DE10307527A1

DE10307527A1 - Verfahren und System zum Verbessern der Effizienz einer mechanischen Justieranlage

Info

Publication number: DE10307527A1
Application number: DE10307527A
Authority: DE
Inventors: Uwe Knappe; Jan Raebiger; Uwe Schulze; Rolf Seltmann
Original assignee: Advanced Micro Devices Inc
Current assignee: Advanced Micro Devices Inc
Priority date: 2003-02-21
Filing date: 2003-02-21
Publication date: 2004-09-09
Anticipated expiration: 2023-02-22
Also published as: DE10307527B4; US20040167640A1; US6946411B2

Abstract

Es wird eine Technik offenbart, um Substrate individuell pro Durchlauf zu justieren, indem die Positionsdaten eines oder mehrerer zuvor justierter Substrate verwendet werden, um einen Sollwert für einen Vorjustierungsprozess für ein oder mehrere nachfolgende Substrat zu bestimmen. Der Sollwert kann auch auf der Grundlage einer vordefinierten Eigenschaft der zu justierenden Substrate bestimmt werden.

Description

GEBIET DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft das Gebiet der Herstellung integrierter Schaltungen und betrifft insbesondere eine Technik zum mechanischen Justieren eines Substrats in Bezug auf eine Prozessanlage, etwa eine Photolithographieanlage.
BESCHREIBUNG DES STANDS DER TECHNIK

Die Herstellung integrierter Schaltungen erfordert die präzise Herstellung sehr kleiner Strukturelemente mit geringen Fehlertoleranzen. Derartige Strukturelemente können in einer über einem geeigneten Substrat, etwa einem Siliziumsubstrat, ausgebildeten Materialschicht hergestellt werden. Diese Strukturelemente mit genau kontrollierter Größe werden durch Strukturieren der Materialschicht mittels Durchführen bekannter Lithographie- und Ätzprozesse erzeugt, wobei eine Maskenschicht über der zu behandelnden Materialschicht gebildet wird, um diese Strukturelemente zu definieren. Im Wesentlichen kann eine Maskenschicht aus einer Photolackschicht bestehen oder mittels dieser hergestellt werden, die durch einen lithographischen Vorgang strukturiert wird. Während des lithographischen Prozesses kann der Lack auf die Scheibenoberfläche aufgeschleudert werden und dann selektiv mittels Ultraviolettstrahlung belichtet werden. Nach der Entwicklung des Photolackes werden abhängig von der Art des Photolacks – Positivlack oder Negativlack – die belichteten Bereiche oder die nicht belichteten Bereiche entfernt, um das erforderliche Muster in der Photolackschicht zu bilden. Da die Abmessungen der Strukturen in weit entwickelten integrierten Schaltungen ständig kleiner werden, müssen die zur Strukturierung von Schaltungsstrukturelementen verwendeten Anlagen äußerst strenge Auflagen hinsichtlich des Auflösungsvermögens und der Überlagerungsgenauigkeit der beteiligten Herstellungsprozesse erfüllen. In diesem Zusammenhang wird das Auflösungsvermögen als ein Maß betrachtet, das die gleichbleibende Fähigkeit angibt, Bilder mit minimaler Größe unter Bedingungen von vordefinierten Herstellungsschwankungen zu erzeugen. Ein wichtiger Faktor bei der Verbesserung des Auflösungsvermögens wird durch den lithographischen Vorgang repräsentiert, in welchem Muster, die in einer Photomaske oder Retikel enthalten sind, optisch auf die Photolackschicht mittels eines abbildenden optischen Systems übertragen werden. Es werden daher große Anstrengungen unternommen, um die optischen Eigenschaften des lithographischen Systems, etwa die numerische Apertur, die Fokustiefe und die Wellenlänge der verwendeten Lichtquelle zu verbessern. Die Qualität der lithographischen Abbildung ist äußerst wichtig bei der Erzeugung sehr kleiner Strukturelemente.

Von mindestens vergleichbarer Wichtigkeit ist jedoch auch die Genauigkeit, mit welcher ein Bild auf der Oberfläche des Substrats positioniert werden kann. Integrierte Schaltungen werden typischerweise durch aufeinanderfolgendes Strukturieren von Materialschichten hergestellt, wobei Strukturelemente auf nacheinanderfolgenden Materialschichten eine räumliche Beziehung zueinander aufweisen. Jedes in einer nachfolgenden Materialschicht gebildete Muster muss zu einem entsprechenden Muster, das in der zuvor strukturierten Materialschicht gebildet ist, innerhalb spezifizierter Justiertoleranzen ausgerichtet werden.

Diese Justiertoleranzen werden beispielsweise durch eine Änderung eines Photolacksbildes auf dem Substrat aufgrund von Ungleichförmigkeiten bei Parametern, etwa der Lackdicke, der Ausbacktemperatur, der Belichtung und der Entwicklung verursacht. Des weiteren können Ungleichförmigkeiten der Ätzprozesse ebenso zu Toleranzen in der geätzten Strukturelemente führen. Ferner gibt es eine bestimmte Unsicherheit bei der Überlagerung des Bildes des Musters für die momentane Materialschicht zu dem Muster der zuvor gebildeten Materialschicht, während das Bild photolithographisch auf das Substrat übertragen wird. Diverse Faktoren bestimmen die Fähigkeit des Abbildungssystems, zwei Schichten, d. h. die bestehende Schicht und die von dem Retikel auf das Substrat zu übertragende Schicht, zu überlagern, etwa kleine Unregelmäßigkeiten innerhalb eines Maskensatzes, Temperaturdifferenzen während unterschiedlicher Belichtungszeitpunkte und ein begrenztes Justiervermögen der Justieranlage, die für gewöhnlich ein Teil der Photolithographieanlage ist.

