DE1179309B - High frequency ion source - Google Patents
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLANDFEDERAL REPUBLIC OF GERMANY
DEUTSCHESGERMAN
PATENTAMTPATENT OFFICE
AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL
Deutschem.: 21g-21/01 German: 21g -21/01
Nummer: 1179 309Number: 1179 309
Aktenzeichen: C18925 VIII c / 21 gFile number: C18925 VIII c / 21 g
Anmeldetag: 2. Mai 1959Filing date: May 2, 1959
Auslegetag: 8. Oktober 1964Opening day: October 8, 1964
Die Erfindung betrifft eine Hochfrequenz-Ionenquelle zur Erzeugung von Bündeln von ionisierten Teilchen, wie sie beispielsweise zur Weiterbehandlung in Teilchenbeschleunigern, Massenspektrometern, Anordnungen zur isotopischen Trennung usw. benutzt werden.The invention relates to a high-frequency ion source for generating bundles of ionized Particles, such as those used for further treatment in particle accelerators, mass spectrometers, Arrangements for isotopic separation, etc. can be used.
Bei den bekannten Hochfrequenz-Ionenquellen erfolgt die Ionisierung der Teilchen durch ein elektrisches Hochfrequenzfeld in einer im allgemeinen aus Quarz oder Glas, insbesondere Aluminium- und Natriumborsilikatglas, bestehenden Kammer. Es sind ferner Mittel zur Erzeugung eines Hochvakuums in der Kammer, zur Anlegung einer hohen Gleichspannung an die beiden Enden der Kammer und zur Speisung eines Endes der Kammer mit dem zu ionisierenden gasförmigen Stoff vorgesehen.In the known high-frequency ion sources, the particles are ionized by an electrical one High frequency field in a generally made of quartz or glass, especially aluminum and Sodium borosilicate glass, existing chamber. There are also means for generating a high vacuum in the chamber, for applying a high DC voltage to the two ends of the chamber and to the Supplying one end of the chamber with the gaseous substance to be ionized is provided.
Es ist auch bereits bekannt, derartige Hochfrequenz-Ionenquellen als Hohlraumresonator auszubilden. Vorzugsweise handelt es sich hierbei um einen koaxialen Hohlraumresonator mit einem ao Außenleiter und einem innerhalb desselben liegenden Hohlleiter, wobei Innenleiter und Außenleiter an einem Ende kurzgeschlossen und am anderen Ende offen sind. Bei einem solchen Hohlraumresonator ist das eigentliche Entladungsgefäß am offenen Ende desselben angeordnet. Da an der offenen Seite das elektrische Feld in dem Resonator einen optimalen Wert hat, bildet es ein besonderes Problem, Überschläge zwischen dem Innen- und Außenleiter des Hohlraumresonators zu vermeiden.Such high-frequency ion sources are also already known to be designed as a cavity resonator. This is preferably a coaxial cavity resonator with an ao Outer conductor and a waveguide lying within it, with inner conductor and outer conductor on are short-circuited at one end and open at the other end. In such a cavity resonator the actual discharge vessel is arranged at the open end of the same. Because on the open side that electric field in the resonator has an optimal value, it creates a particular problem, flashovers to avoid between the inner and outer conductor of the cavity resonator.
Bei einer bekannten Hochfrequenz-Ionenquelle ist das offene Ende des Koaxialresonators durch ein kleines Entladungsgefäß aus Glas abgeschlossen. Hierbei ist der Abstand zwischen Innen- und Außenleiter so groß gewählt, daß eine unerwünschte Entladung zwischen den benachbarten Enden der Leiter verhindert wird. Der hierdurch entstehende relativ lange Weg für die Ionisationselektronen erfordert jedoch ein zusätzliches magnetisches Feld, um die Elektronen daran zu hindern, von ihren im wesentliehen parallel zur Achse des Resonators verlaufenden Bahnen abzuweichen. Bei dieser bekannten Ionenquelle ist das zusätzliche magnetische Feld am Ende des Hohlraumresonators notwendig, um eine zufriedenstellende Ionisationsausbeute zu erzielen. In a known high-frequency ion source, the open end of the coaxial resonator is through a small glass discharge vessel closed. Here is the distance between the inner and outer conductors chosen so large that an undesired discharge between the adjacent ends of the conductors is prevented. The resulting relatively long path for the ionization electrons requires however, an additional magnetic field to prevent the electrons from essentially leaving theirs to deviate parallel to the axis of the resonator running tracks. With this well-known Ion source, the additional magnetic field at the end of the cavity resonator is necessary to to achieve a satisfactory ionization yield.
Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, einen Hohlraumresonator für eine Ionenquelle derart auszubilden, daß die Nachteile der bekannten Einrichtungen vermieden werden, wobei insbesondere eine erhebliche Steigerung der Konzentration des Hochfrequenzfeldes an der offenen Seite des Resonators Hochfrequenz-IonenquelleThe aim of the present invention is to design a cavity resonator for an ion source in such a way that that the disadvantages of the known devices are avoided, in particular one considerable increase in the concentration of the high-frequency field on the open side of the resonator High frequency ion source
Anmelder:Applicant:
Commissariat ä l'Energie Atomique, ParisCommissariat a l'Energie Atomique, Paris
Vertreter:Representative:
Dr. W. P. Radt und Dipl.-Ing. E. E. Finkener,Dr. W. P. Radt and Dipl.-Ing. E. E. Finkener,
Patentanwälte, Bochum, Heinrich-König-Str. 12Patent attorneys, Bochum, Heinrich-König-Str. 12th
Als Erfinder benannt:
Siegfried Klein, ParisNamed as inventor:
Siegfried Klein, Paris
Beanspruchte Priorität:Claimed priority:
Frankreich vom 3. Mai 1958 (764 698)France of May 3, 1958 (764 698)
angestrebt wird, um dadurch bei gleicher Leistung eine Steigerung der Ionenausbeute zu erzielen.The aim is to achieve an increase in the ion yield with the same output.
Es wird bei der Erfindung von einer Hochfrequenz-Ionenquelle ausgegangen, die aus einem Rohr aus dielektrischem Material besteht, bei der Einrichtungen zur Erzeugung eines Hochvakuums in dem Rohr, Einrichtungen zum Anlegen einer hohen Gleichspannung an die beiden Enden des Rohres, Einrichtungen zum Zuführen des zu ionisierenden gasförmigen Stoffes an einem Ende des Rohres vorgesehen sind und die einen Hohlraumresonator enthält, der aus einem Außenleiter und einem innerhalb desselben sowie koaxial zu diesem angeordneten Innenleiter aufgebaut ist, wobei die beiden Leiter an einem Ende kurzgeschlossen, dagegen am anderen Ende offen sind.In the invention, it is made up of a high-frequency ion source assumed, which consists of a tube of dielectric material, in the facilities for generating a high vacuum in the pipe, devices for applying a high DC voltage at the two ends of the tube, means for supplying the gaseous to be ionized Substance are provided at one end of the tube and which contains a cavity resonator made of an outer conductor and an inner conductor arranged inside and coaxially to it is constructed, with the two conductors short-circuited at one end, but at the other end are open.
Bei einer derartigen Hochfrequenz-Ionenquelle besteht die Erfindung darin, daß das Rohr an dem der Gaszufuhr abgewandten Ende eine Ausbauchung in Form einer abgeplatteten Zwiebel oder Knolle aufweist und die Ausbauchung am offenen Ende des Koaxial-Hohlraumresonators an dem Ort stärkster Konzentration der elektrischen Feldlinien angeordnet ist, daß der Innenleiter das Rohr an diesem anliegend von dem Ende, an dem das Gas einströmt, bis zur Ausbauchung umgibt, daß der Außenleiter durch zwei elektrisch leitende Platten abgeschlossen ist, von denen die eine an dem kurzgeschlossenen Ende des Hohlraumresonators an dem Innenleiter befestigt ist und diesen trägt und die andere an dem offenen Ende des Hohlraumresonators mit einer zentralen Öffnung für den Austritt der Ionen versehen ist und von dem Ende des Innenleiters, anIn such a high-frequency ion source, the invention is that the tube to which the Has a bulge in the form of a flattened onion or tuber end facing away from the gas supply and the bulge at the open end of the coaxial cavity resonator is strongest at the location Concentration of the electrical field lines is arranged so that the inner conductor rests against the tube from the end at which the gas flows in to the bulge that surrounds the outer conductor is terminated by two electrically conductive plates, one of which is short-circuited to the The end of the cavity resonator is attached to the inner conductor and carries this and the other the open end of the cavity resonator with a central opening for the ions to exit is provided and from the end of the inner conductor
409 690/236409 690/236
wird. Die Teile 3 und 4 sind aus einem gegen Ionenbeschuß beständigen Metall hergestellt, wie z. B. Platin, rostfreier Stahl oder Aluminium.will. Parts 3 and 4 are made of an anti-ion bombardment resistant metal made such. B. platinum, stainless steel or aluminum.
