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DE1522683C3 - Method and device for charging the photoconductive layer of a recording material and for generating a charge image - Google Patents

Method and device for charging the photoconductive layer of a recording material and for generating a charge image

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Publication number
DE1522683C3
DE1522683C3 DE1522683A DE1522683A DE1522683C3 DE 1522683 C3 DE1522683 C3 DE 1522683C3 DE 1522683 A DE1522683 A DE 1522683A DE 1522683 A DE1522683 A DE 1522683A DE 1522683 C3 DE1522683 C3 DE 1522683C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
photoconductive layer
photoconductive
radiation
layer
wavelength
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE1522683A
Other languages
German (de)
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DE1522683B2 (en
DE1522683A1 (en
Inventor
Charles Francis Penfield Gallo
Algird George Pittsford Leiga
Walter Rochester Roth
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xerox Ltd
Original Assignee
Rank Xerox Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rank Xerox Ltd filed Critical Rank Xerox Ltd
Publication of DE1522683A1 publication Critical patent/DE1522683A1/en
Publication of DE1522683B2 publication Critical patent/DE1522683B2/en
Application granted granted Critical
Publication of DE1522683C3 publication Critical patent/DE1522683C3/en
Expired legal-status Critical Current

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Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum gleichförmigen Aufladen der fotoleitfähigen Schicht eines fotoleitfähigen Aufzeichnungsmaterials, bei dem die fotoleitfähige Schicht einer Totalbelichtung ausgesetzt wird, sowie auf ein elektrofotografisches Verfahren, bei dem eine gleichförmig aufgeladene fotoleitfähige Schicht belichtet wird und auf Geräte zur Durchführung der Verfahren.The invention relates to a method of uniformly charging the photoconductive layer of a photoconductive recording material in which the photoconductive layer is subjected to total exposure is, as well as an electrophotographic process in which a uniformly charged photoconductive Layer is exposed and on equipment to carry out the procedure.

Bei einem solchen zur Aufladung der fotoleitfähigen Schicht eines Aufzeichnungsmaterials aus der US-PS 833 930 bekannten Verfahren wird diese Schicht gleichzeitig einer Totalbelichtung ausgesetzt, während über eine die fotoleitfähige Schicht überziehende isolierende Schicht eine Ladungselektrode geführt wird. Durch die gleichzeitige Totalbelichtung wird die fotoleitfähige Schicht zwischen der isolierenden Schicht und einer elektrisch leitenden Trägerplatte elektrisch leitfähig, so daß ein Ladungsaustausch zwischen der isolierenden Schicht und der benachbarten Fläche der fotoleitfähigen Schicht auftreten kann. Anschließend wird die Totalbelichtung abgebrochen und die Ladungselektrode mit einer zweiten Spannung umgekehrter Polarität gespeist, wodurch ein intensiver Ladungsaustausch zwischen der isolierenden und der fotoleitfähigen Schicht auftritt, der eine ausreichend große elektrostatische Ladung auf der fotoleitfähigen Schicht aufbringt, ohne daß dazu besonders hohe Ladespannungen erforderlich sind.In one for charging the photoconductive layer of a recording material from US Pat 833 930 known method, this layer is simultaneously exposed to a total exposure while a charge electrode is passed over an insulating layer covering the photoconductive layer. Due to the simultaneous total exposure, the photoconductive layer is between the insulating layer and an electrically conductive carrier plate electrically conductive, so that a charge exchange between the insulating layer and the adjacent surface of the photoconductive layer can occur. Afterward the total exposure is canceled and the charging electrode is reversed with a second voltage Polarity fed, creating an intense charge exchange between the insulating and the photoconductive Layer occurs which applies a sufficiently large electrostatic charge to the photoconductive layer, without the need for particularly high charging voltages.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein neues Aufladeverfahren, ein dieses Aufladeverfahren benutzendes Abbildungsverfahren sowie Geräte zur Durchführung beider Verfahren zu schaffen, die nach dem Prinzip der Fotoe-.The object of the invention is to provide a new charging method, an imaging method using this charging method as well as to create devices for carrying out both procedures, which are based on the principle of photo-.

mission arbeiten.mission work.

Bei einem Verfahren der eingangs genannten Art ist diese Aufgabe gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß die fotoleitfähige Schicht einer elektromagnetischen Strahlung ausgesetzt wird, deren Wellenlänge kürzer ist als die Grenzwellenlänge für die Elektronenemission des Fotoleiters der fotoleitfähigen Schicht, und daß die austretenden Elektronen mittels eines elektrostatischen Feldes abgesaugt werden.In a method of the type mentioned at the outset, this object is achieved according to the invention by that the photoconductive layer is exposed to electromagnetic radiation, the wavelength of which is shorter than the cut-off wavelength for the electron emission of the photoconductor of the photoconductive layer, and that the emerging electrons are sucked off by means of an electrostatic field.

Bei Anwendung einer Lichtstrahlung oder einer anderen elektromagnetischen Strahlung mit dieser Wellenlänge wird genügend Energie an die Elektronen in dem Fotoleiter übertragen, daß diese durch den Wall potentieller Energie an der Oberfläche des Fotoleiters entweichen. Die Verarmung der Oberfläche des Fotoleiters an Elektronen durch fotoelektrische Emission bewirkt auf der Platte eine nutzbare positive Ladung, die während der Belichtung fortlaufend weiter aufgebaut wird, je mehr Elektronen emittiert werden. Um zu verhindern, daß von der fotoleitfähigen Schicht emittierte Elektronen auf Grund der anwachsenden positiven Ladung wieder eingefangen werden, ist ein elektrostatisches Feld zum Absaugen der austretenden Elektronen in der Nähe der fotoleitenden Oberfläche vorgesehen. Das elektrische Feld wird dabei vorzugsweise mit Hilfe einer Absaugelektrode erzeugt Das an diese Elektrode angelegte Potential kann dazu benutzt werden, die Spannung zu steuern, auf welche die fotoleitfä- -hige Schicht aufgeladen wird. Diese Spannung wird nicht wesentlich die Elektrodenspannung übersteigen, weil sonst die Schicht in bezug auf die Elektrode positiv wird und ausgetretene Elektronen wieder einfängtWhen using light radiation or other electromagnetic radiation with this wavelength Enough energy is transferred to the electrons in the photoconductor to allow them to pass through the wall potential energy escape on the surface of the photoconductor. The impoverishment of the surface of the photoconductor of electrons through photoelectric emission causes a usable positive charge on the plate, which is continuously built up during the exposure, the more electrons are emitted. In order to prevent electrons emitted from the photoconductive layer due to the growing positive Charge is captured again, is an electrostatic field to suck up the escaping electrons provided near the photoconductive surface. The electric field is preferred generated with the help of a suction electrode The potential applied to this electrode can be used to control the voltage to which the photoconductive layer is charged. This tension will do not significantly exceed the electrode voltage, because otherwise the layer is positive with respect to the electrode and traps electrons that have escaped

