DE112018003147T5

DE112018003147T5 - Glasplatte

Info

Publication number: DE112018003147T5
Application number: DE112018003147.0T
Authority: DE
Inventors: Hitoshi Mishiro; Takehiko Nose; Minoru Tamada; Yohei Kawai; Naoya Wada
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2017-06-20
Filing date: 2018-06-19
Publication date: 2020-03-05
Also published as: JPWO2018235808A1; CN110770186A; TWI808087B; JP7088186B2; WO2018235808A1; US20200124908A1; CN110770186B; TW201904907A; US11644706B2

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Glasplatte, die mit einer ersten Hauptoberfläche und einer zweiten Hauptoberfläche, die auf die erste Hauptoberfläche gerichtet ist, versehen ist. Ein Blendschutzabschnitt und ein Nicht-Blendschutzabschnitt sind für die erste Hauptoberfläche bereitgestellt. Die durchschnittlichen Längen (RSm) von Elementen von Rauheitskurven des Blendschutzabschnitts und des Nicht-Blendschutzabschnitts betragen jeweils 1 µm oder mehr. Die Differenz zwischen den RSm des Blendschutzabschnitts und den RSm des Nicht-Blendschutzabschnitts beträgt 100 µm oder weniger.

Description

TECHNISCHES GEBIET
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Glasplatte.
STAND DER TECHNIK
In den letzten Jahren wird eine Abdeckung, die aus Glas zusammengesetzt ist, z.B. auf der Seite der Anzeigeoberfläche einer Anzeigevorrichtung, wie z.B. einer LCD (Flüssigkristallanzeige)-Vorrichtung, bereitgestellt, so dass die Anzeigevorrichtung geschützt wird. In dem Fall, bei dem eine solche Anzeigevorrichtung bereitgestellt wird, kann jedoch häufig eine Reflexion von Gegenständen, die um diese herum angeordnet sind, auftreten, wenn durch die Glasplatte visuell ein Anzeigebild betrachtet wird. Das Auftreten einer solchen Reflexion auf der Glasplatte macht es für einen Betrachter der Anzeigevorrichtung nicht nur schwer, das Anzeigebild visuell zu erkennen, sondern macht für den Betrachter auch einen unangenehmen Eindruck.
Zum Verhindern einer solchen Reflexion wird versucht, eine Blendschutzbehandlung des Bildens einer ungleichmäßigen Form auf der Glasplattenoberfläche anzuwenden.
Bezüglich der Blendschutzbehandlung sind z.B. Maßnahmen des Ätzens der Glasplattenoberfläche (vgl. z.B. das Patentdokument 1) oder des Bildens eines Films mit einer ungleichmäßigen Form auf der Glasplattenoberfläche (vgl. z.B. das Patentdokument 2) beschrieben.
Da eine LCD (Flüssigkristallanzeige)-Vorrichtung, usw., mehr und mehr verbreitet verwendet wird, ist eine neue Funktion erforderlich. Beispielsweise ist ein System, usw., zum Überwachen des Fahrerzustands mit einer Kamera zum Verhindern eines Einnickens eines Fahrers eines Kraftfahrzeugs, eines elektrischen Zugs, usw., manchmal in einem Armaturenbrett, insbesondere einem Cluster, usw., das ein Anzeigeinstrument, usw., enthält, vor dem Fahrer bereitgestellt. In diesem Fall darf eine Blendschutzbehandlung nicht auf einen Abschnitt, welcher der Kameraperspektive aus der Glasplatte entspricht, die als Abdeckung dient, angewandt werden.
In einer solchen Glasplatte, die einen Abschnitt, der einer Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, und einen Abschnitt aufweist, welcher der Behandlung nicht unterzogen worden ist, führt das Vorliegen von verschiedenen Abschnitten auf der Glasplatte zu dem Problem z.B. eines schlechten Fingerberührungsgefühls oder einer Verschlechterung des Aussehens aufgrund einer unterscheidbaren Grenze.
DOKUMENTENLISTE
PATENTDOKUMENT

Patentdokument 1: Internationale Veröffentlichung Nr. 2014/119453
Patentdokument 2: US-Patent Nr. 8,003,194

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
TECHNISCHES PROBLEM
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung einer Glasplatte mit einem Blendschutzabschnitt und einem Nicht-Blendschutzabschnitt, die ein hervorragendes Berührungsgefühl und Aussehen aufweist.
LÖSUNG DES PROBLEMS
Die Glasplatte gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung weist eine erste Hauptoberfläche und eine zweite Hauptoberfläche, die der ersten Hauptoberfläche gegenüberliegt, auf, wobei die erste Hauptoberfläche einen Blendschutzabschnitt und einen Nicht-Blendschutzabschnitt aufweist, wobei jeder des Blendschutzabschnitts und des Nicht-Blendschutzabschnitts eine durchschnittliche Länge (RSm) eines Rauheitskurvenelements von 1 µm oder mehr aufweist und die Differenz zwischen RSm des Blendschutzabschnitts und RSm des Nicht-Blendschutzabschnitts 100 µm oder weniger beträgt.
VORTEILHAFTE EFFEKTE DER ERFINDUNG
Gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann eine Glasplatte mit einem Blendschutzabschnitt und einem Nicht-Blendschutzabschnitt, die ein hervorragendes Berührungsgefühl und Aussehen aufweist, bereitgestellt werden.
Figurenliste

[1] 1 ist ein perspektivisches Diagramm, das schematisch einen Aspekt der Glasplatte einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
[2] 2 ist ein Querschnittsdiagramm entlang der Linie A-A' in der 1 eines Bereichs, der einen Blendschutzabschnitt und einen Nicht-Blendschutzabschnitt umfasst.
[3] 3 ist ein perspektivisches Diagramm, das schematisch einen weiteren Aspekt der Glasplatte einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
[4] 4 ist ein Querschnittsdiagramm entlang der Linie B-B' in der 3 eines Bereichs, der einen Blendschutzabschnitt und einen Nicht-Blendschutzabschnitt umfasst.
[5] 5 ist ein perspektivisches Diagramm, das schematisch einen Aspekt der Glasplatte einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
[6] 6 ist ein Querschnittsdiagramm entlang der Linie C-C' in der 5, eines Bereichs, der einen Blendschutzabschnitt und einen Nicht-Blendschutzabschnitt umfasst.
[7] 7 ist ein perspektivisches Diagramm, das schematisch einen Aspekt der Glasplatte einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
[8] 8 ist ein Querschnittsdiagramm entlang der Linie D-D' in der 7, eines Bereichs, der einen Blendschutzabschnitt und einen Nicht-Blendschutzabschnitt umfasst.

