DE19654638B9 - Flüssigkristallzelle und Herstellungsverfahren dafür - Google Patents
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Abstract
Herstellungsverfahren
für eine
Flüssigkristallanzeige,
das folgende Schritte aufweist:
Versehen eines ersten Substrats (1) mit einer ersten Ausrichtungsschicht (8);
Reiben der ersten Ausrichtungsschicht (8), so dass sie einen ersten Kippwinkel aufweist;
Versehen eines zweiten Substrats (2) mit einer zweiten Ausrichtungsschicht (9);
Bestrahlen der zweiten Ausrichtungsschicht (9) mit Licht, so dass ein zweiter Kippwinkel darin ausgebildet wird, welcher in zwei Kipprichtungen orientiert sein kann; und
Einbringen von Flüssigkristallmaterial zwischen das erste Substrat (1) und das zweite Substrat (2);
wobei ein Schritt durchgeführt wird, bei dem von den beiden Kipprichtungen in der zweiten Ausrichtungsschicht (9) eine Kipprichtung ausgewählt wird.
Versehen eines ersten Substrats (1) mit einer ersten Ausrichtungsschicht (8);
Reiben der ersten Ausrichtungsschicht (8), so dass sie einen ersten Kippwinkel aufweist;
Versehen eines zweiten Substrats (2) mit einer zweiten Ausrichtungsschicht (9);
Bestrahlen der zweiten Ausrichtungsschicht (9) mit Licht, so dass ein zweiter Kippwinkel darin ausgebildet wird, welcher in zwei Kipprichtungen orientiert sein kann; und
Einbringen von Flüssigkristallmaterial zwischen das erste Substrat (1) und das zweite Substrat (2);
wobei ein Schritt durchgeführt wird, bei dem von den beiden Kipprichtungen in der zweiten Ausrichtungsschicht (9) eine Kipprichtung ausgewählt wird.
Description
- Die Erfindung betrifft eine Flüssigkristallzelle und insbesondere eine Flüssigkristallzelle, die ein mit einer geriebenen Ausrichtungsschicht beschichtetes Substrat und ein anderes, mit einer photoausrichtbaren Ausrichtungsschicht beschichtetes Substrat aufweist, sowie das Herstellungsverfahren dafür.
- Im Allgemeinen weist eine Flüssigkristallzelle zwei Substrate und zwischen diesen Substraten ausgebildeten Flüssigkristall auf, wobei der Flüssigkristall anisotrope Moleküle aufweist. Um eine wohlgeordnete Ausrichtung des Flüssigkristalls in der Zelle für eine gleichmäßige Helligkeit und ein hohes Kontrastverhältnis der Flüssigkristallzelle sicherzustellen, wird auf den Ausrichtungsschichten auf den Substraten ein herkömmliches Reibeverfahren angewendet. Dieses Reibeverfahren weist ein mechanisches Reiben der Ausrichtungsschicht auf, um die Flüssigkristallmoleküle in eine Vorkippung zu bringen, die durch einen Kippwinkel und eine Kipprichtung definiert ist. Der Kippwinkel entspricht einem Polarwinkel und die Kipprichtung entspricht einem Azimuthalwinkel zwischen der Oberfläche der Ausrichtungsschicht und der Vorkippung. Die Vorkippung eines zur ersten Ausrichtungsschicht benachbarten Flüssigkristallmoleküls wird erste Vorkippung der ersten Ausrichtungsschicht genannt, und die Vorkippung eines zur zweiten Ausrichtungsschicht benachbarten Flüssigkristallmoleküls wird zweite Vorkippung der zweiten Ausrichtungsschicht genannt. Dadurch wird die Vorkippung eines Flüssigkristallmoleküls zwischen den beiden Schichten durch die Wechselwirkung der Vorkippung der ersten Ausrichtungsschicht mit der Vorkippung der zweiten Ausrichtungsschicht bestimmt.
- Flüssigkristallzellen werden abhängig vom Kippwinkel in vertikal ausgerichtete Flüssigkristallzellen und horizontal ausgerichtete Flüssigkristallzellen eingeteilt. Mit der vertikal ausgerichteten Flüssigkristallzelle wird typischerweise eine Flüssigkristallzelle bezeichnet, die in einer Ausrichtungsschicht einen Kippwinkel von mehr als 60° aufweist, der Begriff der horizontal ausgerichteten Flüssigkristallzelle bezieht sich typischerweise auf eine Flüssigkristallzelle, die in einer Ausrichtungsschicht einen Kippwinkel von weniger als 5° aufweist.
- Es existieren verschiedene Arten von Flüssigkristallzellen, die sich in der Beziehung zwischen der ersten Kipprichtung der ersten Ausrichtungsschicht und der zweiten Kipprichtung der zweiten Ausrichtungsschicht, die dem ersten Substrat gegenübersteht, unterscheiden. Wenn die erste Kipprichtung senkrecht zu der zweiten Kipprichtung ausgerichtet ist, wird die Zelle als verdrillt nematische (twisted nematic, TN) Flüssigkristallzelle bezeichnet. Wenn die Kipprichtungen parallel zueinander sind, wird die Flüssigkristallzelle als elektrisch gesteuerte, doppelbrechende (electrically controlled birefringence, ECB) Flüssigkristallzelle und als "Bend Mode"-Flüssigkristallzelle bezeichnet. Außerdem wird sie als "In Plane Switching Mode"-Flüssigkristallzelle (IPS-Flüssigkristallzelle) bezeichnet, falls sich die Kipprichtung in Abhängigkeit von der Spannung verschiebt.
- Herkömlich verwendete Flüssigkristallanzeigen sind hauptsächlich verdrillt nematische Flüssigkristallanzeigen (TNLCD), bei denen die Transmission bei jeder Graustufe vom Betrachtungswinkel abhängt. Insbesondere ist die Transmission in der horizontalen Richtung symmetrisch, während sie in der vertikalen Richtung asymmetrisch ist. Deshalb tritt in der vertikalen Richtung ein Bereich auf, in dem das Bild von der Helligkeit her invertiert erscheint, womit der Betrachtungswinkel stark eingeschränkt ist.