Erfindungsgemäß wird eine Strahlungsquelle mit verhältnismäßig breitem Spektrum verwendet, die bei geeigneter Filterung sowohl für die gleichmäßige Aufladung als auch für die bildmäßige Belichtung des Fotoleiters bei der elektrofotografischen Bilderzeugung verwendet werden kann. Dies wird erreicht durch Ausfiltern aller Strahlung außer des kurzwelligen, energiereichen Lichts der Strahlungsquelle für die Aufladung der fotoleitfähigen Schicht und die Verwendung der längerwelligen Strahlung aus dem Hoch-UV-Bereich und/oder den sichtbaren Bereichen des Spektrums für die bildmäßige Belichtung. Das kurzwellige Licht ladet den Fotoleiter durch fotoelektrische Emission auf, belichtet aber diesen nicht weil die Schicht in bezug auf dieses kurzwellige Licht allenfalls eine geringe fotoleitende Empfindlichkeit zeigt Andererseits entladen der sichtbare Teil des Spektrums und die längere UV-Strahlung die Schicht bildmäßig, weil die Schicht für diese Wellenlänge der Strahlung höhere fotoleitende Empfindlichkeit zeigt, zugleich aber diese Wellenlängen nicht genügend Energie besitzen, um eine fotoelektrische Emission zu bewirken und die Schicht aufzuladen. According to the invention, a radiation source with a relatively broad spectrum is used, which at suitable filtering both for uniform charging and for image-wise exposure of the photoconductor can be used in electrophotographic imaging. This is achieved by filtering out all radiation except for the short-wave, high-energy light from the radiation source for charging the photoconductive layer and the use of longer-wave radiation from the high UV range and / or the visible regions of the spectrum for imagewise exposure. The short-wave light charges the photoconductor by photoelectric emission, but does not expose it because the layer is related to this short-wave light shows at most a low photoconductive sensitivity on the other hand, the discharged visible part of the spectrum and the longer UV radiation the layer imagewise because the layer for this wavelength of radiation shows higher photoconductive sensitivity, but at the same time these wavelengths do not have enough energy to cause photoelectric emission and charge the layer.

Die Ausbildung von Geräten zur Durchführung der erfindungsgemäßen Verfahren zur Aufladung einer fotoleitfähigen Schicht und Erzeugung eines Ladungsbilds auf dieser Schicht betreffende Weiterbildungen der Erfindung sind in den weiteren Ansprüchen angegeben. The formation of devices for performing the inventive method for charging a photoconductive Further developments relating to the layer and generation of a charge image on this layer of the invention are specified in the further claims.

Die Erfindung wird an Hand eines in der Zeichnung dargestellten, bevorzugten Ausführungsbeispiels näher erläutert. Im einzelnen zeigtThe invention is explained in more detail with reference to a preferred exemplary embodiment shown in the drawing explained. In detail shows

F i g. 1 eine Seitenansicht eines vereinfachten Aufladegerätes für ein fotoleitfähiges Aufzeichnungsmaterial im Schnitt undF i g. 1 is a side view of a simplified charger for a photoconductive recording material in section and

F i g. 2 eine Seitenansicht eines vollständigen elektrofotografischen Kopiergeräts mit einer Strahlungsquelle für die Aufladung und die bildmäßige Belichtung des Aufzeichnungsmaterials im SchnittF i g. Figure 2 is a side view of a complete electrophotographic Copier with a radiation source for charging and imagewise exposure of the recording material in section

F i g. 1 zeigt ein fotoleitfähiges Aufzeichnungsmaterial mit einer leitenden Grundplatte 11 und einer fotoleitfähigen isolierenden Schicht 12. Es ist darauf hinzuweisen, daß die elektrisch leitende Grundplatte 11 nicht unbedingt vorhanden sein muß, aber verwendet werden kann, um die Herstellung einer elektrischen Verbindung mit der Basis der fotoleitfähigen Schicht 12 zu erleichtern. Unmittelbar oberhalb der fotoleitfähigen Schicht 12 ist eine aus einer transparenten Quarzschicht 13 bestehende Elektrode angeordnet, die mit einer extrem dünnen, optisch transparenten, elektrisch leitenden Schicht 14 aus Zinnoxyd oder einem anderen geeigneten Material überzogen ist. Der leitende Teil der Elektrode ist mit dem positiven Pol einer Gleichstromquelle 16 verbunden, deren negativer Pol mit der leitenden Grundplatte 11 verbunden ist, die geerdet sein kann. Oberhalb der Elektrode sind eine Strahlungsquelle 17 und ein Reflektor 18 so angeordnet, daß die Strahlung durch die Elektrode auf die fotoleitfähige Schicht reflektiert wird. Die Strahlungsquelle 17 und der Reflektor 18 müssen nicht unbedingt so angeordnet sein, daß die Strahlung die Elektrode durchsetzt. Da aber die Elektrode in ziemlicher Nähe der Oberfläche der fotoleitfähigen Schicht angeordnet sein soll, um auf -diese Weise möglichst wirksam" aus dieser Schicht ausgetretene Elektronen einzufangen, wenn die Strahlung auf das Aufzeichnungsmaterial trifft ist es schwierig, die Strahlungsquelle so anzuordnen, daß die Strahlung unmittelbar auf der Schicht auftrifft, ohne die Elektrode zu durchsetzen. Es kann aber auch die Elektrode an vielen anderen Stellen, auch hinter der Strahlungsquelle oder auf der Oberfläche der Strahlungsquelle, angeordnet werden.F i g. 1 shows a photoconductive recording material with a conductive base plate 11 and a photoconductive insulating layer 12. It should be noted that that the electrically conductive base plate 11 does not necessarily have to be present, but can be used can in order to establish an electrical connection with the base of the photoconductive layer 12 to facilitate. Immediately above the photoconductive layer 12 is one made of a transparent quartz layer 13 existing electrode arranged with an extremely thin, optically transparent, electrically conductive layer 14 of tin oxide or other suitable material is coated. The leading part the electrode is connected to the positive pole of a direct current source 16, the negative pole of which with the conductive base plate 11 is connected, which may be grounded. A radiation source is located above the electrode 17 and a reflector 18 arranged so that the radiation through the electrode on the photoconductive Layer is reflected. The radiation source 17 and the reflector 18 do not necessarily have to be arranged in this way be that the radiation penetrates the electrode. But since the electrode is quite close to the surface the photoconductive layer should be arranged in order to -this way as effectively as possible "leaked out of this layer Trapping electrons when the radiation hits the recording material makes it difficult to to arrange the radiation source so that the radiation impinges directly on the layer without the electrode to enforce. But the electrode can also be in many other places, including behind the radiation source or on the surface of the radiation source.