In allgemein erhältlichen Photolithographieanlagen, etwa in Steppern, die das Belichten von Substraten in einem schrittweise wiederholenden Vorgang ermöglichen, werden die Substrate typischerweise in einer zweistufigen Prozedur ausgerichtet, wobei in einer sogenannten Vorjustierung eine grobe Orientierung der Substrats erreicht wird, indem signifikante Positionen des Substrats, die beispielsweise am Substratrand angeordnet sind, so justiert werden, dass Justiermarken innerhalb des Substrats innerhalb eines spezifizierten Einfangbereiches eines Feinjustiersystems liegen. Danach wird in einem anschließenden Feinjustierungsschritt die tatsächliche Justierung des Substrats oder Teile davon, wenn eine Justierung für jeden Chip erforderlich ist, ausgeführt. Während der zweistufigen Justierung wird das Substrat auf einer Substrathalterung angeordnet und anschließend mittels beispielsweise einer zweidimensionalen linearen Bewegung und einer Drehung in einer Ebene, die durch die zweidimensionale lineare Bewegung definiert ist, in Bezug auf anlagespezifische Justiermarken ausgerichtet. Die Genauigkeit der Justierung hängt u. a. davon ab, wie das ankommende Substrat auf der Substrathalterung angeordnet wird. Dieser Vorgang kann eine ausreichende Genauigkeit liefern, wenn der Vorjustierungsprozess in der Lage ist, das Substrat mit einem ausreichenden Maß an Genauigkeit so zu positionieren, dass die nachfolgenden Feinjustierroutinen die letztlich erforderliche Genauigkeit erreichen können. Wenn daher die Vorjustierung zu einem Justierergebnis führt, das nicht innerhalb eines spezifizierten Prozess-"fensters" liegt, kann ein Prozessabbruch die Folge sein, da das Feinjustierungsverfahren nicht in der Lage ist, die Justiermarken auf dem Substrat zu ermitteln, wodurch der Durchsatz der Lithographieanlage merklich verringert wird. In anderen Fällen kann eine ungeeignete Vorjustierung zu deutlichen Justierfehlern aufgrund einer gewissen "Periodizität" der Feinjustierungsprozedur führen, die zwar zu einer präzisen Orientierung führt, jedoch eine merkliche lineare Verschiebung entsprechend der Periodizität aufweist. Folglich ist ein erneutes Bearbeiten des Substrats erforderlich, wenn der Justierfehler durch Inspektion detektiert wird, oder es kann ein Fehler in nachfolgenden Prozessen auftreten, wenn die Fehljustierung unerkannt bleibt. In jedem Falle ist der Durchsatz der Lithographieanlage deutlich beeinträchtigt.

Der Vorjustierungsvorgang kann auf der Grundlage von anlagespezifischen Konstanten, etwa von Offset-Werten für den Anlagenfokus, grundlegenden Einstellungen für Sensor- und Aktuatorelemente und dergleichen erfolgen. Diese Konstante können während eines Qualifizierungsvorganges bestimmt werden, wobei möglicherweise eine spezifische Art von Substraten Berücksichtigung findet, die eine oder mehrere spezielle Prozesssequenzen durchlaufen haben. Eine Parameterverschiebung der Anlage und/oder Schwankungen auf dem Substrat können jedoch zu deutlichen Schwankungen in der Justierprozedur führen und damit die oben erläuterten Nachteile nach sich ziehen.

Angesichts dieser Situation, ist es eine Aufgabe, eine Technik zum Justieren von Substraten auf der Grundlage von justieranlagenspezifischen und substratspezifischen Parametern bereitzustellen, wobei eine Parameterverschiebung kompensiert wird oder zumindest deutlich verringert wird.

ÜBERBLICK ÜBER DIE ERFINDUNG

Im Allgemeinen richtet sich die vorliegende Erfindung an eine Technik, in der mindestens eine Anlagekonstante, die für den Justiervorgang relevant ist, während der Bearbeitung eines Stapels von Substraten auf der Grundlage mindestens eines zuvor verwendeten Wertes der Anlagenkonstante aktualisiert wird, um dadurch anlagenbezogene Parameterverschiebungen zu kompensieren. Ferner kann zumindest eine substratspezifische Eigenschaft berücksichtigt werden, um dadurch ebenso substratspezifische Parameterverschiebungen zu reduzieren.

Gemäß einer anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst ein Verfahren zum Justieren eines Substrates das Ermitteln erster Positionsdaten, die eine Position eines ersten Substrates mit einer vordefinierten Eigenschaft nach einem Justiervorgang des ersten Substrats kennzeichnen. Danach wird ein Sollwert zum Justieren eines zweiten Substrats auf der Grundlage der ersten Positionsdaten und der vordefinierten Eigenschaft bestimmt. Schließlich wird das zweite Substrat auf der Grundlage des bestimmten Sollwertes justiert.

Gemäß einer weiteren anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst ein Verfahren zum Justieren eines Substrats das Bestimmen eines Eingabewertes einer ersten Variablen, die eine Bewegung eines ersten Substrats mit einer vordefinierten Eigenschaft während eines Justiervorganges des ersten Substrats kennzeichnet. Es wird ein Sollwert für eine zweite Variable auf der Grundlage der ersten Variable und der vorbestimmten Eigenschaft bestimmt, wobei die zweite Variable eine Bewegung des zweiten Substrats während einer Anfangsphase des Justierens des zweiten Substrats kennzeichnet. Schließlich wird das zweite Substrat auf der Grundlage des bestimmten Sollwerts justiert.

Gemäß einer noch weiteren anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst ein automatisches Justiersystem eine Substrathalterung, die ausgebildet ist, ein Substrat aufzunehmen und in Position zu halten, und eine Antriebsanordnung, die mechanisch mit der Substrathalterung gekoppelt und so ausgebildet ist, um eine Bewegung der Substrathalterung in Reaktion auf ein Steuersignal zu bewirken. Das Justiersystem umfasst ferner eine Steuereinheit, die ausgebildet ist, das Steuersignal für die Antriebsanordnung bereitzustellen. Die Steuereinheit ist ferner ausgebildet, das Steuersignal auf der Grundlage einer vordefinierten Eigenschaft eines zu justierenden Substrats und von Positionsdaten, die von einem oder mehreren Substraten ermittelt wurden, die zuvor mittels der Justieranlage justiert wurden, zu erzeugen.

