DE19507827A1 - Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offset- oder Tiefdruck - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offset- oder Tiefdruck.

Nach dem Stand der Technik werden Druckformen für den Tiefdruck durch Gravieren der Oberfläche einer Kupferwalze mit Diamant­ sticheln oder Ätzung der Kupferwalze und anschließender Ver­ chromung der Oberfläche in galvanischen Bädern hergestellt. Es ist auch bekannt, die Vertiefungen durch Übertragung von Schichten mit photografischen Mustern auf die Kupferwalze und anschließende chemische Ätzverfahren herzustellen. Die so er­ haltenen Vertiefungen werden als Näpfchen bezeichnet. Sie neh­ men beim Druck die Druckfarbe auf. Zum Drucken wird die gesamte Fläche der Druckwalze in Farbe getaucht und anschließend mit einer Rakel so weit wieder abgestrichen, daß die Farbe nur in den tiefer liegenden Näpfchen zurückbleibt. Der auf die so eingefärbte Druckform gepreßte Papierbogen saugt dann die Farbe aus den Näpfchen heraus.

Beim Offsetdruck liegen die druckenden und nicht druckenden Elemente auf gleicher Höhe. Daher wird der Offsetdruck auch als Flachdruck bezeichnet. Die Oberfläche der Druckform wird so präpariert, daß Farbe von den zu druckenden Flächen angenommen wird. Dazu wird vor der Einfärbung auf die Druckform ein Feuchtmittel aufgebracht, das farbabstoßende Eigenschaften be­ sitzt. Die Übertragung der Bildvorlage auf die Druckform er­ folgt über photochemische Prozesse, bei denen insbesondere Pho­ topolymere eingesetzt werden, die nach Belichtung und Entwick­ lung die unlöslichen farbführenden Schichten bilden. An den unbelichteten Stellen werden die nicht belichteten Photopolyme­ re ausgewaschen, so daß die darunter liegende nicht farbführen­ de Schicht an die Oberfläche gelangt.

Es ist weiterhin bekannt, daß Laserstrahlung bereits zur Deko­ ration oder Beschriftung von Oberflächen verwendet werden kann. So beschreibt die DE-C1 41 34 271.2 ein Verfahren zur Dekora­ tion oder Beschriftung einer Oberfläche mittels Laserstrahlung. Dabei wird die mittels eines Laserstrahls abzutragende obere Farblackschicht in einem Transferverfahren auf die Oberfläche aufgebracht, um so eine gleichmäßige Dicke dieser Farblack­ schicht und damit eine sehr gleichmäßige Gravur zu erzielen. Für dieses Verfahren werden insbesondere Heißprägefolien be­ stimmter Ausbildung verwendet.

Aus der DE-C2 31 09 096.6 ist ein Verfahren zur Herstellung einer gravierten Tiefdruckoberfläche bekannt, bei dem die Druckoberfläche aus einem Epoxypräparat besteht. Die Druck­ oberfläche wird vorzugsweise durch Pulverbeschichten her­ gestellt, und das Gravieren des Präparats kann mit einem Laser erfolgen. Durch Zusatz von Ruß wird der Gravurschwellenwert gesenkt. Das Druckteil kann auch durch Pulverbeschichten und Lasergravieren von anderen Polymerpräparaten hergestellt wer­ den. Das Gravieren erfolgt bei diesem Verfahren mit einem CO₂- Laser und durch thermische Verdampfung des bestrahlten Ma­ terials. In der Praxis hat sich gezeigt, daß dieses Epoxypräpa­ rat nicht kompatibel zu den Materialien eines Tiefdruckwerkes ist. Insbesondere durch die bei diesem Verfahren üblicherweise verwendeten Stahlrakel erfolgt ein hoher Verschleiß der Epoxy­ oberfläche.

Die bisher im Stand der Technik verwendeten Verfahren zur Her­ stellung von Druckformen für den Offset- und Tiefdruck haben zahlreiche Nachteile. So sind beim Tiefdruck aufwendige Gravur­ prozesse notwendig wie beispielsweise mit einem verschleiß­ anfälligen Diamantstichel, und es ist eine zusätzliche zeitauf­ wendige Verchromung des Druckform in galvanischen Bädern er­ forderlich.