Da mit der Elektrode ausgetretene Elektronen eingefangen und auch Photonen der aufladenden Strahlung durchsetzt werden sollen, können in den meisten Fällen andere Anordnungen an Stelle der in der Zeichnung gezeigten Elektode verwendet werden. Eine typische andere Anordnung dieser Art ist ein Gitter oder ein Schirm aus nichtrostendem Stahl, Kupfer, Messing oder einem anderen geeigneten leitenden Material. Obgleich die aufladende Strahlung nur die Öffnungen im Gitter durchsetzt und nicht die undurchscheinenden oder Draht-Bereiche selbst, hat sich herausgestellt, daß dieses Schirmgitter eine bevorzugte Elektrodenform bei dem neuen Verfahren darstellt, weil es ein sehr feines Muster ungleichförmig über die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials in kleinen getrennten Stellen verteilter Ladungen hervorruft Diese Art von Ladungsmustern ist zur Erzeugung von Bildern mit ausgedehnten kräftigen dunklen Bereichen oder mit gleichförmiger Tönung besonders geeignet. Bei gewöhnlicher Aufladung, bei welcher das Ladungsmuster ursprünglich über das ganze Aufzeichnungsmaterial gleichförmig ist, auch wenn dieses in mikroskopischer Vergrößerung untersucht wird, ergeben Originale mit geringem Kontrast keine hohen Potentialgradienten mit Ausnahme ihrer äußeren Kanten. Infolgedessen werden die Mittelteile derartiger Bilder nicht ausgefüllt, es sei denn, es werden spezielle Entwicklungsverfahren angewendet Das ungleichförmige Ladungsmuster ruft jedoch eine Vielzahl hoher Potentialgradienten über die gesamte Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials verteilt hervor, so daß selbst dann, wenn für die Belichtung des Aufzeichnungsmaterials Originale mit ausge-Because electrons that have escaped with the electrode are trapped and also photons of the charging radiation are to be interspersed, in most cases other arrangements can be used instead of those in the drawing shown electrode can be used. Another typical arrangement of this type is a grid or a screen made of stainless steel, copper, brass or other suitable conductive material. Although the charging radiation only penetrates the openings in the grid and not the opaque ones or wire areas themselves, this screen grid has been found to be a preferred electrode shape in the new process because there is a very fine pattern unevenly across the surface of the This type of charge pattern is created by recording material in small, discrete locations of distributed charges is used to create images with extensive, bold dark areas or with more uniform Tint particularly suitable. With ordinary charging, in which the charge pattern was originally is uniform over the entire recording material, even if this is in microscopic magnification is examined, originals with low contrast do not result in high potential gradients Except for their outer edges. As a result, the middle parts of such images are not filled in, it unless special development processes are used The uneven charge pattern calls however, a large number of high potential gradients over the entire surface of the recording material distributed so that even if originals with sufficient

dehnten, stark dunklen Bereichen oder mit gleichförmiger Tönung verwendet werden, das erzeugte Ladungsbild keine hohe Potentialgradienten über die gesamte Bildfläche verteilt enthält, wodurch sich eine stark verbesserte Entwicklung auch bei üblichen Entwicklungsverfahren ergibt. Der als Elektrode verwendete Schirm kann rechteckige, runde, geradlinige, unregelmäßige oder anders geformte öffnungen enthalten, die in weiten Grenzen in Größe und Dichte veränderlich sein können. Typische Konstruktionen enthalten öffnungen, die 20 bis 80% der Schirmfläche bedecken und eine Dichte von 8 bis 200 pro cm2 haben. Wegen der makroskopischen Gleichförmigkeit des Ladungsmusters, auch wenn dies durch einen solchen Schirm erzeugt wird, sollen alle derartigen Muster in der Beschreibung oder in den Ansprüchen als gleichförmige bezeichnet werden.stretched, very dark areas or with a uniform shade are used, the generated charge image does not contain high potential gradients distributed over the entire image area, which results in a greatly improved development even with conventional development processes. The screen used as an electrode can contain rectangular, round, straight, irregular or differently shaped openings, which can vary in size and density within wide limits. Typical constructions contain openings that cover 20 to 80% of the screen area and have a density of 8 to 200 per cm 2 . Because of the macroscopic uniformity of the charge pattern, even if this is produced by such a screen, all such patterns in the description or in the claims shall be referred to as uniform.

Wie oben erläutert, hängen die Auswahl des zu verwendenden Fotoleiters und der zu verwendenden Strahlungsquelle voneinander ab, und es sollte jedes getrennt betrachtet werden, weil die Strahlungsquelle Licht liefern muß, das etwas kürzer als die Wellenlängenschwelle ist, was als Axc/Austrittsarbeit des Fotoleiters definiert werden kann. Hierin sind Λ die Plancksche Konstante und c die Lichtgeschwindigkeit. Bei amorphem Selen z. B. würde die Grenzwellenlänge in Angström kürzer als 12 395 geteilt durch das Spannungsäquivalent der Austrittsarbeit für Selen sein, was einer Wellenlänge von etwa 2 620 Angström-Einhettefn entspricht. Es ist festzustellen, daß dies nur eine Näherung ist und daß etwas höhere Wellenlängen verwendet werden können, weil die Austrittsarbeit für das Material bei dem absoluten Nullpunkt errechnet ist und die Materialien gewöhnlich bei höheren Temperaturen verwendet werden, wodurch sich in dem Fotoleiter eine höhere innere Erregung der Elektronen ergibt. Obgleich auch Fotoleiter mit ziemlich hoher Austrittsarbeit in Verbindung mit dem neuen Verfahren verwendet werden können, die bei ziemlich kurzen Strahlungswellenlängen, z. B. im Bereich von 2000 Angström, aufgeladen werden, können die kürzeren Wellenlängen besondere Sorgfalt bei Auswahl der Atmosphäre zwischen der aufladenden Strahlung und dem Fotoleiter erfordern, weil einige Gase die kurzen Wellenlängen absorbieren und deren Übertragung auf die Oberfläche des Fotoleiters verhindern. So ist z. B. festgestellt worden, daß Sauerstoff dazu neigt, Wellenlängen mit 2000 Angström und kürzer teilweise zu absorbieren. Natürlich kann diese Betrachtung bei solchen Vorrichtungen unbeachtet bleiben, die im Vakuum oder im Teilvakuum, wie z. B. im Weltraum, verwendet werden. Wenn die Vorrichtung auf der Erde verwendet wird, kann sie in einen Behälter eingesetzt werden, dessen Oberfläche sich fast bis an die Oberfläche des Fotoleiters erstreckt, wobei der Behälter entweder ein Vakuum oder ein nicht absorbierendes Gas enthält, oder es kann der Bereich zwischen Strahlungsquelle und Fotoleiter ständig von einem nicht absorbierenden Gas, wie z. B. Stickstoff, durchspült werden.As explained above, the selection of the photoconductor to be used and the radiation source to be used depend on one another, and each should be considered separately because the radiation source must provide light that is slightly shorter than the wavelength threshold, which is defined as the Axc / work function of the photoconductor can be. Here Λ is Planck's constant and c is the speed of light. For amorphous selenium z. For example, the cut-off wavelength in Angstroms would be less than 12,395 divided by the voltage equivalent of the work function for selenium, which corresponds to a wavelength of about 2,620 Angstrom units. It should be noted that this is only an approximation and that slightly higher wavelengths can be used because the work function for the material is calculated at absolute zero and the materials are usually used at higher temperatures, thereby increasing internal excitation in the photoconductor of electrons. Although photoconductors with a fairly high work function can be used in conjunction with the new method, which operate at fairly short radiation wavelengths, e.g. B. in the range of 2000 Angstroms, the shorter wavelengths may require special care in choosing the atmosphere between the charging radiation and the photoconductor, because some gases absorb the short wavelengths and prevent their transmission to the surface of the photoconductor. So is z. For example, it has been found that oxygen tends to partially absorb wavelengths of 2000 angstroms and less. Of course, this consideration can be ignored in those devices that operate in a vacuum or in a partial vacuum, such as. B. in space, can be used. When the device is used on the ground, it can be inserted into a container, the surface of which extends almost to the surface of the photoconductor, the container containing either a vacuum or a non-absorbing gas, or the area between the radiation source and the Photoconductor constantly from a non-absorbing gas, such as. B. nitrogen, are flushed.