- Um diese Probleme zu beseitigen, wird eine verdrillt nematische Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzelle, wie eine Zwei-Bereichs-Flüssigkristallzelle und eine Vier-Bereichs-Zelle, eingeführt. Die Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzelle weist einen größeren Betrachtungswinkel auf, da in jedem Pixel (Bildpunkt) mehrere Bereiche bereitgestellt werden, die voneinander verschiedene Kipprichtungen aufweisen, so dass die Abhängigkeit vom Betrachtungswinkel für jeden Bereich ausgeglichen wird. Das bekannteste Verfahren zum Herstellen der Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzellen ist ein mechanisches Reibeverfahren, wie aus
1 ersichtlich. Das Reiben wird mechanisch auf dem gesamten, mit der Ausrichtungsschicht8 (z.B. ein Polyimid) beschichteten Substrat1 durchgeführt, so dass in der Oberfläche der Ausrichtungsschicht8 Mikrorillen gebildet werden, wie aus den1a und1b ersichtlich. Um innerhalb eines Pixels zwei Bereich voneinander abzutrennen wird, wie aus den1c und1d ersichtlich, die gesamte Ausrichtungsschicht8 mit einem Photoresistüberzug11 beschichtet, und der Photoresistüberzug11 eines Bereiches wird mittels Einstrahlen von Licht entfernt. Dann wird, wie aus1e ersichtlich, auf einem der Bereiche ein Reibeverfahren in zur ersten Reiberichtung entgegengesetzter Reiberichtung durchgeführt. Der verbliebene Photoresistüberzug wird mittels Einstrahlen von Licht entfernt, und dann stehen, wie aus1f ersichtlich, auf dem Substrat1 zwei Bereiche zur Verfügung. In der so erhaltenen Zwei-Bereichs-Flüssigkristallzelle ist die Helligkeitsinvertierung bei unterschiedlichen Betrachtungswinkel durch das zuvor dargestellte Verfahren ausgeglichen. - Durch das Reibeverfahren werden jedoch Teilchenstaub und/oder elektrische Entladungen erzeugt, so dass die Ausbeute verringert und/oder das Substrat beschädigt wird. Das Herstellungsverfahren ist somit für eine industrielle Anwendbarkeit zu aufwendig, da das Verfahren photolithographische Schritte aufweist, wie Beschichten mit einem Photoresistüberzug und Entfernen eines Teils des Photoresistüberzugs zum Aufteilen in verschiedene Bereiche.
- Aus diesem Grund wird ein Photoausrichtungsverfahren eingeführt, um das Ausrichtungsverfahren zu vereinfachen, als auch um das Substrat vor Beschädigung zu schützen. Das Photoausrichtungsverfahren ist ein Verfahren, bei dem der Ausrichtungsschicht mittels Einstrahlen von linear polarisiertem ulatraviolettem Licht eine Kipprichtung aufgezwungen wird. Die für die Photoausrichtung verwendete Ausrichtungsschicht weist hauptsächlich PVCN (Polyvinylzimtsäurester) auf. Wenn auf die auf das Substrat aufgebrachte Photoausrichtungsschicht ultraviolettes Licht eingestrahlt wird, führt dies zu Zykloadditionen zwischen den Cinnamoyl-Gruppen der zu verschiedenen Photopolymeren gehörigen Zimtsäureseitenketten. Dadurch wird die Richtung der Photopolymer-Anordnung, d.h. die Kipprichtung der Ausrichtungsschicht, gleichförmig ausgerichtet. Ein Beispiel für das Photoausrichtungsverfahren ist folgendes Verfahren: Das Photoausrichtungsverfahren weist ein zweimaliges Einstrahlen von linear polarisiertem, ultravioletten Licht auf ein mit PVCN beschichtetes Substrat auf, um eine Vorkippung festzulegen, wobei die Vorkippung eine Ausrichtungsrichtung, eine Kipprichtung und einen Kippwinkel aufweist. Zuerst wird linear polarisiertes ultraviolettes Licht senkrecht auf das mit der Ausrichtungsschicht beschichtete Substrat eingestrahlt, um eine Vielzahl von Kipprichtungen festzulegen. Dann wird zweites linear polarisiertes Licht schräg auf die Ausrichtungsschicht eingestrahlt, um einen Kippwinkel und eine Kipprichtung festzulegen. Der Kippwinkel und die Kipprichtung werden durch Steuern der zweiten, schrägen Einstrahlrichtung relativ zum mit der Ausrichtungsschicht beschichteten Substrat erhalten.
- Allerdings bestehen bei diesem Photoausrichtungsverfahren Probleme derart, dass das Verfahren aufgrund des zweimaligen Bestrahlens kompliziert und der Kippwinkel zu klein ist. Zum Beispiel liegen die erzielbaren Kippwinkel ungefähr bei jeweils 0,15°, 0,26° bzw. 0,30°, wenn die Winkel für das schräge Bestrahlen jeweils 30°, 45° bzw. 60° betragen. Zusätzlich nimmt das Bestrahlen der Ausrichtungsschicht viel Zeit in Anspruch, so dass die gesamte Herstellzeit verlängert wird. Außerdem ist die Stabilität der Ausrichtung durch das Photoausrichtungsverfahren geringer als durch das Reibeverfahren.
- Aus dem Dokument
DE 39 11 358 A1 ist eine beispielhafte Flüssigkristallzelle bekannt, die Substrate mit unterschiedlichen Kippwinkeln aufweist. - Der
EP 0 611 786 A1 ist zu entnehmen, die Orientierung von Ausrichtungsschichten, die Polysiloxan aufweisen, durch Einstrahlen von polarisiertem Licht senkrecht zur Oberfläche festzulegen. - JP 05-027243 A offenbart eine Flüssigkristallanzeige, wobei die Ausrichtungsschicht auf dem TFT-Array-Substrat mit einem Photoverfahren behandelt ist, und die Ausrichtungsschicht auf dem gegenüberliegenden Substrat mit einem Reibeverfahren behandelt ist.
- Es ist ein Ziel der Erfindung, eine Flüssigkristallzelle, die eine große Stabilität der Ausrichtung und einen größeren Betrachtungswinkel aufweist, sowie ein einfaches Herstellungsverfahren dafür bereitzustellen.
