DE102012008123B4 - Process for the production of a shaped body of electro-melted synthetic quartz glass - Google Patents
Process for the production of a shaped body of electro-melted synthetic quartz glass Download PDFInfo
- Publication number
- DE102012008123B4 DE102012008123B4 DE201210008123 DE102012008123A DE102012008123B4 DE 102012008123 B4 DE102012008123 B4 DE 102012008123B4 DE 201210008123 DE201210008123 DE 201210008123 DE 102012008123 A DE102012008123 A DE 102012008123A DE 102012008123 B4 DE102012008123 B4 DE 102012008123B4
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- quartz glass
- granules
- helium
- sio
- rotary tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/02—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating
- C03B5/033—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating by using resistance heaters above or in the glass bath, i.e. by indirect resistance heating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/108—Forming porous, sintered or foamed beads
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1095—Thermal after-treatment of beads, e.g. tempering, crystallisation, annealing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
- C03B17/04—Forming tubes or rods by drawing from stationary or rotating tools or from forming nozzles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
- C03B2201/03—Impurity concentration specified
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/07—Impurity concentration specified
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/32—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with aluminium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus elektrogeschmolzenem synthetischem Quarzglas, indem synthetisch erzeugte Quarzglaskörnung (15) bereitgestellt und in einem elektrisch beheizten Schmelzbehälter (31) unter Bildung einer erweichten Quarzglasmasse (57) erhitzt und die erweichte Quarzglasmasse (57) zu dem Formkörper geformt wird, dadurch gekennzeichnet, dass synthetisch erzeugte Quarzglaskörnung (15) aus Körnungsteilchen eingesetzt wird, in denen Helium eingeschlossen ist und deren Bereitstellung folgende Verfahrensschritte umfasst: (a) Granulation pyrogen hergestellter Kieselsäure unter Bildung eines SiO2-Granulats aus porösen Granulatteilchen (9), und (b) Verglasen des SiO2-Granulats in einem Drehrohrofen (1) mit einem mindestens teilweise aus keramischem Werkstoff bestehenden Drehrohr (6) und unter einem Behandlungsgas, das mindestens 30 Vol.-% Helium enthält, unter Bildung der Körnungsteilchen miteingeschlossenem Helium.Method for producing a molded body from electro-melted synthetic quartz glass by providing synthetically produced quartz glass grains (15) and heating them in an electrically heated melting container (31) to form a softened quartz glass mass (57) and shaping the softened quartz glass mass (57) to form the molded body characterized in that synthetically produced quartz glass grains (15) from grain particles in which helium is enclosed and the provision of which comprises the following process steps: (a) Granulation of pyrogenically produced silica to form SiO2 granules from porous granule particles (9), and (b) Vitrification of the SiO2 granulate in a rotary kiln (1) with a rotary tube (6) consisting at least partially of ceramic material and under a treatment gas that contains at least 30% by volume of helium, forming the granular particles with enclosed helium.
Description
Technisches GebietTechnical area
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus elektrogeschmolzenem synthetischem Quarzglas, indem synthetisch erzeugte Quarzglaskörnung bereitgestellt und in einem elektrisch beheizten Schmelzbehälter unter Bildung einer erweichten Quarzglasmasse erhitzt und die erweichte Quarzglasmasse zu dem Formkörper geformt wird.The present invention relates to a method for producing a fused silica synthetic quartz molded body by providing synthesized fused silica granules and heating in an electrically heated melting vessel to form a softened quartz glass mass, and shaping the softened silica glass mass into the formed body.
Synthetisch erzeugte Quarzglaskörnung wird durch thermisches Verdichten eines porösen SiO2-Granulats erhalten. Derartiges Granulat wird durch Vorverdichtung von SiO2-Sootstaub oder SiO2-Nanoteilchen erzeugt, wie sie beispielsweise bei der Herstellung von synthetischem Quarzglas durch Polymerisation, Polykondensation, Fällung oder CVD-Abscheideverfahren anfallen. Als Beispiele für übliche Granulierungsverfahren seien Rollgranulation, Sprühgranulation, Zentrifugalzerstäubung, Wirbelschichtgranulation, Granulierverfahren unter Einsatz einer Granuliermühle, Kompaktierung, Walzenpressen, Brikettierung, Schülpenherstellung oder Extrudierung genannt.Synthetically produced quartz glass grain is obtained by thermally compacting a porous SiO 2 granulate. Such granules are produced by pre-compression of SiO 2 soot dust or SiO 2 nanoparticles, as obtained for example in the production of synthetic quartz glass by polymerization, polycondensation, precipitation or CVD deposition. Rolling granulation, spray granulation, centrifugal atomization, fluidized bed granulation, granulation processes using a granulating mill, compaction, roll pressing, briquetting, slug production or extrusion are mentioned as examples of customary granulation processes.
Die dabei anfallenden diskreten, mechanisch und gegebenenfalls auch thermisch vorverdichteten Partikel werden hier als „SiO2-Granulatteilchen” bezeichnet. In ihrer Gesamtheit bilden sie das poröse „SiO2-Granulat”.The resulting discrete, mechanically and optionally also thermally pre-compressed particles are referred to herein as "SiO 2 granules". In their entirety they form the porous "SiO 2 granulate".
Wegen ihrer Porosität ist das direkte Einschmelzen derartiger SiO2-Granulate problematisch. Denn beim direkten Einschmelzen besteht die Gefahr, dass sich geschlossene, gasgefüllte Hohlräume bilden, die aus der hochviskosen Quarzglasmasse nicht oder nur sehr langsam zu entfernen sind und die so zu Blasen im Quarzglas führen. Deshalb ist für anspruchsvolle Anwendungen, bei denen es auf Blasenfreiheit des Endproduktes ankommt, in der Regel ein vorheriges Verglasen des porösen Granulats notwendig. Die durch Verglasen der porösen SiO2-Granulatteilchen erhaltenen, dichten Glasteilchen werden hier als „Quarzglasteilchen” bezeichnet, die in ihrer Gesamtheit die synthetische „Quarzglaskörnung” bilden.Because of their porosity, the direct melting of such SiO 2 granules is problematic. Because in direct melting there is a danger that form closed, gas-filled cavities that are not or only very slowly to remove from the high-viscosity quartz glass mass and thus lead to bubbles in the quartz glass. Therefore, for demanding applications, where it depends on freedom from bubbles of the final product, usually a previous vitrification of the porous granules necessary. The dense glass particles obtained by vitrification of the porous SiO 2 granules are referred to herein as "quartz glass particles" which in their entirety constitute the synthetic "quartz glass grain".
Derartige Quarzglaskörnung kann in elektrisch beheizten Schmelztiegeln oder Schmelzformen zu Bauteilen, wie Rohren, Stäben, Haltern, Glocken, Reaktoren oder Tiegeln für die Halbleiter- oder Lampenfertigung und der chemischen Verfahrenstechnik aus hochkieselsäurehaltigem Glas verarbeitet werden.Such Quarzglerkörnung can be processed in electrically heated crucibles or melt molds into components such as pipes, rods, holders, bells, reactors or crucibles for semiconductor or lamp production and chemical engineering of high-siliceous glass.
Unter „hochkieselsäurehaltigem Glas” wird hierbei nicht dotiertes oder dotiertes Quarzglas mit einem SiO2-Gehalt von mindestens 90 Gew.-% verstanden. Ein derartiges Glas wird im Folgenden der Einfachheit halber auch kurz als „Quarzglas” und die erweichte Masse daraus als „Quarzglasschmelze” bezeichnet.By "high-silica acid-containing glass" is meant non-doped or doped quartz glass having an SiO 2 content of at least 90% by weight. Such a glass is hereinafter referred to simply as "quartz glass" and the softened mass thereof as "quartz glass melt" for the sake of simplicity.
Die Quarzglasschmelze weist selbst bei Temperaturen nahe der Sublimationstemperatur von SiO2 noch eine vergleichsweise hohe Viskosität auf. Infolge ihrer hohen Temperatur und Viskosität können Quarzglasschmelzen nicht ohne weiteres mittels bei der Glasbearbeitung ansonsten üblichen Maßnahmen, wie Läutern oder Rühren, homogenisiert werden.The quartz glass melt still has a comparatively high viscosity even at temperatures close to the sublimation temperature of SiO 2 . Due to their high temperature and viscosity, quartz glass melts can not readily be homogenized by means otherwise conventional in glass processing, such as refining or stirring.
Beim Einschmelzen von Quarzglaskörnung bewirkt daher auch der Gasraum zwischen den dichten Quarzglasteilchen eine zusätzliche Blasenproblematik. Denn die beim Einschmelzprozess innerhalb der viskosen Glasmasse eingeschlossenen Gase können nachträglich kaum noch entweichen und auch nicht durch Homogenisierungsmaßnahmen entfernt werden. Sie verursachen Blasen und andere Störungen im fertigen Quarzglas-Formkörper.When smelting quartz glass grains, therefore, the gas space between the dense quartz glass particles also causes an additional problem of bubbles. Because the enclosed during the melting process within the viscous glass mass gases can escape later hardly and not be removed by homogenization. They cause bubbles and other disturbances in the finished quartz glass molded body.
