sind aber außer von der Integrationszeit empfindlich
abhängig von der Modulationsfrequenz des Signals, also der
Umdrehungsfrequenz des Polarisationsprismas. Dies gilt verstärkt dann,
wenn zusätzliche elektronische Filter verwendet werden, die das Signal von
hochfrequentem Rauschen befreien sollen, da diese Filter in der Regel eine
ausgeprägt frequenzabhängige Wirkung zeigen (beschrieben in
"Halbleiterschaltungstechnik", U. Tietze, C. Schenk, Springer Verlag 1976, S.
306 bis 311. Zeitliche Instabilitäten der Umdrehungsfrequenz (statistisches
Rauschen, langfristiger Drift) beeinträchtigen somit stark die Meßgenauigkeit
(Signal-/Rauschverhältnis, Absolutgenauigkeit).
Um einen hohen Gleichlauf der Prismenrotation zu gewährleisten, sind dem
Stand der Technik nach Lösungen bekannt, die jedoch einen großen
mechanisch/elektronischen Aufwand erfordern. So sind in Appl. Opt., vol. 14,
no. 1, pp. 220 (1975) frequenzstabilisierte Synchronmotoren oder im
Teilkatalog "DC Tachometer Generators" des Katalogs "Motoren und
Antriebe" der Fa. Maccon, Kühbachstr. 9, 81543 München Tachometer
rückgekoppelte DC-Motoren beschrieben. Weiterhin bekannt sind
reibungsarme Lager und/oder großer Schwungmassen. Insbesondere die
Verwendung großer Schwungmassen steht der Realisierung immer
kompakterer moderner Anlagen entgegen, die problemlos an andere
Prozeßanlagen anzubauen sind. Auch eine verbleibende restliche Instabilität
ist bei den genannten Lösungen unvermeidlich, so daß die oben erwähnten
Fehler im Zusammenhang mit der Meßgenauigkeit nicht vollständig beseitigt
werden können.
Deshalb ist es Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren der eingangs erwähnten
Art zur Bestimmung der optischen Eigenschaften und Schichtdicke von
Materialien anzugeben, das präzise Meßwerte gewährleistet, sowie eine
Vorrichtung hierzu, die ein gegenüber dem Stand der Technik verbessertes
Signal-/Rauschverhältnis aufweist und eine Erhöhung der Absolutgenauigkeit
ohne aufwendige mechanisch/elektronische Mittel zur Frequenzstabilisierung
ermöglicht.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß bei einem Verfahren
der eingangs erwähnten Art vor der eigentlichen Messung der Änderung des
Polarisationszustandes des an der Oberfläche der zu untersuchenden Probe
reflektierten Lichtstrahls eine Mehrfrequenz-Kalibrierungsmessung
durchgeführt wird, bei der die Umdrehungsfrequenz f der rotierenden
optischen Komponente variiert wird und die Abhängigkeit von der
Umdrehungsfrequenz der rotierenden optischen Komponente sowohl für die
Dämpfungskonstante η(f) des Detektorsystems als auch für die
Phasenverschiebung α0(f) bezüglich der Winkelposition des Referenzpulses
ermittelt und ausgewertet wird, danach bei der eigentlichen Messung die
Frequenz der rotierenden optischen Komponente für jede Umdrehung
gemessen und anschließend der gemessene Intensitätsverlauf des
reflektierten Lichtes mit verändertem Polarisationszustand durch Modulation
mit der Umdrehungsfrequenz der rotierenden optischen Komponente
korrigiert wird.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren werden sowohl kurzzeitige
Meßsignalschwankungen als auch Langzeit-Driftprozesse bei der
Ellipsometriemessung auf Werte im sub-Promille-Bereich reduziert.
In der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Bestimmung der optischen
Eigenschaften und Schichtdicke von Materialien weisen die Einrichtungen zur
Analyse des von der Oberfläche der zu untersuchenden Probe reflektierten
Lichtstrahls einen Winkelenkoder, Detektor und Signalelektronik sowie ein
elektronisches Gate und einen elektronischen Zählerbaustein zur
Registrierung der während der Gate-Öffnungszeit jeweils pro Umdrehung der
rotierenden optischen Komponente durchlaufenden Zählimpulse und einen
Meß-Computer zur Auswertung der registrierten Zählimpulse zur
Kompensation der Rotationsfrequenzänderung der optischen Komponenten
auf.
Die erfindungsgemäße Lösung kann wegen ihres geringen
mechanisch/elektronischen Aufwands in bereits vorhandenen kommerziellen
Meßsystemen zur Bestimmung der optischen Eigenschaften und Schichtdicke
von Materialien Anwendung finden. Die aus der Lösung resultierende
quarzgenaue Kompensierung der unerwünschten Frequenzänderung der
rotierenden optischen Komponente gewährleistet ein im Vergleich zum Stand
der Technik verbessertes Signal-/Rauschverhältnis.