BESCHREIBUNG VON AUSFÜHRUNGSFORMEN
Ausführungsformen zum Ausführen der vorliegenden Erfindung werden nachstehend unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben, jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf die folgenden Ausführungsformen beschränkt, und verschiedene Modifizierungen und Ersetzungen können mit den folgenden Ausführungsformen durchgeführt werden, ohne vom Umfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen.
In der vorliegenden Beschreibung steht der Begriff AG für Blendschutz und der Begriff Nicht-AG steht für Nicht-Blendschutz, falls nichts anderes angegeben ist.
Die Glasplatte dieser Ausführungsform wird unter Bezugnahme auf die 1 beschrieben. Die 1 ist ein perspektivisches Diagramm, das schematisch die Glasplatte dieser Ausführungsform zeigt. In der Glasplatte 10A, die in der 1 gezeigt ist, ist die obere Oberfläche eine erste Hauptoberfläche und die untere Oberfläche, die der ersten Hauptoberfläche gegenüberliegt, ist eine zweite Hauptoberfläche. Die Glasplatte 10A dieser Ausführungsform weist in der ersten Hauptoberfläche einen Blendschutz (AG)-Abschnitt 20 und einen Nicht-Blendschutz (Nicht-AG)-Abschnitt 30 auf.
In der Beschreibung dieser Anmeldung wird die Trübung von durchgelassenem Licht in dem Bereich von sichtbarem Licht als Indikator für die Blendschutzeigenschaften verwendet. Nachstehend gibt eine Trübung, auf die in der vorliegenden Erfindung Bezug genommen wird, eine Trübung von durchgelassenem Licht in dem Bereich von sichtbarem Licht an.
In der Glasplatte 10A dieser Ausführungsform ist die Trübung in dem AG-Abschnitt 20 höher als in dem Nicht-AG-Abschnitt 30. Die Trübung des AG-Abschnitts 20 beträgt vorzugsweise 2 % oder mehr und 40 % oder weniger. Wenn die Trübung 2 % oder mehr beträgt, kann die Lichtreflexion bei einer Prüfung mit dem Auge verglichen mit einem Substrat, das keiner Blendschutzverarbeitung unterzogen worden ist, signifikant vermindert werden. Wenn die Trübung 40 % übersteigt, findet eine gestreute Lichtreflexion statt und in dem Fall der Verwendung der Glasplatte als Abdeckungselement einer Anzeigevorrichtung oder als Substrat, das mit einem Berührungsfeld integriert ist, kann die Anzeigesichtbarkeit einer Anzeigevorrichtung vermindert werden.
Die Trübung des AG-Abschnitts 20 beträgt mehr bevorzugt 2 % oder mehr und 35 % oder weniger, noch mehr bevorzugt 3 % oder mehr und 30 % oder weniger.
Andererseits beträgt die Trübung des Nicht-AG-Abschnitts 30 vorzugsweise 0,01 % oder mehr und weniger als 2 %, mehr bevorzugt 1 % oder weniger, noch mehr bevorzugt 0,5 % oder weniger. Wenn die Trübung weniger als 2 % beträgt, wird ein Blendschutzeffekt nicht erkannt und die Sichtbarkeit wird verbessert, selbst wenn durch die Glasplatte geblickt wird. Um die Trübung auf weniger als 0,01 % einzustellen, ist ein sorgfältiges Reinigen in dem Herstellungsvorgang erforderlich. Wenn die Trübung 0,01 % oder mehr beträgt, können die Herstellungskosten gesenkt werden.
Der AG-Abschnitt 20 kann durch Aufbringen einer Oberflächenbehandlung auf die Oberfläche der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte zur Bildung einer ungleichmäßigen Form gebildet werden.
Die 2 ist ein Querschnittsdiagramm entlang der Linie A-A' in der 1 des AG-Abschnitts 20 und des Nicht-AG-Abschnitts 30. Unter Bezugnahme auf die 2 ist in dem AG-Abschnitt 20 eine ungleichmäßige Form durch die Bildung einer Anzahl von feinen konkaven Teilen 12 auf der ersten Hauptoberfläche gebildet worden. Andererseits wird in dem Nicht-AG-Abschnitt 30 eine für sichtbares Licht durchlässige Druckfarbe 40 auf die konkaven Teile 12 aufgebracht, während zugelassen wird, dass ein konvexer Teil, der als eine Grenze zwischen konkaven Teilen dient, geringfügig von der Oberfläche freiliegt.
In der Glasplatte dieser Ausführungsform ist der Nicht-AG-Abschnitt 30 keine flache Oberfläche und ein konvexer Teil, der als Grenze zwischen konkaven Teilen 12 dient, liegt von der ersten Hauptoberfläche frei. Folglich ist es einfach, verschiedene funktionelle Filme, wie z.B. einen Verschmutzungsschutzfilm und einen Film mit geringer Reflexion, auf der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte 10A zu bilden. Darüber hinaus ist es weniger wahrscheinlich, dass bei der Bildung verschiedener funktioneller Filme eine Variation von optischen Eigenschaften auftritt.
Ferner unterscheidet sich selbst dann, wenn verschiedene funktionelle Filme nicht gebildet werden, das Berührungsgefühl zwischen dem AG-Abschnitt 20 und dem Nicht-AG-Abschnitt 30 kaum.
In dem AG-Abschnitt 20, der in der 2 gezeigt ist, wird die erste Hauptoberfläche so ausgebildet, dass sie eine ungleichmäßige Form aufweist, wie z.B. durch Bilden einer Anzahl von feinen konkaven Teilen 12 in der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte 10A durch eine physikalische oder chemische Oberflächenbehandlung. Die Oberflächenbehandlung, die für den vorstehenden Zweck durchgeführt wird, umfasst z.B. ein Verfahren, bei dem die erste Hauptoberfläche der Glasplatte 10A einer Mattierungsbehandlung unterzogen wird. Bei der Mattierungsbehandlung wird die erste Hauptoberfläche der Glasplatte 10A, d.h., das Behandlungsziel, z.B. in eine Mischlösung aus Fluorwasserstoffsäure und Ammoniumfluorid oder eine Mischlösung aus Fluorwasserstoffsäure und Kaliumfluorid eingetaucht und die eingetauchte Oberfläche kann dadurch chemisch oberflächenbehandelt werden. Unter anderem kann das Verfahren des Anwendens einer Mattierungsbehandlung des chemischen Oberflächenbehandelns der Oberfläche durch die Verwendung einer chemischen Lösung, wie z.B. Fluorwasserstoffsäure, in einer vorteilhaften Weise als Oberflächenbehandlungsverfahren zur Bildung einer Anzahl von feinen konkaven Teilen 12 auf der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte 10A eingesetzt werden, da kaum Mikrorisse auf der behandelten Oberfläche erzeugt werden und es unwahrscheinlich ist, dass eine Verminderung der mechanischen Festigkeit verursacht wird.
Zusätzlich zu einem solchen Verfahren durch eine chemische Behandlung können z.B. auch ein sogenanntes Sandstrahlverfahren des Blasens eines kristallinen Siliziumdioxidpulvers, eines Siliziumcarbidpulvers, eines Aluminiumoxidpulvers, usw., gegen die erste Hauptoberfläche der Glasplatte 10A mit Druckluft, eine sogenannte Nassstrahlbehandlung des Dispergierens eines kristallinen Siliziumdioxidpulvers, eines Siliziumcarbidpulvers, eines Aluminiumoxidpulvers, usw., in Wasser und Blasens der Dispersion gegen die erste Hauptoberfläche der Glasplatte 10A mit Druckluft, und ein physikalisches Oberflächenbehandlungsverfahren z.B. des Polierens der Oberfläche mit einer mit Wasser benetzten Bürste, an der ein kristallines Siliziumdioxidpulver, ein Siliziumcarbidpulver, ein Aluminiumoxidpulver, usw., haftet, als Oberflächenbehandlungsverfahren zur Bildung feiner konkaver Teile 12 auf der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte 10A verwendet werden.
Nachdem so eine Anzahl feiner konkaver Teile 12 auf der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte 10A gebildet worden sind, kann die erste Hauptoberfläche der Glasplatte 10A chemisch geätzt werden, um das Oberflächenprofil einzustellen. In diesem Fall kann die Trübung durch das Ätzausmaß auf einen gewünschten Wert eingestellt werden und Risse, die durch die Sandstrahlbehandlung, usw., gebildet werden, können beseitigt werden. Darüber hinaus kann die Blendung vermindert werden.
Bezüglich des Ätzens wird vorzugsweise ein Verfahren des Eintauchens der Glasplatte, d.h., des Behandlungsziels, in eine Lösung, die Fluorwasserstoffsäure als Hauptkomponente enthält, verwendet. Die Lösung kann Chlorwasserstoffsäure, Salpetersäure, Zitronensäure, usw., als Komponente enthalten, die von Fluorwasserstoffsäure verschieden ist. Dadurch, dass eine solche Komponente enthalten ist, kann verhindert werden, dass eine Alkalikomponente, die in dem Glas enthalten ist, mit Fluorwasserstoff reagiert, wodurch lokal eine Ausfällungsreaktion verursacht wird, und folglich kann das Ätzen gleichmäßig innerhalb der Ebene ablaufen.
Gemäß der 2 ist eine Anzahl von konkaven Teilen 12 auf der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte 10A ausgebildet und die erste Hauptoberfläche erhält dadurch eine ungleichmäßige Form, jedoch ist die Glasplatte dieser Ausführungsform nicht darauf beschränkt.
Die 3 ist ein perspektivisches Diagramm, das schematisch die Glasplatte eines weiteren Aspekts dieser Ausführungsform zeigt. In der Glasplatte 10B, die in der 3 gezeigt ist, ist die obere Oberfläche eine erste Hauptoberfläche und die untere Oberfläche, die der ersten Hauptoberfläche gegenüberliegt, ist eine zweite Hauptoberfläche. Die Glasplatte 10B weist in der ersten Hauptoberfläche einen AG-Abschnitt 20 und einen Nicht-AG-Abschnitt 30 auf. Gemäß der 3 ist eine Anzahl feiner konvexer Teile 13 auf der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte 10B ausgebildet und die Trübungen des AG-Abschnitts 20 und des Nicht-AG-Abschnitts 30 sind mit den Bereichen identisch, die für die Glasplatte 10A beschrieben worden sind.
Die 4 ist ein Querschnittsdiagramm entlang der Linie B-B' in der 3 des AG-Abschnitts 20 und des Nicht-AG-Abschnitts 30.
In dem AG-Abschnitt 20, der in der 4 gezeigt ist, ist die erste Hauptoberfläche durch Bilden einer Anzahl feiner konvexer Teile 13 auf der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte 10B durch eine Oberflächenbehandlung so ausgebildet worden, dass sie eine ungleichmäßige Form aufweist. Die Oberflächenbehandlung, die für den vorstehenden Zweck durchgeführt wird, umfasst ein Verfahren des Beschichtens der ersten Hauptoberfläche mit einer Beschichtungslösung, die feine Teilchen umfasst, die Siliziumoxid als Hauptkomponente enthalten. In der vorliegenden Beschreibung bedeutet, dass Siliziumoxid als Hauptkomponente enthalten ist, dass 50 Massen-% oder mehr, vorzugsweise 90 Massen-% oder mehr SiO₂ enthalten sind.
