DE10253125C1 - Feuchtmittelbauteil für eine Druckmaschine - Google Patents
Feuchtmittelbauteil für eine DruckmaschineInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Bauteil für eine Offsetdruckmaschine, das mit dem zum Betrieb der Offsetdruckmaschine vorgesehenen Feuchtmittel in Kontakt bringbar ist. Das Bauteil weist dabei im Kontaktbereich des Feuchtmittels zumindest bereichsweise antimikrobielle Polymere auf.
Description
Die Erfindung betrifft ein Feuchtmittelbauteil für eine Druckmaschine sowie Verwendung
gemäß dem Oberbegriff der Ansprüche 1 und 7.
Ein im Offsetdruck immer stärker zu beachtender Faktor ist das für das
Flachdruckverfahren notwendige Feuchtmittel. Das Feuchtmittel hat die Aufgabe, die
nichtdruckenden Partien der Druckplatte daran zu hindern, Druckfarbe anzunehmen. Aus
diesem Grunde muss die Oberfläche der Druckplatte vor jedem Einwalzen mit Druckfarbe
mithilfe eines Feuchtwerkes in der Offsetdruckmaschine befeuchtet werden. Die Bauteile
dienen insbesondere der Herstellung derartiger Feuchtwerke.
In der Vergangenheit war das Feuchtmittel für den Offsetdrucker Leitungswasser, dem
bestimmte Zusätze, insbesondere geeignete Säuren, zugesetzt wurden, um auf einen
geeigneten PH-Wert zu kommen. Ein weiteres Problem beim Betrieb von Feuchtwerken in
Offsetdruckmaschinen ist die Bildung und Vermehrung von Bakterien, Pilzen und Algen.
Um die Bildung dieser Mikroorganismen zu verringern bzw. gänzlich auszuschließen ist
es bekannt, dem Feuchtmittel chemische Biozide zuzusetzen. Nachteilig an dieser
Methode ist es, dass die entsprechenden Chemikalien erhebliche Kosten verursachen
und zudem bei der Entsorgung aufgrund ihrer giftigen und umweltschädlichen
Eigenschaften problematisch sind. Außerdem kann es auch bei Einsatz derartiger Biozide
bei längeren Stillstandshalten der Offsetdruckmaschine dazu kommen, dass sich
Mikroorganismen, vor allem Algen, stark vermehren und somit das Feuchtmittel
unbrauchbar machen bzw. Probleme im Feuchtmittelkreislauf oder beim Druckvorgang
verursachen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Feuchtmittelbauteil für eine Druckmaschine
zu
schaffen, bei dem die Bildung von Microorganismen reduziert sowie ein entspre
chender Stoff verwendet wird.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale der Ansprüche 1 und 7 gelöst.
Die mit der Erfindung erzielbaren Vorteile bestehen insbesondere darin, dass die
feuchtmittelführenden Bauteile der Druckmaschine, insbesondere einer
Offsetdruckmaschine, im Kontaktbereich des Feuchtmittels zumindest bereichsweise mit
antimikrobiellen Polymeren ausgerüstet. Bei diesen Polymeren handelt es sich um
neuartige Werkstoffe, die aufgrund ihrer Polymerstruktur dauerhaft mikrobizid wirken.
Durch geeignete Auswahl der Polymere kann außerdem erreicht werden, dass die
Polymere von Lösemitteln und physikalischen Beanspruchungen nicht angegriffen werden
und keine Migration von Polymeranteilen auftritt.
Nach einer bevorzugten Ausführungsform werden die antimikrobiellen Polymere aus
aliphatisch ungesättigten Monomeren, die mindestens einfach durch eine sekundäre
Aminogruppe funktionalisiert sind, polymerisiert.
Die Polymere können vorzugsweise einen Kohlenwasserstoffrest von bis zu 50, bevorzugt
bis zu 30, besonders bevorzugt bis zu 22 Kohlenstoffatomen aufweisen. Die Substituenten
der Aminogruppen können aliphatische oder vinylische Kohlenwasserstoffreste wie
Methyl-, Ethyl-, Propyl- oder Acrylreste oder cyclische Kohlenstoffwasserreste wie
substituierte oder unsubstituierte Phenyl- oder Cyclohexylreste mit bis zu 25
Kohlenstoffatomen aufweisen. Weiterhin kann die Aminogruppe durch Keto- oder
Aldehydgruppen wie Acryloyl oder Oxogruppen substituiert sein.