Das Problem der Blasenbildung stellt sich insbesondere bei Einschmelzprozessen mit prozessbedingt beschränkter Einschmelzdauer, wie etwa beim kontinuierlichen Einschmelzen von Quarzglaskörnung in einem Schmelztiegel-Ziehverfahren. Bei diesem Verfahren wird einem Schmelztiegel von oben Quarzglaskörnung zugeführt, die dabei erzeugte Körnungs-Schüttung wird erhitzt und zu einer hochviskosen Quarzglasschmelze erschmolzen und diese wird kontinuierlich über eine Ziehdüse am Tiegelboden als Quarzglasstrang mit beliebigem Querschnittsprofil abgezogen. Aus dem Quarzglasstrang werden zylinderförmige Formkörper abgelängt.The problem of blistering arises in particular in smelting processes with process-related limited melting time, such as in the continuous melting of quartz glass grain in a crucible-drawing process. In this process, quartz glass grains are fed to a crucible from above, the granulated charge thus produced is heated and melted to give a highly viscous quartz glass melt and this is drawn off continuously via a die at the bottom of the crucible as a quartz glass strand with any cross-sectional profile. From the quartz glass strand cylindrical shaped bodies are cut to length.
Beim Schmelztiegel-Ziehverfahren können in die viskose Quarzglasschmelze eingeschlossene Gase kaum noch entfernt werden. Sie verursachen Blasen und andere Störungen im abgezogenen Quarzglasstrang und sie können zu Unstetigkeiten beim Ziehprozess und damit zu Maßabweichungen führen.In the crucible-pulling process, gases trapped in the viscous quartz glass melt can hardly be removed. They cause bubbles and other disturbances in the withdrawn quartz glass strand and they can lead to discontinuities in the drawing process and thus deviations.
Stand der Technik State of the art
Aus den obigen Erläuterungen ergibt sich, dass die Problematik des Blaseneinschlusses sowohl beim Verglasen des porösen SiO2-Granulats zu synthetischer Quarzglaskörnung als auch beim Einschmelzen der so erzeugten Quarzglaskörnung zu dem Quarzglas-Formkörper eine wichtige Rolle spielt. Mit dem Ziel, Blasenfreiheit oder Blasenarmut im jeweiligen Prozessstadium zu erreichen, ist eine Vielzahl unterschiedlicher Techniken bekannt.It follows from the above explanations that the problem of bubble entrapment plays an important role in both the vitrification of the porous SiO 2 granulate to synthetic quartz glass grain and in the fusing of the quartz glass grain thus produced to the quartz glass molded body. A variety of different techniques are known with the aim of achieving freedom from bladder or bladder at the respective process stage.
Verglasen von Granulat zu QuarzglaskörnungGlazing of granules to Quarzglaskörnung
So wird in der
Der Sintergrad eines gegebenen Granulatteilchens hängt von seiner Teilchengröße und dem Wärmeeintrag ab, der wiederum von der Aufenthaltsdauer in der Brennerflamme und der Flammentemperatur bestimmt wird. Das Granulat hat jedoch in der Regel eine gewisse Teilchengrößenverteilung, und die Brenngasflamme hat Bereiche unterschiedlicher Strömungsgeschwindigkeiten und Flammentemperaturen. Dies führt zu ungleichmäßigen und wenig reproduzierbaren Sintergraden. Es besteht außerdem die Gefahr, dass die Quarzglasteilchen durch die Brenngase verunreinigt werden. In dem Zusammenhang ist besonders die Beladung mit Hydroxylgruppen bei Einsatz wasserstoffhaltiger Brenngase zu nennen, was mit einer vergleichsweise niedrigen Viskosität des Quarzglases einhergeht.The degree of sintering of a given granule particle depends on its particle size and the heat input, which in turn is determined by the residence time in the burner flame and the flame temperature. However, the granules usually have a certain particle size distribution, and the fuel gas flame has regions of different flow velocities and flame temperatures. This leads to uneven and little reproducible degrees of sintering. There is also the danger that the quartz glass particles are contaminated by the fuel gases. In this context, especially the loading with hydroxyl groups when using hydrogen-containing fuel gases, which is accompanied by a comparatively low viscosity of the quartz glass.
In der
Hierbei handelt es sich um ein diskontinuierliches Verglasungsverfahren, einhergehend mit einer großen thermischen Trägheit des Ofens und demzufolge langen Prozessdauern mit dementsprechend hohem Zeit- und Kostenaufwand mit geringem Durchsatz und einem im Ergebnis relativ teueren Granulat.This is a discontinuous vitrification process, accompanied by a large thermal inertia of the furnace and consequently long process times with correspondingly high time and cost with low throughput and a result in the relatively expensive granules.
Bei einem ähnlichen Verfahren gemäß der
Das danach erhaltene SiO2-Pulver enthält jedoch noch Silanolgruppen in hoher Konzentration von nicht weniger als 1.000 Gew.-ppm. Zu deren Beseitigung wird das SiO2-Pulver abschließend bei einer höheren Temperatur von 1.300°C in einem Quarzglastiegel mit einem Innendurchmesser von 550 mm in Chargen von 130 kg kalziniert und dicht gesintert.However, the SiO 2 powder obtained thereafter still contains silanol groups in a high concentration of not less than 1,000 ppm by weight. To eliminate them, the SiO 2 powder is finally calcined at a higher temperature of 1,300 ° C in a quartz glass crucible with an inner diameter of 550 mm in batches of 130 kg and densely sintered.
Die thermische Stabilität eines Drehrohres aus Quarzglas beschränkt dessen Einsatz bei hoher Temperatur zum Verglasen der Granulatteilchen. Beim Verglasen im Quarzglastiegel kann es jedoch zu Verbackungen der sinternden Granulatteilchen kommen, die zu einer undefinierten, porenhaltigen Quarzglasmasse führen.The thermal stability of a rotary tube made of quartz glass limits its use at high temperature for vitrifying the granules. However, vitrification in the quartz glass crucible can lead to caking of the sintering granulate particles, which leads to an undefined, porous quartz glass mass.
Auch die
Aus der
Zwecks Viskositätserhöhung wird das SiO2-Granulat mit Al2O3 dotiert, indem der Suspension Nanopartikel aus pyrogen hergestelltem Al2O3 oder ein lösliches Aluminiumsalz beigefügt wird.In order to increase the viscosity, the SiO 2 granulate is doped with Al 2 O 3 by adding to the suspension nanoparticles of pyrogenically produced Al 2 O 3 or a soluble aluminum salt.
Es werden rundliche Granulat-Körner mit Außendurchmessern im Bereich zwischen 160 μm und 1000 μm erhalten. Das Granulat wird bei ca. 400°C im Drehrohrofen getrocknet und bei einer Temperatur von etwa 1°C bis auf eine BET-Oberfläche von ca. 3 m2/g verdichtet.Roundish granules are obtained with outer diameters in the range between 160 microns and 1000 microns. The granules are dried at about 400 ° C in a rotary kiln and compressed at a temperature of about 1 ° C to a BET surface area of about 3 m 2 / g.
Zum vollständigen Verglasen werden die Einzelkörner des Granulats anschließend unter verschiedenen Atmosphären, wie Helium, Wasserstoff oder Vakuum vollständig verglast. Das Heizprofil beim Verglasen der Granulate umfasst jeweils ein Aufheizen auf 1400°C mit einer Aufheizrate von 5°C/min und eine Haltezeit von 120 min. Nach dieser Behandlung sind die einzelnen Granulatkörner in sich verglast. Die Körner liegen einzeln vor, ohne zu einer Masse verschmolzen zu sein.For complete vitrification, the individual granules of the granules are then completely vitrified under different atmospheres, such as helium, hydrogen or vacuum. The heating profile during vitrification of the granules each comprises a heating to 1400 ° C with a heating rate of 5 ° C / min and a holding time of 120 min. After this treatment, the individual granules are vitrified in themselves. The grains are individually present without being fused to a mass.
Das Granulat wird in einem Elektroschmelzprozess zu Quarzglas weiterverarbeitet, wie beispielsweise in einem Tiegel zu einem Formkörper erschmolzen oder in einem Tiegelziehverfahren kontinuierlich zu einem Strang gezogen.The granules are further processed into fused silica in an electric melting process, for example melted in a crucible to form a shaped body or continuously drawn into a strand in a crucible drawing process.
Auch hier erfolgt das Verglasen in einem separaten Ofen, so dass es sich um ein diskontinuierliches Verfahren mit mehreren, kostenintensiven Aufheizprozessen.Again, the vitrification is carried out in a separate oven, so that it is a discontinuous process with multiple, costly heating processes.