Die feinen Teilchen, die Siliziumoxid als Hauptkomponente enthalten, können eine geringe Menge von Komponenten enthalten, die von Siliziumoxid verschieden sind. Beispiele für diese Komponente umfassen ein oder eine Mehrzahl von lon(en), ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Li, B, C, N, F, Na, Mg, AI, P, S, K, Ca, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Sr, Y, Zr, Nb, Ru, Pd, Ag, In, Sn, Hf, Ta, W, Pt, Au, Bi und Lanthanidelementen, und/oder deren Verbindungen, wie z.B. Oxide.
Darüber hinaus können die feinen Teilchen, die Siliziumoxid als Hauptkomponente enthalten, ein massives Teilchen oder ein hohles Teilchen sein.
In dem Nicht-AG-Abschnitt 30, der in der 4 gezeigt ist, wird eine für sichtbares Licht durchlässige Druckfarbe 40 auf den konkaven Teil 12 aufgebracht, der als die Grenze zwischen konvexen Teilen 13 dient, die auf der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte 10B bereitgestellt sind, während zugelassen wird, dass die Oberseite des konvexen Teils 13 geringfügig von der ersten Hauptoberfläche freiliegt. In der 4 ist die Druckfarbe 40 in schwarz abgebildet, so dass eine Unterscheidung von anderen Bestandteilselementen erleichtert wird, jedoch handelt es sich um eine für sichtbares Licht durchlässige Druckfarbe.
Die 5 ist ein perspektivisches Diagramm, das schematisch die Glasplatte eines weiteren Aspekts dieser Ausführungsform zeigt. In der Glasplatte 10C, die in der 5 gezeigt ist, ist die obere Oberfläche eine erste Hauptoberfläche und die untere Oberfläche, die der ersten Hauptoberfläche gegenüberliegt, ist eine zweite Hauptoberfläche. Die Glasplatte 10C weist in der ersten Hauptoberfläche einen AG-Abschnitt 20 und einen Nicht-AG-Abschnitt 30 auf. Die Trübungen des AG-Abschnitts 20 und des Nicht-AG-Abschnitts 30 sind mit den Bereichen identisch, die für die Glasplatte 10A beschrieben worden sind.
Die 6 ist ein Querschnittsdiagramm entlang der Linie C-C' in der 5 des AG-Abschnitts 20 und des Nicht-AG-Abschnitts 30.
In dem AG-Abschnitt 20 der Glasplatte 10C, die in der 6 gezeigt ist, wurde eine ungleichmäßige Form auf der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte 10C mit dem gleichen Verfahren wie bei der Oberflächenbehandlung gebildet, die auf die Glasplatte 10A angewandt worden ist. Andererseits bedeckt in dem Nicht-AG-Abschnitt 30 dieser Ausführungsform eine für sichtbares Licht durchlässige Druckfarbe 40 die Oberfläche der Glasplatte 10C auf dem gesamten Bereich und ein konvexer Teil 13, der als die Grenze zwischen konkaven Teilen 12 dient und auf der Oberfläche der Glasplatte 10C ausgebildet ist, liegt nicht von der Oberfläche frei. Darüber hinaus weist, obwohl dies nicht gezeigt ist, der Nicht-AG-Abschnitt 30 einige Unregelmäßigkeiten auf, die der Ungleichmäßigkeit auf der Oberfläche der Glasplatte 10C folgen.
In der Glasplatte dieser Ausführungsform ist aus dem folgenden Grund der gesamte Bereich in dem Nicht-AG-Abschnitt 30 vorzugsweise mit einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe 40 bedeckt. Verglichen mit einem Fall, bei dem nur der konkave Teil 12 auf der Oberfläche der Glasplatte 10C mit einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe beschichtet ist, kann die Filmdicke der für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe groß gemacht werden und das Oberflächenprofil kann einfach eingestellt werden. Insbesondere können die durchschnittliche Länge (RSm) des Rauheitskurvenelements und der Oberflächenmittenrauwert (Ra) auf gewünschte Bereiche eingestellt werden. Darüber hinaus kann die Oberflächenreflexion einheitlich gemacht werden, wenn der gesamte Bereich des Nicht-AG-Abschnitts 30 mit einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe 40 bedeckt ist. Folglich kann in dem Fall des Einbeziehens einer Kamera in den Nicht-AG-Abschnitt die Einheitlichkeit der Helligkeit in der Kameraperspektive erhöht werden.
Die 7 ist ein perspektivisches Diagramm, das schematisch die Glasplatte eines weiteren Aspekts dieser Ausführungsform zeigt. In der Glasplatte 10D, die in der 7 gezeigt ist, ist die obere Oberfläche eine erste Hauptoberfläche und die untere Oberfläche, die der ersten Hauptoberfläche gegenüberliegt, ist eine zweite Hauptoberfläche. Die Glasplatte 10D weist in der ersten Hauptoberfläche einen AG-Abschnitt 20 und einen Nicht-AG-Abschnitt 30 auf. Die Trübungen des AG-Abschnitts 20 und des Nicht-AG-Abschnitts 30 sind mit den Bereichen identisch, die für die Glasplatte 10A beschrieben worden sind.
Die 8 ist ein Querschnittsdiagramm entlang der Linie D-D' in der 7 des AG-Abschnitts 20 und des Nicht-AG-Abschnitts 30.
In dem AG-Abschnitt 20 der Glasplatte 10D, die in der 8 gezeigt ist, kann eine ungleichmäßige Form auf der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte 10D mit dem gleichen Verfahren wie bei der Oberflächenbehandlung ausgebildet werden, die auf die Glasplatte 10B angewandt worden ist. Andererseits bedeckt in dem Nicht-AG-Abschnitt 30 dieser Ausführungsform eine für sichtbares Licht durchlässige Druckfarbe 40 die Oberfläche der Glasplatte 10D auf dem gesamten Bereich und ein konvexer Teil 13 liegt nicht von der Oberfläche frei. Darüber hinaus weist, obwohl dies nicht gezeigt ist, der Nicht-AG-Abschnitt 30 einige Unregelmäßigkeiten auf, die der Unregelmäßigkeit auf der Oberfläche der Glasplatte 10D folgen.
In der Glasplatte dieser Ausführungsform wird aus dem folgenden Grund der gesamte Bereich in dem Nicht-AG-Abschnitt 30 vorzugsweise mit einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe 40 bedeckt. Verglichen mit einem Fall, bei dem nur der konkave Teil 12, der als die Grenze zwischen konvexen Teilen 13 dient, mit einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe beschichtet wird, kann die Filmdicke der für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe groß gemacht werden und das Oberflächenprofil kann einfach eingestellt werden. Insbesondere können die durchschnittliche Länge (RSm) des Rauheitskurvenelements und der Oberflächenmittenrauwert (Ra) auf gewünschte Bereiche eingestellt werden. Darüber hinaus kann die Oberflächenreflexion einheitlich gemacht werden, wenn der gesamte Bereich des Nicht-AG-Abschnitts 30 mit einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe 40 bedeckt wird. Folglich kann in dem Fall des Einbeziehens einer Kamera in den Nicht-AG-Abschnitt die Einheitlichkeit der Helligkeit in der Kameraperspektive erhöht werden.
Bei den Glasplatten 10A, 10B, 10C und 10D ist die Druckfarbe, die auf die erste Hauptoberfläche der Glasplatten 10A, 10B, 10C und 10D zur Bildung des Nicht-AG-Abschnitts 30 aufgebracht wird, nicht speziell beschränkt, solange es sich um eine für sichtbares Licht durchlässige Druckfarbe handelt. Die Druckfarbe kann vom anorganischen Typ oder vom organischen Typ sein.
Die Druckfarbe vom anorganischen Typ kann beispielsweise eine Zusammensetzung sein, die eines oder mehrere, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus SiO₂, ZnO, B₂O₃, Bi₂O₃, Li₂O, Na₂O und K₂O, eines oder mehrere, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus CuO, Al₂O₃, ZrO₂, SnO₂ und CeO₂, Fe₂O₃, und TiO₂, enthält.
Als die Druckfarbe vom organischen Typ können verschiedene Druckfarben verwendet werden, die durch Lösen eines Harzes in einem Lösungsmittel hergestellt werden. Beispielsweise kann als das Harz ein Harz wie z.B. ein Acrylharz, ein Urethanharz, ein Epoxyharz, ein Polyesterharz, ein Polyamidharz, ein Vinylacetatharz, ein Phenolharz, ein Olefinharz, ein Ethylen-Vinylacetat-Copolymerharz, ein Polyvinylacetalharz, ein Naturkautschuk, ein Styrol-Butadien-Copolymer, ein Acrylnitril-Butadien-Copolymer, ein Polyesterpolyol und ein Polyetherpolyurethanpolyether ausgewählt und verwendet werden. Die vorstehenden Harze sind vorzugsweise transparent.
Als Lösungsmittel einer solchen Druckfarbe können Wasser, Alkohole, Ester, Ketone, Lösungsmittel auf der Basis eines aromatischen Kohlenwasserstoffs und Lösungsmittel auf der Basis eines aliphatischen Kohlenwasserstoffs verwendet werden. Beispielsweise können als Alkohole Isopropylalkohol, Methanol, Ethanol, usw., verwendet werden; als Ester kann Ethylacetat verwendet werden; und als Ketone kann Methylethylketon verwendet werden. Darüber hinaus können als Lösungsmittel auf der Basis eines aromatischen Kohlenwasserstoffs Toluol, Xylol, SOLVESSO 100, SOLVESSO 150, usw., verwendet werden, und als Lösungsmittel auf der Basis eines aliphatischen Kohlenwasserstoffs können Hexan, usw., verwendet werden. Diese werden als Beispiele genannt und andere verschiedenartige Druckfarben können verwendet werden.
Diese Druckfarben können ein Farbmittel, wie z.B. ein Pigment und einen Farbstoff enthalten, solange die Durchlässigkeitseigenschaften für sichtbares Licht nicht beeinträchtigt werden, jedoch ist es bevorzugt, dass sie kein derartiges Farbmittel enthalten.
Das Mittel zum Aufbringen einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe auf die erste Hauptoberfläche der Glasplatten 10A, 10B, 10C und 10D ist nicht speziell beschränkt, jedoch ist es bevorzugt, eine für sichtbares Licht durchlässige Druckfarbe auf die erste Hauptoberfläche zu drucken. Als Druckverfahren kann beispielsweise ein Sprühdrucken oder ein Siebdrucken verwendet werden.