Um eine ausreichende Polymerisationsgeschwindigkeit zu erreichen, sollten die
verwendeten Monomere eine Molmasse von unter 900, bevorzugt unter 550 g/mol
aufweisen.
Die Polymere werden bei der Polymerisation aliphatisch ungesättigte, durch eine
sekundäre Aminogruppe funktionalisierte Monomere der allgemeinen Formel
R1 N R2 H
mit
R1: Verzweigter, unverzweigter oder cyclischer, gesättigter oder ungesättigter Kohlenwasserstoffrest mit bis zu 50 C-Atomen, die durch O-, N- oder S-Atome substituiert sein können und
R2: Verzweigter, unverzweigter oder cyclischer, gesättigter oder ungesättigter Kohlenwasserstoffrest mit bis zu 25 C-Atomen, die durch O-, N- oder S-Atome substituiert sein können,
eingesetzt.
R1: Verzweigter, unverzweigter oder cyclischer, gesättigter oder ungesättigter Kohlenwasserstoffrest mit bis zu 50 C-Atomen, die durch O-, N- oder S-Atome substituiert sein können und
R2: Verzweigter, unverzweigter oder cyclischer, gesättigter oder ungesättigter Kohlenwasserstoffrest mit bis zu 25 C-Atomen, die durch O-, N- oder S-Atome substituiert sein können,
eingesetzt.
Bei der Herstellung von Bauteilen können auch Polymere verwendet werden, die durch
Polymerisation der mindestens einfach durch eine sekundäre Aminogruppe
funktionalisierten Monomere auf einem Substrat erhalten werden. Es wird eine
Beschichtung aus dem antimikrobiellen Copolymer auf dem Substrat erhalten.
Als Polymer können Polyamide, Polyurethane, Polyetherblockamide, Polyesteramide,
Polyesterimide, PVC, Polyolefine, Silikone, Polysiloxane, Polymethacrylate und/oder
Polyterephthalate eingesetzt werden.
Polymer werden auch als wasserunlösliche Polymere von antimikrobiellen Oligomeren
eingesetzt.
Als Substratmaterialien eignen sich vor allem alle polymeren Kunststoffe, wie z. B.
Polyurethane, Polyamide, Polyester und -ether, Polyetherblockamide, Polystyrol,
Polyvinylchlorid, Polycarbonate, Polyorganosiloxane, Polyolefine, Polysulfone,
Polyisopren, Poly-Chloropren, Polytetrafluorethylen (PTFE), entsprechende Copolymere
und Blends sowie natürliche und synthetische Kautschuke, mit oder ohne
strahlungssensitive Gruppen. Die Polymere lassen sich auch auf Oberflächen von
lackierten oder anderweitig mit Kunststoff beschichteten Metall- oder Glaskörpern bzw.
auf alle Metalle, Holz, usw. direkt, z. B. mittels Pulverbeschichten, Lackieren, usw.
aufbringen.
In einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung können die
antimikrobiellen Polymere durch Pfropfpolymerisation eines Substrats mit einem
mindestens einfach durch eine sekundäre Aminogruppe funktionalisierten, aliphatisch
ungesättigten Monomeren erhalten werden. Die Pfropfung des Substrats ermöglicht eine
kovalente Anbindung des antimikrobiellen Polymers an das Substrat. Als Substrat können
alle polymeren Materialien, wie die bereits genannten Kunststoffe eingesetzt werden.
Die Oberflächen der Substrate können vor der Pfropfcopolymerisation nach einer Reihe
von Methoden aktiviert werden. Hier können alle Standardmethoden zur Aktivierung von
polymeren Oberflächen zum Einsatz kommen. Beispielsweise ist die Aktivierung des
Substrats vor der Pfropfpolymerisation durch UV-Strahlung, Plasmabehandlung,
Koronabehandlung, Beflammung, Ozonisierung, elektrische Entladung der
Gammastrahlung oder ähnliche Methoden geeignet. Zweckmäßig werden die Oberflächen
zuvor in bekannter Weise mittels eine Lösemittels von Ölen, Fetten oder anderen
Verunreinigungen befreit.