- Dazu weist das erfindungsgemäße Herstellungsverfahren für die Flüssigkristallzelle folgende Schritte auf: Versehen eines ersten Substrats mit einer ersten Ausrichtungsschicht, Reiben der ersten Ausrichtungsschicht, so dass sie einen ersten Kippwinkel aufweist, Versehen eines zweiten Substrats mit einer zweiten Ausrichtungsschicht; Bestrahlen der zweiten Ausrichtungsschicht mit Licht, so dass ein zweiter Kippwinkel darin ausgebildet wird, welcher in zwei Kipprichtungen orientiert sein kann, und Einbringen von Flüssigkristallmaterial zwischen das erste Substrat und das zweite Substrat, wobei ein Schritt durchgeführt wird, bei dem von den beiden Kipprichtungen in der zweiten Ausrichtungsschicht eine Kipprichtung ausgewählt wird.
- Die erfindungsgemäße Flüssigkristallzelle weist ein erstes Substrat mit einer geriebenen Ausrichtungsschicht, ein zweites Substrat mit einer photoausgerichteten Ausrichtungsschicht aus einem auf Polysiloxan basierenden Material, und zwischen das erste Substrat und das zweite Substrat eingebrachtes Flüssigkristallmaterial auf. Hierbei sind zweite Moleküle des zur photoausgerichteten Ausrichtungsschicht benachbarten Flüssigkristallmaterials in einer zweiten Richtung ausgerichtet, wobei aufgrund der zweiten Richtung in der photoausgerichteten Ausrichtungsschicht ein zweiter Kippwinkel und eine zweite Kipprichtung festgelegt ist, und wobei der zweite Kippwinkel größer als 60° ist.
- Diese und andere Ziele und Vorteile der Erfindung werden anhand der folgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen näher beschrieben.
-
1 zeigt ein herkömmliches, in zueinander entgegengesetzte Richtungen erfolgendes Reibeverfahren. -
2 zeigt eine Schnittansicht einer erfindungsgemäßen Flüssigkristallzelle. -
3 zeigt eine für die Photoausrichtung verwendbare Lichtbestrahlvorrichtung. -
4 ist eine Darstellung, die die Beziehung zwischen der Energie des ultravioletten Lichtes und dem Kippwinkel in der aus auf Polysiloxan basierenden Materialien gebildeten photoausrichtbaren Schicht zeigt. -
5 zeigt ein Verfahren zum Herstellen einer erfindungsgemäßen Flüssigkristallzelle. -
6 zeigt ein anderes Verfahren zum Herstellen einer erfindungsgemäßen Flüssigkristallzelle. -
7 ist eine Schnittansicht einer erfindungsgemäßen verdrillt nematischen Flüssigkristallzelle. -
8 zeigt eine Schnittansicht einer erfindungsgemäßen ECB-Flüssigkristallzelle. -
9 zeigt eine Schnittansicht einer erfindungsgemäßen "Bend Mode"-Flüssigkristallzelle. -
10 zeigt eine Schnittansicht einer erfindungsgemäßen IPS-Flüssigkristallzelle. -
11 zeigt ein erfindungsgemäßes Verfahren zum Herstellen einer Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzelle. -
12 zeigt ein anderes erfindungsgemäßes Verfahren zum Herstellen einer Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzelle. -
13 zeigt noch ein anderes erfindungsgemäßes Verfahren zum Herstellen einer Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzelle. -
14 zeigt noch ein anderes erfindungsgemäßes Verfahren zum Herstellen einer Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzelle. -
2 ist eine Zeichnung, aus der die Flüssigkristallzelle ersichtlich ist.1 bzw.2 bezeichnen jeweils ein erstes Substrat bzw. ein zweites Substrat der Flüssigkristallzelle. Das erste Substrat1 ist mit der ersten aus Polyimid gebildeten Ausrichtungsschicht8 beschichtet und wird so gerieben, dass eine erste Vorkippung, bestimmt durch eine ersten Kippwinkel und einer ersten Kipprichtung, festgelegt wird. Das zweite Substrat2 ist mit der zweiten Ausrichtungsschicht9 beschichtet. Das Material der zweiten Ausrichtungsschicht weist Photopolymere auf, wie auf Polysiloxan basierende Materialien. Polysiloxanzimtsäureester, eines der auf Polysiloxan basierenden Materialien, weist folgende Strukturformeln auf: Polysiloxanzimtsäureester I: wobei Z aus der Gruppe bestehend aus OH, CH3 oder einer Mischung davon ausgewählt werden kann,
m = 10–100,
l = 1–11,
L = 0 oder 1,
K = 0 oder 1,
X, X1, X2, Y = H, F, Cl, CN, CF3, CnH2n+1 oder OCnH2n+1, wobei n 1 bis 10 sein kann, oder eine Mischung davon; Polysiloxanzimtsäureester II: wobei Z aus der Gruppe bestehend aus OH, CH3 oder einer Mischung davon ausgewählt werden kann,
m = 10–100,
l = 1–11,
L = 0 oder 1,
K = 0 oder 1,
X, X1, X2, Y = H, F, Cl, CN, CF3, CnH2n+1 oder OCnH2n+1 wobei n 1 bis 10 sein kann, oder eine Mischung davon. - Dann wird das mit der zweiten Ausrichtungsschicht
9 beschichtete zweite Substrat mittels einer Lichtbestrahlvorrichtung, wie aus3 ersichtlich, mit ultraviolettem Licht bestrahlt. Die Lichtbestrahlvorrichtung weist eine ultraviolettes Licht erzeugende Lampe3 , eine Linse4 und einen Polarisator5 auf, der das von der Lampe3 kommende ultraviolette Licht linear polarisiert. Zum Bestrahlen der Ausrichtungsschicht9 des Substrats2 mit ultraviolettem Licht, wird das von der Lampe3 erzeugte ultraviolette Licht durch die Linse4 hindurchgeführt und von dem Polarisator5 linear polarisiert und dann auf die Ausrichtungsschicht9 des Substrates2 eingestrahlt. Die Lampe3 ist eine Quecksilberdampflampe mit einer Wellenlänge von 365 nm. - Zu diesem Zeitpunkt kann der auf der Ausrichtungsschicht
9 gebildete Kippwinkel mittels der Lichtenergie gesteuert werden. Wenn ultraviolettes Licht senkrecht auf das mit der auf Polysiloxan basierende Materialien aufweisenden Ausrichtungsschicht9 beschichtete Substrat2 eingestrahlt wird, wird der Kippwinkel auf der Oberfläche der Ausrichtungsschicht9 in einem großen Bereich gemäß der Lichtenergie gesteuert, wie aus4 ersichtlich. Wie aus dieser Figur ersichtlich, kann der Kippwinkel in Abhängigkeit von der auf die Ausrichtungsschicht9 eingestrahlten Lichtenergie gesteuert werden (die Wellenlänge des ultravioletten Lichtes besträgt 350 nm). Die Größe des Kippwinkels fällt exponentiell mit steigender Lichtenergie bis nahezu 0° bei 6000 mJ/cm. Der Kippwinkel fällt also exponentiell mit größer werdender Bestrahlung und beträgt praktisch Null bei einer Bestrahlung von 6000 mJ/cm2. - Eine vertikal ausgerichtete Flüssigkristallzelle kann mittels der Wahl einer Lichtenergie von weniger als 2000 mJ/cm2 hergestellt werden, und eine horizontal ausgerichtete Flüssigkristallzelle kann mittels der Wahl einer Lichtenergie von mehr als 5000 mJ/cm2 hergestellt werden.