Weitere Vorteile, Aufgaben und Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung sind in den angefügten Patentansprüchen definiert und gehen deutlicher aus der folgenden Beschreibung hervor, wenn diese mit Bezug zu der begleitenden Zeichnungen studiert wird; es zeigt:
1 schematisch ein Messsystem, das ausgebildet ist, eine Messung hinsichtlich der Überlagerungsgenauigkeit in Übereinstimmung mit einer anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung auszuführen.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Obwohl die vorliegende Erfindung mit Bezug zu den Ausführungsformen beschrieben ist, wie sie in der folgenden detaillierten Beschreibung sowie in den Zeichnungen dargestellt sind, sollte es selbstverständlich sein, dass die folgende detaillierte Beschreibung sowie die Zeichnungen nicht beabsichtigen, die vorliegende Erfindung auf die speziellen offenbarten anschaulichen Ausführungsformen einzuschränken, sondern die beschriebenen anschaulichen Ausführungsformen stellen lediglich beispielhaft die diversen Aspekte der vorliegenden Erfindung dar, deren Schutzbereich durch die angefügten Patentansprüche definiert ist.
In den folgenden anschaulichen Ausführungsformen ist die vorliegende Erfindung im speziellen Zusammenhang mit einer Photolithographieanlage, etwa einer Stepperanlage offenbart, da die vorliegende Erfindung besonders vorteilhaft in Lithographieprozessen anwendbar ist, um deutlich die Anlageneffizienz auf Grund einer verbesserten Justiertechnik zu erhöhen. Die vorliegende Erfindung kann jedoch ebenso auf andere Anlagen angewendet werden, die während der Produktion und/oder Inspektion von Substraten verwendet werden. Beispielsweise werden in einigen Messanlagen, etwa Rasterelektronenmikroskopen, Streumessern und dergleichen wertvolle und sensible Messdaten ermittelt, wobei die Forderung nach einer hohen Anlagenauslastung hoch automatisierte Prozesse für das Substrateinladen und Justieren erzwingt. Somit kann die Geschwindigkeit und die Effizienz des Justiervorganges deutlich den Durchsatz dieser Anlagen verbessern und damit eine verbesserte Prozesssteuerung auf Grund einer erhöhten Anzahl an Messungen pro Zeiteinheit herbeiführen.
Mit Bezug zu 1 werden nun weitere anschauliche Ausführungsformen beschrieben.
1 liefert eine schematische perspektivische Ansicht einer Photolithographieanlage 100. Die Photolithographieanlage 100 umfasst ein optisches System 101, das ausgebildet ist, einen Lichtstrahl 102 mit spezifizierten Eigenschaften, die zur Abbildung eines Musters auf ein Substrat erforderlich sind, bereitzustellen. Das optische System 101 kann eine geeignete Lichtquelle (nicht gezeigt), eine große Anzahl komplexer optischer Komponenten, etwa Linsen und Spiegel aufweisen, um einen Strahlengang für den Lichtstrahl 102 zu definieren. Typischerweise liegt eine Wellenlänge des verwendeten Lichts im tiefen Ultraviolettbereich, beispielsweise bei 248 nm. In zukünftigen Anlagengenerationen können jedoch noch kürzere Wellenlängen Verwendung finden, wobei die optischen Komponenten entsprechend auf diese kürzeren Wellenlängen angepasst werden, indem beispielsweise brechende Komponenten durch reflektierende Komponenten ersetzt werden. Eine Substrathalterung 103 ist mechanisch mit einer Antriebsanordnung 104 verbunden, die in dem vorliegenden Beispiel so ausgebildet ist, um eine Translationsbewegung in zwei senkrechten Richtungen, wie dies durch das Bezugszeichen 105 angedeutet ist, auszuführen, und um eine Drehung, die durch 106 gekennzeichnet ist, in einer Ebene auszuführen, die durch die beiden linearen Bewegungen 105 definiert ist. In anderen Ausführungsformen kann jedoch eine beliebige Anzahl an Freiheitsgraden durch die Antriebsanordnung 104 bereitgestellt werden. Beispielsweise kann eine dreidimensionale Translationsbewegung und/oder Dreh- oder Neigungsbewegungen in zwei oder mehr unterschiedlichen Ebenen bereitgestellt werden, wie dies für eine präzise Justierung eines Substrats 107, das auf der Substrathalterung 103 angeordnet ist, erforderlich sein kann.
Ein Retikel 108 ist in dem Strahlengang des Lichtstrahls 102 angeordnet ist, enthält eine Justiermarke 109, die ein anlageninternes Koordinatensystem repräsentiert, in Bezug zu welchem das Substrat 107 oder Teile davon zu justieren sind. Der Einfachheit halber sind Einrichtungen, die zum Handhaben und Halten des Retikels 108 erforderlich sind, nicht gezeigt. In anderen Anlagen als der Photolithographieanlage 100, beispielsweise in einer Messanlage, kann das anlageninterne Koordinatensystem durch eine beliebige andere Justiermarke repräsentiert sein, die das Positionieren des Substrats 107 in Bezug zu der Anlage ermöglicht.
Wie gezeigt kann das Substrat 107 mindestens einen Bereich 110 aufweisen, der eine darin gebildete Justiermarke 111 besitzt, die im Wesentlichen der Justiermarke 109 entspricht. In dem gezeigten Beispiel sind die Justiermarken 109 und 111 von einfacher Ausbildung, wobei in anderen Ausführungsformen die Justiermarken 109 und 111 eine beliebige mehr oder minder komplexe Struktur aufweisen können, die ein Justieren innerhalb eines vordefinierten Toleranzbereiches ermöglicht. Für gewöhnlich besitzt die Justiermarke 111 Abmessungen und eine innere Struktur sowie optische Eigenschaften, die mit den Schaltungsmustern in Beziehung stehen, die von dem Retikel 108 zu dem Substratbereich 110 zu übertragen sind, und zu den Prozesssequenzen, die während der Herstellung der Schicht oder Schichten mit dem Bereich 110 durchgeführt werden, in Beziehung stehen. Somit kann die Fähigkeit einer automatisierten Justierprozedur von diesen Eigenschaften abhängen. Ferner können die Struktur, die Abmessungen und