Irgendeine geeignete fotoleitende Schicht kann auch bei dem neuen Verfahren verwendet werden. Typische fotoleitende Schichten enthalten z. B.: Amorphes Selen, Legierungen von Schwefel, Arsen oder Tellur mit amorphem Selen, mit Einfangmaterialien, wie Thallium, Kadmiumsulfid, Kadmiumselenid usw.; dotiertes amorphes Selen, besondere fotoleitende Materialien, wie Zinksulfid, Zink-Kadmium-Sulfid, nach französischem Verfahren hergestelltes Zinkoxyd, metallfreies Phtalozyanin, Kadmiumsulfid, Kadmiumselenid, Zinksilikat, Kadmiumsulfoselenid usw, und zwar eingebettet in ein isolierendes, filmbildendes anorganisches Bindemittel, wie Glas oder in ein isolierendes filmbildendes organisches Bindemittel, wie ein Epoxydharz, ein Silikonharz, ein Alkydharz, ein Styrol-Butadien-Harz, ein Wachs od. dgl. Andere typische fotoleitende isolierende Materialien enthalten: Mischungen, Kopolymere, Terpolymere usw. von Fotoleitern und nicht fotoleitenden Materialien, die entweder kopolymerisierbar oder untereinander mischbar sind, um feste Lösungen zu bilden. Organische fotoleitende Materialien dieser Art enthalten: Anthrazen, Polyvinylanthrazen, Anthrachinon, Oxydiazolderivate, wie 2,5-bis-(p-Amino-Phenyl-1), 1,3,4-Oxydiazol, 2-Phenylbenzoxazol, und Ladungsübertragungskomplexe aus komplexbildenden Harzen, wie Polyvinylcarbazol, Phenol-Aldehyde, Epoxyverbindungen, Phenoxyverbindungen, Polycarbonate, Melamine usw. mit Lewis-Säuren, wie Naphthalin-Anhydrid; 2,4,7-Trinitrofluorenon; Metallchloride, wie Aluminium, Zink- oder Eisenchlorid; 4-bis(Dimethylamino)Benzophenol; Chloranil; Pikrinsäure; 1,3,5-Trinitrobenzol; 1-Chloroanthrachinon; Bromal; 4-Nitrobenzaldehyd; 4-Nitrophenol; Essigsäureanhydrid; Maleinan- / hydrid; Bortrichlorid; Maleinsäure; Cinnamylsäure; Phenylameisensäure; Weinsäure; Malonsäure und Mischungen daraus.Any suitable photoconductive layer can also be used in the new method. Typical photoconductive layers contain e.g. E.g .: amorphous selenium, alloys of sulfur, arsenic or tellurium with amorphous selenium, with trapping materials such as thallium, cadmium sulfide, cadmium selenide, etc .; doped amorphous Selenium, special photoconductive materials such as zinc sulfide, zinc cadmium sulfide, according to French Process produced zinc oxide, metal-free phthalocyanine, cadmium sulfide, cadmium selenide, zinc silicate, Cadmium sulfoselenide, etc., embedded in an insulating, film-forming inorganic binder, such as glass or in an insulating film-forming organic binder such as an epoxy resin, a silicone resin, an alkyd resin, a styrene-butadiene resin, a wax or the like. Other typical photoconductive insulating materials contain: mixtures, copolymers, terpolymers, etc. of photoconductors and non-photoconductive ones Materials that are either copolymerizable or miscible with one another to form solid solutions. Organic photoconductive materials of this type contain: anthracene, polyvinylanthracene, anthraquinone, Oxydiazole derivatives, such as 2,5-bis (p-amino-phenyl-1), 1,3,4-oxydiazole, 2-phenylbenzoxazole, and charge transfer complexes from complexing resins such as polyvinyl carbazole, phenol-aldehydes, epoxy compounds, Phenoxy compounds, polycarbonates, melamines, etc. with Lewis acids such as naphthalene anhydride; 2,4,7-trinitrofluorenone; Metal chlorides such as aluminum, zinc or iron chloride; 4-bis (dimethylamino) benzophenol; Chloranil; Picric acid; 1,3,5-trinitrobenzene; 1-chloroanthraquinone; Bromal; 4-nitrobenzaldehyde; 4-nitrophenol; Acetic anhydride; Maleic anhydride; Boron trichloride; Maleic acid; Cinnamic acid; Phenylformic acid; Tartaric acid; Malonic acid and mixtures thereof.

Da das neue Verfahren, eine positive Aufladung hervorruft und einige Fotoleiter wirksamer arbeiten, wenn sie auf eine oder die andere Polarität aufgeladen werden, werden vorzugsweise, jedoch nicht ausschließlich, diejenigen verwendet, die am besten mit positiver Ladung arbeiten. Es ist jedoch darauf hinzuweisen, daß Selen in seiner amorphen Form mit oder ohne Dotierung und Legierungen der amorphen Form des Selens ein bevorzugtes Material für die fotoleitende Isolierschicht 13 darstellen wegen ihrer extrem hohen Bildwiedergabequalität und ihrer verhältnismäßig hohen Lichtempfindlichkeit bei positiver Ladung. Der Fotoleiter kann auch mit einem geeigneten Material beschichtet oder legiert sein, um den potentiellen Oberflächenenergiewall oder die Austrittsarbeit zu verringern. Diese Art der Beschichtung kann fotoleitend oder nicht fotoleitend sein, solange sie im Dunkeln ausreichende Isolation besitzt, um eine Beeinträchtigung des gebildeten Ladungsbildes zu verhindern. Tatsächlich kann die ' Beschichtung auch für das Licht mit der Wellenlänge, das für die Belichtung verwendet wird, undurchlässig sein, wenn der Fotoleiter auf einer transparenten Grundplatte aufgebracht ist und durch diese Grundplatte hindurch belichtet wird.Because the new process creates a positive charge and some photoconductors work more efficiently when charged to one polarity or the other, preferably, but not exclusively, those used are those that are most positively charged work. It should be noted, however, that selenium is in its amorphous form with or without doping and alloys of amorphous form of selenium are a preferred material for the photoconductive insulating layer 13 because of their extremely high image reproduction quality and their relatively high quality Photosensitivity with a positive charge. The photoconductor can also be coated with a suitable material or be alloyed to reduce the potential surface energy wall or work function. These Type of coating can be photoconductive or non-photoconductive as long as it is sufficient in the dark Has insulation in order to prevent impairment of the charge image formed. Indeed, the ' Coating also opaque to the light of the wavelength used for exposure be when the photoconductor is applied to a transparent base plate and through this base plate is exposed through.