- Aus
5 ist eine Ausführungsform eines Herstellungsverfahrens für eine Flüssigkristallzelle ersichtlich, die ein erstes Substrat, ein zweites Substrat und eine zwischen die beiden Substrate eingespritzte Flüssigkristallschicht aufweist. Das erste, mit einer ersten Ausrichtungsschicht8 beschichtete Substrat1 wird mechanisch gerieben, um eine Vorkippung festzulegen, wobei Vorkippung bedeutet, dass ein Kippwinkel und eine Kipprichtung ausgebildet werden, wie aus den5a und5b ersichtlich. - Polarisiertes Licht wird senkrecht auf das mit der zweiten Ausrichtungsschicht
9 beschichtete Substrat2 eingestrahlt, um einen zweiten Kippwinkel und zwei Kipprichtungen auszubilden, wobei die Kipprichtungen so zueinander stehen, wie aus den5c und5d ersichtlich. Um eine Kipprichtung auszuwählen, wird nichtpolarisiertes Licht schräg auf das mit der Ausrichtungsschicht9 beschichtete Substrat2 eingestrahlt, um eine zweite, in einer Kipprichtung orientierte Vorkippung festzulegen. Wie aus5f ersichtlich, wird das Substrat1 mit dem Substrat2 zusammengefügt und zwischen die zusammengefügten Substrate1 ,2 wird Flüssigkristallmaterial eingespritzt, um eine gleichförmige Ausrichtung aufgrund der festen Haftung wegen der ersten Vorkippung zu erzielen. - Zusätzlich ist es bei dieser Ausführungsform auch möglich, das schräge Bestrahlen vor dem senkrechten Bestrahlen durchzuführen.
- Aus
6 ist eine andere Ausführungsform des Herstellungsverfahrens für eine Flüssigkristallzelle ersichtlich, wobei die Flüssigkristallzelle ein erstes Substrat, ein zweites Substrat und eine zwischen die beiden Substrate eingespritzte Flüssigkristallschicht aufweist. Das erste, mit einer ersten Ausrichtungsschicht8 beschichtete Substrat1 wird mechanisch gerieben, um eine Vorkippung festzulegen, wobei Vorkippung bedeutet, dass ein Kippwinkel und eine Kipprichtung ausgebildet werden, wie aus den6a und6b ersichtlich. - Polarisiertes Licht wird senkrecht auf das mit der zweiten Ausrichtungsschicht
9 beschichtete Substrat2 eingestrahlt, um einen zweiten Kippwinkel und zwei Kipprichtungen auszubilden, wobei die Kipprichtungen so zueinander stehen, wie aus den6c und6d ersichtlich. Um eine Kipprichtung auszuwählen, nutzt diese Ausführungsform die Fließwirkung des Flüssigkristallmaterials aus, bei der die Kipprichtung gemäß der Fließrichtung des fließenden Flüssigkristallmaterials festgelegt wird, wie aus den6e und6f ersichtlich. Das erste, eine aufgrund des Reibens eine gleichförmige Vorkippung aufweisende Ausrichtungsschicht aufweisende Substrat1 und das zweite, eine in zwei unterschiedliche Vorkippungen orientierte Ausrichtungsschicht9 aufweisende Substrat2 werden zusammengesetzt, und dann wird Flüssigkristallmaterial zwischen die beiden Substrate eingspritzt. Aufgrund der Fließwirkung des Flüssigkristallmaterials wird das der Ausrichtungsschicht9 benachbarte Flüssigkristallmaterial mittels eines einmaligen Bestrahlens von Licht gleichförmig in die zweite Kipprichtung ausgerichtet. - Es existieren unterschiedliche Arten von Flüssigkristallzellen, abhängig von der Anordnung zwischen der ersten Kipprichtung und der zweiten Kipprichtung, wobei die Kipprichtungen mittels einem der beiden oben genannten Verfahren festgelegt wurden.