Der von dem bereits erwähnten Inkrementalenkoder einmal pro Umdrehung
erzeugte Referenzimpuls öffnet in der erfindungsgemäßen Vorrichtung ein
elektronisches Gate für quarzstabile hochfrequente Zählimpulse. Das nach
einer vollzogenen Umdrehung der rotierenden optischen Komponente unter
Aufnahme einer definierten Anzahl von Intensitätsmesspunkten folgende
Referenzsignal schließt das Gate. Die während der Gate-Öffnungszeit von
einem elektronischen Zählerbaustein registrierten Zählimpulse sind
umgekehrt proportional zur Umdrehungsfrequenz und erlauben eine
Frequenzzuweisung zur aktuell vollendeten Umdrehung der rotierenden
optischen Komponente mit einer Genauigkeit von df/f = 10-5. Der Zählerstand
wird nach jeder Umdrehung in den Meß-Computer eingelesen und eine
Kompensation der durch die Frequenzänderung der rotierenden optischen
Komponente bewirkten Schwankungen von η(f) und α0(f) vorgenommen.
Weitere Einzelheiten der Erfindung und ihrer vorteilhaften
Ausführungsformen werden im Zusammenhang mit der folgenden
Beschreibung der Figuren näher erläutert.
Dabei zeigen
Fig. 1 den während einer Umdrehung des Polarisationsprismas tatsächlich
vorhandenen und den gemessenen Intensitätsverlauf im Vergleich;
Fig. 2 ein Ausführungsbeispiel der Erfindung für die Einrichtung zur Analyse
der optischen Eigenschaften und Schichtdicke von Materialien;
Fig. 3 Frequenzeichkurve der Dämpfungskonstante η(f), gemessen mit der in
Fig. 2 dargestellten Einrichtung;
Fig. 4 Frequenzeichkurve der Phasenverschiebung α0(f), gemessen mit der in
Fig. 2 dargestellten Einrichtung;
Fig. 5 ellipsometrische Meßkurven im Vergleich ohne und mit Mehrfrequenz-
Kalibrierungsmessung für die Meßgrößen tanψ und cosΔ in
Abhängigkeit der Photonenenregie.
Der in Fig. 1 im Vergleich dargestellte tatsächliche Intensitätsverlauf IR und
der gemessene Intensitätsverlauf IM in Abhängigkeit vom Rotationswinkel α
des Polarisationsprismas während einer Umdrehung des
Polarisationsprismas macht die aus der Integrationszeit der
signalverstärkenden Elektronik in den Einrichtungen zur Analyse des
reflektierten Lichtstrahls mit verändertem Polarisationszustand resultierenden
Abweichungen in den Intensitätsverläufen deutlich. Der gemessene
Intensitätsverlauf IM erfährt gegenüber dem tatsächlich am Detektor
auftretenden Intensitätsverlauf IR eine Dämpfung η und eine
Phasenverschiebung α0 bezüglich des Referenzimpulses.
Um diese Meßungenauigkeiten, die letztendlich auch wieder in die
Meßergebnisse der ellipsometrischen Parameter eingehen, zu verringern, ist
in Fig. 2 ein Ausführungsbeispiel der Erfindung für die Einrichtung zur
Analyse der optischen Eigenschaften und der Schichtdicke der Probe
dargestellt, mit der eine Mehrfrequenz-Kalibrierungsmessung durchgeführt
werden kann. Der von der Probe reflektierte Lichtstrahl, dessen Polarisation
bei der Reflexion eine Änderung erfahren hat, passiert ein kontinuierlich
rotierendes Polarisationsprisma P. Von einem Inkrementalenkoder W werden
Winkelpositionen für die Intensitätsmessung vorgegeben. Dieser Enkoder W
erzeugt sowohl jeweils nach Weiterdrehen um einen konstanten
inkrementalen Winkel Triggersignale zur Messung der tatsächlichen
Intensität IR als auch einen Referenzimpuls jeweils nach einer vollständigen
Umdrehung. Der erste Referenzimpuls öffnet ein elektronisches Gate G für
quarzstabile hochfrequente Zählimpulse, die in einem elektronischen
Zählerbaustein Z registriert werden. Der folgende Referenzimpuls schließt
das Gate G wieder. Die registrierten Zählimpulse sind umgekehrt proportional
zur jeweiligen Umdrehungsfrequenz der rotierenden optischen Komponente.
Damit ist eine Frequenzzuweisung zur aktuell erfolgten Umdrehung dieser
Komponente möglich. Nach jeder Umdrehung der optischen Komponente wird
die Anzahl der gezählten Impulse in den Meß-Computer MC eingelesen, der
nun die durch Dämpfungskonstante η und Phasenverschiebung α0
auftretende Änderung des mittels Detektor D und Signalelektronik SE
gemessenen Intensitätsverlaufs IM durch Modulierung mit der
Umdrehungsfrequenz f der rotierenden optischen Komponente kompensiert,
woraus sich ein korrigierter Intensitätsverlauf I'R ergibt. Die eigentliche
Messung der ellipsometrischen Parameter kann nunmehr nach der
beschriebenen Korrektur des Intensitätsverlaufs erfolgen.