Die Aktivierung der Substrate kann durch UV-Strahlung im Wellenlängenbereich 170 bis
400 nm, bevorzugt 170 bis 250 nm erfolgen. Eine geeignete Strahlenquelle ist z. B. ein
UV-Excimer-Gerät HERAEUS Noblelight, Hanau, Deutschland. Aber auch
Quecksilberdampflampen eigenen sich zur Substrataktivierung, sofern sie erhebliche
Strahlungsanteile in den genannten Bereichen emittieren. Die Expositionszeit beträgt im
allgemeinen 0,1 Sekunden bis 20 Minuten, vorzugsweise 1 Sekunde bis 10 Minuten.
Die Aktivierung der Standardpolymeren mit UV-Strahlung kann weiterhin mit einem
zusätzlichen Photosensibilisator erfolgen. Hierzu wird der Photosensibilisator, wie z. B.
Benzophenon, auf die Substratoberfläche aufgebracht und bestrahlt. Dies kann ebenfalls
mit einer Quecksilberdampflampe mit Expositionszeit von 0,1 Sekunden bis 20 Minuten,
vorzugsweise 1 Sekunde bis 10 Minuten, erfolgen.
Die Aktivierung kann auch durch Plasmabehandlung mittels eines RF- oder
Mikrowellenplasmas (Hexagon, Fa. Technics Plasma, 85551 Kirchheim, Deutschland) in
Luft, Stickstoff- oder Argon-Atmosphäre erreicht werden. Die Expositionszeiten betragen
im allgemeinen 2 Sekunden bis 30 Minuten, vorzugsweise 5 Sekunden bis 10 Minuten.
Der Energieeintrag liegt bei Laborgeräten zwischen 100 und 500 W, vorzugsweise
zwischen 200 und 300 W.
Weiterhin lassen sich auch Corona-Geräte (Fa. SOFTAL, Hamburg, Deutschland) zur
Aktivierung verwenden. Die Expositionszeiten betragen in diesem Falle in der Regel 1 bis
10 Minuten, vorzugsweise 1 bis 60 Sekunden.
Die Aktivierung durch elektrische Entladung, Elektronen- oder Gammastrahlen (z. B. aus
einer Kobalt-60-Quelle) sowie die Ozonisierung ermöglicht kurze Expositionszeiten, die im
allgemeinen 0,1 bis 60 Sekunden betragen.
Eine Beflammung von Substrat-Oberflächen führt ebenfalls zu deren Aktivierung.
Geeignete Geräte, insbesondere solche mit einer Barriere-Flammfront, lassen sich auf
einfache Weise bauen oder beispielsweise von der Firma ARCOTEC, 71297 Mönsheim,
Deutschland beziehen. Sie können mit Kohlenwasserstoffen oder Wasserstoff als
Brenngas betrieben werden. In jedem Fall muss eine schädliche Überhitzung des
Substrats vermieden werden, was durch innigen Kontakt mit einer gekühlten Metallfläche
auf der von der Beflammungsseite abgewandten Substratoberfläche leicht erreicht wird.
Die Aktivierung durch Beflammung ist dementsprechend auf verhältnismäßig dünne,
flächige Substrate beschränkt. Die Expositionszeiten belaufen sich im allgemeinen auf 0,1
Sekunden bis 1 Minute, vorzugsweise 0,5 bis 2 Sekunden, wobei es sich ausnahmslos
um nicht leuchtende Flammen handelt und die Abstände der Substratoberflächen zur
äußeren Flammfront 0,2 bis 5 cm, vorzugsweise 0,5 bis 2 cm betragen.
Die so aktivierten Substratoberflächen werden nach bekannten Methoden, wie Tauchen,
Sprühen oder Streichen, mit aliphatisch ungesättigten Monomeren, die mindestens
einfach durch eine sekundäre Aminogruppe funktionalisiert sind, gegebenenfalls in
Lösung, beschichtet. Als Lösemittel haben sich Wasser und Wasser-Ethanol-Gemische
bewährt, doch sind auch andere Lösemittel verwendbar, sofern sie ein ausreichendes
Lösevermögen für die Monomeren aufweisen und die Substratoberflächen gut benetzen.
Weitere Lösungsmittel sind beispielsweise Ethanol, Methanol, Methylethylketon,
Diethylether, Dioxan, Hexan, Heptan, Benzol, Toluol, Chloroform, Dichlormethan,
Tetrahydrofuran und Acetonitril. Lösungen mit Monomerengehalten von 1 bis 10 Gew.-
Prozent, beispielsweise mit etwa 5 Gew.-Prozent, haben sich in der Praxis bewährt und
ergeben im allgemeinen in einem Durchgang zusammenhängende, die
Substratoberfläche bedeckende Beschichtungen mit Schichtdicken, die mehr als 0,1 µm
betragen können.