-
7 bezieht sich auf eine verdrillt nematische Flüssigkristallzelle. Aus den7a und7b ist eine vertikal ausgerichtete Flüssigkristallzelle ersichtlich, die abhängig von der Spannung gesteuert werden kann. Aus den7c und7d ist eine horizontal ausgerichtete Flüssigkristallzellen ersichtlich. -
8 bezieht sich auf eine ECB-Flüssigkristallzelle. Aus den8a und8b ist eine vertikal ausgerichtete Flüssigkristallzellen ersichtlich, die abhängig von der Spannung gesteuert werden kann. Aus den8c und8d ist eine horizontal ausgerichtete Flüssigkristallzellen ersichtlich. -
9 bezieht sich auf eine "Bend Mode"-Flüssigkristallzelle. Aus den9a und9b ist eine vertikal ausgerichtete Flüssigkristallzellen ersichtlich, die abhängig von der Spannung gesteuert werden kann. Aus den9c und9d ist eine horizontal ausgerichtete Flüssigkristallzellen ersichtlich. -
10 bezieht sich auf eine IPS-Flüssigkristallzelle, bei der sich die Flüssigkristallmoleküle6 in Abhängigkeit von der Spannung verschieben, wobei mit7a die Gate-Elektrode und mit7b die geimeinsame Elektrode bezeichnet sind. - Diese Erfindung kann für eine Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzelle angewendet werden, um einen größeren Betrachtungswinkel zu ermöglichen. Verschiedene Ausführungsformen des Herstellungsverfahrens für Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzellen sind aus den
11 ,12 ,13 und14 ersichtlich. - Aus
11 ist eine Ausführungsform der Erfindung ersichtlich, um eine Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzelle bereitzustellen, bei der die erste Ausrichtungsschicht8 eine erste Vorkippung aufgrund mechanischen Reibens aufweist, und die zweite Ausrichtungsschicht9 zwei Vorkippungen in zwei Bereichen aufgrund der Verwendung von Licht aufweist. - Aus den
11a und11b ist das Reibeverfahren zum Erzielen einer ersten Vorkippung auf der Ausrichtungsschicht8 mit einem geringen, nahezu 0° betragenden Kippwinkel ersichtlich. Aus den11c bis11f ist das Verfahren zum Ausbilden von zwei zweiten Vorkippungen in zwei Bereichen der zweiten Ausrichtungsschicht9 mit einer großen Lichtenergie ersichtlich, um einen geringen Kippwinkel von unter 5° zu erzielen. Polarisiertes Licht wird senkrecht auf die zweite Ausrichtungsschicht9 eingestrahlt, um einen zweiten Kippwinkel und zwei Kipprichtungen festzulegen, wie aus11d ersichtlich. Um eine erste Kipprichtung für einen ersten Bereich I auszuwählen, wird nichtpolarisiertes Licht in einer ersten Richtung schräg auf das Substrat2 eingestrahlt, bei dem der zweite Bereich II mit einer Maske10 abgedeckt ist. Dadurch wird die 2-1-Vorkippung im ersten Bereich I ausgebildet, wobei die 2-1-Vorkippung durch den zweiten Kippwinkel und die erste Kipprichtung definiert ist, wie aus11e ersichtlich. - Um die 2-2-Kipprichtung für den zweiten Bereich auszuwählen, wird die den zweiten Bereich II bedeckende Maske
10 nun über den ersten Bereich I gelegt. Nichtpolarisiertes Licht wird in einer zweiten Richtung schräg auf das zweite Substrat2 eingestrahlt, bei dem der erste Bereich I mit der Maske10 abgedeckt ist. Dadurch wird die 2-2-Vorkippung im zweiten Bereich II ausgebildet, wie aus11f ersichtlich, wobei die 2-2-Vorkippung eine Vorkippung mit dem zweiten Kippwinkel und in der zweiten Kipprichtung bedeutet. - Das erste Substrat
1 und das zweite Substrat2 werden zusammengesetzt, und Flüssigkristallmaterial wird zwischen die beiden Substrate1 ,2 eingespritzt. Die Moleküle des Flüssigkristallmaterials richten sich gemäß den zweiten Vorkippungen zwischen den verschiedenen Bereichen in unterschiedliche Richtungen aus, wie aus11g ersichtlich. - Dadurch wird der Betrachtungswinkel mittels der gemäß der Bereiche unterschiedlich ausgerichteten Flüssigkristallmoleküle ausgeglichen, um einen größeren Betrachtungswinkel für die Flüssigkristallzelle zu erhalten.
- Bei dieser Ausführungsform können mittels der Zwei-Bereichs-Flüssigkristallzellen Mehr-Bereichs-Zellen ohne Photolithographie-Verfahren erhalten werden. Zusätzlich wird die Stabilität der Ausrichtung von der ersten Vorkippung sichergestellt.
- Aus
12 ist eine andere Ausführungsform der Erfindung ersichtlich, um eine vertikal ausgerichtete Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzelle bereitzustellen, bei der die erste Ausrichtungsschicht8 eine erste Vorkippung aufgrund eines mechanischen Reibeverfahrens aufweist, und die zweite Ausrichtungsschicht9 zwei Vorkippungen in zwei Bereichen aufgrund der Verwendung von Licht aufweist. - Aus den
12a und12b ist das Reibeverfahren zum Erzielen einer ersten Vorkippung auf der Ausrichtungsschicht8 mit einem großen Kippwinkel von über 60° ersichtlich. Aus den12c bis12f ist das Verfahren zum Ausbilden von zwei zweiten Vorkippungen in zwei Bereichen der zweiten Ausrichtungsschicht9 mit einer geringen Lichtenergie ersichtlich, um einen großen Kippwinkel von weniger als 60° zu erzielen. Polarisiertes Licht wird senkrecht auf die zweite Ausrichtungsschicht9 eingestrahlt, um einen zweiten Kippwinkel und zwei Kipprichtungen festzulegen, wie aus12d ersichtlich. Um eine erste Kipprichtung für einen ersten Bereich I auszuwählen, wird nichtpolarisiertes Licht in einer ersten Richtung schräg auf das Substrat2 eingestrahlt, bei dem der zweite Bereich II mit einer Maske10 abgedeckt ist. Dadurch wird die 2-1-Vorkippung im ersten Bereich I ausgebildet, wobei die 2-1- Vorkippung durch den zweiten Kippwinkel und die erste Kipprichtung definiert ist, wie aus12e ersichtlich. - Um die 2-2-Kipprichtung für den zweiten Bereich auszuwählen, wird die den zweiten Bereich II bedeckende Maske
10 nun über den ersten Bereich I gelegt. Nichtpolarisiertes Licht wird in einer zweiten Richtung schräg auf das zweite Substrat2 eingestrahlt, bei dem der erste Bereich I mit der Maske10 abgedeckt ist. Dadurch wird die 2-2-Vorkippung im zweiten Bereich II ausgebildet, wie aus12f ersichtlich, wobei die 2-2-Vorkippung eine Vorkippung mit dem zweiten Kippwinkel und in der zweiten Kipprichtung bedeutet. - Das erste Substrat
1 und das zweite Substrat2 werden zusammengesetzt, und Flüssigkristallmaterial wird zwischen die beiden Substrate1 ,2 eingespritzt. Die Moleküle des Flüssigkristallmaterials richten sich gemäß den zweiten Vorkippungen zwischen den verschiedenen Bereichen in unterschiedliche Richtungen aus, wie aus12g ersichtlich. Diese vertikal ausgerichtete Flüssigkristallzelle entspricht im ersten Bereich I einer "Bend Mode"-Flüssigkristallzelle und im zweiten Bereich II einer ECB-Flüssigkristallzelle. - Dadurch wird der Betrachtungswinkel mittels der gemäß der Bereiche unterschiedlich ausgerichteten Flüssigkristallmoleküle ausgeglichen, um einen größeren Betrachtungswinkel für die Flüssigkristallzelle zu erhalten.