In den beiden folgenden Fig. 3 und 4 sind die Frequenzeichkurven der
Dämpfungskonstante η(f) und der Phasenverschiebung αo(f) dargestellt, wie
sie entsprechend in Abhängigkeit der Frequenz der rotierenden Komponente
ermittelt wurden und nunmehr als Kalibrierungsgrößen für die Berechnung
der Kompensation der auftretenden Frequenzänderung in den Meß-Computer
eingegeben werden. Mit diesen Eichkurven und der bereits beschriebenen
präzisen Frequenzmessung ist es nun möglich, jeder Umdrehung der
optischen Komponente in Echtzeit die zugehörige Signaldämpfung und
Phasenverschiebung zuzuordnen und diese dann korrekt zu kompensieren.
In Fig. 5 sind Meßkurven der ellipsometrischen Parameter tanψ und cosΔ in
Abhängigkeit der Photonenenregie E sowohl ohne (Kurve a) als auch mit
(Kurve b) Frequenzkompensation entsprechend der erfindungsgemäßen
Lösung dargestellt. Die erzielte Verbesserung in der Genauigkeit des
ellipsometrischen Meßsystems wird dabei deutlich in Form des reduzierten
Rauschens sichtbar.
Claims (2)
1. Verfahren zur Bestimmung der optischen Eigenschaften und Schichtdicke
von Materialien, bei dem vorpolarisiertes Licht auf eine zu untersuchende
Probe fällt und die Änderung des Polarisationszustandes bei der Reflexion an
der Probe mittels Einrichtungen zur Analyse des reflektierten Lichts,
aufweisend ein Detektorsystem, gemessen wird, wobei eine mit einer
Umdrehungsfrequenz f rotierende optische Komponente vorgesehen ist,
dadurch gekennzeichnet, daß
vor der eigentlichen Messung der Änderung des Polarisationszustandes des
an der Oberfläche der zu untersuchenden Probe reflektierten Lichtstrahls
eine Mehrfrequenz-Kalibrierungsmessung durchgeführt wird, bei der die
Umdrehungsfrequenz f der rotierenden optischen Komponente variiert wird
und die Abhängigkeit von der Umdrehungsfrequenz der rotierenden
optischen Komponente sowohl für die Dämpfungskonstante η(f) des
Detektorsystems als auch für die Phasenverschiebung α0(f) bezüglich der
Winkelposition eines Referenzpulses ermittelt und ausgewertet wird, danach
die Frequenz der rotierenden optischen Komponente für jede Umdrehung
gemessen und anschließend der gemessene Intensitätsverlauf des
reflektierten Lichts mit verändertem Polarisationszustand durch Modulation
mit der Umdrehungsfrequenz der rotierenden optischen Komponente
korrigiert wird.
2. Vorrichtung zur Bestimmung der optischen Eigenschaften und Schichtdicke
von Materialien, aufweisend Einrichtungen zur Erzeugung
monochromatischen polarisierten Lichts sowie Einrichtungen zur Analyse des
von der Oberfläche einer zu untersuchenden Probe reflektierten Lichtstrahls
mit verändertem Polarisationszustand, wobei die Einrichtungen mindestens
eine rotierende optische Komponente aufweisen,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Einrichtungen zur Analyse des von der Oberfläche der zu untersuchenden
Probe reflektierten Lichtstrahls einen Winkelenkoder, Detektor und
Signalelektronik sowie ein elektronisches Gate und einen elektronischen
Zählerbaustein zur Registrierung der während der Gate-Öffnungszeit jeweils
pro Umdrehung der rotierenden optischen Komponente durchlaufenden
Zählimpulse und einen Meß-Computer zur Auswertung der registrierten
Zählimpulse zur Kompensation der Rotationsfrequenzänderung der optischen
Komponente aufweisen.
Priority Applications (1)
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DE1997121043 DE19721043C2 (de) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der optischen Eigenschaften und Schichtdicke von Materialien |
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DE19721043A1 DE19721043A1 (de) | 1998-11-19 |
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DE10124773A1 (de) * | 2001-05-21 | 2002-12-12 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Polarisationsdetektor und Verfahren zu dessen Herstellung |
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1997
- 1997-05-09 DE DE1997121043 patent/DE19721043C2/de not_active Expired - Fee Related
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DE10124773A1 (de) * | 2001-05-21 | 2002-12-12 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Polarisationsdetektor und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE10124773C2 (de) * | 2001-05-21 | 2003-11-06 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Polarisationsdetektor und Verfahren zu dessen Herstellung |
Also Published As
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DE19721043A1 (de) | 1998-11-19 |
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