Eine bevorzugte Form der neuen Fotoemissionsladung wird mit einem Aufzeichnungsmaterial mit Einfangstellen für Defektelektronen zumindest in der oberen Schicht der Masse des Fotoleiters angewendet. Die energiereiche Strahlung im UV-Bereich, die für die Fotoemissionsladung verwendet wird, dringt nur sehr geringfügig in die Masse der fotoleitfähigen Schicht ein und bewirkt hier eine Elektronenemission und hinterläßt Defektelektronen in der Nähe der Oberfläche, aber noch in der Masse des Fotoleiters. Da die Fotoleiter, die am wirksamsten mit positiver Ladung arbeiten, eine ziemlich hohe Ladungsträgerbeweglichkeit besitzen, versuchen die durch die aufladende Strahlung erzeugten Defektelektronen bis zu einem gewissen Grade durch die Masse des Fotoleiters hindurch zu der leitenden Unterlage abzufließen. Infolgedessen werden bei Verwendung einer solchen Einfangstellen aufwei-A preferred form of the new photoemissive charge is with a recording material having trapping sites applied for holes at least in the upper layer of the mass of the photoconductor. the high-energy radiation in the UV range necessary for the photo emission charge is used, penetrates only very slightly into the bulk of the photoconductive layer and here causes an emission of electrons and leaves defect electrons close to the surface, but still in the bulk of the photoconductor. Since the photoconductors, which work most effectively with a positive charge, have a fairly high charge carrier mobility, try the one generated by the charging radiation Defect electrons to some extent through the bulk of the photoconductor to the conductive one Underlay to flow off. As a result, when using such trapping points,

senden Schicht zumindest in der Nähe des Oberteils des Fotoleiters die durch Fotoemissionsladung erzeugten Defektelektronen in der Nähe der Oberfläche eingefangen, wodurch die Bildung einer höheren Ladung auf der Schicht möglich wird. Obgleich ein mit einer geringen Menge an elementarem Thallium, z. B. 0,05 Gewichtsprozent, dotiertes Selen in seiner amorphen Form vortrefflich die Einfangstellenwirkung hervorruft, kann auch ein anderes Einfangstellen für Defektelektronen aufweisendes Material verwendet werden. Typische solche Materialien außer mit Thallium dotiertem Selen enthalten Cadmiumsulfid und Cadmiumsulfoselenid. Dieses Material kann über die gesamte Dicke des Fotoleiters oder nur als obere Schicht in der Größenordnung von ein paar Mikron Dicke angewendet werden, da jedes Gefüge die Wirkung hat, Defektelektronen in der Masse in der Nähe der Oberfläche des Fotoleiters einzufangen. Es wird aber darauf hingewiesen, daß bei jeder Anordnung die Belichtung von der oberen Fläche der Schicht mit üblichen Lichtquellen, die viel Licht vom blauen Ende des sichtbaren Spektrums und längere UV-Strahlung liefern, zu vermeiden sind, weil Licht mit diesen Wellenlängen bei den meisten Fotoleitern sehr nahe der Oberfläche absorbiert wird und also nur Defektelektronen in der Nähe dieser Oberfläche bilden kann, wo die Defektelektronen eingefangen werden, wodurch die Erzeugung eines Ladungsbildes verhindert wird.send layer at least in the vicinity of the top of the photoconductor generated by photoemission charge Holes trapped near the surface, causing the formation of a higher charge becomes possible on the shift. Although one containing a small amount of elemental thallium, e.g. B. 0.05 Percentage by weight, doped selenium in its amorphous form excellently causes the trapping point effect, Alternatively, a different material containing hole traps can be used. Typical such materials as selenium doped with thallium include cadmium sulfide and cadmium sulfoselenide. This material can be on the order of magnitude across the entire thickness of the photoconductor or just as the top layer of a few microns thick should be applied as any structure has the effect of making holes trapped in bulk near the surface of the photoconductor. It is pointed out, however, that in each arrangement the exposure from the upper surface of the layer with conventional light sources which a lot of light from the blue end of the visible spectrum and prolonged UV radiation should be avoided because light with these wavelengths is absorbed very close to the surface of most photoconductors and so only holes can form near that surface where the holes are trapped thereby preventing the generation of a charge image.

Bei Verwendung von amorphem Selen, das in seiner oberen Schicht oder auch durch die gesamte Masse hindurch mit Thallium dotiert ist, findet diese Art der Absorption sehr nahe der Oberfläche im UV-Teil des elektromagnetischen Spektrums statt. Da andererseits Selen dazu neigt, elektromagnetische Strahlung vom Orange-Rot-Ende des sichtbaren Spektrums und Röntgenstrahlung zu übertragen, kann eine durchdringende aktive Strahlung dieser Art für die Belichtung verwendet werden, da die Ladungsträger sehr nahe der leitenden Grundschicht gebildet werden. Infolgedessen können auch bei Verwendung einer fotoleitfähigen Schicht aus mit Thallium dotiertem festem Selen mit geringer Ladungsträgerbeweglichkeit in der ganzen Masse die meisten der durch die belichtende Lichtquelle erzeugten Defektelektronen durch den Fotoleiter zu der leitenden Grundplatte für die Entladung wandern, wodurch eine Bewegung der Elektronen zu eingefangenen Defektelektronen in der Nähe der Oberfläche der Schicht ermöglicht wird, um diese zu entladen und das erwünschte Ladungsbild zu erzeugen.When using amorphous selenium, that is in its upper layer or through the entire mass is doped with thallium through it, this type of absorption takes place very close to the surface in the UV part of the electromagnetic spectrum. On the other hand, since selenium tends to emit electromagnetic radiation Orange-red end of the visible spectrum and X-rays To transmit, penetrating active radiation of this type can be used for exposure because the charge carriers are formed very close to the conductive base layer. As a result, you can even when using a photoconductive layer made of thallium-doped solid selenium with less Charge carrier mobility in the whole mass most of that generated by the exposing light source Defect electrons migrate through the photoconductor to the conductive base plate for discharge, causing a movement of electrons to trapped holes near the surface of the Layer is made possible in order to discharge this and generate the desired charge image.