- Bei dieser Ausführungsform wird eine Zwei-Bereichs-Flüssigkristallzelle durch eine geringe Lichtenergie erreicht, so dass es möglich ist, Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzellen ohne Photolithographie zu erhalten. Zusätzlich wird die Stabilität der Ausrichtung von der ersten Vorkippung sichergestellt.
- Aus
13 ist eine weitere Ausführungsform des Herstellungsverfahrens für eine Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzelle ersichtlich. Aus den13a und13b ist das Reibeverfahren ersichtlich, um eine 1-1-Vorkippung bzw. eine 1-2-Vorkippung im ersten Bereich I bzw. im zweiten Bereich II zu erzielen, wobei die Kippwinkel unterschiedlich sind, z.B. ist der 1-1-Kippwinkel größer als der 1-2-Kippwinkel. - Eine Ausrichtungsschicht für die voneinander getrennten Bereich ist aus
13a ersichtlich: Eine organische Ausrichtungsschicht8A ist mit einer anorganischen Ausrichtungsschicht8B auf dem ersten Substrat1 bedeckt. In der organischen Aurichtungsschicht8A ist der Kippwinkel größer als in der anorganischen Ausrichtungsschicht8B . Damit wird durch die 1-1-Vorkippung ein kleiner 1-1-Kippwinkel und die erste Kipprichtung festgelegt, und durch die 1-2-Vorkippung wird ein großer 1-2-Kippwinkel und ebenfalls die erste Kipprichtung festgelegt. - Aus den
13c bis13d ist ein Verfahren ersichtlich, bei dem auf dem zweiten Substrat2 zwei Bereich mit unterschiedlich großen Kippwinkeln voneinander abgetrennt werden. Das mit der zweiten Ausrichtungsschicht9 beschichtete Substrat2 ist mit einer Maske abgedeckt, die einen durchlässigen Teil für den ersten Bereich I und einen halbdurchlässigen Teil für den zweiten Bereich II aufweist. Polarisierts Licht wird senkrecht auf das zweite Substrat eingestrahlt, um einen großen 2-1-Kippwinkel, eine zweite Ausrichtungsrichtung und zwei zweite Kipprichtungen im ersten Bereich I, und eine geringen 2-2-Kippwinkel und zwei zweite Kipprichtungen im zweiten Bereich II festzulegen. Um eine zweite Kipprichtung im ersten Bereich I und im zweiten Bereich II auszuwählen, wird nichtpolarisiertes Licht schräg auf das zweite Substrat2 eingestrahlt. Dadurch werden die 2-1-Vorkippung bzw. die 2-2-Vorkippung im ersten Bereich I bzw. im zweiten Bereich II gebildet. Dabei bedeutet die 2-1-Vorkippung einen großen 2-1-Kippwinkel und die zweite Kipprichtung, und die 2-2-Vorkippung bedeutet einen geringen 2-2-Kippwinkel und ebenfalls die zweite Kipprichtung, wie aus13e ersichtlich. - Das erste Substrat
1 und das zweite Substrat2 werden zusammengesetzt, und Flüssigkristallmaterial wird zwischen die beiden Substrate1 ,2 eingespritzt. Die Moleküle des Flüssigkristallmaterials richten sich gemäß den zweiten Vorkippungen zwischen den verschiedenen Bereichen in unterschiedliche Richtungen aus, wie aus13f ersichtlich. - Dadurch wird der Betrachtungswinkel mittels der gemäß der Bereiche unterschiedlich ausgerichteten Flüssigkristallmoleküle ausgeglichen, um einen größeren Betrachtungswinkel für die Flüssigkristallzelle zu erhalten.
- Bei dieser Ausführungsform können mittels der Zwei-Bereichs-Flüssigkristallzellen Mehr-Bereichs-Zellen ohne Photolithographie-Verfahren erhalten werden. Zusätzlich wird die Stabilität der Ausrichtung aufgrund der mittels des Reibens erzielten, ersten Ausrichtung sichergestellt.
- Aus
14 ist ein Herstellungsverfahren für eine Vier-Bereich-Flüssigkristallzelle ersichtlich. Ein erstes Zwei-Bereichs-Substrat1 wird mittels in zueinander entgegengesetzte Richtungen erfolgendes Reiben erstellt, wie aus den14a ,14b und14c ersichtlich. Das zweite Vier-Bereichs-Substrat2 wird erstellt, indem die Einstrahlrichtung des eingestrahlten Lichtes verändert wird, wie aus den14d bis14i ersichtlich. - Das erste Substrat
1 und das zweite Substrat2 werden zusammengesetzt, und Flüssigkristallmaterial wird zwischen die beiden Substrate1 ,2 eingespritzt. Die Moleküle des Flüssigkristallmaterials richten sich gemäß den zweiten Vorkippungen zwischen den verschiedenen Bereichen in unterschiedliche Richtungen aus, wie aus14g ersichtlich. - Diese Erfindung kann durch die Steuerung der Ausrichtungsrichtung auf verschieden Arten von Flüssigkristallzellen angewendet werden, wie verdrillt nematische Flüssigkristallzellen, ECB-Flüssigkristallzellen, "Bend Mode"-Flüssigkristallzellen und IPS- Flüssigkristallzellen.
- Bei dieser Erfindung ist es möglich, die Stabilität aufgrund der geriebenen ersten Ausrichtungsschicht sicherzustellen, und die Ausbeute durch das Ausrichten mittels Licht statt Reibens zu erhöhen, da Beschädigungen aufgrund des Reibeverfahrens ausgeschlossen werden.
- Zuätzlich können Mehr-Bereichs-Flüssigkristallzellen mit einem einfachen Verfahren ohne Photolithographie für in zueinander entgegengesetzte Richtungen erfolgendes Reiben erhalten werden.