Die
Einschmelzen der Quarzglaskörnung zur Erzeugung eines Quarzglas-FormkörpersMelting the quartz glass grain to produce a quartz glass molded body
Um dem Einschluss von Gasen bei einem Schmelztiegel-Ziehverfahren entgegen zu wirken, wird in der
Es hat sich jedoch gezeigt, dass es trotz dieser Maßnahme zu Blasenbildung im Quarzglas-Formkörper kommen kann. Dies kann darauf zurückgeführt werden, dass sich bei Zufuhr der Gase Helium oder Wasserstoff bevorzugte Strömungskanäle in der Schüttung des Granulats ausbilden, die lokal zu einer relativ hohen Gaskonzentration führen und an anderer Stelle der Schüttung für einen hinreichenden Austausch der vorhandenen Gase durch Helium oder Wasserstofffehlen. Sowohl die lokal überhöhte Gaskonzentration als auch ein lokal unzureichender Gasaustausch können zur Blasenbildung beitragen.However, it has been shown that, despite this measure, blistering can occur in the quartz glass molded body. This can be attributed to the fact that, upon introduction of the gases helium or hydrogen, preferred flow channels are formed in the bulk of the granules which locally lead to a relatively high gas concentration and elsewhere in the bed for a sufficient exchange of the existing gases with helium or hydrogen. Both the locally excessive gas concentration and a locally insufficient gas exchange can contribute to bubble formation.
Die gemäß § 3(2) Nr. 1 PatG zum Stand der Technik gehörende
Technische AufgabenstellungTechnical task
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren anzugeben, das ausgehend von porösem SiO2-Granulat die Herstellung dichter, synthetischer Quarzglaskörnung ermöglicht, die beim Einsatz in einem Elektroschmelzprozess ein vorteilhaftes Einschmelzverhalten zeigt, und dadurch die reproduzierbare Herstellung möglichst blasenfreier Quarzglas-Formkörper ermöglicht, und zwar insbesondere auch bei kontinuierlichen Einschmelzprozessen.The invention has for its object to provide a method which, starting from porous SiO 2 granules allows the production of dense, synthetic quartz glass grain, which shows an advantageous melting behavior when used in an electric melting process, and thereby enables the reproducible production of bubble-free as possible quartz glass molded body especially in continuous smelting processes.
Allgemeine Beschreibung der ErfindungGeneral description of the invention
Diese Aufgabe wird ausgehend von einem Verfahren der eingangs genannten Gattung erfindungsgemäß durch ein Verfahren gelöst, dass synthetisch erzeugte Quarzglaskörnung aus Körnungsteilchen eingesetzt wird, in denen Helium eingeschlossen ist und deren Bereitstellung folgende Verfahrensschritte umfasst:
- (a) Granulation pyrogen hergestellter Kieselsäure unter Bildung eines SiO2-Granulats aus porösen Granulatteilchen, und
- (b) Verglasen des SiO2-Granulats in einem Drehrohrofen mit einem mindestens teilweise aus keramischem Werkstoff bestehenden Drehrohr und unter einem Behandlungsgas, das mindestens 30 Vol.-% Helium enthält, unter Bildung der Körnungsteilchen mit eingeschlossenem Helium.
- (A) granulation of fumed silica to form a SiO 2 granules of porous granules, and
- (b) vitrifying the SiO 2 granules in a rotary kiln with a rotary kiln at least partially made of ceramic material and under a treatment gas containing at least 30 vol.% helium to form the grit particles with trapped helium.
Beim erfindungsgemäßen Verfahren wird bereits beim Verglasen des porösen SiO2-Granulats zu dichter, heliumhaltiger Quarzglaskörnung eine wesentliche Voraussetzung für dessen vorteilhafte Weiterverarbeitung durch Einschmelzen zu einem weitgehend blasenfreien Formkörper geschaffen.In the method according to the invention, an essential prerequisite for its advantageous further processing by melting into a largely bubble-free shaped body is already created during the vitrification of the porous SiO 2 granules to dense, helium-containing quartz glass grains.
Das SiO2-Granulat wird erhalten, indem pyrogen hergestellte Kieselsäure – im Folgenden auch als „SiO2-Sootstaub” bezeichnet – anhand üblicher Granulierverfahren vorverdichtet wird. Die Granulierung kann unter Einsatz eines Drehrohres erfolgen, wie aus dem Stand der Technik bekannt. Ergebnis ist in jedem Fall ein poröses SiO2-Granulat. Dieses wird in einem Drehrohrofen mit einem um eine Mittelachse rotierenden, beheizten Drehrohr verglast, das in Längsrichtung des Ofens leicht geneigt ist, um den Transport des Granulats von seiner Einlaufseite zur Auslaufseite herbeizuführen. Dabei ergeben sich wegen der hohen Temperatur und der damit verbundenen Materialbelastung besondere Anforderungen, die im Folgenden näher erläutert werden.The SiO 2 granulate is obtained by precompressed fumed silica - hereinafter also referred to as "SiO 2 soot dust" - using conventional granulation. The granulation can be carried out using a rotary tube, as known from the prior art. In any case, the result is a porous SiO 2 granulate. This is vitrified in a rotary kiln with a heated rotary kiln rotating about a central axis, which is slightly inclined in the longitudinal direction of the furnace, to bring about the transport of the granules from its inlet side to the outlet side. Due to the high temperature and the associated material load, special requirements arise, which are explained in more detail below.
Über die Länge des Drehrohres gesehen wird beim Verglasen ein Temperaturprofil mit einem Temperaturmaximum erzeugt, das höher liegt als die Erweichungstemperatur von Quarzglas, also oberhalb von 1150°C. Um dies ohne Verformung des Drehrohres zu ermöglichen, besteht mindestens der thermisch am höchsten belastete Bereich des Drehrohres aus einer temperaturfesten Keramik mit höherer Erweichungstemperatur als undotiertes Quarzglas.Viewed over the length of the rotary tube, a temperature profile with a maximum temperature is produced during vitrification, which is higher than the softening temperature of quartz glass, ie above 1150 ° C. In order to make this possible without deformation of the rotary tube, at least the region of the rotary tube subjected to the highest thermal stress consists of a temperature-resistant ceramic with a higher softening temperature than undoped quartz glass.
Das Drehrohr ist einteilig oder es besteht aus mehreren Teilen, wobei die Drehrohr-Wandung mindestens über diejenige Teillänge, die der maximalen Temperaturbelastung ausgesetzt ist, aus der temperaturfesten Keramik besteht. Das Drehrohr kann eine Innenauskleidung aufweisen. Abgesehen von einer etwaigen metallischen Einfassung besteht das Drehrohr im einfachsten Fall vollständig aus der Keramik.The rotary tube is in one piece or consists of several parts, wherein the rotary tube wall consists of the temperature-resistant ceramic at least over that part length which is exposed to the maximum temperature load. The rotary tube may have an inner lining. Apart from a possible metallic enclosure, the rotary tube is in the simplest case completely made of ceramics.
Die Granulatteilchen werden in dem Drehrohr auf eine Temperatur erhitzt, die zum Verglasen genügt. Die daraus nach dem Verglasen erhaltenen Quarzglasteilchen haben eine spezifische Oberfläche von weniger als 1 m2/g; ermittelt nach DIN ISO 9277- Mai 2003; „Bestimmung der spezifischen Oberfläche von Feststoffen durch Gasadsorption nach dem BET-Verfahren”). Die Oberfläche ist dicht, wobei die Teilchen transparent oder teilweise opak sein können.The granules are heated in the rotary tube to a temperature sufficient for vitrification. The quartz glass particles obtained therefrom after vitrification have a specific surface area of less than 1 m 2 / g; determined according to DIN ISO 9277- May 2003; "Determination of the specific surface area of solids by gas adsorption by the BET method"). The surface is dense, with the particles being transparent or partially opaque.
Damit das Verglasen der Schüttung aus porösem SiO2-Granulat im Drehrohr überhaupt gelingt, ist weitere Voraussetzung eine Atmosphäre, die Helium enthält. Nur eine ausreichend Helium enthaltende Atmosphäre ermöglicht ein blasenfreies oder besonders blasenarmes Verglasen der porösen Granulatteilchen bei niedriger Temperatur und/oder kurzen Verglasungsdauern, wie sie unter den Bedingungen des Drehrohrofen-Verglasens möglich sind. Gegebenenfalls eingeschlossene Gase bestehen zum großen Teil (beispielsweise mindestens 90 Vol.-%) aus Helium. Anstelle von Helium wäre auch Wasserstoff für ein blasenarmes Verglasen grundsätzlich geeignet; allerdings führt eine Beladung der verglasten Quarzglasteilchen mit Wasserstoff nicht in dem Maße beim späteren Einschmelzen der Körnung zum Ausgasen und zur lokalen Verbesserung der Wärmeleitung wie dies bei der Heliumbeladung der Fall ist. Anteile von Wasserstoff in der Verglasungs-Atmosphäre sind aber unschädlich.So that the vitrification of the bed of porous SiO 2 granules in the rotary tube succeeds at all, another prerequisite is an atmosphere containing helium. Only a sufficiently helium-containing atmosphere allows bubble-free or particularly low-bubble vitrification of the porous granules at low temperature and / or short vitrification times, as are possible under the conditions of rotary kiln vitrification. Optionally trapped gases consist to a large extent (for example at least 90% by volume) of helium. Instead of helium and hydrogen for a low-bubble vitrification would be in principle suitable; however, loading the vitreous silica glass particles with hydrogen does not result in outgassing and local improvement as the granules melt later the heat conduction as is the case with helium loading. However, fractions of hydrogen in the glazing atmosphere are harmless.