In dieser Ausführungsform beträgt, wenn die Höhe in der Dickenrichtung der Glasplatte 10 betrachtet wird, der Absolutwert h des Höhenunterschieds zwischen dem AG-Abschnitt 20 und dem Nicht-AG-Abschnitt 30 in der Dickenrichtung der Glasplatten 10A, 10B, 10C und 10D vorzugsweise 20 µm oder weniger. In der vorliegenden Beschreibung gibt der Absolutwert h des Höhenunterschieds zwischen dem AG-Abschnitt 20 und dem Nicht-AG-Abschnitt 30 in der Dickenrichtung der Glasplatten 10A, 10B, 10C und 10D den Höhenunterschied zwischen einer Stelle mit der größten Höhe in dem AG-Abschnitt 20 und einer Stelle mit der geringsten Höhe in dem Nicht-AG-Abschnitt 30 an. Auf der Basis der Stelle mit der größten Höhe in dem AG-Abschnitt 20 wird die Differenz als negativer Wert berechnet, wenn die Stelle mit der geringsten Höhe in dem Nicht-AG-Abschnitt 30 höher ist als die vorstehend beschriebene Stelle mit der größten Höhe, und als positiver Wert berechnet, wenn die Stelle mit der geringsten Höhe in dem Nicht-AG-Abschnitt 30 niedriger ist als die vorstehend beschriebene Stelle mit der größten Höhe. Der Absolutwert davon wird als der Absolutwert h des Höhenunterschieds verwendet.
Wenn der Absolutwert h des Höhenunterschieds 20 µm übersteigt, ist das Fingerberührungsgefühl nicht gut und das Gefühl für die Berührung verschlechtert sich. Darüber hinaus wird das Aussehen aufgrund einer unterscheidbaren Grenze schlecht. Wenn andererseits der Absolutwert h des Höhenunterschieds 20 µm oder weniger beträgt, können trotz des Vorliegens eines AG-Abschnitts 20 und eines Nicht-AG-Abschnitts 30 in der ersten Hauptoberfläche das Gefühl für die Berührung und das Aussehen verbessert werden.
Der Absolutwert h des Höhenunterschieds beträgt vorzugsweise 10 µm oder weniger, mehr bevorzugt 8 µm oder weniger, noch mehr bevorzugt 5 µm oder weniger.
Zum Stabilisieren des Vorgangs des Bildens des Nicht-AG-Abschnitts beträgt der Absolutwert h des Höhenunterschieds vorzugsweise 0,1 µm oder mehr, mehr bevorzugt 0,5 µm oder mehr, noch mehr bevorzugt 1 µm oder mehr.
In dem Nicht-AG-Abschnitt 30 der Glasplatten 10A und 10B liegt ein konvexer Teil 13, der als die Grenze zwischen konkaven Teilen 12 dient, geringfügig von der ersten Hauptoberfläche frei. In dem Nicht-AG-Abschnitt 30 der Glasplatten 10C und 10D ist der gesamte Bereich mit einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe 40 bedeckt. In jedem Fall beträgt der Absolutwert h des Höhenunterschieds mehr als 0 µm.
In dieser Ausführungsform werden zum Festlegen der Oberflächeneigenschaften des AG-Abschnitts 20 und des Nicht-AG-Abschnitts 30 die durchschnittliche Länge (RSm) des Rauheitskurvenelements und der Oberflächenmittenrauwert (Ra) an diesen Stellen verwendet.
In dieser Ausführungsform beträgt RSm in jedem des AG-Abschnitts 20 und des Nicht-AG-Abschnitts 30 1 µm oder mehr. Insbesondere beträgt RSm, die für den AG-Abschnitt 20 gemessen worden ist, 1 µm oder mehr, und RSm, die für den Nicht-AG-Abschnitt 30 gemessen worden ist, beträgt 1 µm oder mehr. Der Grund dafür, warum RSm in jedem des AG-Abschnitts 20 und des Nicht-AG-Abschnitts 30 vorzugsweise 1 µm oder mehr beträgt, ist derart, wie es nachstehend beschrieben ist.
Wenn RSm weniger als 1 µm beträgt, ist, wenn die Glasplattenoberfläche mit einem Finger berührt wird, der Kontakt des Fingers mit der Glasplattenoberfläche ein Oberflächenkontakt und der Widerstand wird groß. Als Ergebnis kann das Fingerberührungsgefühl beeinträchtigt werden. Wenn andererseits RSm 1 µm oder mehr beträgt, ist der Kontakt des Fingers mit der Glasplattenoberfläche ein Punktkontakt und es ist weniger wahrscheinlich, dass der Widerstand durch einen Finger gefühlt wird.
RSm des AG-Abschnitts 20 beträgt mehr bevorzugt 3 µm oder mehr, noch mehr bevorzugt 5 µm oder mehr. Darüber hinaus beträgt RSm des AG-Abschnitts 20 vorzugsweise 40 µm oder weniger, mehr bevorzugt 30 µm oder weniger, noch mehr bevorzugt 25 µm oder weniger.
RSm des Nicht-AG-Abschnitts 30 beträgt mehr bevorzugt 5 µm oder mehr, noch mehr bevorzugt 10 µm oder mehr. Darüber hinaus beträgt RSm des Nicht-AG-Abschnitts 30 vorzugsweise 150 µm oder weniger, mehr bevorzugt 100 µm oder weniger, noch mehr bevorzugt 70 µm oder weniger, noch mehr bevorzugt 60 µm oder weniger.
In dieser Ausführungsform beträgt die Differenz zwischen RSm in dem AG-Abschnitt 20 und RSm in dem Nicht-AG-Abschnitt 30 100 µm oder weniger.
Der Grund dafür, warum die Differenz bei RSm zwischen beiden Abschnitten vorzugsweise in dem vorstehend genannten Bereich liegt, ist derart, wie es nachstehend beschrieben ist.
Wenn die Differenz bei RSm mehr als 100 µm beträgt, unterscheidet sich die Lichtstreuung zwischen dem AG-Abschnitt und dem Nicht-AG-Abschnitt signifikant, so dass das Auftreten einer ausgeprägten Differenz bezüglich visueller Effekte zugelassen wird. Als Ergebnis kann das Design der Glasplatte beeinträchtigt werden. Wenn die Differenz bei RSm 100 µm oder weniger beträgt, kann die Differenz bei der Lichtstreuung zwischen dem AG-Abschnitt und dem Nicht-AG-Abschnitt vermindert werden. Darüber hinaus kann die Differenz bei dem Berührungsgefühl zwischen dem AG-Abschnitt und dem Nicht-AG-Abschnitt vermindert werden.
Die Differenz bei RSm zwischen beiden Abschnitten beträgt vorzugsweise 50 µm oder weniger, mehr bevorzugt 30 µm oder weniger. Die Untergrenze der Differenz bei RSm beträgt vorzugsweise 1 µm oder mehr.
Der Nicht-AG-Abschnitt 30 ist in dem Fall der Verwendung der Glasplatte dieser Ausführungsform als Abdeckglas eines tragbaren elektronischen Geräts, in einem Bereich, der auf der Vorderseite einer Kamera bereitgestellt ist, oder in einem Bereich zum Anordnen eines Fingerabdrucksensors, und in dem Fall der Verwendung der Glasplatte als Schutzelement für andere Sensoren in einem Bereich bereitgestellt, durch den sichtbares Licht oder Radiowellen zum Erfassen hindurchtreten. Demgemäß beträgt in dieser Ausführungsform Ra des Nicht-AG-Abschnitts 30 vorzugsweise weniger als 100 nm, da dann keine Störung der Kamerafunktion, der Fingerabdrucksensorfunktion, usw., auftritt. Ra des Nicht-AG-Abschnitts 30 beträgt mehr bevorzugt weniger als 40 nm, noch mehr bevorzugt weniger als 20 nm, noch mehr bevorzugt weniger als 15 nm. Darüber hinaus beträgt Ra des Nicht-AG-Abschnitts 30 vorzugsweise 3 nm oder mehr, mehr bevorzugt 5 nm oder mehr, noch mehr bevorzugt 7 nm oder mehr.
Andererseits beträgt Ra des AG-Abschnitts 20 vorzugsweise 20 nm oder mehr, mehr bevorzugt 40 nm oder mehr, noch mehr bevorzugt 100 nm oder mehr. Wenn Ra 20 nm oder mehr beträgt, kann das Blendschutzvermögen des AG-Abschnitts ausreichend ausgeübt werden.
In dieser Ausführungsform ist die Grenze zwischen dem AG-Abschnitt 20 und dem Nicht-AG-Abschnitt 30 im Hinblick auf das Aussehen vorzugsweise eine glatte Linie. Demgemäß beträgt der Konturgrad des Nicht-AG-Abschnitts 30, der eine Grenze zwischen dem AG-Abschnitt 20 und dem Nicht-AG-Abschnitt 30 bildet, vorzugsweise 0,5 mm oder weniger, mehr bevorzugt 0,3 mm oder weniger pro 10 mm.
Der Konturgrad, wie er in der vorliegenden Beschreibung verwendet wird, entspricht dem Konturgrad von JIS B-0621 (2001).
Wie es vorstehend beschrieben ist, ist der Nicht-AG-Abschnitt 30 gemäß der Verwendung der Glasplatte dieser Ausführungsform beispielsweise in einem Bereich, der auf der Vorderseite einer Kamera bereitgestellt ist, in einem Bereich zum Anordnen eines Fingerabdrucksensors oder in einem Bereich bereitgestellt, durch den sichtbares Licht oder Radiowellen zum Erfassen hindurchtreten. Aus diesem Grund tritt dann, wenn die Parallelität oder Ebenheit zwischen dem Nicht-AG-Abschnitt 30 und der zweiten Hauptoberfläche gering ist, beispielsweise ein Problem dahingehend auf, dass das Aussehen der Glasplatte 10 schlecht wird oder die optischen Eigenschaften des Nicht-AG-Abschnitts 30 verschlechtert werden.
In dieser Ausführungsform beträgt die Parallelität zwischen dem Nicht-AG-Abschnitt 30 und der zweiten Hauptoberfläche vorzugsweise 10 µm oder weniger, mehr bevorzugt 5 µm oder weniger, noch mehr bevorzugt 2 µm oder weniger pro 20 mm.
Zum Stabilisieren des Vorgangs zum Bilden des Nicht-AG-Abschnitts beträgt die Parallelität zwischen dem Nicht-AG-Abschnitt 30 und der zweiten Hauptoberfläche vorzugsweise 0,1 µm oder mehr, mehr bevorzugt 0,5 µm oder mehr pro 20 mm.
In dieser Ausführungsform beträgt die Ebenheit zwischen dem Nicht-AG-Abschnitt 30 und der zweiten Hauptoberfläche vorzugsweise 10 µm oder weniger, mehr bevorzugt 5 µm oder weniger, noch mehr bevorzugt 2 µm oder weniger pro 20 mm.
Zum Stabilisieren des Vorgangs zum Bilden des Nicht-AG-Abschnitts beträgt die Ebenheit zwischen dem Nicht-AG-Abschnitt 30 und der zweiten Hauptoberfläche vorzugsweise 0,1 µm oder mehr, mehr bevorzugt 0,5 µm oder mehr pro 20 mm.
Die Parallelität und die Ebenheit, wie sie in der vorliegenden Beschreibung verwendet werden, entsprechen der Parallelität und der Ebenheit von JIS B-0621 (2001).
Wie es vorstehend beschrieben ist, wird der Nicht-AG-Abschnitt 30 in dieser Ausführungsform durch Aufbringen einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe 40 gebildet. Daher weist der Nicht-AG-Abschnitt 30 gute Durchlasseigenschaften für sichtbares Licht auf. Insbesondere beträgt die Durchlässigkeit für sichtbares Licht des Nicht-AG-Abschnitts 30 vorzugsweise 88 % oder mehr, mehr bevorzugt 90 % oder mehr, noch mehr bevorzugt 92 % oder mehr.