Beim Offsetdruck sind aufwendige photografische Prozesse not­ wendig, um die Vorlage auf die Druckform zu übertragen. Hierzu gehören: Belichten, Entwickeln, Auswaschen, Gummierung und Trocknung. Bei all diesen Prozessen sind große Mengen an Wasser und Energie notwendig, es entstehen äußerst giftige Abfallösun­ gen und teure Reagenzien müssen verwendet werden.

Auch die bereits vorbeschriebenen Lasergravurverfahren zur Her­ stellung von Tiefdruckoberflächen sind zumeist photographische Verfahren, bei denen Laserstrahlung nur zur Belichtung der Mas­ ke verwendet wird.

Die bereits bekannten Lasergravurverfahren, bei denen auch ge­ pulste Laserstrahlen verwendet werden, haben den Nachteil, daß das Material meist thermisch stark aufgeheizt wird und dann verdampft. Durch dieses Aufheizen kommt es in den Randbereichen des bestrahlten Materials zu Schmelzprozessen, so daß ein Auf­ wurf um jedes Näpfchen erzeugt wird. Dadurch werden die Druck­ eigenschaften der Druckoberfläche negativ beeinträchtigt. Es sind auch Lasergravurverfahren bekannt, bei denen verschiedene Materialien verwendet werden. Ein leicht verdampfbares Material bildet die Vertiefungen, während ein zweites schwer verdampf­ bares Material den Rest der Oberfläche bildet. Mit einem Laser erfolgt dann nur die Gravur des leicht verdampfbaren Materials.

Diesen bekannten Verfahren ist das Problem gemeinsam, daß bei Gravur mit Lasern durch die thermischen Einwirkungen auf das Material unerwünschte Schmelzprozesse oder Rückstandsbildungen auftreten, die im allgemeinen zu einer nicht zufriedenstellen­ den Druckform und Druckwiedergabe führen.

Das technische Problem der Erfindung war es daher, ein Verfah­ ren zur Herstellung einer qualitativ höherwertigen Druckform für den Offset- oder Tiefdruck zur Verfügung zu stellen, bei dem die Herstellung der Druckform erheblich vereinfacht ist.

Weiterhin sollen die anschließende Verchromung vermieden werden und auch jegliche photografische Prozesse entfallen.

Dieses technische Problem wird gelöst durch ein Verfahren, bei dem eine Grundform, die aus einem Grundwerkstoff und einer dar­ auf aufgebrachten Oberflächenschicht besteht, derart behandelt wird, daß die Oberflächenschicht mittels Laserstrahlung in den Bereichen nicht thermisch abgetragen wird, die in der fertigen Druckform farbführend sein sollen oder, daß die Oberflächen­ schicht mittels Laserstrahlung in den Bereichen nicht thermisch abgetragen wird, die in der fertigen Druckform nicht farbfüh­ rend sein sollen.

Unter nicht thermischem Abtragen im Sinne der Erfindung wird ein Abtragen mittels Laserstrahlung verstanden, bei dem keine thermische Zerstörung des Materials beispielsweise durch Ein­ schmelzen oder Rückstandsbildung erfolgt. Bei nicht thermischem Abtragen handelt es sich vielmehr um einen Prozeß der Kaltab­ tragung, bei dem die Entfernung des Materials dadurch erreicht wird, daß Laserstrahlung einer bestimmten für das Material cha­ rakteristischen Wellenlänge verwendet wird, die von dem Materi­ al absorbiert wird. Dies führt zu einer physikalischen und/oder chemischen Veränderung des Materials, wobei dieser Prozeß in einer solchen zeitlichen Dauer erfolgt, daß keine nennenswerte Temperaturerhöhung des bestrahlten Materials erfolgt.

Bei diesem Vorgang werden durch die Bestrahlung mit der geeig­ neten Wellenlänge die chemischen Bindungen des bestrahlten Ma­ terials gebrochen und Molekülfragmente erzeugt. Diese chemisch veränderten kurzen Fragmente verdampfen auch bei geringen Tem­ peraturen schnell, ohne daß es zu einer wesentlichen Aufheizung des Materials kommt. Mit dieser nicht thermischen Abtragung ist es möglich, in submikroskopischer Auflösung Materialien aller Art wie Polymere, Keramik, biologische Materialien und Metalle exakt zu entfernen, ohne daß das umgebende Material bei der Bestrahlung in irgendeiner Art verändert oder zerstört wird oder durch unerwünschte Schmelzprozesse an den Rändern der Ver­ tiefungen Rückstände entstehen.