Das andere konische Ende 26 des Rohres 1 trägt 5 die Vorrichtung T zwecks Speisung mit dem zu ionisierenden Gas oder Dampf, welche in Form einer Kammer 27 ausgebildet ist, die an dem einen Ende 26 eine konische öffnung 28 und an dem anderen Ende eine hohle Elektrode 5 hat, durch welche, wieThe other conical end 26 of the tube 1 carries the device T for the purpose of supplying the gas or vapor to be ionized, which is designed in the form of a chamber 27 which has a conical opening 28 at one end 26 and a hollow electrode at the other end 5 has, by which, how
welchem die Ausbauchung liegt, einen Abstand von der Größenordnung der Dicke der Ausbauchung hat. Um eine weitere Vergrößerung der Intensität des Hochfrequenzfeldes zu erreichen, sieht die Erfindung ferner vor, daß der Hohlraumresonator mittels kapazitiver Kopplung durch die Hochfrequenzstromquelle erregt wird. Nach einem weiteren Kennzeichen der Erfindung besteht die Hochfrequenzstromquelle aus einer Oszillatorröhre mit einer Kathode, einemon which the bulge lies is spaced apart from the order of magnitude of the thickness of the bulge. In order to achieve a further increase in the intensity of the high-frequency field, the invention provides also suggest that the cavity resonator by means of capacitive coupling through the high-frequency power source is excited. According to a further feature of the invention, the high-frequency power source consists of an oscillator tube with a cathode, a
Steuergitter und einer Anode, wobei die beiden io durch den Pfeil F dargestellt, das zu ionisierende GasControl grid and an anode, the two io represented by the arrow F , the gas to be ionized
letzten Röhrenbauteile je mit einer der Belegungen eingeführt wird. In der Kammer 27 befindet sich einelast tube component is introduced with one of the assignments. In the chamber 27 there is one
von drei Kondensatoren verbunden sind, deren andere Quarzscheibe 29 zwecks Erhöhung der Durchschlags-are connected by three capacitors, the other quartz disk 29 for the purpose of increasing the breakdown
Belegungen mit dem inneren Hohlleiter verbunden spannung.Assignments associated with the inner waveguide voltage.
sind, wobei ein einziges Blatt eines Dielektrikums je- Der größte Teil des Rohres 1 steckt in einemThe largest part of the tube 1 is in one
weils zwischen den beiden Belegungen der drei Kon- 15 Koaxialleitungsresonator R, welcher aus einem dasbecause between the two assignments of the three con - 15 Koaxialleitungsresonator R, which consists of a
densatoren angeordnet ist. Das dielektrische Blatt ist Rohr umgebenden Innenleiter 7 und einem Außen-capacitors is arranged. The dielectric sheet is tube surrounding the inner conductor 7 and an outer
nach der weiteren Erfindung ein Glimmerblatt mit leiter 6 besteht. Eine bei 30 an den Außenleiter 6 an-According to the further invention, a mica sheet with a conductor 6 is made. One at 30 to the outer conductor 6
einer Dicke von etwa 0,1 mm. gelötete Metallplatte 8 schließt den Außenleiter 6a thickness of about 0.1 mm. The soldered metal plate 8 closes the outer conductor 6