Bei einer anderen Technik zur Bildung von Defektelektronenpaaren in dem Fotoleiter in der Nähe der Unterlage ist der Fotoleiter auf einer transparenten Unterlage, wie z. B. mit Zinnoxyd beschichtetem Glas, angeordnet, wobei die Belichtung durch die transparente Unterlage hindurch erfolgt. Auf diese Weise kann auch Licht von der UV- und den blauen Teilen des Spektrums zur Erzeugung des Bildes verwendet werden. Kurz gesagt, es kann irgendeine Belichtungstechnik angewendet werden, die die Defektelektronenpaare in dem Fotoleiter nahe genug an der Unterlage erzeugt, so daß die gebildeten Defektelektronen sich durch den Fotoleiter hindurch zur Unterlage bewegen können. Die Schichtanordnung mit einer dünnen Schicht mit weniger als etwa 3 Mikron Stärke eines Defektelektronen einfangenden Materials über einem Fotoleiter mit einem weiten Bereich für Defektelektronen ist sogar ein noch besseres Aufzeichnungsmaterial für die Fotoemissionsladung, weil die Defektelektronenpaare irgendwo in der Masse des Fotoleiters unter der Fangschicht erzeugt werden können, da diese darunterliegende Schicht einen genügend großen Bereich für Defektelektronen besitzt, so daß diese die daranterliegende Unterlage auch von der Lage unmittelbar unterhalb der Fangschicht erreichen können. Ein weiterer sehr wichtiger Vorteil bei der Verwendung eines Aufzeichnungsmaterials mit einer Fangschicht ist der, daß die Fotoemissionsladung auch mit einer StrahlungsquelleAnother technique is to form defect electron pairs in the photoconductor near the substrate is the photoconductor on a transparent surface, such as B. with tin oxide coated glass, arranged, the exposure taking place through the transparent substrate. This way can too Light from the UV and the blue parts of the spectrum can be used to create the image. In short, any exposure technique that places the hole pairs in the photoconductor close enough to the substrate so that the holes formed can pass through the Can move photoconductor through to the base. The layer arrangement with a thin layer with having less than about 3 microns thick of a hole trapping material over a photoconductor a wide area for hole electrons is an even better recording material for photo emission charge, because the hole pairs are somewhere in the bulk of the photoconductor under the capture layer can be generated, since this underlying layer has a sufficiently large area for holes possesses, so that this the underlying document also from the position immediately below can reach the trap layer. Another very important advantage of using a recording material With a capture layer is that the photo emission charge also with a radiation source

ίο mit breitem Spektrum einschließlich Strahlung vom blauen Ende des sichtbaren Spektrums und längeren UV-Strahlen sowie den kürzeren energiereichen UV-Strahlen ohne Filter durchgeführt werden kann, weil, obwohl energiereiche UV-Strahlen eine Elektronenemission von der Oberfläche bewirken, die längeren UV-Strahlen und das blaue Licht das Aufzeichnungsmaterial infolge der Einfangstellen in der Nähe ihrer Oberfläche nicht entladen.ίο with broad spectrum including radiation from blue end of the visible spectrum and longer UV rays as well as the shorter high-energy UV rays Can be done without a filter because, although high-energy UV rays emit electrons from the surface, the longer UV rays and the blue light affect the recording material not discharged due to the traps near their surface.

In F i g. 2 ist ein Ausführungsbeispiel eines elektrofotografischen Kopiergerätes gezeigt, das für die Anwendung der neuen Aufladetechnik geeignet ist. Das Gerät enthält eine elektrofotografische Trommel 19, die aus einer leitenden Unterlage 21 und einer hierauf angeordneten fotoleitenden Schicht 22 aus Selen besteht.In Fig. 2 is an embodiment of an electrophotographic Copier shown, which is suitable for the application of the new charging technology. The device includes an electrophotographic drum 19 made up of a conductive pad 21 and one placed thereon photoconductive layer 22 consists of selenium.

Die ganze Trommel ist auf einer zylindrischen Welle 23 drehbar gelagert. Beim Betrieb wird die Trommel mit einer gleichförmigen Geschwindigkeit in Richtung desThe entire drum is rotatably mounted on a cylindrical shaft 23. During operation, the drum is with a uniform speed in the direction of the

- in. F i g. 2 gezeigten Pfeiles gedreht so daß Teile des Trommelumfangs zunächst an der Aufladevorrichtung vorbei bewegt werden, die eine optisch transparente Elektrode 24 enthält, wie sie bereits in Verbindung mit F i g. 1 beschrieben wurde. Diese Elektrode 24 ist an eine Speisequelle 26 mit positivem Potential angeschlossen. Oberhalb der Elektrode ist eine Strahlungsquelle 27 mit breitem Spektrum angeordnet, die Strahlung mit verhältnismäßig kurzer Wellenlänge im UV-Bereich, dem längeren UV-Bereich und im blauen Bereich des sichtbaren Spektrums aussendet. Typische Strahlungsquellen dieser Art arbeiten mit kontinuierlieher oder pulsierender elektrischer Entladung in einer Quecksilberatmosphäre, einer Jodatmosphäre, in Edelgasen oder Metalldämpfen. Die Strahlungsquelle 27 befindet sich in einem lichtabschirmenden Gehäuse 28, das in einer Seitenwand einen Schlitz 29 besitzt. Das Gehäuse enthält zwischen der Strahlungsquelle 27 und der Elektrode 24 ein Filter 31, das nur die UV-Strahlung mit kürzerer Wellenlänge hindurchläßt und die UV-Strahlung mit längerer Wellenlänge und den sichtbaren Teil des Spektrums ausfiltert. Die Elektrode 24- in. F i g. 2 rotated so that parts of the The drum circumference is first moved past the charging device, which has an optically transparent Contains electrode 24, as already described in connection with FIG. 1 was described. This electrode 24 is on a supply source 26 connected to a positive potential. A radiation source is located above the electrode 27 arranged with a broad spectrum, the radiation with a relatively short wavelength in the UV range, in the longer UV range and in the blue range of the visible spectrum. Typical Radiation sources of this type work with continuous or pulsating electrical discharge in one Mercury atmosphere, an iodine atmosphere, in noble gases or metal vapors. The radiation source 27 is located in a light-shielding housing 28 which has a slot 29 in a side wall. That The housing contains a filter 31 between the radiation source 27 and the electrode 24, which only absorbs UV radiation with a shorter wavelength and the UV radiation with a longer wavelength and the visible Filters out part of the spectrum. The electrode 24