In einer bevorzugten Ausführungsform besteht der Grundwerkstoff der Druckform aus Metall, einem keramischen Material oder einem Kunststoff. Besonders bevorzugt als Grundwerkstoff sind: Kup­ fer, Aluminium oder Stahl.

Die Oberflächenschicht besteht in bevorzugter Ausführung aus einer metallischen, keramischen oder polymeren Schicht, wobei Schichten aus Metallnitriden, Metallcarbiden, Metallcarbonitri­ den oder Metalloxiden sowie Gemischen davon bevorzugt sind. Im speziellen kann die Oberflächenschicht aus Titannitrid, Chrom­ nitrid oder Aluminiumoxid sowie Gemischen derselben bestehen. Als polymere Schichten werden bevorzugt solche aus PMMA oder Parylenen oder Silikongummi verwendet.

Zur Herstellung der Laserstrahlung zum nicht thermischen Ab­ tragen werden insbesondere UV-Excimer-Laser verwendet, da die von diesen Lasern abgegebenene UV-Strahlung die Eigenschaft besitzt, mit den bestrahlten Materialien in Wechselwirkung zu treten. Dazu gehören in bevorzugter Weise frequenzverdoppelte Argon-Ionen-Laser, frequenzvervierfachte Neodym-YAG-Laser oder Infrarot-Neodym-YAG-Laser.

Für verschiedene Substanzen sind Laser mit verschiedenen UV- Wellenlängen und Flußstärken notwendig, um diese Wechselwirkung zu erreichen. Die folgende Tabelle 1 zeigt beispielhaft der­ artige Wellenlängen und Flußdichten für verschiedene Materia­ lien.

Tabelle 1

Zur Herstellung einer Druckform für den Tiefdruck wird eine nach einem bekannten galvanischen Verfahren verkupferte Druck­ walze, die entweder im Grundkupfer- oder Ballardhaut-Verfahren hergestellt wurde, mit einer ca. 1 bis 10 µm dicken Metall- oder Keramikschicht beschichtet. Anschließend werden mittels geeigneter Laserstrahlung die Bereiche nicht thermisch abgetra­ gen, die in der fertigen Druckform farbführend sein sollen. Zur Durchführung dieser Abtragung kann beispielsweise eine bekannte Tiefdruckgraviermaschine benutzt werden, wo das den Gravier­ diamanten enthaltende Modul gegen eine Laseroptik ausgetauscht worden ist und wobei die Steuerung des Lasers über bekannte, dem Laser angepaßte Gravurdatensysteme erfolgt.

Das Verfahren des Laserstrukturierens beruht auf dem Prinzip des laserinduzierten Materialverdampfens, die als nicht ther­ mische Laserablation bezeichnet wird. Hierzu wird ein Laser­ strahl geeigneter Wellenlänge und Pulsenergie über aufweitende bzw. fokussierende Abbildungsoptiken auf das zu bearbeitende bzw. fokussierende Abbildungsoptiken auf das zu bearbeitende Material geführt. Durch die Wechselwirkung der Laserstrahlung mit dem Material werden physikalische und chemische Prozesse in einer dünnen, wenige Nanometer bis Mikrometer dicken Schicht an der Oberfläche induziert, die zur Ablösung dieser Schicht füh­ ren. Wird mit gepulster Laserstrahlung gearbeitet, so erfolgt diese Induktion innerhalb von Sekundenbruchteilen, d. h. inner­ halb der Laserpulsdauer von wenigen Nanosekunden bis Millise­ kunden. Die bestrahlte Schicht verdampft und hinterläßt beispielsweise ein einige Mikrometer tiefes Loch im Material. Bei einem Schichtsystem bestehend aus Grundmaterial und Deck­ schicht ist so ein Abtragen der Deckschicht ohne Schädigung des unterliegenden Grundmaterials möglich.

Der Lochquerschnitt hat die gleichen Abmessungen wie der auf das Material treffende Laserstrahl. Durch ein horizontales Scannen des Schichtsystems bzw. des Laserstrahls lassen sich Löcher an beliebigen Positionen auf der Materialoberfläche er­ zeugen, so daß beispielsweise bei vorgegebener Lochgröße ins­ gesamt verschiedene Lochdichten erzielt werden können.