Der wesentliche Vorteil der gemäß der Erfindung seitlich ab. Die Platte 8 hat eine Bohrung 31 für den angewendeten Ausbauchung des Rohres am offenen 20 Durchtritt der in der ringförmigen Erweiterung 2 erEnde des Hohlraumresonators ist darin zu sehen, zeugten Ionen, welche das Rohr 1 in Richtung des daß es hierdurch überhaupt erst möglich ist, eine Pfeiles / verlassen. Vakuumdichtungen 32 und 33 sehr große Spannungsdifferenz zwischen den beiden aus Gummi sind zwischen der Platte 8 und der ringbenachbarten Enden der Leiter des Hohlraumresona- förmigen Erweiterung 2 sowie zwischen der Platte 8 tors einzustellen. Auf diese Weise erhält man auf 25 und der Wand 25 angeordnet. In gleicher Weise wird einem eng begrenzten Raum ein außerordentlich das andere Ende des Außenleiters 6 durch eine starkes Hochfrequenzfeld, wodurch die Ionisierung Metallplatte 34 verschlossen, welche bei 30 a an den der Teilchen wesentlich begünstigt wird. Die sich Außenleiter 6 angelötet ist und in ihrer Mitte zur radial zur Längsachse des Hohlraumresonators er- Aufnahme einer Muffe 35 ausgebohrt ist, in welche streckende Ausbuchtung aus dielektrischem Material 30 die rohrförmigen Teile 1 und 7 eingesteckt sind. Die verhindert in einfacher Weise jede unerwünschte Ent- Teile 6, 7, 8, 34, 35 sind aus gut leitenden Stoffen, ladung zwischen den beiden Leitern des Resonators. wie z. B. Kupfer.The main advantage of the side according to the invention. The plate 8 has a bore 31 for the applied bulging of the tube at the open 20 passage of the end in the annular extension 2 of the cavity resonator can be seen in it, produced ions which the tube 1 in the direction of the that this makes it possible to leave an arrow /. Vacuum seals 32 and 33 very large tension difference between the two rubber are between the plate 8 and the ring adjacent Ends of the conductors of the cavity resonance-shaped extension 2 and between the plate 8 to adjust the gate. In this way one gets arranged on 25 and the wall 25. In the same way will a very limited space an extraordinarily the other end of the outer conductor 6 by a strong high-frequency field, whereby the ionization metal plate 34 closed, which at 30 a to the the particle is significantly favored. The outer conductor 6 is soldered and in its center to A sleeve 35 is bored radially to the longitudinal axis of the cavity resonator, into which a sleeve stretching bulge made of dielectric material 30, the tubular parts 1 and 7 are inserted. the prevents in a simple way any undesirable Ent- Parts 6, 7, 8, 34, 35 are made of highly conductive materials, charge between the two conductors of the resonator. such as B. Copper.
Infolge der geringen Ausdehnung der Ionisierungs- Bei P dargestellte Pumpeinrichtungen stehen mitAs a result of the small extent of the ionization pump devices shown at P are with
zone wird die Anwendung eines zusätzlichen Magnet- dem Raum 50 und über die öffnungen 4 a des Teils 4zone is the use of an additional magnet - the space 50 and over the openings 4 a of the part 4
feldes überflüssig, da ein Abweichen der Teilchen 35 mit dem Entladungsgefäß 1 in Verbindung und haltenfield superfluous, since a deviation of the particles 35 with the discharge vessel 1 in connection and hold
auf der kurzen Wegstrecke praktisch nicht eintritt. ein Vakuum in der Größenordnung von 10~3 bispractically does not occur on the short distance. a vacuum of the order of 10 -3 to
Die Hochfrequenz-Ionenquelle gemäß der Erfin- 10~4 mm Hg in dem Teil des Entladungsgefäßes 1The high-frequency ion source according to the invention is 10 ~ 4 mm Hg in the part of the discharge vessel 1
dung eignet sich besonders zur Ionisierung von aufrecht, in dem die Ionisierung stattfindet. Der elek-dung is particularly suitable for the ionization of upright, in which the ionization takes place. The elec-
Gasen, z. B. Wasserstoff, Deuterium, Helium, Stick- irische Teil der Ionenquelle wird an Hand der F i g. 2Gases, e.g. B. hydrogen, deuterium, helium, nitrogen Irish part of the ion source is shown on the basis of FIG. 2
stoff, oder Dämpfen, z. B. Leichtmetallen, wie Litium 40 erläutert.fabric, or steaming, e.g. B. light metals, such as lithium 40 explained.