die Eigenschaften der Justiermarke 111 ebenso einen sogenannten Einfangbereich eines Feinjustiersystems beeinflussen, das aus Teilen des optischen Systems 101, der Antriebsanordnung 104 und einer Steuereinheit 112, die funktionsmäßig mit der Antriebsanordnung 104 und möglicherweise mit anderen Komponenten der Anlage 100 verbunden ist, aufgebaut sein kann. In anderen Ausführungsformen kann das Feinjustiersystem separate und/oder zusätzliche Komponenten (nicht gezeigt) aufweisen. Die Steuereinheit 112 kann ferner so ausgebildet sein, um die Anlage 100 und insbesondere die Antriebsanordnung 104 auf der Grundlage von Positionierdaten, die während des Justierens eines oder mehrerer zuvor prozessierter Substrate verwendet wurden, und auf der Grundlage einer oder mehrerer Substrateigenschaften zu betreiben, wie dies detaillierter im Weiteren beschrieben ist.
Während des Betriebs wird das Substrat 107 auf die Substrathalterung 103 mittels einer entsprechenden Substrathantierungseinrichtung (nicht gezeigt) eingeladen, wobei die Position und die Orientierung des Substrats 107 in Bezug auf die Substrathalterung 103 von diversen Parametern, etwa der Position des Substrats 107 relativ zu einer Kassette, dem Schlitz, in welchem das Substrat 107 innerhalb der Kassette angeordnet ist, Toleranzen, die während des Substratbeladens hervorgerufen werden und dergleichen abhängen kann. Auf Grund der begrenzten Fähigkeit zum feinen Justieren des Substrats 107, d. h. zum Justieren der Justiermarke 111 relativ zu der Justiermarke 109, muss das Substrat 107 innerhalb spezifizierter Toleranzen, die auch als Vorjustierfenster bezeichnet werden, in der Substrathalterung 103 positioniert werden. Folglich wird ein Vorjustierungsvorgang ausgeführt, um das Substrat 107 grob zu justieren, indem Vorjustierungseigenschaften des Substrats 107, etwa eine auf dem Substratrand ausgebildete Einkerbung oder andere Marken, beispielsweise eine Scheibenabflachung, die vorzugsweise an Randbereichen des Substrats 107 ausgebildet sind, verwendet werden, die in einfacher Weise von dem optischen System 101 oder anderen optischen oder mechanischen Sensorelementen (nicht gezeigt), die mit der Steuereinheit 112 in Verbindung stehen, identifiziert werden können.
In einem herkömmlichen Gerät bestimmt typischerweise die Steuereinheit 112 die translatorische Bewegung 105 der Substrathalterung 103 und/oder die Drehung 106 während der Grobjustierung auf der Grundlage festgelegter Sollwerte. Die Steuereinheit 112 ist jedoch so ausgebildet, um einen oder mehrere Sollwerte durch die Bewegungen der Vorjustierung regelmäßig zu aktualisieren. Wie zuvor erläutert ist, werden die Sollwerte konventioneller Weise durch Qualifizierungsprozeduren bestimmt, wodurch anlagenspezifische Konstanten, etwa elektrische und/oder mechanische Schwankungen von Aktuatoren, Sensorelementen, optischen Elementen und dergleichen justiert werden. In technisch anspruchsvollen integrierten Schaltungen sind jedoch minimale Überlagerungsfehler von einigen wenigen Nanometern erforderlich. Selbst geringe Anlagenschwankungen können daher zu einer erhöhten Vorjustierungsungenauigkeit führen, die dann eine zufriedenstellende Feinjustierung, wie dies zur Erfüllung der Prozessspezifikationen erforderlich ist, möglicherweise nicht zulassen. Daher werden der bzw. die Sollwerte für die Bewegungen während des Vorjustierens aktualisiert, indem von der Tatsache Gebrauch gemacht wird, dass nach einer erfolgreichen Justierung eines oder mehrerer zuvor feinjustierter Substrate gewonnene Positionsdaten verwendet werden können, um den bzw. die Sollwerte für den Vorjustierungsprozess erneut zu definieren.
In einer Ausführungsform wird für jeden für die Vorjustierung verwendeten Sollwert ein entsprechender Zielwert ermittelt, wobei der Zielwert auch eine oder mehrere substratspezifische Eigenschaften, etwa die Art des Substrats, die Art der Prozesssequenz, die während der Herstellung der Justiermarke 111 ausgeführt wird, die Art des verwendeten Retikels, und dergleichen beinhaltet. Zum Beispiel kann eine gewisse Art von Justiermarken 111, die in oder auf einer spezifizierten Materialschicht gebildet sind, einen eingeschränkteren Bereich an Bewegungen während der Vorjustierung erfordern, um eine erfolgreiche Feinjustierung zu gewährleisten im Vergleich zu anderen Substratebenen, die Justiermarken hervorbringen, welche einen erhöhten Kontrast liefern und damit eine erhöhte Wahrscheinlichkeit des korrekten Erkennens der Justiermarken liefern. Somit können die Zielwerte die gewünschten Werte für eine geeignetes Vorjustierungsfenster in Bezug auf eine gegebene Substrateigenschaften repräsentieren.
Ohne die vorliegende Erfindung auf eine spezielle Art und eine spezielle Anzahl von Freiheitsgraden einschränken zu wollen, sofern dies nicht anderweitig explizit in den angefügten Patentansprüchen ausgeführt ist, werden die Bewegungen, die während der Justierung des Substrats 107 durchgeführt werden, als X- und Y-Bewegungen für die beiden orthogonalen linearen Bewegung 105 und als R für die Drehbewegung 106 bezeichnet. Die Sollwerte für die Vorjustierungsbewegungen in diesen Richtungen können als X, Y, R bezeichnet werden, wobei ein Index "first" für einen Vorjustierungssollwert eines zuvor prozessierten Substrats und ein Index "second" für den Sollwert der Vorjustierungsbewegungen für das Substrat 107, das zu justieren ist, verwendet werden kann. Die Werte für die Ziel- bzw. Targetwerte können durch X_t,k, Y_t,k und R_t,k bezeichnet werden, wobei der Index k sich auf die substratspezifische Eigenschaft bezieht und die Schicht einschließlich der Justierungsmarke 111 und die auf/oder mittels der Justiermarke 109 in dem Retikel 108 zu bildende Schicht repräsentieren kann. Es gilt also:
X_first, Y_first, R_first repräsentieren die Sollwerte für die Vorjustiening eines vorhergehenden ersten Substrates,
X_second, Y_second, R_second repräsentieren aktualisierte Sollwerte für die Vorjustierung des Substrats 107, d. h., des zweiten Substrates und
X_t,k Y_t,k, R_t,k repräsentieren die Zielwerte, die eine Vorjustierung innerhalb des Einfangbereichs der Feinjustierung sicherstellen, wobei die Substrateigenschaften berücksichtigt sind.
In einer Ausführungsform werden die aktualisierten Sollwerte durch Verwendung der Positionsdaten des bzw. der ersten (vorhergehenden) Substrats bzw. Substraten als "Mess"-Daten oder Eingangsdaten bestimmt, wobei von dem ersten Substrat angenommen wird, dass dieses durch den in der Steuereinheit 112 implementierten Feinjustieralgorithmus geeignet justiert wurde. In einigen Ausführungsformen können die Eingangsdaten aus einer Vielzahl erster Substrate ermittelt werden, beispielsweise von einem zuvor prozessierten Los, durch geeignete Durchschnittsbildung der Daten oder durch Auswählen entsprechender Eingangswerte in Übereinstimmung mit gewissen Auswahlkriterien, die einen geeigneten Kandidaten spezifizieren. Beispielsweise können Werte, die eine deutliche Abweichung von der Mehrheit der Daten aufweisen, ignoriert werden, wodurch die Wahrscheinlichkeit minimal bleibt, Daten von unkorrekt justierten Substraten mit einzuschließen. Es können jedoch beliebige andere geeignete Auswahlkriterien angewendet werden, wenn eine Vielzahl erster Substrate verwendet wird. Die Positionsdaten für das eine oder die mehreren ersten Substrate können als x_first, y_first, r_first bezeichnet werden, wobei zu berücksichtigen ist, dass diese Positionsdaten sich auf die Substrateigenschaft k beziehen, die der Einfachheit halber in den Positionsdaten nicht mit einem Index belegt ist.
Zum Bestimmen der aktualisierten Sollwerte X_second, Y_second, R_second für das korrekte Vorjustieren des (zweiten) Substrats 107 kann eine Beziehung erstellt werden, die die Eingangsdaten x_first, y_first, r_first zu den aktualisierten Sollwerten X_second, Y_second, R_second und den zuvor verwendeten Sollwerten X_first, Y_first, R_first so in Beziehung setzen, dass eine Abweichung der Eingangsdaten X_first, Y_first, R_first, die eine anlagen- und/oder substratsspezifische Variation kennzeichnet, kompensiert werden kann, indem die Sollwerte X_first, Y_first, R_first, erneut definiert werden, um die aktualisierten Sollwerte X_second, Y_second, R_second zu erhalten, die der Parameterverschiebung Rechnung tragen. Eine entsprechende Beziehung kann experimentell erstellt werden, beispielsweise durch Überwachen der Justiergenauigkeit für eine große Anzahl von Substraten und Analysieren der entsprechenden Daten, um eine Korrelation zwischen den Eingangsdaten und den Sollwerten für die Vorjustierung zu ermitteln.
In einer speziellen Ausführungsform wird ein Modell angewendet, um eine Relation zwischen den Eingangsdaten x_first, y_first, r_first und den aktualisierten Sollwerten X_second, Y_second, R_second zu ermitteln, die für das Vorjustieren des Substrats 107 verwendet werden. In einer anschaulichen Ausführungsform kann ein lineares Modell angewendet werden, wobei die einzelnen Bewegungen entsprechend den einzelnen Freiheitsgraden nicht gemischt sind. Eine entsprechende Beziehung in einem linearen Modell kann die folgende Form annehmen: xsecond = xfirst + a(Xsecond – Xfirst) ysecond = yfirst + b(Ysecond – Yfirst) rsecond = rfirst + c(Rsecond – Rfirst)
Wobei x_second, X_second, r_second die Positionsdaten für das Justieren des (zweiten) Substrats 107 bezeichnen. Die Parameter a, b und c können Empfindlichkeitsparameter zum quantitativen Beschreiben der "Wirkung" einer Änderung im Sollwert auf den Justiervorgang beschreiben. Beispielsweise können die Parameter a, b und c zu eins gewählt werden. In anderen Ausführungsformen kann einer oder mehrere der Empfindlichkeitsparameter kleiner als 1 sein, um die Wirkung der Vorjustierung auf dem gesamten Justiervorgang zu "dämpfen", wohingegen in anderen Variationen einer oder mehrere Empfindlichkeitsparameter größer als 1 sein können, um den Einfluss des Vorjustierungsprozesses zu verstärken.
Um die aktualisierten Sollwerte X_second, Y_second, R_second zu bestimmen, können fiktive optimale Sollwerte für das erste Substrat, die als X*, Y* und R* bezeichnet werden, berechnet werden, indem die gewünschten Werte X_t,k Y_t,k und R_t,k für die Vorjustierungssollwerte gemäß dem obigen spezifizierten Modell angewendet werden. Somit kann das Lösen der folgenden Gleichung: Xt,k = xfirst + a(X* – Xfirst) Yt,k = yfirst + b(Y* – Yfirst) Rt,k = rfirst + c(R* – Rfirst)die optimalen Einstellungen für die Vorjustierungsvorgang des ersten (vorhergehenden) Substrats ergeben. Aus den obigen fiktiven optimalen Sollwerten X*, Y* und R* des ersten Substrats können entsprechende Abschätzungen für die Sollwerte für die Vorjustierung des Substrats 107 vorhergesagt werden, indem eine Beziehung zwischen Sollwerten X_first, Y_first, R_first, die beim Justieren des Substrats tatsächlich verwendet wurden, und den berechneten fiktiven optimalen Sollwerten X*, Y* und R* einerseits und dem Verhalten des Vorjustierungsprozesses für das Substrat 107, d. h. die Sollwerte X_second, Y_second, R_second, andererseits angenommen werden. Gemäß einer anschaulichen Ausführungsform kann eine exponentiell gewichtete gleitende Durchschnittsbildung (EWMA) angewendet werden, um abgeschätzte Sollwerte für das Substrat 107 zu erhalten, die als X^– _second, Y^– _second, R^– _second bezeichnet sind, wobei die Gewichtungsfaktoren im Voraus beispielsweise durch Experiment oder einfach durch Auswählen auf der Grundlage von Erfahrungswerten bestimmt werden können. Die abgeschätzten Sollwerte können aus der folgenden Gleichung ermittelt werden: X– second = λX* + (1 – λ)Xfirst Y– second = μY* + (1 – μ)Yfirst R– second = νR* + (1 – ν)Rfirst