Claims (44)
- Herstellungsverfahren für eine Flüssigkristallanzeige, das folgende Schritte aufweist: Versehen eines ersten Substrats (
1 ) mit einer ersten Ausrichtungsschicht (8 ); Reiben der ersten Ausrichtungsschicht (8 ), so dass sie einen ersten Kippwinkel aufweist; Versehen eines zweiten Substrats (2 ) mit einer zweiten Ausrichtungsschicht (9 ); Bestrahlen der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit Licht, so dass ein zweiter Kippwinkel darin ausgebildet wird, welcher in zwei Kipprichtungen orientiert sein kann; und Einbringen von Flüssigkristallmaterial zwischen das erste Substrat (1 ) und das zweite Substrat (2 ); wobei ein Schritt durchgeführt wird, bei dem von den beiden Kipprichtungen in der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) eine Kipprichtung ausgewählt wird. - Verfahren nach Anspruch 1, wobei die erste Ausrichtungsschicht (
8 ) Polyimid aufweist. - Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Licht linear polarisiert ist.
- Verfahren nach Anspruch 3, wobei das linear polarisierte Licht durch Erzeugen von unpolarisiertem Licht und Lenken des unpolarisierten Lichts durch einen Polarisator (
5 ) hindurch erzeugt wird. - Verfahren nach Anspruch 4, wobei das linear polarisierte Licht linear polarisiertes ultraviolettes Licht ist.
- Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Licht im Wesentlichen senkrecht auf die Ausrichtungsschicht (
9 ) eingestrahlt wird. - Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Bestrahlens mit Licht nur ein einmaliges Bestrahlen mit Licht aufweist.
- Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Bestrahlens mit Licht einen Schritt aufweist, in dem zusätzlich Licht eingestrahlt wird, um von den beiden Kipprichtungen eine Kipprichtung auszuwählen.
- Verfahren nach Anspruch 8, wobei dieses zusätzliche Licht unpolarisiert ist.
- Verfahren nach Anspruch 9, wobei das unpolarisierte zusätzliche Licht schräg auf die zweite Ausrichtungsschicht (
9 ) eingestrahlt wird. - Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Bestrahlens folgende Schritte aufweist: senkrechtes Bestrahlen der Ausrichtungsschicht (
9 ) mit polarisiertem Licht; schräges Bestrahlen der Ausrichtungsschicht (9 ) mit unpolarisiertem Licht, so dass eine Kipprichtung ausgewählt wird. - Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Bestrahlens folgende Schritte aufweist: schräges Bestrahlen der Ausrichtungsschicht (
9 ) mit unpolarisiertem Licht; senkrechtes Bestrahlen der Ausrichtungsschicht (9 ) mit polarisiertem Licht, so dass eine Kipprichtung ausgewählt wird. - Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Bestrahlens der zweiten Ausrichtungsschicht (
9 ) folgende Schritte aufweist: Bestrahlen der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit erstem Licht, so dass ein zweiter Kippwinkel darin ausgebildet wird, der in zwei Kipprichtungen orientiert sein kann; Bestrahlen eines ersten Teils (I) der Ausrichtungsschicht (9 ) mit zweitem Licht, um eine der beiden Kipprichtungen im ersten Teil (I) auszuwählen; Bestrahlen eines zweiten Teils (II) der Ausrichtungsschicht (9 ) mit drittem Licht, um eine der beiden Kipprichtungen im zweiten Teil (II) auszuwählen. - Verfahren nach Anspruch 13, wobei das erste Licht linear polarisiert ist.
- Verfahren nach Anspruch 13, wobei das erste Licht im Wesentlichen senkrecht auf die Oberfläche der zweiten Ausrichtungsschicht (
9 ) eingestrahlt wird. - Verfahren nach Anspruch 13, wobei das zweite Licht und/oder das dritte Licht unpolarisiert ist/sind.
- Verfahren nach Anspruch 16, wobei das zweite Licht und/oder das dritte Licht schräg auf die Oberfläche der zweiten Ausrichtungsschicht (
9 ) eingestrahlt wird/werden. - Verfahren nach Anspruch 1, das folgende Schritte aufweist: Versehen eines Teils der ersten Ausrichtungsschicht (
8A ) mit einer dritten Ausrichtungsschicht (8B ); Reiben der dritten Ausrichtungsschicht (8B ), so dass sie einen dritten Kippwinkel aufweist. - Verfahren nach Anspruch 18, wobei sich die Größe des Kippwinkels der dritten Ausrichtungsschicht (
8B ) von der Größe des Kippwinkels der ersten Ausrichtungsschicht (8A ) deutlich unterscheidet. - Verfahren nach Anspruch 18, wobei der dritte Kippwinkel größer als der erste Kippwinkel ist.
- Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Bestrahlens der zweiten Ausrichtungsschicht (
9 ) folgende Schritte aufweist: Bestrahlen eines ersten Teils (I) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit einer ersten Dosis eines ersten Lichts, so dass ein zweiter Kippwinkel, welcher in zwei Kipprichtungen orientiert sein kann, in dem ersten Teil (I) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) ausgebildet wird, und Bestrahlen eines zweiten Teils (II) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit einer zweiten Dosis des ersten Lichts, so dass ein dritter Kippwinkel, welcher in zwei Kipprichtungen orientiert sein kann, im zweiten Teil (II) der Ausrichtungsschicht (9 ) ausgebildet wird. - Verfahren nach Anspruch 21, das folgende Schritte aufweist: Bestrahlen des ersten Teils (I) der zweiten Ausrichtungsschicht (
9 ) mit einer ersten Dosis von zweitem Licht, um eine der beiden Kipprichtungen in dem ersten Teil (I) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) auszuwählen, und Bestrahlen des zweiten Teils (II) der Ausrichtungsschicht (9 ) mit einer zweiten Dosis des zweiten Lichts, um eine der beiden Kipprichtungen in dem zweiten Teil (II) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) auszuwählen. - Verfahren nach Anspruch 21, wobei das erste Licht linear polarisiert ist.
- Verfahren nach Anspruch 21, wobei das erste Licht im Wesentlichen senkrecht auf die Oberfläche der zweiten Ausrichtungsschicht (
9 ) eingestrahlt wird. - Verfahren nach Anspruch 21, wobei der erste Kippwinkel größer ist als der zweite und der dritte Kippwinkel.
- Verfahren nach Anspruch 22, wobei das zweite Licht unpolarisiert ist.