und Natrium. Sie ist vorzugsweise zur Erzeugung Der Hochfrequenzgenerator hat eine Oszillatorvon Bündeln von ionisierten Teilchen für die Spei- röhre 9, die gemäß einer Dreipunktschaltung geschalsung eines Teilchenbeschleunigers mit hoher Ionen- tet ist. Sie arbeitet bei einer Frequenz in der Größenausbeute (in der Größenordnung von etwa 10 mA Ordnung von 150 MHz und liefert eine Leistung von bei einer Hochfrequenzleistung von etwa 75 W) be- 45 etwa 75 bis 100 W. Die Oszillatorröhre 9 kann z. B. stimmt. eine Tetrode sein, deren Anode 11 aus der Leitungand sodium. It is preferably used to generate the high frequency generator has an oscillator of Bundling of ionized particles for the storage tube 9, the formwork according to a three-point circuit a particle accelerator with high ion tet is. It works at one frequency in size yield (on the order of about 10 mA order of 150 MHz and delivers a power of at a high frequency power of about 75 W) loading 45 about 75 to 100 W. The oscillator tube 9 can, for. B. it's correct. be a tetrode, the anode 11 of which is out of the line
Weitere Einzelheiten der Erfindung werden an 10 mit der Anodenspannung +HT1 gespeist wird,Further details of the invention are fed to 10 with the anode voltage + HT 1 ,
Hand zeichnerisch dargestellter Ausführungsbeispiele deren Schirmgitter 14 durch die Leitung 13 mit derHand drawing illustrated embodiments whose screen grid 14 through the line 13 with the
erläutert. Schirmgitterspannung +HT., gespeist wird, derenexplained. Screen grid voltage + HT., Is fed, whose
F i g. 1 ist eine Schnittansicht einer bevorzugten 50 Kathode 38 durch die Drähte 39 mit HeizspannungF i g. 1 is a cross-sectional view of a preferred cathode 38 through the filament wires 39
Ausführungsform einer Ionenquelle gemäß der Er- versorgt wird, und die Leitung 19, die mit der einen findung ohne die Einrichtungen zur elektrischen Speisung derselben;Embodiment of an ion source according to which Er is supplied, and the line 19, which is connected to the one finding without the devices for the electrical supply of the same;
F i g. 2 zeigt die elektrische Speisung der Ionenquelle nach Fig. 1;F i g. 2 shows the electrical supply to the ion source according to FIG. 1;
F i g. 3 zeigt schematisch den Hohlraumresonator und die Art seiner Erregung;F i g. 3 shows schematically the cavity resonator and the manner in which it is excited;
F i g. 4 zeigt das Ersatzschaltbild für den Hohlraumresonator. F i g. 4 shows the equivalent circuit diagram for the cavity resonator.
Die in F i g. 1 dargestellte Ionenquelle hat ein 60 seits über einen Widerstand 17 von einigen tausend rohrförmiges Entladungsgefäß 1, welches im allge- Ohm und den Stab 44 mit dem Kondensator 18 vermeinen aus Glas oder aus Quarz besteht und dessen bunden, welcher durch den Leiter 44 a mit der Leieines Ende 24 eine ringförmige Erweiterung 2 auf- tung 19 verbunden ist, d. h. hochfrequenzmäßig mit weist, welche z. B. ein Volumen in der Größen- der Kathode der Oszillatorröhre. Schließlich wird die Ordnung von einem Kubikzentimeter hat. Das Ende 65 Anodenspannung durch den Stab 37 an den Konden-24 des Rohres stützt sich an einem Ring 3 ab, wel- sator 12 angelegt.The in F i g. 1 shown ion source has a 60 hand over a resistance 17 of a few thousand tubular discharge vessel 1, which in general ohms and the rod 44 with the capacitor 18 mean consists of glass or quartz and its bound, which through the conductor 44 a with the Leieines At the end 24 an annular enlargement 2 is connected to 19, d. H. high frequency with shows which z. B. a volume in the size of the cathode of the oscillator tube. Eventually the Order of one cubic centimeter. The end 65 anode voltage through the rod 37 to the condensers 24 of the tube is supported on a ring 3, which wel- sator 12 is applied.