In dieser Ausführungsform können auf der ersten Hauptoberfläche der Glasplatten 10A, 10B, 10C und 10D verschiedene funktionelle Filme gebildet werden. Ein Beispiel des für diesen Zweck gebildeten funktionellen Films ist ein Verschmutzungsschutzfilm. Der Verschmutzungsschutzfilm kann beispielsweise durch Bilden einer Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung auf oder über der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte gebildet werden. Als Fluor-enthaltende organische Siliziumverbindung, die zur Bildung einer Beschichtung verwendet wird, kann eine Verbindung, die Verschmutzungsschutzeigenschaften, eine Wasserabstoßung oder eine Ölabstoßung verleihen kann, ohne irgendeine spezielle Beschränkung verwendet werden. Als handelsübliche Fluor-enthaltende organische Siliziumverbindung, die eine oder mehrere, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus einer Polyfluorpolyethergruppe, einer Polyfluoralkylengruppe und einer Polyfluoralkylgruppe enthält, können beispielsweise KP-801 (Handelsbezeichnung, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KY-178 (Handelsbezeichnung, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KY-130 (Handelsbezeichnung, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KY-185 (Handelsbezeichnung, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), OPTOOL (eingetragene Marke) DSX und OPTOOL AES (beides Handelsbezeichnungen, hergestellt von Daikin Industries, Ltd.), S-550 (Handelsbezeichnung, hergestellt von AGC Inc.), usw., bevorzugt verwendet werden. Die Filmdicke der Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung ist nicht speziell beschränkt, beträgt jedoch vorzugsweise von 1 bis 20 nm, mehr bevorzugt von 2 bis 10 nm.
Die Glasplatten 10A, 10B, 10C und 10D dieser Ausführungsform weisen Eigenschaften auf, die zur Bildung einer Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung vorteilhaft sind.
Wenn der Absolutwert h des Höhenunterschieds in der Dickenrichtung zwischen dem AG-Abschnitt 20 und dem Nicht-AG-Abschnitt 30 groß ist, ist es sehr wahrscheinlich, dass eine Aggregation einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung an der Grenze zwischen dem AG-Abschnitt 20 und dem Nicht-AG-Abschnitt 30 auftritt. Wenn die Fluor-enthaltende organische Siliziumverbindung aggregiert wird, werden hydrophobe Gruppen der Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung aneinander gebunden und die Funktion als Verschmutzungsschutzmittel kann beeinträchtigt werden. Darüber hinaus kann das Problem einer Verschlechterung des Aussehens aufgrund der Aggregation der Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung auftreten.
In dieser Ausführungsform ist es, da der Absolutwert h des Höhenunterschieds zwischen dem AG-Abschnitt 20 und dem Nicht-AG-Abschnitt 30 in der Dickenrichtung der Glasplatten 10A, 10B, 10C und 10D 20 µm oder weniger beträgt, wenn eine Beschichtung aus der Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung auf der ersten Hauptoberfläche der Glasplatten 10A, 10B, 10C und 10D gebildet wird, weniger wahrscheinlich, dass eine Aggregation der Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung an der Grenze zwischen dem AG-Abschnitt 20 auftritt. Folglich ist es unwahrscheinlich, dass der Nicht-AG-Abschnitt 30 einbezogen wird und das vorstehend beschriebene Problem auftritt.
Ein weiteres Beispiel für den funktionellen Film, der für den vorstehend genannten Zweck gebildet wird, ist ein Film mit geringer Reflexion. Das Material des Films mit geringer Reflexion ist nicht speziell beschränkt und verschiedene Materialien können verwendet werden, solange es sich um ein Material handelt, das eine Reflexion verhindern kann. Beispielsweise kann der Film mit geringer Reflexion durch Stapeln einer Schicht mit hohem Brechungsindex und einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex ausgebildet werden.
Der Aufbau kann eine Schicht mit hohem Brechungsindex und eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex umfassen oder kann zwei oder mehr Schichten mit hohem Brechungsindex und zwei oder mehr Schichten mit niedrigem Brechungsindex umfassen. In dem Fall, bei dem er zwei oder mehr Schichten mit hohem Brechungsindex und zwei oder mehr Schichten mit niedrigem Brechungsindex umfasst, ist ein Aufbau bevorzugt, in dem eine Schicht mit hohem Brechungsindex und eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex abwechselnd gestapelt sind.
Zum Aufweisen eines ausreichenden Reflexionsvermögens ist der Film mit geringer Reflexion vorzugsweise ein Laminat, das durch Stapeln einer Mehrzahl von Filmen (Schichten) gebildet wird. Beispielsweise werden in dem Laminat insgesamt vorzugsweise zwei oder mehr und sechs oder weniger Filme, mehr bevorzugt zwei oder mehr und vier oder weniger Filme gestapelt. Das Laminat ist hier vorzugsweise ein Laminat, in dem, wie es vorstehend beschrieben worden ist, eine Schicht mit hohem Brechungsindex und eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex gestapelt sind, und die Gesamtsumme der Anzahl der Schichten mit hohem Brechungsindex und der Anzahl der Schichten mit niedrigem Brechungsindex liegt vorzugsweise in dem vorstehend genannten Bereich.
Die Materialien für die Schicht mit hohem Brechungsindex und die Schicht mit niedrigem Brechungsindex sind nicht speziell beschränkt und können unter Berücksichtigung des erforderlichen Grads des Reflexionsschutzes, der Produktivität, usw., ausgewählt werden. Als Material, das die Schicht mit hohem Brechungsindex bildet, kann oder können vorzugsweise z.B. eines oder mehrere, ausgewählt aus Nioboxid (Nb₂O₅), Titanoxid (TiO₂), Zirkoniumoxid (ZrO₂), Siliziumnitrid (Si₃N₄) und Tantaloxid (Ta₂O₅), verwendet werden. Als Material, das die Schicht mit niedrigem Brechungsindex bildet, kann vorzugsweise Siliziumoxid (SiO₂) verwendet werden. Als Schicht mit hohem Brechungsindex kann neben anderen im Hinblick auf die Produktivität und den Grad des Brechungsindex vorzugsweise Nioboxid verwendet werden. Demgemäß ist der Film mit geringer Reflexion mehr bevorzugt ein Laminat aus einer Nioboxidschicht und einer Siliziumoxidschicht. Die Filmdicke beträgt vorzugsweise 40 nm oder mehr und 500 nm oder weniger, mehr bevorzugt 100 nm oder mehr und 300 nm oder weniger.
Sowohl eine Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung als auch ein Film mit geringer Reflexion können auf der ersten Hauptoberfläche der Glasplatten 10A, 10B, 10C und 10D gebildet werden. In diesem Fall werden ein Film mit geringer Reflexion und eine Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung in dieser Reihenfolge von der Seite der ersten Hauptoberfläche her gestapelt.
(BEISPIELE)
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf spezifische Beispiele beschrieben, ist jedoch nicht auf diese Beispiele beschränkt. Die Beispiele 1 bis 6 sind Arbeitsbeispiele der Erfindung und die Beispiele 7 bis 11 sind Vergleichsbeispiele.
Herstellung einer Probe
[Beispiel 1]
Die Glasplatte dieser Ausführungsform wurde mit dem folgenden Verfahren hergestellt.
In diesem Beispiel wurde ein ungehärtetes Aluminosilikatglas (hergestellt von AGC Inc., Handelsbezeichnung: DRAGONTRAIL (eingetragene Marke), Größe: 300 mm × 300 mm, Dicke: 1,3 mm) als Glasplatte verwendet.
Zuerst wurde ein säurebeständiger Schutzfilm auf die Hauptoberfläche, wo der AG-Abschnitt nicht gebildet werden sollte, der Glasplatte laminiert.
Anschließend wurde eine Blendschutzbehandlung mit dem folgenden Verfahren zur Bildung eines AG-Abschnitts in der Glasplatte durchgeführt.
Die Glasplatte wurde 3 Minuten in eine 3 Massen-%ige Fluorwasserstoffsäurelösung eingetaucht, um Schmutz zu entfernen, der an der Hauptoberfläche haftete, die nicht mit dem Schutzfilm der Glasplatte laminiert ist, und um gleichzeitig als Vorverarbeitung eine Dicke von 10 µm der Glasplatte zu entfernen. Ferner wurde die Glasplatte 3 Minuten in eine Mischlösung, die 8 Massen-% Fluorwasserstoffsäure und 8 Massen-% Kaliumfluorid enthielt, eingetaucht, um eine Mattierungsbehandlung mit der Hauptoberfläche, die nicht mit dem Schutzfilm laminiert ist, der Glasplatte durchzuführen und dadurch eine Anzahl von feinen konkaven Teilen in der Hauptoberfläche der Glasplatte zu bilden. Die Glasplatte wurde nach der Mattierungsbehandlung 3 Minuten in eine 10 Massen-%ige Fluorwasserstoffsäurelösung eingetaucht (Ätzzeit: 4 Minuten), um die Trübung auf 15 % einzustellen.
Danach wurde der Schutzfilm abgelöst und die Glasplatte wurde 1 Stunde in geschmolzenes Kaliumnitratsalz eingetaucht, das auf 450 °C erwärmt war. Die Glasplatte wurde dann aus dem geschmolzenen Salz herausgezogen und während 1 Stunde nach und nach auf Raumtemperatur abgekühlt. Dadurch wurde eine chemische Härtungsbehandlung der Glasplatte durchgeführt.
Als nächstes wurde die Hauptoberfläche der Glasplatte, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, mit einer Schicht einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe (hergestellt von Seiko advance Ltd., Handelsbezeichnung: HF-GV3 RX01-800 Medium) durch ein Siebdruckverfahren unter Verwendung einer Siebdruckvorrichtung beschichtet, so dass eine Kreisform mit ϕ 10 mm hergestellt wurde. Nach dem Beschichten mit der für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe wurde die Druckfarbe 30 Minuten bei 150 °C gehalten und dadurch ausgehärtet, so dass ein Nicht-AG-Abschnitt in der Hauptoberfläche der Glasplatte gebildet wurde.
In der Glasplatte von Beispiel 1 ist von der Hauptoberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, der Abschnitt, der mit der für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe beschichtet worden ist, ein Nicht-AG-Abschnitt, und der Abschnitt, der von dem Nicht-AG-Abschnitt verschieden ist, ist ein AG-Abschnitt.
[Beispiel 2]
Eine Glasplatte wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 erhalten, wobei jedoch eine Blendschutzbehandlung in der folgenden Weise durchgeführt wurde.