So und das Filter 31 können kombiniert werden, indem auf die Oberfläche des Filters eine optisch transparente leitende Schicht aufgebracht wird. In diesem Beispiel wird ein Fotoleiter verwendet, wie amorphes Selen, mit einer derartigen Austrittsarbeit, daß die UV-Strahlung mit kürzerer Wellenlänge eine fotoelektrische Elektronenemission bewirkt, und die auch fotoleitende Empfindlichkeit in bezug auf längere UV-Strahlen und das blaue Ende des sichtbaren Spektrums besitzt Wenn die Lichtquelle 27 eingeschaltet wird, passieren die kurzwelligen UV-Strahlen mit weniger als etwa 2650 Angström-Einheiten das Filter 31 und das als Lochraster benutzte Gitter 24 und bewirken eine Elektronenemission aus der unten liegenden fotoleitenden Schicht 22. Das Gitter 24 fängt ausgetretene Elektronen auf Grund des von der Spannungsquelle 26 erzeugten elektrischen Feldes durch Absaugen auf, bis das Potential auf dem Fotoleiter das Potential der Spannungsquelle 26 erreicht. Gleichzeitig trifft auch ungefilterte StrahlungSo and the filter 31 can be combined by placing an optically transparent conductive on the surface of the filter Layer is applied. In this example a photoconductor such as amorphous selenium is used with such a work function that the shorter wavelength UV radiation emits photoelectric electrons causes, and also the photoconductive sensitivity in relation to prolonged UV rays and that When the light source 27 is switched on, the shortwave pass through UV rays with less than about 2650 Angstrom units the filter 31 and that as a breadboard used grid 24 and cause an electron emission from the underlying photoconductive layer 22. The grid 24 catches escaped electrons due to the electrical generated by the voltage source 26 Field by suction until the potential on the photoconductor reaches the potential of the voltage source 26. At the same time, unfiltered radiation also hits

509 623/293509 623/293

von der Strahlungsquelle 27 auf die Oberfläche eines zu reproduzierenden Originalbildes 32 auf. Dieses Original 32 wird auf einer zylindrischen Kopiertrommel 33 durch Greifer 34 gehalten, die in die durch den Pfeil angezeigte Richtung gedreht wird, und zwar mit der gleichen Umfangsgeschwindigkeit wie die elektrofotografische Trommel 19.from the radiation source 27 onto the surface of an original image 32 to be reproduced. This original 32 is held on a cylindrical copying drum 33 by grippers 34 which are inserted in the direction indicated by the arrow direction indicated is rotated at the same peripheral speed as the electrophotographic Drum 19.