Gemäß der Erfindung ist daher vorgesehen, dass das Drehrohr beim Verglasen entweder mit einem Behandlungsgas geflutet ist oder dass es mit diesem Behandlungsgas kontinuierlich oder von Zeit zu Zeit gespült wird, wobei das Behandlungsgas zu mindestens 30 Vol.-% aus Helium besteht und gleichzeitig möglichst wenig – im Idealfall keinen – Stickstoff enthält. Denn es hat sich gezeigt, dass in Gegenwart von Stickstoff verglaste Granulatteilchen zu einem höheren Blasengehalt neigen.According to the invention it is therefore provided that the rotary tube is flooded during vitrification either with a treatment gas or that it is purged continuously or from time to time with this treatment gas, wherein the treatment gas is at least 30 vol .-% of helium and at the same time as little as possible - ideally none - contains nitrogen. Because it has been shown that in the presence of nitrogen glazed granules tend to a higher bubble content.
Beim Durchwandern des Drehrohres sind die Granulatteilchen mechanischen Kräften ausgesetzt, die durch das Gewicht und die Umwälzung der Schüttung erzeugt werden. Etwaige Agglomerate der verglasten Körnung werden dabei wieder aufgelöst.As the rotary tube passes through, the granules are exposed to mechanical forces generated by the weight and circulation of the bed. Any agglomerates of the glazed grain are dissolved again.
Das Verglasen im Drehrohrofen umfasst einen Durchlauf oder mehrere Durchläufe. Im Fall mehrerer Durchläufe kann die Temperatur von Durchlauf zu Durchlauf erhöht werden. Bei mehreren Durchlaufen wird eine geringere Blasigkeit der Quarzglaskörnung erzielt.The vitrification in the rotary kiln comprises one or more passes. In the case of multiple passes, the temperature can be increased from run to run. With several passes, a lower blister of the quartz glass grain is achieved.
Die verglaste Quarzglaskörnung kann unmittelbar zur Herstellung von Quarzglasformteilen eingeschmolzen werden. Es hat sich jedoch gezeigt, dass je nach Einschmelztechnik und bei sehr hohen Anforderungen an die Blasenfreiheit der Quarzglasformteile die oben erläuterten Verglasungsmaßnahmen im Drehrohrofen allein nicht ausreichen, auch wenn die resultierende Körnung augenscheinlich vollständig transparent erscheint. Denn wird die Quarzglaskörnung in Elektroschmelzverfahren als Schüttung weiterverarbeitet, macht sich nicht nur ein etwaiger Gasgehalt der Körnung selbst blasenbildend bemerkbar, sondern auch Gase zwischen den Quarzglasteilchen der Schüttung. Üblicherweise wird versucht, diese Gase durch ein Spülen mit Helium auszutreiben, was jedoch durch die Ausbildung von bevorzugten Gasströmungskanälen mit den oben erläuterten Nachteilen einer inhomogenen Beaufschlagung mit Helium einhergeht.The glazed quartz glass grains can be melted directly for the production of quartz glass molded parts. However, it has been shown that, depending on the melting technique and the very high demands on the bubble freedom of the quartz glass moldings, the above-mentioned glazing measures in the rotary kiln alone are not sufficient, even if the resulting grain appears to be completely transparent. For if the quartz glass grains are further processed by electrolysis as a bed, not only does a possible gas content of the grain itself make bubbles, but also gases between the quartz glass particles of the bed. Usually, attempts are made to expel these gases by flushing with helium, but this is accompanied by the formation of preferred gas flow channels with the above-mentioned disadvantages of inhomogeneous helium.
Die Erfindung geht daher einen anderen Weg. Die für Elektroschmelzverfahren vorgesehene Quarzglaskörnung wird im Drehrohr so verglast, dass sie einen gewissen Heliumgehalt auch nach dem Abkühlen behält. Das eingeschlossene Helium wird beim anschließenden Elektroschmelzprozess allmählich freigesetzt, dehnt sich wegen der hohen Temperatur beim Schmelzprozess auf ein Vielfaches seines ursprünglichen Volumens aus und vertreibt dadurch das zwischen den Quarzglasteilchen der Schüttung vorhandene Fremdgas. Wichtig ist dabei auch Folgendes: Helium zeichnet sich durch eine gute Wärmeleitfähigkeit aus. Das gleichmäßige und kontinuierliche Freisetzen auch geringer Mengen an Helium hat deshalb den weiteren günstigen Effekt, dass sich eine Vergleichmäßigung der Temperatur über der Schüttung einstellt, was zu einem besseren und homogeneren Einschmelzen beiträgt.The invention therefore takes a different approach. The quartz glass grains intended for electrofusion are vitrified in the rotary kiln in such a way that they retain a certain helium content even after cooling. The trapped helium is released gradually in the subsequent electrofusion process, expands to a multiple of its original volume due to the high temperature during the melting process and thereby expels the foreign gas present between the silica particles of the bed. Important is also the following: Helium is characterized by a good thermal conductivity. The uniform and continuous release even of small amounts of helium therefore has the further favorable effect that a homogenization of the temperature over the bed adjusts, which contributes to a better and more homogeneous smelting.
Die Helium-Freisetzung aus den Quarzglasteilchen erfolgt kontinuierlich und gleichmäßig über die gesamte Schüttung. Auf ein zusätzliches Spülen der Schüttung durch Einleiten von Helium in den Schmelzbehälter kann verzichtet werden, oder die Heliummenge zum Spülen kann im Vergleich zu heliumfreier Einsatzkörnung verringert werden.The helium release from the quartz glass particles takes place continuously and uniformly over the entire bed. An additional purging of the bed by introducing helium into the melting vessel can be dispensed with, or the amount of helium for purging can be reduced in comparison to helium-free feed grain.
Die Helium-Freisetzung aus den Quarzglasteilchen ist umso ausgeprägter, je höher der anfänglich eingeschlossene Heliumgehalt ist. Vorzugsweise beträgt das Volumen des in den Körnungsteilchen eingeschlossenen Heliums mindestens 0,5 cm3/kg, vorzugsweise mindestens 10 cm3/kg.Helium release from the silica particles is more pronounced the higher the initially included helium content. Preferably, the volume of the trapped in the Körnungsteilchen helium is at least 0.5 cm 3 / kg, preferably at least 10 cm 3 / kg.
Der oben beschriebene Verglasungsprozess unter Helium bewirkt eine relativ hohe Beladung der Quarzglaskörnung mit diesem Gas. Der Gehalt an Helium pro 1 kg Quarzglaskörnung ist so, dass das Helium beim Ausgasen unter Normalbedingungen (bei Raumtemperatur (25°C) und Atmosphärendruck) ein Gasvolumen von mindestens 0,5 cm3, vorzugsweise mindestens 10 cm3, einnimmt. Beim Einschmelzen ergibt sich wegen thermischer Ausdehnung ein Gasvolumen an Helium bis zum 3- oder 4-fachen des Gasvolumens unter Normalbedingungen. Das Gasvolumen wird ermittelt, indem die Körnung bis zum Erweichen erhitzt und das die entweichende Gasart und deren spezifisches Gasvolumen ermittelt wird.The above-described glazing process under helium causes a relatively high loading of the quartz glass grains with this gas. The content of helium per 1 kg quartz glass grain is such that the helium during outgassing under normal conditions (at room temperature (25 ° C) and atmospheric pressure) occupies a gas volume of at least 0.5 cm 3 , preferably at least 10 cm 3 . During melting, a gas volume of helium results due to thermal expansion up to 3 or 4 times the gas volume under normal conditions. The gas volume is determined by heating the granules until softening and determining the escaping gas type and its specific gas volume.
Der Heliumgehalt in der verglasten Körnung ist durch den Gehalt an Helium in der Drehrohrofen-Atmosphäre einstellbar. Es hat sich bewährt, wenn das Behandlungsgas beim Verglasen gemäß Verfahrensschritt (b) mindestens 50% Helium enthält, vorzugsweise mindestens 95%.The helium content in the glazed grain is adjustable by the content of helium in the rotary kiln atmosphere. It has proven useful when the treatment gas in vitrification according to process step (b) contains at least 50% helium, preferably at least 95%.