Die Pfropfcopolymerisation der auf die aktivierten Oberflächen aufgebrachten Monomeren
kann zweckmäßig durch Strahlen im kurzwelligen Segment des sichtbaren Bereiches
oder im langwelligen Segment des UV-Bereiches der elektromagnetischen Strahlung
initiiert werden. Gut geeignet ist z. B. die Strahlung eines UV-Excimers der Wellenlängen
250 bis 500 nm, vorzugsweise von 290 bis 320 nm. Auch hier sind
Quecksilberdampflampen geeignet, sofern sie erhebliche Strahlungsanteile in den
genannten Bereichen emittieren. Die Expositionszeiten betragen im allgemeinen 10
Sekunden bis 30 Minuten, vorzugsweise 2 bis 15 Minuten.
Weiterhin lässt sich eine Pfropfcopolymerisation auch durch ein Verfahren erreichen, das
in der europäischen Patentanmeldung EP 08 72 512 A2 beschrieben ist und auf einer
Pfropfpolymerisation von eingequollenen Monomer- und Initiatormolekülen beruht.
Bei der Herstellung der Bauteile mit antimikrobiellen Polymeren können weitere
aliphatische ungesättigte Monomere, neben den durch eine sekundäre Aminogruppe
funktionalisierten Monomeren, verwendet werden. So kann als Monomerenmischung ein
mindestens einfach durch eine sekundäre Aminogruppe funktionalisiertes aliphatisch
ungesättigtes Monomer mit Acrylaten oder Methacrylaten eingesetzt werden.
Die antimikrobielle wirksamen Polymere werden aus mindestens einem Stickstoff oder
Phosphor funktionalisierten Monomeren hergestellt.
Die antimikrobielle wirksamen Polymere werden aus mindestens einem der folgenden
Monomere hergestellt:
Methacrylsäure-2-tert.-butylaminoethylester, Methacrylsäure-2-diethylaminoethylester, Methacrylsäure-2-diethylaminomethylester, Acrylsäure-2-tert.-butylaminoethylester, Acrylsäure-3-dimethylaminopropylester, Acrylsäure-2-diethylaminoethylester, Acrylsäure-2-dimethylaminoethylester, Dimethylaminopropylmethacrylamid, Diethylaminopropylmethacrylamid, Acrylsäure-3-dimethylaminopropylamid, 2-Methacryloyloxyethyltrimethylammoniummethosulfat, Methacrylsäure-2-diethylaminoethylester, 2-Methacryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid, 3-Methycryloylaminopropyltrimethylammonium-chlorid, 2-Methacryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid, 2-Acryloyloxyethyl-4-benzoyldimethylammoniumbromid, 2-Methacryloyloxyethyl-4-benzoyldimethylammoniumbromid, Allyltriphenylphosphoniumbromid, Allyltriphenylphosphoniumchlorid, 2-Acrylamido-2-methyl-1-propansulfonsäure, 2-Diethylaminoethylvinylether, 3-Aminopropylvinylether.
Methacrylsäure-2-tert.-butylaminoethylester, Methacrylsäure-2-diethylaminoethylester, Methacrylsäure-2-diethylaminomethylester, Acrylsäure-2-tert.-butylaminoethylester, Acrylsäure-3-dimethylaminopropylester, Acrylsäure-2-diethylaminoethylester, Acrylsäure-2-dimethylaminoethylester, Dimethylaminopropylmethacrylamid, Diethylaminopropylmethacrylamid, Acrylsäure-3-dimethylaminopropylamid, 2-Methacryloyloxyethyltrimethylammoniummethosulfat, Methacrylsäure-2-diethylaminoethylester, 2-Methacryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid, 3-Methycryloylaminopropyltrimethylammonium-chlorid, 2-Methacryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid, 2-Acryloyloxyethyl-4-benzoyldimethylammoniumbromid, 2-Methacryloyloxyethyl-4-benzoyldimethylammoniumbromid, Allyltriphenylphosphoniumbromid, Allyltriphenylphosphoniumchlorid, 2-Acrylamido-2-methyl-1-propansulfonsäure, 2-Diethylaminoethylvinylether, 3-Aminopropylvinylether.