Wobei die Koeffizienten λ, μ und ν die Gewichtungsfaktoren repräsentieren, die Werte im Bereich von 0 ... 1 annehmen, wodurch der Anteil des Einflusses auf die zuvor tatsächlich verwendeten Sollwerte X_first, Y_first, R_first in Hinblick auf die berechneten optimalen Sollwerte X^– _second, Y^– _second, R^– _second bestimmt wird. Die Koeffizienten λ, μ und ν beeinflussen daher ebenso die "Geschwindigkeit", mit der der Vorjustierungsvorgang für das Substrat 107 auf eine Abweichung der tatsächlichen Sollwerte von den Sollwerten, die für das Vorjustieren des ersten Substrates optimal gewesen wären, "reagiert". Beispielsweise würde ein Wert λ = 1 eine unmittelbare Reaktion auf eine Abweichung des tatsächlichen Sollwertes auf dem optimalen Sollwert bewirken, ohne die "Geschichte" vorhergehender Justiervorgänge zu berücksichtigen, die durch den tatsächlich verwendeten Sollwert Xfirst repräsentiert ist. Daher kann es in einigen Ausführungsformen vorteilhaft sein, die Koeffizienten im Bereich von ungefähr 0.1 bis 0.9, und in anderen Ausführungsformen aus 0.3 bis 0.8 zu wählen. In noch anderen Ausführungsformen kann der gleiche Wert für alle Koeffizienten λ, μ und ν gewählt werden. Dies kann als geeignete Maßnahme betrachtet werden, wenn die Bewegungen für das Justieren der Substrate, die in den obigen Ausführungsformen durch x, y und r repräsentiert sind, sehr ähnlich sind, d. h., dass diese physikalisch ähnlich und/oder durch ähnliche mechanische und elektronische Komponenten bewirkt werden. Beispielsweise sind die X-Bewegung und die Y-Bewegung im Wesentlichen identisch, so dass ein gemeinsamer Koeffizient λ geeignet sein kann, wohingegen die Drehung R unterschiedlich ausgebildete Aktuatoren, Sensoren und dergleichen betreffen kann, wodurch möglicherweise verbesserte Steuerungsergebnisse erhalten werden, wenn der Koeffizient ν unabhängig von einem oder mehreren der anderen Koeffizienten gewählt wird. in diesem Zusammenhang sollte beachtet werden, dass die Darstellungen der unterschiedlichen Bewegungen, etwa als x, y und r in geeignet normierter Weise erfolgen muss, so dass identische Werte für die Koeffizienten für die diversen Repräsentanten verwendet werden können. Wenn es beispielsweise als günstig erachtet wird, den gleichen Koeffizienten für x, y und r anzuwenden, kann die Variable r in eine geeignete Darstellung umgewandelt werden, d. h. in den tatsächlich verwendeten numerischen Wert, der mit den Repräsentationen für die x- und y-Variablen übereinstimmt. D. h., die x- und y-Variablen können tatsächlich durch Dimensionsgrößen in Bezug auf absolute Längengrößen, etwa Nanometer, Angstrom und dergleichen repräsentiert sein, oder diese können durch anlageninterne Einheiten oder durch andere Anlagenparameter, etwa Strom- und/oder Spannungswerte entsprechender Aktuatorelemente und dergleichen dargestellt sein. Um entsprechend "normierte" Rotationsdaten r bereitzustellen, kann die r-Darstellung, d. h. der tatsächliche Zahlenwert der Drehung, so gewählt werden, um eine ähnliche Wirkung der Drehung R an der Position der Justiermarke 111 im Vergleich zu einer Translation (x, y) zu erhalten, wenn ein ähnlicher Wert für die x, y und r-Darstellungen verwendet wird.
In einer speziellen Ausführungsform werden die abgeschätzten Sollwerte X^– _second, Y^– _second, R^– _second für die Vorjustierung des Substrats 107 nicht direkt verwendet, sondern stattdessen benutzt, um die Sollwerte X_second, Y_second, R_second zu berechnen, die dann tatsächlich der Steuereinheit 112 zugeführt werden, um den Justiervorgang auszuführen. Auf diese Weise wird ein glattes Verhalten des Steuervorgangs erreicht, indem die Entwicklung vorhergehender Justierverfahren berücksichtigt wird. Beispielsweise können die Sollwerte X_second, Y_second, R_second so berechnet werden, dass jeder dieser Sollwerte um den entsprechenden abgeschätzten Sollwert X^– _second, Y^– _second, R^– _second herum angeordnet ist, wobei die Abweichung von den zuvor benutzten Sollwerten X_first, Y_first, R_first berücksichtigt wird, indem beispielsweise diese Abweichung minimiert wird. In einer Ausführungsform kann eine entsprechende Bestimmung der letztlich verwendeten Sollwerte X_second, Y_second, R_second erhalten werden, indem ein Ansatz zur Minimierung der kleinsten Quadrate verwendet wird, der in der Form geschrieben werden kann: min{u(X– second – Xsecond)2 + v(X– second)2 + w(X– second – Xfirst)2} min{u(Y– second – Ysecond)2 + v(Y– second)2 + w(Y– second – Yfirst)2} min{u(R– second – Rsecond)2 + v(R– second)2 + w(R– second – Rfirst)2}
Wobei die Aufgaben für X_second, Y_second, R_second gelöst werden, indem die X^– _second, Y^– _second, R^– _second variiert werden, um die obigen Ausdrücke zu minimieren. Dazu können die X_second, Y_second, R_second durch gewünschte Werte für die Sollwerte oder durch andere gewünschte Werte ersetzt werden. Das Variieren der abgeschätzten Sollwerte X^– _second, Y^– _second, R^– _second kann beispielsweise erreicht werden, indem die Koeffizienten λ, μ und ν in den zuvor erläuterten EWMA-Ansatz variiert werden. Die Koeffizienten u, v, w, die beim Minimieren der Quadratsummen verwendet werden, können so gewählt werden, um das Steuerverhalten in Hinblick auf die zuvor verwendeten Sollwerte X_first, Y_first, R_first und die abgeschätzten Sollwerte geeignet zu gewichten. Zum Beispiel können die abgeschätzten Sollwerte X_second, Y_second, R_second, so bestimmt werden, dass die Differenz der vorhergehenden Sollwerte und der gewünschten Sollwerte minimiert wird, wobei der Einfluss dieser Differenzen auf die bei der Vorjustierung des Substrats 107 zu verwendenden Sollwerte durch die Koeffizienten u und w gesteuert wird. Es sollte beachtet werden, dass die Koeffizienten u, v und w in den obigen Quadratsummen für die entsprechenden Bewegungen unterschiedlich gewählt werden können.