Durch den Einsatz von Helium beim Verglasen gelingt ein vollständiges Verglasen der porösen Granulatteilchen bei vergleichsweise niedriger Temperatur und in kurzer Zeit. Durch einen hohen Gehalt an Helium in der Verglasungs-Atmosphäre von mehr als 50 Vol.-% wird außerdem eine besonders hohe Dichte und ein geringer Blasengehalt der verglasten Körnung erreicht. Der Restanteil der Verglasungs-Atmosphäre kann durch inerte Gase oder durch Stickstoff und/oder Sauerstoff gebildet werden, wobei der Volumenanteil der beiden zuletzt genannten Gase vorzugsweise weniger als 30 Vol.-% beträgt.Through the use of helium during vitrification, complete vitrification of the porous granule particles succeeds at a comparatively low temperature and in a short time. Due to a high content Helium in the glazing atmosphere of more than 50 vol .-% is also achieved a particularly high density and a low bubble content of the vitreous grain. The remaining portion of the vitrification atmosphere can be formed by inert gases or by nitrogen and / or oxygen, wherein the volume fraction of the latter two gases is preferably less than 30 vol .-%.
Die so verglaste Quarzglaskörnung enthält somit herstellungsbedingt Helium. Um dem in der Quarzglaskörnung eingeschlossenen Helium möglichst wenig Zeit zum Ausdiffundieren zu lassen, erfolgt das Abkühlen nach dem Verglasen möglichst rasch.The glazed quartz glass grains thus contain helium due to their production. In order to allow the helium trapped in the quartz glass grains as little time as possible to diffuse out, cooling takes place as quickly as possible after vitrification.
Die mit Helium beladene Quarzglaskörnung zeigt aus den oben erläuterten Gründen ein günstiges Einschmelzverfahren in einem Elektroschmelzprozess; insbesondere auch unter schwierigen Einschmelzbedingungen, das heißt, bei kurzen Aufschmelzdauern und großen Schmelzmassen, so dass die Dauer zum Entfernen von Restgasen aus der Schüttung im Schmelzprozess begrenzt ist und besonders hohe Anforderungen an die Reproduzierbarkeit der Temperaturverteilung innerhalb des Schmelzbehälters bestehen, wie etwa beim kontinuierlichen Einschmelzen der Körnung in einem Vertikal-Tiegelziehverfahren.The quartz glass grain loaded with helium shows, for the reasons explained above, a favorable smelting process in an electrofusion process; especially under difficult melting conditions, that is, with short melting times and large enamels, so that the duration for removing residual gases from the bed in the melting process is limited and there are particularly high demands on the reproducibility of the temperature distribution within the melt container, such as in continuous melting the grain in a vertical-Tiegelziehverfahren.
Vorzugsweise wird die Quarzglaskörnung daher für eine Anwendung eingesetzt, bei der der Schmelzbehälter als beheizte Schmelzform mit Bodenauslass ausgeführt ist, durch den die erweichte Quarzglasmasse kontinuierlich als Quarzglasstrang abgezogen wird.Preferably, the quartz glass grain is therefore used for an application in which the melting vessel is designed as a heated melt mold with bottom outlet, through which the softened quartz glass mass is withdrawn continuously as quartz glass strand.
Die Beladungskapazität der Quarzglasteilchen mit Helium und damit die Dauer der Ausgasung beim Einschmelzprozess hängen von der Größe der Quarzglasteilchen ab. Deren Größe wird von der ursprünglichen Größe der Granulatteilchen bestimmt. Das erfindungsgemäße Verfahren führt zu besonders guten Ergebnissen, wenn die Granulatteilchen eine mittlere Korngröße zwischen 100 und 2000 μm, vorzugsweise zwischen 200 μm und 400 μm, aufweisen.The loading capacity of the quartz glass particles with helium and thus the duration of outgassing during the melting process depend on the size of the quartz glass particles. Their size is determined by the original size of the granules. The inventive method leads to particularly good results when the granules have an average particle size between 100 and 2000 .mu.m, preferably between 200 .mu.m and 400 .mu.m.
Granulatteilchen mit einer mittleren Korngröße von mehr als 1000 μm lassen sich nur langsam verglasen. Besonders feinkörnige Quarzglaskörnung neigt zum Verbacken mit der Drehrohrwandung.Granulate particles with an average particle size of more than 1000 μm can be glazed only slowly. Particularly fine-grained quartz glass grains tend to cake with the Drehrohrwandung.
Um diesen Effekt zu minimieren hat es sich bewährt, einen Feinanteil des SiO2-Granulats mit Teilchengrößen von weniger als 100 μm vorab so einzustellen, dass er weniger als 10 Gew.-% des Granulat-Gesamtgewichts ausmacht.In order to minimize this effect, it has been found useful to pre-set a fines content of the SiO 2 granules with particle sizes of less than 100 μm so that it accounts for less than 10% by weight of the total granulate weight.
Für ein möglichst gleichmäßiges Verglasen der Granulatteilchen und eine möglichst homogene Beladung mit Helium sind etwa gleiche Teilchengrößen vorteilhaft. Im Hinblick hierauf hat es sich auch bewährt, wenn die Granulatteilchen eine enge Teilchengrößenverteilung aufweisen, bei der der dem D90-Wert zugeordnete Teilchendurchmesser maximal doppelt so groß ist wie der dem D10-Wert zugeordnete Teilchendurchmesser. Eine enge Teilchengrößenverteilung zeigt eine vergleichsweise geringe Schüttdichte, was einer Agglomeration beim Verlasen entgegenwirkt. Außerdem entfällt bei im Idealfall monomodaler Größenverteilung der Granulatteilchen der Gewichtsunterschied zwischen den Teilchen als Parameter für eine etwaige Separierung innerhalb der Schüttung, was einem gleichmäßigeren Verglasen der Schüttung förderlich ist.For a uniform as possible vitrification of the granules and a homogeneous as possible loading with helium about the same particle sizes are advantageous. In view of this, it has also been found that the granule particles have a narrow particle size distribution in which the particle diameter assigned to the D 90 value is at most twice as large as the particle diameter assigned to the D 10 value. A narrow particle size distribution shows a comparatively low bulk density, which counteracts agglomeration during desalination. In addition, in the ideally monomodal size distribution of the granules, the weight difference between the particles as a parameter for any separation within the bed, which promotes more uniform vitrification of the bed, is eliminated.
Die porösen Granulatteilchen werden im Drehrohr auf eine Temperatur erhitzt, die ein Verglasen bewirkt. Bewährt hat sich eine Temperatur im Bereich von 1300°C bis 1600°C. Bei Temperaturen von weniger als 1300°C ist zum vollständigen Verglasen eine lange Behandlungsdauer erforderlich. Vorzugsweise beträgt die Temperatur mindestens 1450°C. Bei Temperaturen oberhalb von 1600°C werden Drehrohr und Ofen thermisch übermäßig belastet.The porous granules are heated in the rotary tube to a temperature which causes vitrification. A temperature in the range of 1300 ° C to 1600 ° C has proven itself. At temperatures less than 1300 ° C, a long treatment time is required for complete vitrification. Preferably, the temperature is at least 1450 ° C. At temperatures above 1600 ° C rotary kiln and furnace are thermally excessively stressed.
Die mechanische Beanspruchung der Granulate durch die Rotation des Drehrohres vermindert die Gefahr von Agglomeratbildungen. Bei hohen Temperaturen oberhalb von etwa 1400°C kommt es jedoch zum teilweisen Erweichen des Quarzglases, so dass es in Bereichen mit geringer Bewegung zu Anhaftungen an der Drehrohrwandung kommen kann.The mechanical stress of the granules by the rotation of the rotary tube reduces the risk of agglomeration. At high temperatures above about 1400 ° C, however, it comes to partial softening of the quartz glass, so that in areas with little movement to adhesion to the Drehrohrwandung can occur.
Um dies zu verhindern, ist bei einer bevorzugten Verfahrensweise vorgesehen, dass die Granulatteilchen einer Vibration unterzogen werden.To prevent this, it is provided in a preferred procedure that the granules are subjected to a vibration.
Die Vibration kann durch Rütteln, Stollen oder Ultraschall erzeugt werden. Sie erfolgt regelmäßig oder impulsartig von Zeit zu Zeit.The vibration can be generated by shaking, cleats or ultrasound. It occurs regularly or impulsively from time to time.
Die hohe Verglasungs-Temperatur kann durch Brenner erzeugt werden, die auf die Granulatteilchen einwirken. Bevorzugt ist jedoch eine Verfahrensweise, bei der das Erhitzen mittels einer das Drehrohr umgebenden Widerstandsheizeinrichtung erfolgt. The high glazing temperature can be generated by burners acting on the granules. However, preference is given to a procedure in which the heating takes place by means of a resistance heater surrounding the rotary tube.
Der Wärmeeintrag von außen durch das Drehrohr erfordert eine Ausführung aus einer temperaturstabilen Keramik, wie oben erläutert. Durch diese Art der Beheizung wird verhindert, dass die Granulatteilchen mechanisch (durch Verblasen) oder chemisch (durch Verunreinigungen) von einem Brenngas beeinflusst werden.The heat input from the outside through the rotary tube requires an embodiment of a temperature-stable ceramic, as explained above. This type of heating prevents the granule particles from being influenced mechanically (by blowing) or chemically (by impurities) from a fuel gas.