Das von der Strahlungsquelle 27 herrührende ungefilterte Licht beleuchtet das zu reproduzierende Original 32 und wird durch den Schlitz 29 und die Linse 37 auf den Spiegel 38 reflektiert und belichtet dann die fotoleitende Schicht 22 der Trommel 19. Die Linse verhindert den Durchgang kurzwelliger UV-Strahlung und läßt den Durchgang von längerwelligen UV-Strahlen und des sichtbaren Lichtes zu, weil sie aus Glas besteht. Da das fotoleitende isolierende Selen für sichtbares Licht und längerwellige UV-Strahlung empfindlich ist, wird in den belichteten Bereichen Ladung von der Schicht abgeleitet und auf ihr entsprechend den dunklen Bereichen des Originals ein Ladungsbild erzeugt. Im Anschluß an die Aufladung und die Belichtung bewegen sich die Teile der Trommel 19 an der Entwicklungsvorrichtung 41 vorbei. Es handelt sich um eine Kaskaden-Entwicklungsvorrichtung, die einen äußeren Behälter oder eine Abdeckung 42 mit einem Trog an ihrem Boden umfaßt, der einen Zulauf für das Entwicklungsmaterial 43 enthält. Das Entwicklungsmaterial wird vom Boden des Behälters mit einer Anzahl von Bechern 44 an einem angetriebenen endlosen Förderband 46 aufgenommen und über der Trommeloberfläehe kaskadiert. Diese Entwicklungsvorrichtung, die in der US-PS 2 618 552 und 2 618 551 näher beschrieben ist., verwendet eine Zweielement-Mischung aus feinverteiltem Toner und Trägerkörnern. Das entwickelte Bild wird weiterbewegt, bis es in Kontakt mit einem Kopierband 47 gelangt, das durch zwei Blindwalzen 48 gegen die Trommeloberfläche gepreßt wird, so daß das Band sich mit der gleichen Geschwindigkeit wie der Trommelumfang bewegt. Das Bild kann in üblicher Weise auf das Band, z. B. elektrostatisch übertragen und dann fixiert werden.The unfiltered light originating from the radiation source 27 illuminates the original to be reproduced 32 and is reflected through the slit 29 and the lens 37 onto the mirror 38 and then exposes the photoconductive layer 22 of the drum 19. The lens prevents the passage of short-wave UV radiation and allows the passage of longer-wave UV rays and visible light because it is made of glass. Since the photoconductive insulating selenium is sensitive to visible light and longer-wave UV radiation, In the exposed areas, charge is diverted from the layer and, accordingly, from the dark areas A charge image is generated in areas of the original. Move after charging and exposure the parts of the drum 19 pass the developing device 41. It is about a A cascade processor which has an outer container or cover 42 with a trough attached comprises its bottom, which contains an inlet for the developing material 43. The development material is from the bottom of the container with a number of cups 44 on a driven endless conveyor belt 46 and cascaded over the drum surface. This developing device, which is described in U.S. Patents 2,618,552 and 2,618,551., uses a two-element mixture of finely divided Toner and carrier grains. The developed image is moved on until it comes into contact with a copy tape 47 arrives, which is pressed by two dummy rollers 48 against the drum surface, so that the The tape moves at the same speed as the drum circumference. The picture can be in usual Way on the tape, e.g. B. electrostatically transferred and then fixed.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims (10)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Verfahren zum gleichförmigen Aufladen der fotoleitfähigen Schicht eines fotoleitfähigen Aufzeichnungsmaterials, bei dem die fotoleitfähige Schicht einer Totalbelichtung ausgesetzt wird, d a durch gekennzeichnet, daß die fotoleitfähige Schicht einer elektromagnetischen Strahlung ausgesetzt wird, deren Wellenlänge kurzer ist als die Grenzwellenlänge für die Elektronenemission des Fotoleiters der fotoleitfähigen Schicht, und daß die austretenden Elektronen mittels eines elektrostatischen Feldes abgesaugt werden.1. A method for uniformly charging the photoconductive layer of a photoconductive recording material, in which the photoconductive layer is subjected to total exposure, d a through characterized in that the photoconductive layer emits electromagnetic radiation whose wavelength is shorter than the cut-off wavelength for electron emission the photoconductor of the photoconductive layer, and that the exiting electrons by means of an electrostatic Field to be sucked off. 2. Elektrofotografisches Verfahren zur Erzeugung eines Ladungsbildes, bei dem eine gleichförmig aufgeladene fotoleitfähige Schicht bildmäßig belichtet wird, dadurch gekennzeichnet, daß ein Aufzeichnungsmaterial mit einer fotoleitfähigen Schicht verwendet wird, die zumindest im Grenzbereich ihrer aufzuladenden Oberfläche ausreichend Einfangstellen für Defektelektronen hat, um diese nicht unter dem Einfluß eines elektrisch leitenden Trägers für die fotoleitfähige Schicht durch die fotoleitfähige Schicht wandern zu lassen, und dadurch gekennzeichnet, daß die fotoleitfähige Schicht gemäß Anspruch 1 gleichförmig aufgeladen und anschließend mit einer Fotoleitung erzeugenden .gegenüber der Totalbelichtung bei der Auflaifung längerwelligen elektromagnetischen Strahlung bildmäßig belichtet wird.2. Electrophotographic process for generating a charge image in which a uniform charged photoconductive layer is exposed imagewise, characterized in that a Recording material with a photoconductive layer is used, which is at least in the border area their surface to be charged has sufficient trapping points for holes to prevent them not under the influence of an electrically conductive support for the photoconductive layer through the photoconductive one To let the layer migrate, and characterized in that the photoconductive layer according to Claim 1 uniformly charged and then with a photoconductor generating .über the total exposure with the Auflaifung longer wave electromagnetic radiation is exposed imagewise. 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die fotoleitfähige Schicht auf einem transparenten elektrisch leitenden Schichtträger angeordnet wird und die bildmäßige Belichtung durch den Schichtträger hindurch erfolgt3. The method according to claim 2, characterized in that the photoconductive layer on a transparent electrically conductive support is arranged and the imagewise exposure through takes place through the support 4. Gerät zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 mit einer Einrichtung zur Totalbelichtung der freien Oberfläche einer fotoleitfähigen Schicht mit elektromagnetischer Strahlung, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung (17,18) zur Totalbelichtung eine Bestrahlungseinrichtung (17) mit einer Wellenlänge aufweist, die kürzer ist, als die Grenzwellenlänge der Elektronenemission des Fotoleiters der fotoleitfähigen Schicht (12), und daß im Bereich der Totalbelichtung gegenüber der fotoleitfähigen Schicht eine die emittierten Elektronen absaugende Elektrode (13, 14) angeordnet ist, die an den positiven Pol einer Spannungsquelle (16) gelegt ist.4. Apparatus for performing the method according to claim 1 with a device for total exposure the free surface of a photoconductive layer with electromagnetic radiation, thereby characterized in that the device (17,18) for total exposure an irradiation device (17) with a wavelength which is shorter than that Cutoff wavelength of the electron emission of the photoconductor of the photoconductive layer (12), and that im Area of total exposure opposite the photoconductive layer is an area that sucks off the emitted electrons Electrode (13, 14) is arranged, which is placed on the positive pole of a voltage source (16) is. 5. Gerät nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrode ein Lochraster aufweist5. Apparatus according to claim 4, characterized in that the electrode has a grid of holes 6. Gerät nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungseinrichtung (17, 18) aus einer Strahlungsquelle (17) breiten Spektrums besteht, vor der ein optisches Filter angeordnet ist, das Strahlung solcher Wellenlänge ausfiltert, die in der fotoleitfähigen Schicht (12) Fotoleitung erzeugt6. Apparatus according to claim 4 or 5, characterized in that the irradiation device (17, 18) consists of a radiation source (17) with a broad spectrum, in front of which an optical filter is arranged is, the radiation of such wavelength filters out that in the photoconductive layer (12) photoconductive generated 7. Elektrofotografisches Kopiergerät zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 2 mit einer Einrichtung zum gleichförmigen Aufladen einer fotoleitfähigen Schicht und einer Einrichtung zu deren bildmäßiger Belichtung, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung (24, 27, 31) zum gleichförmigen Aufladen aus einer Bestrahlungseinrichtung (27) besteht, deren elektromagnetische Strahlung Wellenlängenanteile hat, die kürzer sind als die Grenzwel-7. Electrophotographic copier for performing the method according to claim 2 with a Means for uniformly charging a photoconductive layer and means for the same imagewise exposure, characterized in that the means (24, 27, 31) for uniform Charging consists of an irradiation device (27), the electromagnetic radiation of which has wavelength components that are shorter than the limit world lenlänge für die Elektronenemission des Fotoleiters der fotoleitfähigen Schicht (22), daß zwischen der Strahlungsquelle der Bestrahlungseinrichtung und der fotoleitfähigen Schicht ein optisches Filter (31) angeordnet ist, das Strahlung solcher Wellenlänge ausfiltert, die in der fotoleitfähigen Schicht Fotoleitung erzeugt, und daß die Einrichtung (27, 37, 38) zur bildmäßigen Belichtung der fotoleitfähigen Schicht mit einer Strahlung solcher Wellenlänge arbeitet, die in der fotoleitfähigen Schicht Fotoleitung erzeugt.len length for the electron emission of the photoconductor of the photoconductive layer (22) that between the Radiation source of the irradiation device and the photoconductive layer an optical filter (31) is arranged that filters out radiation of such wavelength that photoconductive in the photoconductive layer generated, and that the means (27, 37, 38) for imagewise exposure of the photoconductive Layer works with radiation of such wavelength that photoconductivity in the photoconductive layer generated. 8. Gerät nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß es zur Totalbelichtung und zur bildmäßigen Belichtung der fotoleitfähigen Schicht (22) eine einzige Quelle (27) elektromagnetischer Strahlung aufweist, mit der durch das optische Filter (31) die fotoleitfähige Schicht totalbelichtbar und gleichzeitig eine Kopiervorlage (32) in einer Ablichtstation (29, 33) ausleuchtbar ist.8. Apparatus according to claim 7, characterized in that it is for total exposure and for imagewise Exposing the photoconductive layer (22) has a single source (27) of electromagnetic radiation, with which through the optical filter (31) the photoconductive layer can be totally exposed and at the same time a master copy (32) can be illuminated in an imaging station (29, 33). 9. Gerät nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß es eine auf einem elektrisch leitenden transparenten Träger angeordnete fotoleitfähige Schicht (22) aufweist, und daß die Einrichtung zur bildmäßigen Belichtung so angeordnet ist, daß die fotoleitfähige Schicht durch diesen Träger hindurch belichtbar ist.9. Apparatus according to claim 7, characterized in that there is one on an electrically conductive transparent support arranged photoconductive layer (22), and that the device for imagewise exposure is arranged so that the photoconductive layer through this support can be exposed. 10. Gerät nach den,Ansprüchen 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß es Transporteinrichtungen (19, 23,33) für das fotoleitfähige Aufzeichnungsmaterial und die Kopiervorlage (32) aufweist, um beide synchron zueinander durch die Belichtungs- bzw. Ablichtstation (29,33) zu transportieren.10. Apparatus according to, claims 7 to 9, characterized characterized in that there are transport devices (19, 23, 33) for the photoconductive recording material and the master (32) has to be synchronized with each other by the exposure or Ablichtstation (29,33) to transport.
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