Nach einer bevorzugten Ausführungsform werden die Oberflächen der antimikrobiellen
Polymere aufgeraut oder teilweise abgetragen. Durch diese Maßnahme wir eine
Effizienzsteigerung der mikrobizid wirksamen Polymere erreicht. Denn die physikalische
Behandlung durch Aufrauung oder Abtragung zielt auf eine oberflächennahe
Verfügbarkeitserhöhung der in der Matrix des Polymers vorhandenen antimikrobiellen
Polymerpartikel hin. Die durch Aufrauung oder Abragung behandelten Oberflächen zeigen
eine antimikrobielle Wirksamkeit die dauerhaft und gegen Umwelteinflüsse und
physikalische Beanspruchung widerstandsfähig ist. Die Effizienzsteigerung der
antimikrobiellen Polymere wird durch deren Oberflächenaktivierung erreicht. Eine
Aufrauung der Oberfläche kann durch Verwendung von Schleif- oder Poliermitteln,
gegebenenfalls unter Verwendung von Strahlapparaturen, erfolgen. Hierdurch werden
mikrobizid nicht aktive Matrixmoleküle von der Oberfläche entfernt und so Freiraum für die
in der Matrix eingebetteten antimikrobiellen Polymere geschaffen. Analoges geschieht bei
einer Abtragung der Oberfläche. Die Abtragung der Oberfläche bzw. des Polymers kann
mittels Plasma-, Korona-, elektromagnetischer Strahlung oder Beflammung erfolgen.
Nach Aufrauung oder Abtragung der Oberfläche ist in einer weiteren Ausführungsform
eine Hydrophilierung der Oberfläche durch Wasser oder Säuren, insbesondere verdünnte
organische oder Mineralsäuren möglich. Dieser Hydrophilierungsschritt wird bevorzugt bei
Temperaturen von mehr als 40°C, besonders bevorzugt bei Temperaturen gleich oder
über der Glastemperatur der Oberfläche, d. h. der des antimikrobiellen Polymers,
durchgeführt. Eine Hydrophilierung der Oberfläche begünstigt eine Anreicherung
hydrophiler Gruppen, die oftmals Bestandteil antimikrobieller Polymere sind. Besonders
effizient ist diese Methodik, wenn durch Temperaturerhöhung, während des
Hydrophilierungsmittels die Glastemperatur der Polymermatrix erreicht oder überschritten
wird, was die Beweglichkeit der Polymerketten und eine damit mögliche Neuausrichtung
begünstigt.
Um Nachteile der antimikrobiellen Polymere im Hinblick auf deren Langzeitbelastung
vorzubeugen, kann das antimikrobielle Polymer mit einer zusätzlichen
Schutzbeschichtung kombiniert werden, die selber lediglich die Aufgabe besitzt, die
Langzeitstabilität des Polymers zu verbessern und gegebenenfalls weitere optische oder
mechanische erwünschte Eigenschaften beizusteuern. In dieser Ausführungsform der
Erfindung wird nach der Oberflächenimprägnierung mit dem antimikrobiellen Polymer eine
weitere Oberflächenbehandlung durchgeführt. Bei dieser Art eines Zweischichtenschutzes
kann man von einem hohen Grad an Materialschutz ausgehen, da selbst bei einer
Verletzung der ersten Schutzschicht eine mikrobielle Attacke auf das Substrat durch das
in den Poren vorhandene antimikrobielle Polymer wirksam unterbunden wird.
Die zusätzlich aufgebrachte Schutzschicht enthält bevorzugt keine Monomere, sondern
z. B. Polymethylmethacrylat als UV-Schutz.
Welche Bauteile eines Feuchtmittelwerkes einer Offsetdruckmaschine aus
antimikrobiellen Polymer hergestellt sind bzw. mit antimikrobiellen Polymerschichten
beschichtet sind, ist grundsätzlich beliebig. Es kann sich dabei um alle Arten von Behälter,
Rohren, Wannen und Schläuchen oder sonstigen Sprüheinrichtungen handeln. Nach
einer bevorzugten Ausführungsform ist das Bauteil in der Art eines Filters ausgebildet, der
eine Granulatschüttung mit antimikrobiellen Polymeren enthält.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und werden im
folgenden näher beschrieben.
Es zeigen:
Fig. 1 ein Feuchtwerk einer Druckmaschine mit einem Bauteil;
Fig. 2 das Bauteil gemäß Fig. 1 im Querschnitt entlang der Schnittlinie I-I;
Fig. 3 einen Filter zur Verwendung im Feuchtmittelkreislauf einer Druckmaschine im
Querschnitt.