Es sollte beachtet werden, dass die Positionsdaten x, y, r, die Sollwerte und dergleichen als Variablen bezeichnet werden. Dabei ist hierin beabsichtigt, sofern dies nicht in den Ansprüchen anderweitig dargelegt ist, dass eine einzelne Variable ebenso eine Vielzahl von Größen bezeichnet, etwa unterschiedliche Arten von Bewegungen und dergleichen, die in einer Vektordarstellung präsentiert werden können.
Es sei wieder auf 1 verwiesen; ein Steuerungsvorgang in Übereinstimmung mit einer der obigen Ausführungsformen wird von der Steuereinheit ausgeführt, um ein Steuersignal zu erzeugen, das der Antriebsanordnung 104 zugeleitet wird, um das Substrat 107 in Übereinstimmung mit dem oben ermittelten Vorjustierungssollwerten X_second, Y_second, R_second zu bewegen. Eine Parameterabweichung in der Anlage und/oder dem Substrat 107 im Vergleich zu den Parameterwerten in einem oder mehreren vorhergehenden Vorjustierungsvorgänge kann damit deutlich reduziert werden. Somit wird das Substrat 107 innerhalb des Vorjustierungsfensters positioniert und Justierfehler in der nachfolgenden Feinjustierung werden ebenso verringert. In einer Ausführungsform ist die Steuereinheit 112 so ausgebildet, um mehrere Substrate 107, beispielsweise auf der Basis eines Loses, mit den ermittelten Vorjustierungseinstellungen zu prozessieren, bevor ein neuer Satz an Vorjustierungssollwerten erstellt wird. Die Positionierdaten x_first, y_first, r_first, die nach dem Justieren des Substrats 107 erhalten werden, werden in einem geeigneten Speichermedium (nicht gezeigt), das beispielsweise innerhalb der Steuereinheit vorgesehen ist, gespeichert, und diese können als "Mess-" oder Eingangsdaten für ein oder mehrere Substrate, die anschließend von der Anlage 100 prozessiert werden, verwendet werden. Obwohl diese Eingangsdaten nicht in exakter Weise die physikalische Position des Substrats 107 nach dem Justieren repräsentieren, gibt es eine Korrelation der Positionsdaten und der tatsächlichen Belichtungsposition und daher entspricht eine Genauigkeit der Eingangsdaten im Wesentlichen der Genauigkeit des Feinjustierungsvorganges. Folglich ist die Genauigkeit der Eingangsdaten ausreichend, um relevante Anlagen- und/oder Substratabweichungen hinsichtlich des Vorjustierungsvorganges zu detektieren, die dann in wirksamer Weise durch die oben beschriebenen Prozesse kompensiert werden können. Die zuvor beschriebenen Ausführungsformen können in der Steuereinheit 112 mittels eines Satzes von Instruktionen implementiert werden, die durch eine geeignete Logikschaltung ausgeführt werden, oder die aktualisierten Sollwertdaten, die zuvor für einen spezifizierten Bereich von Eingangsdaten berechnet wurden, werden in einer Datenbank oder einer Bibliothek gespeichert und können von der Steuereinheit 112 auf der Grundlage von Eingangsdaten, die von zuvor prozessierten Substraten ermittelt wurden, ausgelesen werden.
In anderen Ausführungsformen können Schwellwerte für einen oder mehrere Freiheitsgrade festgelegt werden, um die Entwicklung der aktualisierten Sollwerte zu beobachten und eine geeignete Reaktion zu bewirken, wenn ein entsprechender Schwellwert über- bzw. unterschritten wird. Auf diese Weise kann beispielsweise eine systematische Abweichung in der Anlage 100 oder den Substraten 107 erkannt werden und es kann eine Warnung eines unzulässigen Maschinenstatuses an einen Bediener oder an ein übergeordnetes Fabrikmanagementsystem ausgegeben werden. Der Aufbau der Steuereinheit 112 kann auf viele unterschiedliche Weisen realisiert werden einschließlich, ohne einschränkend zu sein, eines Computerprogramms und/oder einer Datenbank, die in einer Steuereinheit einer konventionellen Justieranlage installiert ist, eines separaten Computers, der mit der Anlage 100 mittels einer verdrahteten und/oder drahtlosen Kommunikationsleitung verbunden ist, eines Programmes in dem Fabrikmanagementsystem, und dergleichen.
Es gilt also: Die vorliegende Erfindung stellt eine Technik bereit, in der die Positionsdaten eines oder mehrerer vorjustierter Substrate als "Messdaten" für den Justierprozess eines oder mehrerer folgender Substrate verwendet werden. In speziellen Ausführungsformen werden zusätzliche Eigenschaften, die das Substrat betreffen, etwa die Art des Substrat, die beim Justierprozess beteiligten Schichten, und dergleichen, vorteilhafterweise ausgenutzt, indem beispielsweise entsprechende gewünschte Sollwerte einschließlich einer oder mehrerer dieser Eigenschaften bestimmt werden, um einen entsprechenden Steuerwert für beispielsweise einen Vorjustierungsprozess zu bestimmen. Durch Anordnen der Position nach dem Vorjustieren näher und zuverlässiger im Einfangbereich des Feinjustierungsprozesses kann die Gesamtjustiereffizienz deutlich verbessert werden.
Weitere Modifikationen und Variationen der vorliegenden Erfindung werden für den Fachmann angesichts dieser Beschreibung offenkundig. Daher ist diese Beschreibung als lediglich anschaulich und für die Zwecke gedacht, dem Fachmann die allgemeine Art und Weise des Ausführens der vorliegenden Erfindung zu vermitteln. Selbstverständlich sind die hierin gezeigten und beschriebenen Formen der Erfindung als die gegenwärtig bevorzugten Ausführungsformen aufzufassen.