Das Laserstrukturieren erfolgt beispielsweise mit einem indu­ strietauglichen UV-Excimer Laser bei einer Wellenlänge von 248 nm mit Pulsenergien von 200-1000 mJ und mit Pulswiederhol­ raten von 10-500 Hz. Die Laserstrahlung wird mittels eines op­ tischen Teleskopes und nachfolgender Fokussieroptik auf die Oberfläche der Druckwalze abgebildet. Durch die damit erreich­ baren typischen Verkleinerungsverhältnisse von 8 : 1 bis 40 : 1 stehen auf der Oberfläche der Druckwalze die zum Materialver­ dampfen nötigen Energiedichten von 3 bis 45 J/cm² zur Verfü­ gung. Damit wird bei TiN beschichteten Druckwalzen aus Cu pro Laserpuls jeweils ein Loch abgetragen bzw. hergestellt. Die Deckschicht aus TiN wird rückstandsfrei abgetragen, das Grund­ material Kupfer bleibt unverändert.

Typische Loch- bzw. Näpfchengeometrien liegen zwischen 2 und 900 µm Diagonallänge. Der Laserstrahlquerschnitt an der Materi­ aloberfläche kann in einer Ausführungsform über eine oder meh­ rere flexibel gesteuerte Optiken auf die gewünschten Abmessun­ gen eingestellt werden. Zwischen zwei aufeinander folgenden Laserpulsen wird die in einer Einspannvorrichtung gelagerte und rotierende Druckwalze jeweils an die nächste Position gefahren und anschließend ein weiteres Näpfchen abgetragen. Somit ent­ steht ein Raster von flächenvariablen Näpfchen auf der Ober­ fläche der Druckwalze. Je nach Ausführungsform lassen sich zwi­ schen 100 und 50 000 Näpfchen pro Sekunde mit einer Laser­ strahlquelle herstellen. Bedarfsgerecht sind alle Rasterweiten, die üblicherweise verwendet werden, zu erzielen, auch der im Offsetdruck teilweise angewendete frequenzmodulierte Raster. Eine Rasterdrehung zur Vermeidung einer Moireebildung ist eben­ so möglich.

Nach Beendigung der nicht thermischen Abtragung wird die Druck­ walze in ein herkömmliches Ätzbad getaucht, worin die Keramik­ schicht nicht löslich ist und damit als Ätzmaske wirkt. An den nicht mit der genannten Schicht bedeckten Stellen wird Kupfer durch die Ätzlösung gleichmäßig aufgelöst. Die Einstellung der Ätztiefe erfolgt in üblicher Weise durch Einstellung der Para­ meter: Ätzbad, Temperatur des Ätzbades, Zusammensetzung und Eintauchzeit. Nach beendeter Ätzung, Spülen und Trocknen der Druckwalze ist wegen der verschleiß- und korrosionsschützenden Metall- oder Keramikschicht eine sofortige Überführung in das Druckwerk möglich. Die heute noch übliche, nach der Gravur oder Ätzung der Kupferschicht notwendige, nach einem bekannten gal­ vanischen Verfahren durchzuführende, zeitaufwendige, kosten­ intensive und umweltgefährdende Verchromung der Druckwalze, entfällt bei diesem erfindungsgemäßen Verfahren.

Nach beendetem Druckauftrag kann die Druckwalze für spätere Aufträge überarbeitet werden. Dazu werden in einem bekannten Verfahren zunächst an der Druckwalze anhaftende Farbreste ent­ fernt. Wenn die Druckwalze nach dem Grundkupferverfahren her­ gestellt worden ist, erfolgt nun die Entfernung der keramischen Schicht in einem bekannten Entschichtungsbad mit einer üblichen Entschichtungslösung. Alternativ kann der Umfang der Druckwalze auch mittels einer Fräsmaschine mit einem geeigneten Werkzeug abgedreht werden. Ist die Druckwalze nach dem Ballardhautver­ fahren hergestellt worden, dann erfolgt nun das bekannte Abzie­ hen der Ballardhaut. Die Druckwalze steht danach für eine er­ neute, erfindungsgemäße oder auch bekannte Druckformherstellung zur Verfügung.