Die Glasplatte wurde 3 Minuten in eine 3 Massen-%ige Fluorwasserstoffsäurelösung eingetaucht, um Schmutz zu entfernen, der an der Hauptoberfläche haftete, die nicht mit dem Schutzfilm der Glasplatte laminiert ist, und um gleichzeitig als Vorverarbeitung eine Dicke von 10 µm der Glasplatte zu entfernen. Ferner wurde die Glasplatte 3 Minuten in eine Mischlösung, die 8 Massen-% Fluorwasserstoffsäure und 8 Massen-% Kaliumfluorid enthielt, eingetaucht, um eine Mattierungsbehandlung mit der Hauptoberfläche, die nicht mit dem Schutzfilm laminiert ist, der Glasplatte durchzuführen, und dadurch eine Anzahl von feinen konkaven Teilen in der Hauptoberfläche der Glasplatte zu bilden. Die Glasplatte wurde nach der Mattierungsbehandlung 2 Minuten in eine 10 Massen-%ige Fluorwasserstoffsäurelösung eingetaucht (Ätzzeit: 3 Minuten), um die Trübung auf 25 % einzustellen.
Als nächstes wurde ein Nicht-AG-Abschnitt auf der Hauptoberfläche der Glasplatte in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 gebildet, wobei jedoch die Hauptoberfläche mit zwei Schichten der für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe durch Siebdrucken beschichtet wurde.
In der Glasplatte von Beispiel 2 ist von der Hauptoberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, der Abschnitt, der mit der für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe beschichtet ist, ein Nicht-AG-Abschnitt, und der Abschnitt, der von dem Nicht-AG-Abschnitt verschieden ist, ist ein AG-Abschnitt.
[Beispiel 3]
Eine Glasplatte (hergestellt von AGC Inc., Handelsbezeichnung: DRAGONTRAIL (eingetragene Marke), Größe: 300 mm × 300 mm, Dicke: 1,3 mm), die mit dem gleichen Verfahren wie im Beispiel 1 chemisch gehärtet worden ist, wurde verwendet. Eine Sprüh-Blendschutzbehandlung wurde mit dieser Glasplatte mit dem folgenden Verfahren durchgeführt.
Die Oberfläche der Glasplatte wurde mit wässrigem Natriumhydrogencarbonat gewaschen, dann mit ionenausgetauschtem Wasser gespült und getrocknet. Anschließend wurde die Glasplatte derart in einem Ofen erwärmt, dass die Oberflächentemperatur 80 °C erreichte. Dann wurde die Glasplatte mit einer Dispersionsflüssigkeit von hohlen feinen Siliziumoxidteilchen durch ein Sprühverfahren bei den Bedingungen eines Sprühdrucks von 0,4 MPa, einer Menge der Beschichtungslösung von 7 mL/min, einer Düsenbewegungsgeschwindigkeit von 750 mm/min, einem Sprühabstand von 22 mm, einem Abstand von der Düsenspitze zur Glasplatte von 115 mm und einem Tröpfchendurchmesser von 6,59 µm beschichtet, so dass eine Anzahl von feinen konvexen Teilen in der Hauptoberfläche der Glasplatte gebildet wurde. Die Beschichtungsmenge wurde auf eine Menge eingestellt, so dass eine Höhe des konvexen Teils von 10 µm erhalten wurde.
Als nächstes wurde die Hauptoberfläche, die der Sprüh-Blendschutzbehandlung der Glasplatte unterzogen worden ist, in der gleichen Weise wie im Beispiel 2 mit einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe beschichtet, und die Druckfarbe wurde ausgehärtet, so dass ein Nicht-AG-Abschnitt in der Hauptoberfläche der Glasplatte gebildet wurde.
In der Glasplatte von Beispiel 3 ist von der Hauptoberfläche, die der Sprüh-Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, der Abschnitt, der mit der für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe beschichtet ist, ein Nicht-AG-Abschnitt, und der Abschnitt, der von dem Nicht-AG-Abschnitt verschieden ist, ist ein AG-Abschnitt.
[Beispiel 4]
Eine Glasplatte wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 3 erhalten, wobei jedoch die Bedingungen für die Sprüh-Blendschutzbehandlung zu dem Folgenden geändert wurden.
Die Oberfläche der Glasplatte wurde mit wässrigem Natriumhydrogencarbonat gewaschen, dann mit ionenausgetauschtem Wasser gespült und getrocknet. Anschließend wurde die Glasplatte derart in einem Ofen erwärmt, dass die Oberflächentemperatur 80 °C erreicht. Dann wurde die Glasplatte mit einer Dispersionsflüssigkeit von hohlen feinen Siliziumoxidteilchen durch ein Sprühverfahren bei den Bedingungen eines Sprühdrucks von 0,4 MPa, einer Menge der Beschichtungslösung von 7 mL/min, einer Düsenbewegungsgeschwindigkeit von 500 mm/min, einem Sprühabstand von 22 mm, einem Abstand von der Düsenspitze zur Glasplatte von 115 mm und einem Tröpfchendurchmesser von 6 µm beschichtet, so dass eine Anzahl von feinen konvexen Teilen in der Hauptoberfläche der Glasplatte gebildet wurde. Die Beschichtungsmenge wurde auf eine Menge eingestellt, so dass eine Höhe des konvexen Teils von 10 µm erhalten wurde.
Eine für sichtbares Licht durchlässige Druckfarbe wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 3 aufgebracht und ausgehärtet, so dass ein Nicht-AG-Abschnitt in der Hauptoberfläche der Glasplatte gebildet wurde.
In der Glasplatte von Beispiel 4 ist von der Hauptoberfläche, die der Sprüh-Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, der Abschnitt, der mit der für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe beschichtet ist, ein Nicht-AG-Abschnitt, und der Abschnitt, der von dem Nicht-AG-Abschnitt verschieden ist, ist ein AG-Abschnitt.
[Beispiel 5]
In diesem Beispiel wurde eine ungehärtete Glasplatte (hergestellt von AGC Inc., Handelsbezeichnung: DRAGONTRAIL (eingetragene Marke), Größe: 300 mm × 300 mm, Dicke: 1,3 mm) verwendet.
Eine Blendschutzbehandlung wurde auf eine Hauptoberfläche des Glassubstrats wie folgt angewandt. Zuerst wurde eine Nassstrahlbehandlung mit der Hauptoberfläche, auf welcher der AG-Abschnitt gebildet werden sollte, unter Verwendung einer Nassstrahlvorrichtung (hergestellt von MACOHO Co., Ltd., Vorrichtungsbezeichnung: W8MN-Q062 Jr. Typell) durchgeführt. Weiße Aluminiumoxidteilchen (#2000) wurden als abrasive Körner verwendet und der Druck wurde auf 0,25 MPa eingestellt. Anschließend wurde ein säurebeständiger Schutzfilm auf die Hauptoberfläche, wo der AG-Abschnitt nicht gebildet werden sollte, der Glasplatte laminiert. Dann wurde die Glasplatte in eine 10 Massen-%ige Fluorwasserstoffsäurelösung eingetaucht und dadurch zu einer Zieltiefe von 43 µm geätzt.
Danach wurde der Schutzfilm abgelöst und die Glasplatte wurde 1 Stunde in geschmolzenes Kaliumnitratsalz eingetaucht, das auf 450 °C erwärmt war. Die Glasplatte wurde dann aus dem geschmolzenen Salz herausgezogen und während 1 Stunde nach und nach auf Raumtemperatur abgekühlt. Dadurch wurde eine chemische Härtungsbehandlung der Glasplatte durchgeführt.
Als nächstes wurde die Hauptoberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, der Glasplatte mit einer Schicht aus einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe auf Silikonbasis durch ein Siebdruckverfahren unter Verwendung einer Siebdruckvorrichtung beschichtet, so dass eine Kreisform mit ϕ 10 mm hergestellt wurde. Nach dem Beschichten mit der für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe wurde die Druckfarbe 60 Minuten bei 200 °C gehalten und dadurch ausgehärtet, so dass ein Nicht-AG-Abschnitt in der Hauptoberfläche der Glasplatte ausgebildet wurde.
In der Glasplatte von Beispiel 5 ist von der Hauptoberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, der Abschnitt, der mit der für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe beschichtet ist, ein Nicht-AG-Abschnitt, und der Abschnitt, der von dem Nicht-AG-Abschnitt verschieden ist, ist ein AG-Abschnitt.
[Beispiel 6]
Eine Glasplatte wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 5 hergestellt, jedoch wurde die Blendschutzbehandlung wie folgt durchgeführt. Zuerst wurde eine Nassstrahlbehandlung mit der Hauptoberfläche, auf welcher der AG-Abschnitt gebildet werden sollte, unter Verwendung einer Nassstrahlvorrichtung (hergestellt von MACOHO Co., Ltd., Vorrichtungsbezeichnung: W8MN-Q062 Jr. Typell) durchgeführt. Weiße Aluminiumoxidteilchen (#1500) wurden als abrasive Körner verwendet und der Druck wurde auf 0,25 MPa eingestellt. Anschließend wurde ein säurebeständiger Schutzfilm auf die Hauptoberfläche, wo der AG-Abschnitt nicht gebildet werden sollte, der Glasplatte laminiert. Dann wurde die Glasplatte in eine 10 Massen-%ige Fluorwasserstoffsäurelösung eingetaucht und dadurch zu einer Zieltiefe von 38 µm geätzt.
Danach wurde eine chemische Härtungsbehandlung der Glasplatte in der gleichen Weise wie im Beispiel 5 durchgeführt. Eine für sichtbares Licht durchlässige Druckfarbe auf Silikonbasis wurde dann in der gleichen Weise wie im Beispiel 5 aufgebracht und ausgehärtet, so dass ein Nicht-AG-Abschnitt in der Hauptoberfläche der Glasplatte gebildet wurde.
In der Glasplatte von Beispiel 6 ist von der Hauptoberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, der Abschnitt, der mit der für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe beschichtet ist, ein Nicht-AG-Abschnitt, und der Abschnitt, der von dem Nicht-AG-Abschnitt verschieden ist, ist ein AG-Abschnitt.
[Beispiel 7]
Eine Blendschutzbehandlung und eine chemische Härtungsbehandlung wurden mit den gleichen Vorgängen wie im Beispiel 1 in dem Zustand durchgeführt, bei dem ein Schutzfilm, der zu ϕ 20 mm ausgeschnitten worden ist, als säurebeständiger Schutzfilm auf einen im Wesentlichen zentralen Teil der Hauptoberfläche, auf dem der AG-Abschnitt gebildet werden sollte, der Glasplatte geklebt wurde.
Anschließend wurde die Glasplatte 3 Minuten in eine 3 Massen-%ige Fluorwasserstoffsäurelösung eingetaucht, um Schmutz zu entfernen, der an der Hauptoberfläche haftete, die nicht mit dem Schutzfilm der Glasplatte laminiert ist, und um gleichzeitig als Vorverarbeitung eine Dicke von 10 µm der Glasplatte zu entfernen. Ferner wurde die Glasplatte 3 Minuten in eine Mischlösung, die 8 Massen-% Fluorwasserstoffsäure und 8 Massen-% Kaliumfluorid enthielt, eingetaucht, um eine Mattierungsbehandlung mit der Hauptoberfläche durchzuführen, die nicht mit dem Schutzfilm der Glasplatte laminiert ist. Die Glasplatte wurde nach der Mattierungsbehandlung 3 Minuten in eine 10 Massen-%ige Fluorwasserstoffsäurelösung eingetaucht (Ätzzeit: 4 Minuten), um die Trübung auf 15 % einzustellen.