Als Werkstoff für das Drehrohr kommt vorteilhafterweise eine Substanz in Betracht, die gleichzeitig die Viskosität von Quarzglas erhöht, vorzugsweise Al2O3, ZrO2, oder Si3N4.As a material for the rotary tube is advantageously a substance into account, at the same time increases the viscosity of quartz glass, preferably Al 2 O 3, ZrO 2, or Si 3 N 4.
Dieser Werkstoff hat in dem Fall die zusätzliche Eigenschaft, dass er einen Dotierstoff enthält, der zu einer Erhöhung der Viskosität von Quarzglas und damit zu einer Verbesserung der thermischen Stabilität von Quarzglasbauteilen beiträgt. Die porösen Granulatteilchen, die den Dotierstoff nicht oder in einer nicht ausreichenden Konzentration enthalten, werden in dem Drehrohr kontinuierlich erhitzt und dabei umgewälzt. Durch den Kontakt mit der den Dotierstoff enthaltenden Innenwandung ergibt sich ein feinteiliger Abrieb, der zu einer gewünschten Dotierung der Granulatteilchen führt oder dazu beiträgt. Der Dotierstoff liegt im Quarzglas in der Regel als Oxid vor. Ein Kerngedanke dieser Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht somit darin, das vollständige Verglasen der porösen SiO2-Granulatteilchen in einem Drehrohrofen bei hoher Temperatur durchzuführen, was ermöglicht wird durch eine geeignete Atmosphäre beim Verglasen und durch einen temperaturfesten Werkstoff für das Drehrohr, der gleichzeitig durch Abrieb als Dotierstoffquelle für die Quarzglaskörnung dient. Dieses Verfahren ermöglicht ein kontinuierliches Verglasen der SiO2-Granulatteilchen und dabei gleichzeitig das homogene Beladen mit dem die Viskosität erhöhenden Dotierstoff.This material in the case has the additional property that it contains a dopant, which contributes to an increase in the viscosity of quartz glass and thus to an improvement in the thermal stability of quartz glass components. The porous granule particles which do not contain the dopant or in an insufficient concentration are heated continuously in the rotary tube and thereby circulated. The contact with the dopant-containing inner wall results in a finely divided abrasion, which leads to a desired doping of the granules or contributes to it. The dopant is usually present in the quartz glass as an oxide. A core idea of this embodiment of the method according to the invention is thus to carry out the complete vitrification of the porous SiO 2 granules in a rotary kiln at high temperature, which is made possible by a suitable atmosphere during vitrification and by a temperature-resistant material for the rotary tube, the same time by abrasion serves as a dopant source for the Quarzglaskörnung. This method allows a continuous vitrification of the
Als geeignete Dotierstoffe in diesem Sinne kommen insbesondere Al2O3 und Stickstoff (in Form von Si3N4) in Betracht. Für einen ausreichenden Eintrag dieser Dotierstoffe ist es vorteilhaft, wenn die Drehrohr-Innenwandung zumindest im hochbelasteten Bereich zu mindestens 90 Gew.-%, vorzugsweise zu mindestens 99 Gew.-% aus der betreffenden Substanz besteht.Suitable dopants in this sense are in particular Al 2 O 3 and nitrogen (in the form of Si 3 N 4 ) into consideration. For a sufficient entry of these dopants, it is advantageous if the rotary tube inner wall, at least in the highly loaded region to at least 90 wt .-%, preferably at least 99 wt .-% consists of the substance in question.
Insbesondere Al2O3 zeichnet sich durch eine hohe Temperaturfestigkeit, eine gute Temperaturwechselbeständigkeit sowie Korrosionsfestigkeit aus. Im einfachsten Fall besteht die gesamte Innenwandung des Drehrohres aus Al2O3. Andernfalls besteht derjenige Teil des Drehrohres aus Al2O3, der der höchsten Temperaturbelastung ausgesetzt ist.In particular, Al 2 O 3 is characterized by a high temperature resistance, good thermal shock resistance and corrosion resistance. In the simplest case, the entire inner wall of the rotary tube consists of Al 2 O 3 . Otherwise, that part of the rotary tube made of Al 2 O 3 , which is exposed to the highest temperature load.
Bei hohen Temperaturen können die Granulatteilchen und die verglasten Quarzglasteilchen durch Abrieb des Materials der Drehrohr-Innenwandung verunreinigt werden. Bereits geringe Alkaligehalte erhöhen die Entglasungsneigung von Quarzglas beträchtlich. Daher weist die Substanz der Drehrohr-Innenwandung vorzugsweise einen Alkaligehalt von weniger als 0,5% auf.At high temperatures, the granule particles and vitrified silica glass particles may be contaminated by abrasion of the material of the rotary tube inner wall. Even small amounts of alkali considerably increase the devitrification tendency of quartz glass. Therefore, the substance of the rotary tube inner wall preferably has an alkali content of less than 0.5%.
Für eine Dotierung der Quarzglasteilchen mit Al2O3 wird dieser Kontamination durch Verunreinigungen entgegengewirkt, wenn das Drehrohr aus synthetisch hergestelltem Al2O3 besteht.For a doping of the quartz glass particles with Al 2 O 3 , this contamination is counteracted by impurities when the rotary tube is made of synthetically produced Al 2 O 3 .
Synthetisch hergestelltes Al2O3 mit einer Reinheit von mehr als 99 Gew.-% ist unter dem Handelsnamen „Alsint” bekannt. Um Materialkosten zu minimieren, kann der synthetische Werkstoff auf den Bereich einer dünnen Innenauskleidung des Drehrohres beschränkt sein.Synthetically produced Al 2 O 3 having a purity of more than 99% by weight is known by the trade name "Alsint". To minimize material costs, the synthetic material may be limited to the area of a thin inner lining of the rotary tube.
Bei Einsatz eines Al2O3-haltigen Drehrohres kann so auf einfache Art und Weise eine Al2O3-Dotierung der Quarzglaskörnung im Bereich von 1 bis 20 Gew-ppm erzeugt werden.When using an Al 2 O 3 -containing rotary tube, it is thus possible in a simple manner to produce an Al 2 O 3 doping of the quartz glass grain in the range from 1 to 20 ppm by weight.
Alternativ dazu besteht die Drehrohr-Innenwandung aus ZrO2 oder TiO2.Alternatively, the rotary tube inner wall consists of ZrO 2 or TiO 2 .
Diese Werkstoffe zeichnen sich durch ausreichend hohe Schmelztemperaturen für das Verglasen des SiO2-Granulats aus (ZTO2: ca. 2700°C; TiO2: ca. 1855°C) und sie sind in geringer Konzentration für viele Anwendungen als Verunreinigung unschädlich, wie etwa für die Halbleiterfertigung.These materials are characterized by sufficiently high melting temperatures for the vitrification of the SiO 2 granules (ZTO 2 : about 2700 ° C, TiO 2 : about 1855 ° C) and they are harmless in low concentration for many applications as an impurity such for example for semiconductor production.
Im Hinblick auf ein reproduzierbares und kostengünstiges Herstellungsverfahren wird das SiO2-Granulat vor dem Verglasen einer Reinigung durch Erhitzen in einer halogenhaltigen Atmosphäre unterzogen, wobei das Reinigen des SiO2-Granulats in einem zweiten Drehrohrofen erfolgt.With a view to a reproducible and cost-effective production method, the SiO 2 granules are subjected to a cleaning by heating in a halogen-containing atmosphere before the vitrification, wherein the cleaning of the SiO 2 granulate takes place in a second rotary kiln.
Bei dieser Verfahrensvariante erfolgen die sich an die Granulatherstellung anschließenden thermischen Hochtemperatur-Behandlungsschritte, nämlich das Reinigen und das Verglasen, jeweils in einem Drehrohrofen. Dadurch wird ein weitgehend kontinuierlicher Herstellungsprozess erreicht und ein Wechsel des Ofensystems vermieden. Dies erleichtert die zeitliche Abstimmung und räumliche Anpassung bei aufeinander folgenden Behandlungsschritten und trägt zu einer Verkürzung der Durchlaufzeit des Granulats bei. In this variant of the method, the high-temperature thermal treatment steps subsequent to the granule production, namely the cleaning and the vitrification, are carried out in a rotary kiln. As a result, a largely continuous production process is achieved and a change of the furnace system is avoided. This facilitates the timing and spatial adjustment in successive treatment steps and contributes to a reduction in the throughput time of the granules.