Wie aus dieser Verfahrensbeschreibung zu erkennen ist, kann bei der erfindungsgemäßen Herstellung einer Druckform für den Tief­ druck die aufwendige Verchromung vermieden werden. Weiterhin ist es möglich, die Druckvorlage direkt ohne photografische Zwischenschritte oder mechanische Gravuren auf die Druckform zu übertragen, was erheblich weniger kostenintensiv und zeitauf­ wendig ist. Dabei ist zu beachten, daß sich das umliegende Ma­ terial durch die nicht thermische Laserabtragung nicht ver­ ändert, so daß ein schärferes Druckbild erhalten werden kann. Ähnliches gilt auch für die Strukturierung eines Näpfchenvolu­ mens, was im Vergleich zur mechanischen Garvur zu einem besse­ ren Farbannahmeverhalten durch den Bedruckstoff und Erreichen der erforderlichen Druckdichten mit geringerem Farbverbrauch führt.

Die Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck erfolgt erfindungsgemäß dadurch, daß man in einer Ausführungsform auf eine Grundwerkstoffschicht aus Aluminium oder eine bereits be­ kannte keramische Schicht ein Polymer aufbringt, welches farb­ führend ist. Das Druckbild wird dann direkt mittels des Laser­ strahls auf die Druckform übertragen und die farbführende Schicht in den Bereichen, die beim Druck nicht farbführend sein sollen, nicht thermisch abgetragen.

In einer anderen Ausführungsform kann auch eine Kupferschicht verwendet werden. Die darüberliegende, wasserführende Aluminium- oder Keramikschicht wird in den Bereichen, die beim Druck farbführend sein sollen, nicht thermisch abgetragen.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann für alle Offsetverfahren eingesetzt werden. Hierzu gehören insbesondere der übliche nas­ se Offsetdruck und der wasserlose Offsetdruck.

Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht für den Offsetdruck ein Computer-to-Plate-Verfahren, das gegenüber den bekannten Computer-to-Plate-Verfahren wesentliche Vorteile aufweist. Im erfindungsgemäßen Verfahren wird das Druckbild durch den Abtrag der wasserführenden oder der farbführenden Schicht mittels La­ serstrahl durchgeführt. Das Druckbild kann somit direkt aus dem Datenbestand auf die Druckplatte übertragen werden. Nach been­ deter Laserbearbeitung steht die Druckplatte sofort für die Produktion zur Verfügung. Die beim bekannten Produktionsverfah­ ren von Offsetdruckplatten anfallenden Schritte wie Belichtung des Films vom Datenbestand, Kopieren des Films auf die Druck­ platte mit Entwicklung und Auswaschen, Gummierung und Trocknung entfallen. Durch die verschleißschützende Eigenschaft einer keramischen Schicht, die erfindungsgemäß als wasserführende Schicht verwendet wird, können weiterhin vorteilhaft hohe Standzeiten erzielt werden. Dadurch kann die Haltbarkeitsgrenze der Druckform im Vergleich zu der bekannten Aluminiumdruckplat­ te von etwa 150 000 Drucken weit überschritten werden. Im Ver­ gleich zu dem bekannten Computer-to-Press-Verfahren, das eben­ falls eine direkte Bildübertragung auf die Druckplatte ermög­ licht, besitzt das erfindungsgemäße Verfahren keine qualitati­ ven Einschränkungen gegenüber dem Standard-Offsetdruck. Weiter­ hin ist zu beachten, daß durch die nicht thermische Abtragung des Materials ein kontrastreicheres Druckbild und eine bessere Auflösung erzielt werden, als mit den herkömmlichen photogra­ fischen Verfahren.

Fig. 1a bis 1c zeigen schematisch die Herstellung einer Druck­ form für den Tiefdruck. Dabei wird ein Grundwerkstoff, der bei­ spielsweise aus Kupfer besteht (2) und mit einer keramischen Schicht (1) versehen ist, mittels geeigneter Laserstrahlung nicht thermisch abgetragen. Fig. 1b zeigt als Ziffer (3) die abgetragene Oberflächenschicht. Daran schließt sich ein Ätz­ prozeß an, der in Fig. 1c dargestellt wird. Ziffer (4) zeigt die durch den Ätzprozeß entstandenen Näpfchen.

Fig. 2 zeigt als 2a die Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck, wobei eine Grundform aus Kupfer (6) mit einer Alu­ miniumschicht (5) versehen ist. Die Aluminiumschicht ist was­ serführend und nicht farbführend, während Kupfer farbführende Eigenschaften besitzt. Fig. 2b zeigt die Abtragung der Alumi­ niumschicht (7), so daß in diesen abgetragenen Bereichen beim Druck farbführende Bereiche entstehen.