In der Glasplatte von Beispiel 7 ist von der Hauptoberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, der zentrale Teil, auf den der Schutzfilm mit ϕ 20 mm geklebt worden ist, ein Nicht-AG-Abschnitt, und der Abschnitt, der von dem Nicht-AG-Abschnitt verschieden ist, ist ein AG-Abschnitt.
[Beispiel 8]
Nachdem eine Blendschutzbehandlung mit dem gleichen Verfahren wie im Beispiel 1 durchgeführt wurde, wurde ein im Wesentlichen zentraler Teil der Oberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, unter Verwendung einer konisch geformten Schleifscheibe mit ϕ 5 mm und abrasiven Ceroxidkörnern mit einer Knoop-Härte von 3000 poliert, um die Oberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, zu einer Tiefe von 15 µm in dem Bereich von Φ 20 mm zu entfernen. Danach wurde eine chemische Härtung in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 durchgeführt.
In der Glasplatte von Beispiel 8 ist von der Hauptoberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, der Abschnitt, bei dem ein Polieren durchgeführt worden ist, ein Nicht-AG-Abschnitt, und der Abschnitt, der von dem Nicht-AG-Abschnitt verschieden ist, ist ein AG-Abschnitt.
[Beispiel 9]
Nachdem eine Blendschutzbehandlung mit dem gleichen Verfahren wie im Beispiel 1 durchgeführt wurde, wurde ein Schutzfilm auf die Oberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, geklebt, ausgenommen der Bereich von ϕ 20 mm in dem im Wesentlichen zentralen Teil der Oberfläche, und ein Bandpolieren wurde unter Verwendung von abrasiven Keramikkörnern #10000 durchgeführt, um die Oberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, bis zu einer Tiefe von 12 µm zu entfernen. Danach wurde ein chemisches Härten in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 durchgeführt.
In der Glasplatte von Beispiel 9 ist von der Hauptoberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, der zentrale Teil mit ϕ 20 mm, auf den der Schutzfilm nicht geklebt worden ist, ein AG-Abschnitt, und der Abschnitt, der von dem AG-Abschnitt verschieden ist, ist ein Nicht-AG-Abschnitt.
[Beispiel 10]
Eine Sprüh-Blendschutzbehandlung und eine chemische Härtungsbehandlung wurden mit den gleichen Vorgängen wie im Beispiel 3 in dem Zustand durchgeführt, bei dem ein Schutzfilm, der zu ϕ 20 mm ausgeschnitten worden ist, als säurebeständiger Schutzfilm auf einen im Wesentlichen zentralen Teil der Hauptoberfläche, wo der AG-Abschnitt gebildet werden sollte, der Glasplatte geklebt wurde.
In der Glasplatte von Beispiel 10 ist von der Hauptoberfläche, die der Sprüh-Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, der zentrale Teil, auf den der Schutzfilm mit ϕ 20 mm geklebt worden ist, ein Nicht-AG-Abschnitt, und der Abschnitt, der von dem Nicht-AG-Abschnitt verschieden ist, ist ein AG-Abschnitt.
[Beispiel 11]
Nachdem eine Blendschutzbehandlung und eine chemische Härtungsbehandlung mit dem gleichen Vorgänge wie im Beispiel 1 durchgeführt wurden, wurde ein transparenter Film, der zu einer Kreisform von ϕ 10 mm verarbeitet worden ist, auf die Hauptoberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, der Glasplatte geklebt, so dass ein Nicht-Blendschutz (AG)-Teil gebildet wurde.
In der Glasplatte von Beispiel 11 ist von der Hauptoberfläche, die der Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, der Abschnitt, auf den der transparente Film geklebt worden ist, ein Nicht-AG-Abschnitt, und der Abschnitt, der von dem Nicht-AG-Abschnitt verschieden ist, ist ein AG-Abschnitt.
Bewertungsverfahren
Die Verfahren zur Bewertung der Eigenschaften der Glasplatten, die in den Beispielen 1 bis 11 hergestellt worden sind, sind nachstehend beschrieben.
(Messung des Oberflächenprofils)
Bezüglich der Glasplatten, die in den Beispielen 1 bis 11 hergestellt worden sind, wurde das Oberflächenprofil auf der Seite, die einen AG-Abschnitt und einen Nicht-AG-Abschnitt aufwies, durch eine Oberflächenrauheit-Konturformmessvorrichtung (hergestellt von Tokyo Seimitsu Co., Ltd., Handelsbezeichnung: SURFCOM) gemessen, so dass ein ebenes Profil erhalten wurde. Aus dem erhaltenen ebenen Profil wurden der Absolutwert h des Höhenunterschieds zwischen dem AG-Abschnitt und dem Nicht-AG-Abschnitt und Ra und RSm von jedem des AG-Abschnitts und des Nicht-AG-Abschnitts auf der Basis von JIS B 0601 (2001) bestimmt.
(Trübung)
Bezüglich der Glasplatten, die in den Beispielen 1 bis 11 hergestellt worden sind, wurde die Durchlasstrübung (%) in jedem des AG-Abschnitts und des Nicht-AG-Abschnitts gemessen. Die Messung der Trübung wurde unter Verwendung eines Trübungsmessgeräts (hergestellt von Suga Test Instruments Co., Ltd., Handelsbezeichnung: HZ-V3) durchgeführt.
(Konturgrad)
Bezüglich der Glasplatten, die in den Beispielen 1 bis 11 hergestellt worden sind, wurde der Konturgrad des Nicht-AG-Abschnitts unter Verwendung eines CNC-Bildmesssystems (hergestellt von Nikon Instruments Inc., Modell: CNC Image Measuring System NEXIV VMR-10080) gemessen.
(Parallelität)
Bezüglich der Glasplatten, die in den Beispielen 1 bis 11 hergestellt worden sind, wurde die Parallelität zwischen dem Nicht-AG-Abschnitt und der zweiten Hauptoberfläche (der Hauptoberfläche, die der Hauptoberfläche gegenüberliegt, bei der ein AG-Abschnitt gebildet worden ist) unter Verwendung eines Lasermikroskops (hergestellt von Keyence Corporation, Handelsbezeichnung: Laser Displacement Sensor LK-GD500) mit einer Obergrenze von 0,8 bis 8 mm gemessen.
(Ebenheit)
Bezüglich der Glasplatten, die in den Beispielen 1 bis 11 hergestellt worden sind, wurde die Ebenheit zwischen dem Nicht-AG-Abschnitt und der zweiten Hauptoberfläche unter Verwendung einer Oberflächenrauheit-Konturformmessvorrichtung (hergestellt von Tokyo Seimitsu Co., Ltd., Handelsbezeichnung: SURFCOM) bei den Bedingungen eines Filters 2RC, einer Obergrenze von 0,8 bis 8 mm und einer Einstelllänge von 20 mm gemessen.
(Berührungsgefühl)
Bezüglich der Glasplatten, die in den Beispielen 1 bis 11 hergestellt worden sind, wurde das Berührungsgefühl der ersten Hauptoberfläche, bei der ein AG-Abschnitt und ein Nicht-AG-Abschnitt ausgebildet waren, durch einen Durchschnittswert von Werten mit einer fünfstufigen Bewertung von 1: Sehr gut, 2: Gut, 3: Kein Problem, 4: Schlecht und 5: Sehr schlecht durch 10 Personen bewertet.
(Sichtbarkeitsgrad)
Bezüglich der Glasplatten, die in den Beispielen 1 bis 11 hergestellt worden sind, wurde der Sichtbarkeitsgrad bei einer Betrachtung durch den Nicht-AG-Abschnitt durch einen Durchschnittswert von Werten mit einer dreistufigen Bewertung von A: Gut, B: Etwas schlecht und C: Schlecht durch 10 Personen bewertet.
(Fingerabdruck-Wischtest)
Bezüglich der Glasplatten, die in den Beispielen 1 bis 11 hergestellt worden sind, wurde eine Fluor-enthaltende organische Siliziumverbindung mit dem folgenden Vorgang auf der ersten Hauptoberfläche, bei der ein AG-Abschnitt und ein Nicht-AG-Abschnitt ausgebildet waren, gebildet.
Zuerst wurde eine Beschichtung aus einem Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung-Material (hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Handelsbezeichnung: KY-185) in einen Erwärmungsbehälter eingebracht. Danach wurde das Lösungsmittel in der Lösung durch Entgasen des Inneren des Erwärmungsbehälters mit einer Vakuumpumpe für 10 Stunden oder mehr entfernt, so dass eine Zusammensetzung zur Bildung einer Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung hergestellt wurde.
Als nächstes wurde der Erwärmungsbehälter, der die Zusammensetzung zur Bildung einer Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung enthielt, auf 270 °C erwärmt und nach dem Erreichen von 270 °C wurde dieser Zustand für 10 Minuten beibehalten, bis die Temperatur stabilisiert war. Dann wurde eine Abscheidung durch Zuführen der Zusammensetzung zur Bildung einer Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung auf die erste Hauptoberfläche der Glasplatte, die in einer Vakuumkammer angeordnet war, durch eine Düse durchgeführt, die mit dem Erwärmungsbehälter verbunden war, der die Zusammensetzung zur Bildung einer Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung enthielt.
Dabei wurde die Abscheidung durchgeführt, während die Filmdicke durch eine Kristalloszillatorüberwachungseinrichtung, die in der Vakuumkammer angeordnet war, gemessen wurde, und die Abscheidung wurde durchgeführt, bis die Filmdicke der Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung, die auf der Glasplatte ausgebildet war, 10 nm erreichte. Die Zuführung des Ausgangsmaterials von der Düse wurde gestoppt, wenn die Filmdicke der Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung, die auf der Glasplatte ausgebildet war, 10 nm erreichte, und die Glasplatte wurde dann aus der Vakuumkammer entnommen. Die entnommene Glasplatte wurde mit der Filmoberfläche nach oben auf einer Heizplatte angeordnet und 60 Minuten in der Atmosphäre bei 150 °C wärmebehandelt.
Anschließend wurden die Fingerabdruck-Wischeigenschaften mit dem folgenden Verfahren mit der Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung, die durch den vorstehenden Vorgang gebildet worden ist, geprüft. Ein Fingerabdruck wurde auf der Stufe jeder Probe unter Verwendung von künstlichem Schweiß bei derselben Druckkraft hinterlassen. Danach wurde ein Wischtest, bei dem die Anzahl der Wischvorgänge geprüft wurde, bis der Fingerabdruck verschwunden war, unter Verwendung einer Gaze, die mit Ethanol gesättigt war, durchgeführt. Die Fingerabdruckwischeigenschaften wurden mit A bewertet, wenn der Fingerabdruck innerhalb von 10 Wischvorgängen abgewischt wurde, mit B bewertet, wenn er mit 11 bis 50 Wischvorgängen abgewischt wurde, und mit C bewertet, wenn er selbst mit 50 Wischvorgängen nicht abgewischt wurde.
Die Bewertungsergebnisse der Beispiele 1 bis 11 sind in den nachstehenden Tabellen gezeigt.
[Tabelle 1]