Claims

Verfahren zum Justieren eines Substrats, wobei das Verfahren umfasst: Erhalten erster Positionsdaten, die eine Position eines ersten Substrates mit einer vordefinierten Eigenschaft nach einem Justiervorgang des ersten Substrats kennzeichnen; Bestimmen eines Sollwertes für das Justieren eines zweiten Substrats auf der Grundlage der ersten Positionsdaten und der vordefinierten Eigenschaft; und Justieren des zweiten Substrats auf der Grundlage des bestimmten Sollwerts.
Das Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Erhalten der ersten Positionsdaten umfasst: Ermitteln eines Eingangswertes einer ersten Variable, die eine Bewegung des ersten Substrats während des Justiervorganges für das erste Substrat kennzeichnet.
Das Verfahren nach Anspruch 1, wobei Bestimmen des Sollwerts des zweiten Substrats umfasst: Bestimmen einer zweiten Variablen, die eine Bewegung des zweiten Substrats während einer Anfangsphase des Justierens des zweiten Substrats kennzeichnet.
Das Verfahren nach Anspruch 1, das ferner Erhalten zweiter Positionsdaten, die eine Bewegung während des Justierens des zweiten Substrats kennzeichnen, umfasst.
Das Verfahren nach Anspruch 2, wobei die erste Variable mindestens eine zweidimensionale Translationsbewegung kennzeichnet.
Das Verfahren nach Anspruch 2, wobei die erste Variable mindestens eine Drehbewegung kennzeichnet.
Das Verfahren nach Anspruch 1, das ferner Bereitstellen eines gewünschten Wertes für den Sollwert umfasst, wobei der gewünschte Sollwert auf der Grundlage der vordefinierten Eigenschaft ausgewählt wird.
Das Verfahren nach Anspruch 7, wobei der Sollwert auf der Grundlage des gewünschten Wertes bestimmt wird.
Das Verfahren nach Anspruch 1, das ferner umfasst: Anwenden eines linearen Modells, das die ersten Positionsdaten und den Sollwert mit den zweiten Positionsdaten des zweiten Substrats und einem vorhergehenden Sollwert, der für Justieren des ersten Substrats verwendet wurde, in Beziehung setzt.
Das Verfahren nach Anspruch 9, wobei die ersten und die zweiten Positionsdaten jeweils mindestens zwei Freiheitsgrade beinhalten und wobei die Beziehung, die durch das lineare Modell vermittelt wird, keine Mischung der mindestens zwei Freiheitsgrade aufweist.
Das Verfahren nach Anspruch 1, das ferner umfasst: Definieren der Eigenschaft zumindest auf der Grundlage einer ersten Schicht, die auf dem ersten und dem zweiten Substrat gebildet ist und eine Justiermarke enthält, und einer zweiten Schicht, die auf dem zweiten Substrat zu bilden ist.
Das Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Positionsdaten aus mehreren ersten Substraten bestimmt werden.
Das Verfahren nach Anspruch 1, wobei mehrere zweite Substrate auf der Grundlage des Sollwertes justiert werden.
Verfahren mit: Erhalten eines Eingabewertes einer ersten Variablen, die eine Bewegung eines ersten Substrats während eines Justiervorganges des ersten Substrats kennzeichnet; Bestimmen eines Sollwertes für eine zweite Variable auf der Grundlage der ersten Variablen, wobei der Sollwert der zweiten Variable eine Bewegung des zweiten Substrats während einer Anfangsphase beim Justieren des zweiten Substrats bestimmt; und Justieren des zweiten Substrats auf der Grundlage des bestimmten Sollwerts.
Das Verfahren nach Anspruch 14, das ferner umfasst: Erhalten eines zweiten Eingabewertes der ersten Variablen des zweiten Substrats, wobei der zweite Eingabewert eine Bewegung während des Justierens des zweiten Substrats kennzeichnet; und Verwenden des zweiten Eingabewertes zum Bestimmen eines Sollwertes für ein drittes Substrat, das zu justieren ist.
Das Verfahren nach Anspruch 14, wobei die erste Variable zumindest eine zweidimensionale Translationsbewegung kennzeichnet.
Das Verfahren nach Anspruch 14, wobei die erste Variable zumindest eine Drehbewegung kennzeichnet.
Das Verfahren nach Anspruch 14, wobei der Sollwert auf der Grundlage einer vordefinierten Eigenschaft des ersten und des zweiten Substrats bestimmt wird.
Das Verfahren nach Anspruch 18, das ferner umfasst: Bereitstellen eines Zielwertes für den Sollwert, wobei der Zielwert auf der Grundlage der vordefinierten Eigenschaft ausgewählt wird.
Das Verfahren nach Anspruch 19, wobei der Sollwert auf der Grundlage des Zielwertes bestimmt wird.
Das Verfahren nach Anspruch 14, das ferner umfasst: Verwenden eines linearen Modells, das den ersten Eingabewert und den Sollwert zu einem zweiten Eingabewert der ersten Variable, die die Bewegung des zweiten Substrats kennzeichnet, und einem vorhergehenden Sollwert, der zum Justieren des ersten Substrats verwendet wurde, in Beziehung setzt.
Das Verfahren nach Anspruch 21, wobei die erste Variable mindestens zwei Freiheitsgrade aufweist und wobei die Beziehung, die durch das lineare Modell vermittelt wird, keine Mischung der mindestens zwei Freiheitsgrade aufweist.
Das Verfahren nach Anspruch 18, das ferner umfasst: Definieren der Eigenschaft zumindest auf der Grundlage einer ersten Schicht, die auf dem ersten und dem zweiten Substrat gebildet ist und eine Justiermarke beinhaltet, und einer zweiten Schicht, die auf dem zweiten Substrat zu bilden ist.
Das Verfahren nach Anspruch 14, wobei der Eingabewert aus mehreren ersten Substraten bestimmt wird.
Das Verfahren nach Anspruch 14, wobei mehrere zweite Substrate auf der Grundlage des Sollwertes justiert werden.
Automatisches Justiersystem mit: einer Substrathalterung, die ausgebildet ist, ein Substrat aufzunehmen und in Position zu halten. einer Antriebsanordnung, die mechanisch mit der Substrathalterung gekoppelt ist und so ausgebildet ist, um eine Bewegung der Substrathalterung in Reaktion auf ein Steuersignal zu bewirken; und einer Steuereinheit, die ausgebildet ist, das Steuersignal für die Antriebsanordnung bereitzustellen und die ferner ausgebildet ist, das Steuersignal auf der Grundlage einer vordefinierten Eigenschaft eines zu justierenden Substrats und von Positionsdaten, die aus einem oder mehreren zuvor mittels der Justieranlage justierten Substraten ermittelt wurden, zu erzeugen.
Photolithographieanlage mit einer automatischen Justieranlage gemäß Anspruch 26.