eher von einem in einer Vertiefung 25 α einer leiten- Diese drei Kondensatoren 12, 16, 18 dienen zumrather of a lead in a recess 25 α These three capacitors 12, 16, 18 are used for
den Wand 25 gehaltenen konischen Teil 4 getragen Abblocken der verschiedenen an den Elektroden derthe wall 25 held the conical part 4 supported blocking the various on the electrodes of the
Heizleitung 39 verbunden ist, an dem negativen Pol —HT der Anodenspannungen liegt. Drosselspulen 40 verhindern den Rückfluß der durch die Röhre 9 er-55 zeugten Hochfrequenzströme, während Kondensatoren 41, 42 den unmittelbaren Übertritt des Gleichstroms in die Leitung 19 verhindern. Das Steuergitter 15 der Röhre 9 ist einerseits unmittelbar durch den Stab 43 mit dem Kondensator 16 und anderer-Heating line 39 is connected to the negative pole - HT of the anode voltages. Choke coils 40 prevent the high-frequency currents generated by the tube 9 from flowing back, while capacitors 41, 42 prevent the direct current from flowing directly into the line 19. The control grid 15 of the tube 9 is on the one hand directly through the rod 43 with the capacitor 16 and on the other hand
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GB902166A (en) * | 1959-08-17 | 1962-07-25 | Atomic Energy Authority Uk | Improvements in or relating to mass spectrometers |
US3263415A (en) * | 1961-03-06 | 1966-08-02 | Aerojet General Co | Ion propulsion device |
NL285354A (en) * | 1961-12-11 | |||
US3312727A (en) * | 1965-02-03 | 1967-04-04 | Dow Corning | Organosilicon compounds |
US3353853A (en) * | 1965-05-03 | 1967-11-21 | James H Heywood | Tube connecting fastener |
US3462335A (en) * | 1965-09-13 | 1969-08-19 | Bell Telephone Labor Inc | Bonding of thermoplastic composition with adhesives |
JPS594819B2 (en) * | 1975-10-08 | 1984-02-01 | 双葉電子工業株式会社 | ion source |
FR2416545A1 (en) * | 1978-02-03 | 1979-08-31 | Thomson Csf | SOURCE OF IONS PRODUCING A DENSE FLOW OF LOW-ENERGY IONS, AND SURFACE TREATMENT DEVICE INCLUDING SUCH A SOURCE |
US4240007A (en) * | 1979-06-29 | 1980-12-16 | International Business Machines Corporation | Microchannel ion gun |
US4994715A (en) * | 1987-12-07 | 1991-02-19 | The Regents Of The University Of California | Plasma pinch system and method of using same |
FR2639756B1 (en) * | 1988-11-30 | 1994-05-13 | Centre Nal Recherc Scientifique | SOURCE OF VAPORS AND IONS |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2633539A (en) * | 1948-01-14 | 1953-03-31 | Altar William | Device for separating particles of different masses |
BE527952A (en) * | 1953-04-10 | |||
US2817032A (en) * | 1954-03-05 | 1957-12-17 | Dwight W Batteau | Gaseous-discharge method and system |
US2836750A (en) * | 1955-01-07 | 1958-05-27 | Licentia Gmbh | Ion source |
US2826708A (en) * | 1955-06-02 | 1958-03-11 | Jr John S Foster | Plasma generator |
US2883580A (en) * | 1956-07-13 | 1959-04-21 | Wallace D Kilpatrick | Pulsed ion source |
US2883568A (en) * | 1957-06-25 | 1959-04-21 | Rca Corp | Apparatus for producing thermallycool charged particles |
US2880337A (en) * | 1958-01-02 | 1959-03-31 | Thompson Ramo Wooldridge Inc | Particle acceleration method and apparatus |
US2892114A (en) * | 1958-05-06 | 1959-06-23 | Wallace D Kilpatrick | Continuous plasma generator |
-
1958
- 1958-05-03 FR FR1209092D patent/FR1209092A/en not_active Expired
- 1958-06-04 FR FR767110A patent/FR73679E/en not_active Expired
-
1959
- 1959-04-27 CH CH354173D patent/CH354173A/en unknown
- 1959-04-28 LU LU37149A patent/LU37149A1/xx unknown
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- 1959-04-29 GB GB14653/59A patent/GB882366A/en not_active Expired
- 1959-05-02 DE DEC18925A patent/DE1179309B/en active Pending
- 1959-05-27 LU LU37242A patent/LU37242A1/xx unknown
- 1959-05-29 CH CH354865D patent/CH354865A/en unknown
- 1959-06-03 DE DEC19119A patent/DE1190590B/en active Pending
- 1959-06-03 US US817758A patent/US2977495A/en not_active Expired - Lifetime
- 1959-06-03 GB GB19016/59A patent/GB882367A/en not_active Expired
Non-Patent Citations (1)
Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
LU37242A1 (en) | 1960-11-28 |
FR1209092A (en) | 1960-02-29 |
US2977495A (en) | 1961-03-28 |
US2969480A (en) | 1961-01-24 |
DE1190590B (en) | 1965-04-08 |
GB882366A (en) | 1961-11-15 |
LU37149A1 (en) | 1960-10-28 |
CH354865A (en) | 1961-06-15 |
CH354173A (en) | 1961-05-15 |
GB882367A (en) | 1961-11-15 |
FR73679E (en) | 1960-09-05 |
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