Die Drehrohrofen sind auf die spezifischen Anforderungen des jeweiligen Behandlungsschritts angepasst. Dabei kann ein Drehrohrofen in mehrere voneinander abgeschottete Behandlungsräume unterteilt sein. Insbesondere können bei bereits weitgehend trockenem Granulat das Fertigtrocknen und Reinigen in einem Verfahrensschritt in einem Reinigungsofen erfolgen. Im Idealfall ist aber für jeden der Behandlungsschritte Trocknen, Reinigen und Verglasen ein eigener Drehrohrofen vorgesehen. Dadurch können Behandlungsdauer, -temperatur und -atmosphäre jeweils unabhängig voneinander an den jeweiligen Prozess optimiert werden, was zu einem qualitativ besseren Endprodukt führt. Dadurch kann beispielsweise bei den Übergängen vom Trocknen zum Reinigen und vom Reinigen zum Verglasen jeweils die Restwärme vom Vorprozess genutzt werden.The rotary kilns are adapted to the specific requirements of the respective treatment step. In this case, a rotary kiln can be divided into a plurality of separate treatment rooms. In particular, in already largely dry granules, the finished drying and cleaning can take place in one process step in a cleaning oven. Ideally, however, a separate rotary kiln is provided for each of the treatment steps drying, cleaning and glazing. As a result, treatment duration, temperature and atmosphere can each be optimized independently of the respective process, resulting in a better quality final product. As a result, the residual heat from the pre-process can be used, for example, in the transitions from drying to cleaning and from cleaning to glazing.
Im Fall von Drehrohren aus unterschiedlichen Werkstoffen können diese stoßweise aneinander grenzen, vorzugsweise sind sie aber mit gewissem Spiel ineinandergesteckt, um Probleme wegen unterschiedlicher thermischer Ausdehnungskoeffizienten der jeweiligen Werkstoffe zu vermindern.In the case of rotary tubes made of different materials, these can interfere with each other intermittently, but they are preferably inserted into each other with a certain play in order to reduce problems due to different thermal expansion coefficients of the respective materials.
Um die Atmosphären in den unterschiedlichen Zonen des Drehrohrofens weitgehend unabhängig voneinander einstellen zu können, sind benachbarte Zonen des Drehrohrofens fluidisch voneinander in gewissem Maße separiert und zu diesem Zweck vorzugsweise durch mit Öffnungen versehene Trennscheiben oder durch Labyrinthfallen unterteilt.In order to set the atmospheres in the different zones of the rotary kiln largely independently of each other, adjacent zones of the rotary kiln are fluidly separated from each other to some extent and for this purpose preferably divided by apertured cutting discs or by labyrinth traps.
Das Reinigen im Drehrohr erfolgt unter chlorhaltiger Atmosphäre bei einer Temperatur im Bereich zwischen 900 und 1250°C. Die chlorhaltige Atmosphäre bewirkt insbesondere eine Reduzierung an Alkali- und Eisenverunreinigungen aus dem SiO2-Granulat. Bei Temperaturen unterhalb von 900°C ergeben sich lange Behandlungsdauern und bei Temperaturen oberhalb von 1250°C besteht die Gefahr des Dichtsinterns des porösen Granulats unter Einschluss von Chlor oder gasförmigen Chlorverbindungen.The cleaning in the rotary tube takes place under a chlorine-containing atmosphere at a temperature in the range between 900 and 1250 ° C. The chlorine-containing atmosphere in particular causes a reduction in alkali and iron impurities from the SiO 2 granules. At temperatures below 900 ° C, long treatment times result and at temperatures above 1250 ° C there is a risk of dense sintering of the porous granules including chlorine or gaseous chlorine compounds.
Im Sinne einer weitgehend kontinuierlichen Verfahrensweise wird auch zum Trocknen und zum Reinigen des SiO2-Granulats nur ein Drehrohrofen eingesetzt, wobei dieser in Richtung der Mittelachse gesehen in Zonen unterteilt ist, umfassend eine Trocknungszone und eine Reinigungszone.In the sense of a largely continuous procedure, only one rotary kiln is used for drying and for cleaning the SiO 2 granulate, wherein this is divided into zones in the direction of the central axis, comprising a drying zone and a cleaning zone.
Die Unterteilung in Zonen erfolgt vorzugsweise wiederum bevorzugt durch mit Öffnungen versehene Trennscheiben oder durch Labyrinthfallen. Im Bereich der Trocknungs- und Reinigungszone besteht die Innenwandung des Drehrohres vorzugsweise aus Quarzglas, um Verunreinigungen des Granulats zu vermeiden.The subdivision into zones is preferably again preferably by apertured cutting discs or by labyrinth traps. In the area of the drying and cleaning zone, the inner wall of the rotary tube is preferably made of quartz glass in order to avoid contamination of the granules.
Laufen mehrere Prozessschritte in einem gemeinsamen Drehrohrofen ab, wie etwas Trocknen/Reinigen oder Reinigen/Verglasen kann jede der Zonen mit einer eigenen Heizeinrichtung versehen sein. Im Hinblick auf eine gute Energieausnutzung werden die Drehrohre zum Reinigen und Verglasen jeweils mittels einer das Drehrohr umgebenden Widerstandsheizeinrichtung beheizt.If several process steps take place in a common rotary kiln, such as some drying / cleaning or cleaning / vitrification, each of the zones can be provided with its own heating device. With regard to a good utilization of energy, the rotary tubes for cleaning and vitrification are respectively heated by means of a resistance heater surrounding the rotary tube.
Das Trocknen des Granulats erfolgt vorzugsweise durch Erwärmen unter Luft bei einer Temperatur im Bereich zwischen 200 und 600°C.The drying of the granules is preferably carried out by heating under air at a temperature in the range between 200 and 600 ° C.
Bei dieser Verfahrensweise ist für das Trocknen des Granulats ein separater Trocknungsofen vorgesehen, der vorzugsweise als Drehrohrofen ausgebildet ist. Die Temperatur ist konstant oder wird bei Trocknungsfortschritt erhöht. Bei Temperaturen unterhalb von 200°C ergeben sich lange Trocknungsdauern. Oberhalb von 600°C kann es zu einem raschen Austritt eingeschlossener Gase kommen, der zur Zerstörung der Granulate führen kann.In this procedure, a separate drying oven is provided for drying the granules, which is preferably designed as a rotary kiln. The temperature is constant or increases as the drying progresses. At temperatures below 200 ° C, long drying times result. Above 600 ° C, there may be a rapid escape of trapped gases, which can lead to the destruction of the granules.
Die verglasten Quarzglasteilchen sind zur Herstellung von Bauteilen aus opakem oder transparentem Quarzglas einsetzbar, wie beispielsweise eines Rohres aus opakem Quarzglas, das in einem Schleuderverfahren hergestellt wird. Sie können auch als teilchenförmiges Ausgangsmaterial zur Herstellung eines Quarzglaszylinders im sogenannten Verneuil-Verfahren oder zur Herstellung eines Quarzglastiegels eingesetzt werden. Erfindungsgemäß werden sie wegen ihres vergleichsweise hohen Heliumgehalts jedoch durch Einschmelzen in einem elektrisch beheizten Schmelzbehälter eingesetzt, wie oben erläutert.The glazed quartz glass particles are useful for making components of opaque or transparent quartz glass, such as an opaque quartz glass tube, which is made by a spin coating process. They can also be used as a particulate starting material for producing a quartz glass cylinder in the so-called Verneuil process or for producing a quartz glass crucible. However, according to the invention, because of their comparatively high helium content, they are used by melting in an electrically heated melting vessel, as explained above.
Ausführungsbeispiel embodiment
Nachfolgend wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels und einer Zeichnung näher erläutert. Es zeigt in schematischer DarstellungThe invention will be explained in more detail with reference to an embodiment and a drawing. It shows in a schematic representation
Der Drehrohrofen
Die offene Entnahmeseite
Im Folgenden wird das erfindungsgemäße Verfahren anhand von Ausführungsbeispielen näher beschrieben:The method according to the invention is described in more detail below on the basis of exemplary embodiments:
Herstellung, Trocknung und Reinigung von SiO2-GranulatProduction, drying and cleaning of SiO 2 granules
Beispiel AExample A
Das Granulat wurde durch Granulation eines Schlickers mit 60 Gew.-% Restfeuchte aus pyrogener Kieselsäure (nanoskaliges SiO2-Pulver, SiO2-Sootstaub) und VE-Wasser im Intensivmischer hergestellt. Nach der Granulation beträgt die Restfeuchte < 20%. Das Granulat wurde auf Korngrößen < 3 mm abgesiebt.The granules were prepared by granulation of a slurry with 60 wt .-% residual moisture content of fumed silica (nanoscale SiO 2 powder, SiO 2 soot dust) and deionized water in the intensive mixer. After granulation, the residual moisture is <20%. The granules were sieved to particle sizes <3 mm.
Durch Trocknung bei 400°C in einem Drehrohrofen (Durchsatz: 20 kg/h) unter Luft wurde die Restfeuchte auf < 1% abgesenkt. Es erfolgt eine Absiebung auf die Fraktion 100 bis 750 μμm, das heißt, der Feinanteil mit Korngrößen < 100 μm wird entfernt.By drying at 400 ° C in a rotary kiln (throughput: 20 kg / h) under air, the residual moisture was lowered to <1%. There is a screening on the fraction 100 to 750 μμm, that is, the fines with particle sizes <100 microns is removed.