- Verfahren nach Anspruch 22, wobei das zweite Licht schräg auf die Oberfläche der zweiten Ausrichtungsschicht (
9 ) eingestrahlt wird. - Verfahren nach Anspruch 21 oder 22, wobei das erste Licht bzw. das erste Licht und das zweite Licht jeweils auf die zweite Ausrichtungsschicht (
9 ) durch eine Platte (10 ) hindurch eingestrahlt wird, die einen ersten, zum ersten Teil (I) des Substrats gehörigen Teil mit einer ersten Durchlässigkeit und einen zweiten, zum zweiten Teil (II) des Substrats gehörigen zweiten Teil mit einer zweiten Durchlässigkeit aufweist. - Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Bestrahlens der zweiten Ausrichtungsschicht (
9 ) folgende Schritte aufweist: Bestrahlen des ersten Teils (I) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit erstem Licht, so dass der erste Teil (I) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) einen ersten in einer ersten Richtung orientierten Kippwinkel aufweist; Bestrahlen des zweiten Teils (II) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit zweitem Licht, so dass der zweite Teil (II) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) einen zweiten in einer zweiten Richtung orientierten Kippwinkel aufweist; Bestrahlen eines dritten Teils (III) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit drittem Licht, so dass der dritte Teil (III) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) einen dritten in einer dritten Richtung orientierten Kippwinkel aufweist; Bestrahlen eines vierten Teils (IV) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit viertem Licht, so dass der vierte Teil (IV) der Ausrichtungsschicht (9 ) einen vierten in einer vierten Richtung orientierten Kippwinkel aufweist. - Verfahren nach Anspruch 29, wobei mindestens in einem der Schritte des Bestrahlens der zweiten Ausrichtungsschicht (
9 ) mit erstem Licht, mit zweitem Licht, mit drittem Licht und mit viertem Licht das Licht unpolarisiert ist. - Verfahren nach Anspruch 30, wobei mindestens in einem der Schritte des Bestrahlens der zweiten Ausrichtungsschicht (
9 ) mit erstem Licht, mit zweitem Licht, mit drittem Licht und mit viertem Licht das Licht schräg auf die Oberfläche der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) eingestrahlt wird. - Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Bestrahlens der zweiten Ausrichtungsschicht (
9 ) folgende Schritte aufweist: senkrechtes Bestrahlen eines ersten Teils (I, II) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit erstem in einer ersten Richtung polarisiertem Licht; und senkrechtes Bestrahlen eines zweiten Teils (III, IV) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit zweitem in einer zweiten Richtung polarisiertem Licht. - Verfahren nach Anspruch 32, wobei der Schritt des Bestrahlens der zweiten Ausrichtungsschicht (
9 ) ferner folgende Schritte aufweist: schräges Bestrahlen des ersten Teils (I, II) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit unpolarisiertem Licht in einer ersten Richtung; schräges Bestrahlen des zweiten Teils (III, IV) der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit zweitem unpolarisierten Licht in einer zweiten Richtung. - Verfahren nach Anspruch 32, wobei der Schritt des Bestrahlens der zweiten Ausrichtungsschicht (
9 ) ferner folgende Schritte aufweist: schräges Bestrahlen eines ersten Bereichs (I) des ersten Teils der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit erstem unpolarisiertem Licht in einer ersten Richtung; schräges Bestrahlen eines zweiten Bereichs (II) des ersten Teils der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit zweitem unpolarisiertem Licht in einer zweiten Richtung; schräges Bestrahlen eines ersten Bereichs (III) des zweiten Teils der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit drittem unpolarisiertem Licht in einer dritten Richtung; schräges Bestrahlen eines zweiten Bereichs (IV) des zweiten Teils der zweiten Ausrichtungsschicht (9 ) mit viertem unpolarisiertem Licht in einer vierten Richtung. - Flüssigkristallanzeigevorrichtung mit: einem ersten Substrat (
1 ); einer geriebenen Ausrichtungsschicht (8 ) auf dem ersten Substrat (1 ); einem zweiten Substrat (2 ); einer photoausgerichteten Ausrichtungsschicht (9 ) aus einem auf Polysiloxan basierenden Material auf dem zweiten Substrat (2 ); und zwischen das erste Substrat (1 ) und das zweite Substrat (2 ) eingebrachtem Flüssigkristallmaterial, wobei zweite Moleküle des zur photoausgerichteten Ausrichtungsschicht (9 ) benachbarten Flüssigkristallmaterials in einer zweiten Richtung ausgerichtet sind, wobei aufgrund der zweiten Richtung in der photoausgerichteten Ausrichtungsschicht (9 ) ein zweiter Kippwinkel und eine zweite Kipprichtung festgelegt sind, und wobei der zweite Kippwinkel größer als 60° ist. - Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach Anspruch 35, wobei die geriebene Ausrichtungsschicht (
8 ) Polyimid aufweist. - Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach Anspruch 35, wobei erste Moleküle des zur geriebenen Ausrichtungsschicht (
8 ) benachbarten Flüssigkristallmaterials in einer ersten Richtung ausgerichtet sind, wobei aufgrund der ersten Richtung in der geriebenen Ausrichtungsschicht (8 ) ein erster Kippwinkel und eine erste Kipprichtung festgelegt sind. - Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach Anspruch 37, wobei der erste Kippwinkel größer als 60° ist.
- Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach Anspruch 35 oder 38, wobei der erste Kippwinkel und/oder der zweite Kippwinkel im Bereich von 75°–87° liegt/liegen.
- Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach Anspruch 37, wobei die erste Kipprichtung im Wesentlichen parallel zur zweiten Kipprichtung ist.
- Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach Anspruch 37, wobei die erste Kipprichtung von der zweiten Kipprichtung verschieden ist.
- Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach Anspruch 41, wobei die erste Kipprichtung im Wesentlich senkrecht zur zweiten Kipprichtung ist.
- Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach Anspruch 41, wobei die erste Kipprichtung im Wesentlichen antiparallel zur zweiten Kipprichtung ist.
- Flüssigkristallanzeigevorrichtung nach Anspruch 35, wobei jeweils eine Mehrzahl von Flüssigkristallmolekülen zu jeweiligen Teilen der photoausgerichteten Ausrichtungsschicht (
9 ) benachbart angeordnet sind, wobei jede Mehrzahl von Flüssigkristallmolekülen den entsprechenden Kippwinkel und die entsprechenden Kipprichtungen aufweist.
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---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: LG PHILIPS LCD CO., LTD., SEOUL/SOUL, KR |
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8397 | Reprint of erroneous patent document | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: LG DISPLAY CO., LTD., SEOUL, KR |
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R071 | Expiry of right |