Eine weitere Ausgestaltung der Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck zeigt Fig. 3. Fig. 3a zeigt eine Grundform aus Aluminium (9) mit nicht farbführenden Eigenschaften auf die eine polymere Schicht (8) mit farbführenden Eigenschaften auf­ gebracht ist. Fig. 3b zeigt die Abtragung der polymeren Schicht (10), so daß in diesen abgetragenen Bereichen beim Druck nicht farbführende Bereiche entstehen.

Claims (14)

1. Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offset- oder Tiefdruck, wobei eine Grundform, die aus einem Grundwerkstoff und einer darauf aufgebrachten Oberflächenschicht besteht derart behandelt wird, daß die Oberflächenschicht mittels Laserstrahlung in den Bereichen nicht thermisch abgetragen wird, die in der fertigen Druckform farbführend sein sollen, oder daß die Oberflächenschicht mittels Laserstrahlung in den Bereichen nicht thermisch abgetragen wird, die in der fertigen Druckform nicht farbführend sein sollen.

2. Verfahren nach den Ansprüchen 1 oder 2, dadurch ge­ kennzeichnet, daß zur Abtragung der Oberflächen­ schicht ein UV-Excimer-Laser, ein frequenzverdoppel­ ter Argon-Ionen-Laser, ein frequenzvervierfachter Neodym-YAG-Laser oder ein Infrarot-Neodym-YAG-Laser verwendet wird.

3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3 dadurch gekenn­ zeichnet, daß mit Energiedichten von 3 bis 45 J/cm² und Pulswiederholraten von 10 bis 500 Hz gearbeitet wird.

4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch ge­ kennzeichnet, daß zur nicht thermischen Abtragung UV- Laserstrahlung verwendet wird.

5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch ge­ kennzeichnet, daß der Grundwerkstoff ein Metall oder ein keramisches Material ist.

6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 oder 4, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Oberflächenschicht eine metal­ lische, keramische oder polymere Schicht ist.

7. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 6 dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Oberflächenschicht aus Metallni­ trid, Metallcarbid, Metallcarbonitrid, Metalloxid oder Gemischen derselben besteht.

8. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Oberflächenschicht aus Titanni­ trid, Chromnitrid, Aluminiumoxid oder Gemischen der­ selben besteht.

9. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 8 dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Grundwerkstoff aus Kupfer, Alumini­ um oder Stahl besteht.

10. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 9, dadurch ge­ kennzeichnet, daß zur Herstellung einer Druckform für den Tiefdruck die Grundform mit einer Oberflächen­ schicht aus Metall oder Keramik beschichtet ist, und daß diese Schicht mittels Laserstrahlung an den Stel­ len nicht thermisch abgetragen wird, an der die fer­ tige Druckform Näpfchen zur Aufnahme von Druckfarbe besitzen soll, und dann die so behandelte Grundform in einem Ätzbad in den Bereichen, in denen die Ober­ flächenschicht abgetragen wurde, geätzt wird und so die Näpfchen zur Aufnahme der Druckfarbe erzeugt wer­ den.

11. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 9, dadurch ge­ kennzeichnet, daß zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck die Grundform bestehend aus einem Grundwerkstoff aus einem wasserführenden, farbabsto­ ßendem Material und einer Oberflächenschicht aus ei­ nem wasserabweisenden, farbaufnahmefähigen Material so behandelt wird, daß die Oberflächenschicht mittels Laserstrahlung an den Stellen nicht thermisch abge­ tragen wird, die beim Druck farbabstoßend und wasser­ führend sein sollen.

12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Grundwerkstoff aus Aluminium und die Ober­ flächenschicht aus einem polymeren Material besteht.

13. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 9, dadurch ge­ kennzeichnet, daß zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck die Grundform bestehend aus einem Grundwerkstoff aus einem wasserabweisenden, farbfüh­ renden Material und einer Oberflächenschicht aus ei­ nem wasserführenden, farbabstoßendem Material so be­ handelt wird, daß die Oberflächenschicht mittels La­ serstrahlung an den Stellen nicht thermisch abgetra­ gen wird, die beim Druck farbführend und wasserabsto­ ßend sein sollen.

14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Grundwerkstoff aus Kupfer und die Oberflä­ chenschicht aus Aluminium oder einem keramischen Ma­ terial besteht.