Tabelle 1

	Beispiel 1	Beispiel 2	Beispiel 3	Beispiel 4	Beispiel 5	Beispiel 6
AG-Behandlunqsverfahren	Mattierung	Mattierung	Sprüh-AG	Sprüh-AG	Nassstrahlen	Nassstrahlen
Verfahren zur Bildung des Nicht-AG-Abschnitts	Drucken	Drucken	Drucken	Drucken	Drucken	Drucken
Höhenunterschied h (µm)	7	2	5	2	2	6
Ra des AG-Abschnitts (nm)	150	120	220	240	240	350
Ra des Nicht-AG-Abschnitts (nm)	14	10	8	8	26	33
RSm des AG-Abschnitts (µm)	8	7	8	12	34	27
RSm des Nicht-AG-Abschnitts (µm)	12	13	32	56	60	55
Trübung des AG-Abschnitts (%)	15	25	12	5	20	32
Trübung des Nicht-AG-Abschnitts (%)	0,3	0,4	1,2	0,3	0,4	0,4
Konturgrad (mm/10 mm)	0,1	0,2	0,3	0,25	0,2	0,2
Parallelität (µm/20 mm)	0,8	0,7	1,3	0,2	1,5	1,9
Ebenheit (µm/20 mm)	0,5	0,3	1,2	1,5	1,3	1,6
Berührungsgefühl	1	1	1	1	1	1
Fingerabdruckwischtest	A	A	A	A	A	A
Sichtbarkeitsgrad	A	A	A	A	A	A

[Tabelle 2] Tabelle 2

	Beispiel 7	Beispiel 8	Beispiel 9	Beispiel 10	Beispiel 11
AG-Behandlunqsverfahren	Mattierung	Mattierung	Mattierung	Sprüh-AG	Mattierung
Verfahren zur Bildung des Nicht-AG-Abschnitts	Schutzfilm	Polieren mit zylindrischer Schleifscheibe	Bandpolieren	Schutzfilm	Transparentes Band
Höhenunterschied h (µm)	30	15	12	15	50
Ra des AG-Abschnitts (nm)	150	150	150	220	150
Ra des Nicht-AG-Abschnitts (nm)	0,2	42	55	0,3	0,5
RSm des AG-Abschnitts (µm)	8	8	7	11	8
RSm des Nicht-AG-Abschnitts (µm)	0,01 oder weniger	180	220	0,01 oder weniger	0,01 oder weniger
Trübung des AG-Abschnitts (%)	15	15	15	12	15
Trübung des Nicht-AG-Abschnitts (%)	0,1	1,5	1,2	0,1	0,1
Konturgrad (mm/10 mm)	1,8	0,3	0,5	0,8	0,3
Parallelität (µm/20 mm)	0,4	3,2	4,3	0,5	0,7
Ebenheit (µm/20 mm)	0,5	18,2	20,5	0,3	0,5
Berührungsgefühl	4	4	4	4	4
Fingerabdruckwischtest	B	B	B	B	B
Sichtbarkeitsgrad	A	B	B	B	B

Wie es aus den Tabellen 1 und 2 ersichtlich ist, waren in den Beispielen 1 bis 6, bei denen RSm sowohl des AG-Abschnitts als auch des Nicht-AG-Abschnitts 1 µm oder mehr beträgt und die Differenz bei RSm zwischen dem AG-Abschnitt und dem Nicht-AG-Abschnitt 100 µm oder weniger beträgt, das Berührungsgefühl, der Fingerabdruckwischtest und der Sichtbarkeitsgrad gut. Andererseits waren in den Beispielen 7, 10 und 11, bei denen RSm des Nicht-AG-Abschnitts weniger als 1 µm beträgt, das Berührungsgefühl und die Ergebnisse des Fingerabdruckwischtests nicht gut. Darüber hinaus betrug in den Beispielen 8 und 9, obwohl RSm des Nicht-AG-Abschnitts 1 µm oder mehr beträgt, die Differenz bei RSm zwischen dem AG-Abschnitt und dem Nicht-AG-Abschnitt mehr als 100 µm und das Berührungsgefühl und die Ergebnisse des Fingerabdruckwischtests waren nicht gut.
Während die Erfindung detailliert und unter Bezugnahme auf spezifische Ausführungsformen davon beschrieben worden ist, ist es für einen Fachmann offensichtlich, dass verschiedene Änderungen und Modifizierungen vorgenommen werden können, ohne von dem Wesen und dem Umfang der Erfindung abzuweichen.
Diese Anmeldung basiert auf der japanischen Patentanmeldung Nr. 2017-120170 , die am 20. Juni 2017 eingereicht worden ist und deren Inhalt unter Bezugnahme hierin einbezogen ist.
Bezugszeichenliste

10A, 10B, 10C, 10D:: Glasplatte
12:: Konkaver Teil
13:: Konvexer Teil
20:: Blendschutzabschnitt
30:: Nicht-Blendschutzabschnitt
40:: Druckfarbe

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

US 8003194 [0006]
JP 2017120170 [0136]

Claims

Glasplatte mit einer ersten Hauptoberfläche und einer zweiten Hauptoberfläche, die der ersten Hauptoberfläche gegenüberliegt, wobei die erste Hauptoberfläche einen Blendschutzabschnitt und einen Nicht-Blendschutzabschnitt aufweist, wobei jeder des Blendschutzabschnitts und des Nicht-Blendschutzabschnitts eine durchschnittliche Länge (RSm) eines Rauheitskurvenelements von 1 µm oder mehr aufweist, und die Differenz zwischen RSm des Blendschutzabschnitts und RSm des Nicht-Blendschutzabschnitts 100 µm oder weniger beträgt.
Glasplatte nach Anspruch 1, bei welcher der Blendschutzabschnitt eine Trübung von durchgelassenem Licht im Bereich von sichtbarem Licht von 2 % oder mehr und 40 % oder weniger aufweist und der Nicht-Blendschutzabschnitt eine Trübung von durchgelassenem Licht in einem Bereich von sichtbarem Licht von weniger als 2 % aufweist.
Glasplatte nach Anspruch 1 oder 2, bei der ein Absolutwert eines Höhenunterschieds zwischen dem Blendschutzabschnitt und dem Nicht-Blendschutzabschnitt in der Dickenrichtung der Glasplatte 20 µm oder weniger beträgt.
Glasplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei welcher der Nicht-Blendschutzabschnitt einen Oberflächenmittenrauwert (Ra) von weniger als 100 nm aufweist.
Glasplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei welcher der Blendschutzabschnitt einen Oberflächenmittenrauwert (Ra) von 20 nm oder mehr aufweist.
Glasplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei welcher der Nicht-Blendschutzabschnitt einen Konturgrad von 0,5 mm oder weniger pro 10 mm aufweist.
Glasplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei der eine Parallelität zwischen dem Nicht-Blendschutzabschnitt und der zweiten Hauptoberfläche 10 µm oder weniger pro 20 mm beträgt.
Glasplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei der eine Ebenheit zwischen dem Nicht-Blendschutzabschnitt und der zweiten Hauptoberfläche 10 µm oder weniger pro 20 mm beträgt.
Glasplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 8, bei welcher der Nicht-Blendschutzabschnitt durch Aufbringen einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe gebildet wird.
Glasplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 9, bei der eine Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung auf oder über der ersten Hauptoberfläche ausgebildet ist.
Glasplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 9, bei der ein Film mit geringer Reflexion und eine Beschichtung aus einer Fluor-enthaltenden organischen Siliziumverbindung in dieser Reihenfolge auf der ersten Hauptoberfläche laminiert sind.
Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte mit einer ersten Hauptoberfläche und einer zweiten Hauptoberfläche, die der ersten Hauptoberfläche gegenüberliegt, wobei die erste Hauptoberfläche einen Blendschutzabschnitt und einen Nicht-Blendschutzabschnitt aufweist, wobei das Verfahren das Drucken einer für sichtbares Licht durchlässigen Druckfarbe auf einen Teil der ersten Hauptoberfläche der Glasplatte, wobei die erste Hauptoberfläche einer Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, zur Bildung des Nicht-Blendschutzabschnitts umfasst.
Verfahren zur Herstellung einer Glasplatte nach Anspruch 12, bei dem die Druckfarbe ein Harz und kein(en) Pigment und/oder Farbstoff enthält.