Fig. 1 stellt beispielhaft ein Feuchtwerk 01 zur Versorgung einer Feuchtmittelreibwalze 02
mit einem Feuchtmittel 03 im Querschnitt dar. Der Aufbau des Feuchtwerks 01 ist dabei
lediglich als beispielhafter Aufbau zu verstehen, da die Bauteile selbstverständlich an
jedem beliebigen Feuchtwerk eingesetzt werden können. Das Feuchtwerk 01 weist eine
Dosierblende 04, eine Feuchtmittelzufuhr 06, eine Feuchtmittelrückflusseinrichtung 07, ein
Bauteil 08, z. B. Sammelbehälter 08, z. B. eine Feuchtmittelwanne 08 und einen mit
Spritzringen bestückten Rotor 09 auf.
Um die Ablagerung von Mikroorganismen, insbesondere von Algen, auf der Innenseite
der Feuchtmittelwanne 08 zu reduzieren bzw. gänzlich zu vermeiden, ist diese mit einem
antimikrobiellen Polymer beschichtet.
Fig. 2 zeigt einen Schnitt durch die Bauteilwandung der Feuchtmittelwanne 08, wobei die
Größenverhältnisse der einzelnen Schichten in der Bauteilwandung der
Feuchtmittelwanne 08 zur Erleichterung der Erkennbarkeit nicht maßstabsgetreu
dargestellt sind. Ihre mechanische Festigkeit erhält die Feuchtmittelwanne 08 durch ein
entsprechend geformtes Stahlblech 11, das die Form der Feuchtmittelwanne 08 bestimmt.
Auf der Innenseite des Stahlblechs 11 ist eine Schicht 12 eines antimikrobiellen Polymers
vorgesehen.
Fig. 3 zeigt ein Bauteil 14, z. B. einen Filter 14, z. B. einen Feuchtmittelfilter 14, wie er im
Feuchtmittelkreislauf einer Offsetdruckmaschine verwendet werden kann, um die
Vermehrung von Mikroorganismen im Feuchtmittel 03 zu vermeiden bzw. gänzlich
auszuschließen.
Der Feuchtmittelfilter 14 hat einen Feuchtmittelzufluss 16, über den das Feuchtmittel 03 in
den Feuchtmittelfilter 14 gelangt, und einen Feuchtmittelabfluss 17, über den das
Feuchtmittel 03 aus dem Feuchtmittelfilter 14 zurück in den Feuchtmittelkreislauf gelangt.
Das Feuchtmittel 03 selber wird dabei durch eine nicht dargestellte Feuchtmittelpumpe
umgepumpt. Im Inneren des Feuchtmittelfilters 14 befindet sich ein Mischbett 18 aus einer
Schüttung eines Granulats, das aus einem antimikrobiellen Polymer hergestellt ist. Durch
den Kontakt des Feuchtmittels 03 mit der großen Oberfläche des antimikrobiellen
Polymers im Mischbett 18 wird die Bildung von Mikroorganismen im Feuchtmittel 03
behindert bzw. ausgeschlossen.
Das Bauteil 08; 14 kann aus dem antimikrobiellen Polymer einstückig hergestellt werden.
Im allgemeinen entsteht durch das gekühlte Feuchtwasser an Feuchtwerken, z. B.
Sprühbalken, Abdeckungen, usw. bedeutende Mengen von Kondenswasser, das in der
Regel in den Feuchtwasserkreislauf eingeleitet werden.
Diese Kondenswässer sind deutlich wärmer als das Feuchtwasser, enthalten keine
antimikrobiellen Substanzen und werden durch Farbnebel und Papierstaub mit Nahrung
für Mikroben versetzt. Aus diesem Grund werden durch die Kondenswasserrückführung
mit dem Kondenswasser oft sehr große Mengen an Mikroben in den
Feuchtwasserkreislauf eingebracht.
Kondensatsammelvorrichtungen und deren Rückläufe führen nur relativ geringe
Wassermengen die nur langsam fließen, wodurch eine antimikrobielle Beschichtung sehr
gut wirken kann. Da bei Feuchtwasseranlagen ansonsten, z. B. Wasserzumischung und
Feuchtmittelzumischung kaum Mikroben eingetragen werden, kann durch die Abtötung
der Mikroben im Kondenswasserrücklauf das Gros der Mikrobeneintrags vermieden
werden.
Vorteilhaft zu beschichtende Teile sind insbesondere Kondenswassersammelrinnen bzw.
Wannen oder Rückführleitungen.
Hohe Wirksamkeit ist auch von Filtern mit bioziden Oberflächen zu erwarten, da das
komplette Feuchtwasservolumen ständig durchgepumpt wird und somit der Kontakt allen
Feuchtwasser und damit der enthaltenen Mikroben, mit der aktiven Oberfläche garantiert
ist.
Weiterhin stellen biozidbeschichtete Filter keine erkennbare Änderung der
Feuchtwasseranlage dar, was Akzeptanzschwierigkeiten seitens des Wartungspersonals
ausschließt.
Weiterhin wird durch das regelmäßige Austauschen der Filter die aktive Schicht ständig
erneuert, was eventuelle Wirkprobleme durch Oberflächenverschmutzung minimiert.
So beschichtete Filter könnten natürlich auch als zusätzliche Filter in den
Kondenswasserrückführung integriert werden.
01
Feuchtwerk
02
Feuchtmittelreibwalze
03
Feuchtmittel
04
Dosierblende
05
-
06
Feuchtmittelzufuhr
07
Feuchtmittelrückflusseinrichtung
08
Bauteil, Sammelbehälter, Feuchtmittelwanne
09
Rotor
10
-
11
Stahlblech
12
Schicht aus antimikrobiellen Polymer
13
-
14
Bauteil, Filter, Feuchtmittelfilter
15
-
16
Feuchtmittelzufluss
17
Feuchtmittelabfluss
18
Mischbett aus Granulat eines antimikrobiellen Polymers
Claims (23)
1. Feuchtmittelbauteil (08; 14) für eine Druckmaschine, das mit dem zum Betrieb der
Offsetdruckmaschine vorgesehenen Feuchtmittel (03) in Kontakt bringbar ist,
dadurch gekennzeichnet, dass das Feuchtmittelbauteil (08, 14) im Kontaktbereich
des Feuchtmittels (03) zumindest bereichsweise antimikrobielle Polymere aufweist.
2. Feuchtmittelbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das
Feuchtmittelbauteil (14) als Filter (14) ausgebildet ist.
3. Feuchtmittelbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das
Feuchtmittelbauteil (08) als Sammelbehälter (08) ausgebildet ist.
4. Feuchtmittelbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das
Feuchtmittelbauteil als Rückführleitung ausgebildet ist.
5. Feuchtmittelbauteil nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Filter (14)
eine Granulatschüttung mit antimikrobiellen Polymeren enthält.
6. Feuchtmittelbauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das
Feuchtmittelbauteil (08; 14) aus dem antimikrobiellen Polymer einstückig hergestellt
ist.
7. Verwendung von aliphatisch ungesättigten Monomeren für ein Feuchtmittelbauteil
(08; 14) nach Anspruch 1, wobei die Monomere mindestens einfach durch eine
sekundäre Aminogruppe funktionalisiert sind, wobei aus diesen Monomeren ein
antimikrobielles Polymer polymerisiert wird.
8. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass bei der
Polymerisation aliphatisch ungesättigte, durch eine sekundäre Aminogruppe
funktionalisierte Monomere der allgemeinen Formel
R1 N R2 H
mit
R1: Verzweigter, unverzweigter oder cyclischer, gesättigter oder ungesättigter Kohlenwasserstoffrest mit bis zu 50 C-Atomen, die durch O-, N- oder S-Atome substituiert sein können und
R2: Verzweigter, unverzweigter oder cyclischer, gesättigter oder ungesättigter Kohlenwasserstoffrest mit bis zu 25 C-Atomen, die durch O-, N- oder S-Atome substituiert sein können,
eingesetzt werden.
R1 N R2 H
mit
R1: Verzweigter, unverzweigter oder cyclischer, gesättigter oder ungesättigter Kohlenwasserstoffrest mit bis zu 50 C-Atomen, die durch O-, N- oder S-Atome substituiert sein können und
R2: Verzweigter, unverzweigter oder cyclischer, gesättigter oder ungesättigter Kohlenwasserstoffrest mit bis zu 25 C-Atomen, die durch O-, N- oder S-Atome substituiert sein können,
eingesetzt werden.
9. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass bei der
Polymerisation weitere aliphatisch ungesättigten Monomeren eingesetzt werden.
10. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Polymerisation
auf einem Substrat durchgeführt ist.
11. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Polymerisation
als Pfropfpolymerisation eines Substrats durchgeführt ist.
12. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat vor der
Pfropfpolymerisation durch UV-Strahlung, Plasmabehandlung, Koronabehandlung,
Beflammung, Ozonisierung, elektrische Entladung, oder Gammastrahlung aktiviert
wird.
13. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat vor der
Pfropfpolymerisation durch UV-Strahlung mit einem Photosensibilisator aktiviert
wird.
14. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass als Polymer
Polyamide, Polyurethane, Polyetherblockamide, Polyesteramide, Polyesterimide,
PVC, Polyolefine, Silikone, Polysiloxane, Polymethacrylate und/oder
Polyterephthalate eingesetzt werden.
15. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass als Polymer
wasserunlösliche Polymere von antimikrobiellen Oligomeren eingesetzt werden.
16. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die antimikrobielle
wirksamen Polymere aus mindestens einem Stickstoff oder Phosphor
funktionalisierten Monomeren hergestellt werden.
17. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die antimikrobielle
wirksamen Polymere aus mindestens einem der folgenden Monomere hergestellt
werden:
Methacrylsäure-2tert.-butylaminoethylester, Methacrylsäure-2-diethylaminoethylester, Methacrylsäure-2-diethylaminomethylester, Acrylsäure-2-tert.-butylaminoethylester, Acrylsäure-3-dimethylaminopropylester, Acrylsäure-2-diethylaminoethylester, Acrylsäure-2-dimethylaminoethylester, Dimethylaminopropylmethacrylamid, Diethylaminopropylmethacrylamid, Acrylsäure-3-dimethylaminopropylamid, 2-Methacryloyloxyethyltrimethylammoniummethosulfat, Methacrylsäure-2-diethylaminoethylester, 2-Methacryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid, 3-Methycryloylaminopropyltrimethylammonium-chlorid, 2-Methacryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid, 2-Acryloyloxyethyl-4-benzoyldimethylammoniumbromid, 2-Methacryloyloxyethyl-4-benzoyldimethylammoniumbromid, Allyltriphenylphosphoniumbromid, Allyltriphenylphosphoniumchlorid, 2-Acrylamido-2-methyl-1-propansulfonsäure, 2-Diethylaminoethylvinylether, 3-Aminopropylvinylether.
Methacrylsäure-2tert.-butylaminoethylester, Methacrylsäure-2-diethylaminoethylester, Methacrylsäure-2-diethylaminomethylester, Acrylsäure-2-tert.-butylaminoethylester, Acrylsäure-3-dimethylaminopropylester, Acrylsäure-2-diethylaminoethylester, Acrylsäure-2-dimethylaminoethylester, Dimethylaminopropylmethacrylamid, Diethylaminopropylmethacrylamid, Acrylsäure-3-dimethylaminopropylamid, 2-Methacryloyloxyethyltrimethylammoniummethosulfat, Methacrylsäure-2-diethylaminoethylester, 2-Methacryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid, 3-Methycryloylaminopropyltrimethylammonium-chlorid, 2-Methacryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid, 2-Acryloyloxyethyl-4-benzoyldimethylammoniumbromid, 2-Methacryloyloxyethyl-4-benzoyldimethylammoniumbromid, Allyltriphenylphosphoniumbromid, Allyltriphenylphosphoniumchlorid, 2-Acrylamido-2-methyl-1-propansulfonsäure, 2-Diethylaminoethylvinylether, 3-Aminopropylvinylether.
18. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Effizienz der
antimikrobiellen Polymere durch Aufrauung oder Abtragung der Oberfläche dieser
Polymere gesteigert ist.
19. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberflächen der
antimikrobiellen Polymere durch Plasma-, Korona-, elektromagnetische Strahlung
oder Beflammung aufgeraut oder abgetragen ist.
20. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberflächen der
antimikrobiellen Polymere durch Einsatz von Schleif- oder Poliermittel aufgeraut
oder abgetragen ist.
21. Verwendung nach einem der Ansprüche 18 bis 20, dadurch gekennzeichnet, dass
die aufgerauten oder abgetragenen Oberflächen durch Säuren oder Wasser
hydrophiliert ist.
22. Verwendung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass die Hydrophilierung
bei einer Temperatur von mehr als 40°C durchgeführt ist.
23. Verwendung nach Anspruch 21 oder 22, dadurch gekennzeichnet, dass die
Hydrophilierung bei oder über der Glastemperatur der Polymere durchgeführt ist.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
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