Anschließend erfolgt eine Reinigung und weitere Trocknung in HCl-haltiger Atmosphäre im Drehrohrofen bei einer Maximaltemperatur von 1040°C (Durchsatz: 10 kg/h). Dabei wird die spezifische Oberfläche (BET) um ca. 50% verringert.This is followed by cleaning and further drying in an HCl-containing atmosphere in a rotary kiln at a maximum temperature of 1040 ° C. (throughput: 10 kg / h). The specific surface area (BET) is reduced by approx. 50%.
Es wurde ein SiO2-Granulat aus synthetischem, undotiertem Quarzglas mit hoher Reinheit erhalten. Es besteht im Wesentlichen aus porösen, sphärischen Teilchen mit einer Teilchengrößenverteilung mit einem D10-Wert von 200 μm, einem D90-Wert von 400 μm und einem mittleren Teilchen-Durchmesser (D50-Wert) von 300 μm.An SiO 2 granulate of synthetic undoped quartz glass of high purity was obtained. It consists essentially of porous, spherical particles having a particle size distribution with a D 10 value of 200 μm, a D 90 value of 400 μm and an average particle diameter (D 50 value) of 300 μm.
Beispiel BExample B
Das Granulat wurde durch Schnellgranulation aus pyrogener Kieselsäure (nanoskaliges SiO2-Pulver, SiO2-Sootstaub) und VE-Wasser im Intensivmischer hergestellt. Dazu wird VE-Wasser im Intensivmischer vorgelegt und unter Mischung pyrogene Kieselsäure zugegeben, bis die Restfeuchte ca. 23 Gew.-% beträgt und ein Granulat hergestellt ist. Das Granulat wird auf Korngrößen ≤ 2 mm abgesiebt. Grobe Teilchen können vorab durch Einsatz eines Walzenbrechers zerkleinert werden, um die Ausbeute zu erhöhen.The granules were prepared by rapid granulation from fumed silica (nanoscale SiO 2 powder, SiO 2 soot dust) and deionized water in the intensive mixer. For this purpose, demineralised water is used in the intensive mixer submitted and added with a mixture of fumed silica until the residual moisture content is about 23 wt .-% and a granulate is prepared. The granules are sieved to particle sizes ≤ 2 mm. Coarse particles can be ground in advance by using a roll crusher to increase the yield.
Durch Trocknung bei 350°C in einem Drehrohrofen (Durchsatz 15 kg/h) unter Luft wird die Restfeuchte auf < 1% abgesenkt. Der Feinanteil mit Korngrößen < 100 μm wurde entfernt; ansonsten erfolgte keine weitere Absiebung.By drying at 350 ° C in a rotary kiln (
Anschließend erfolgt eine Reinigung und weitere Trocknung in HCl-haltiger Atmosphäre im Drehrohrofen bei Temperaturen von 1050–1150°C (Durchsatz: 10 kg/h). Die Summe chemischer Verunreinigungen wird bei der Heißchlorierung auf kleiner 1/10 des Ausgangsmaterials verringert (d. h. auf < 10 ppm).This is followed by cleaning and further drying in an HCl-containing atmosphere in a rotary kiln at temperatures of 1050-1150 ° C. (throughput: 10 kg / h). The total of chemical impurities is reduced to less than 1/10 of the starting material during hot chlorination (i.e., <10 ppm).
Das Granulat besteht im Wesentlichen aus porösen Teilchen mit einer Teilchengrößenverteilung mit einem D10-Wert von 300 μm, einem D90-Wert von 450 μm und einem mittleren Teilchen-Durchmesser (D50-Wert) von 350 μm.The granules essentially consist of porous particles having a particle size distribution with a D 10 value of 300 μm, a D 90 value of 450 μm and an average particle diameter (D 50 value) of 350 μm.
Verglasen des GranulatsGlazing of the granules
Dem um seine Rotationsachse
Das Drehrohr
Der Innenraum
Da das Drehrohr
Ein bislang als ideal gefundenes axiales Temperaturprofil über die Länge des Drehrohres
In diesem Prozessstadium ist der Heliumgehalt der verglasten Quarzglasteilchen
Kommt es zu Agglomeraten, werden diese infolge der mechanischen Beanspruchung in der sich bewegenden Granulat-Schüttung
Gleichzeitig kommt es zu einem gleichmäßigen Abrieb von Al2O3, das auf die Oberfläche der Granulatteilchen
Die vollständig verglasten und homogen dotierten Quarzglasteilchen haben eine Dichte von mehr als 2,0 g/cm3 und eine BET-Oberfläche von weniger als 1 m2/g und sie weisen einen vergleichsweise hohen Heliumgehalt auf. Die Quarzglaskörnung wird über das Austragsgehäuse
Ziehen eines Quarzglasrohres aus einem TiegelDrawing a quartz glass tube from a crucible
Die so erzeugte, mit Helium beladene und homogen mit Al2O3 dotierte Quarzglaskörnung wird zur Herstellung eines Quarzglasrohres in einem Vertikal-Tiegelziehverfahren eingesetzt.The thus produced, loaded with helium and homogeneously doped with Al 2 O 3 quartz glass grain is used for the production of a quartz glass tube in a vertical crucible pulling process.
Der in
Der Schmelztiegel
Durch die Abdeckung
Im Bodenbereich des Schmelztiegels
Die weiche Quarzglasmasse
Das Gewicht der Quarzglasmasse
Beim Durchlaufen des Schmelztiegels von oben nach unten setzt die Quarzglaskörnung das eingeschlossene Helium frei, so dass sich dieses innerhalb der Schüttung der Quarzglaskörnung
Das abgezogene Quarzglasrohr wurde in Bezug auf Blasen, Einschlüsse und Schlieren optisch untersucht. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 unter Probe A zusammengefasst. Bei der Vergleichsprobe C wurde heliumfreie Standard-Quarzglaskörnung gleicher Korngröße eingesetzt und gleichermaßen verarbeitet wie oben für Probe B erläutert. Bei Probe C wurde Standard-Quarzglas und Helium enthaltende Quarzglaskörnung im Verhältnis 50:50 vorab homogen vermischt. Tabelle 1
Die Qualität hinsichtlich des Auftretens von Blasen, Schlieren und Einschlüssen ist in Tabelle 1 qualitativ bewertet. Dabei setzt sich die Symbolik der qualitativen Bewertung wie folgt um:
„++” sehr gut,
„+” gut,
„0” akzeptabel,
„–” schlechtThe quality of occurrence of bubbles, streaks and inclusions is qualitatively evaluated in Table 1. The symbolism of the qualitative evaluation is as follows:
"++" very good,
"+" Good,
"0" acceptable,
"-" bad
Claims (16)
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE201210008123 DE102012008123B4 (en) | 2012-04-25 | 2012-04-25 | Process for the production of a shaped body of electro-melted synthetic quartz glass |
| CN201380017833.2A CN104185613B (en) | 2012-04-05 | 2013-03-26 | Method for production of mold body from electrically melted synthetic quartz glass |
| JP2015503821A JP6129293B2 (en) | 2012-04-05 | 2013-03-26 | Method for producing a molded body from electrically fused synthetic quartz glass |
| EP13712545.6A EP2834200B1 (en) | 2012-04-05 | 2013-03-26 | Method for the production of a mold body from an electrically melted synthetic quartz glass |
| PCT/EP2013/056364 WO2013149882A1 (en) | 2012-04-05 | 2013-03-26 | Method for the production of a mold body from an electrically melted synthetic quartz glass |
| US14/391,005 US20150052948A1 (en) | 2012-04-05 | 2013-03-26 | Method for producing a molded body from an electrically melted synthetic quartz glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE201210008123 DE102012008123B4 (en) | 2012-04-25 | 2012-04-25 | Process for the production of a shaped body of electro-melted synthetic quartz glass |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102012008123A1 DE102012008123A1 (en) | 2013-10-31 |
| DE102012008123B4 true DE102012008123B4 (en) | 2014-12-24 |
Family
ID=49322960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE201210008123 Active DE102012008123B4 (en) | 2012-04-05 | 2012-04-25 | Process for the production of a shaped body of electro-melted synthetic quartz glass |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE102012008123B4 (en) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017103120A1 (en) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Production of a synthetic quartz glass granulate |
| CN108698891A (en) * | 2015-12-18 | 2018-10-23 | 贺利氏石英玻璃有限两合公司 | Gas bleed for melting baking oven and the method for preparing quartz glass |
| JP6984897B2 (en) | 2015-12-18 | 2021-12-22 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | Increased silicon content during quartz glass preparation |
| JP6881776B2 (en) | 2015-12-18 | 2021-06-02 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | Preparation of opaque quartz glass body |
| US11492285B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-11-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of quartz glass bodies from silicon dioxide granulate |
| EP3390304B1 (en) | 2015-12-18 | 2023-09-13 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Spray granulation of silicon dioxide in the production of quartz glass |
| EP3390294B1 (en) | 2015-12-18 | 2024-02-07 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Reduction of alkaline earth metal content of silica granule by treatment at high temperature of carbon doped silica granule |
| US10730780B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-08-04 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven |
| KR20180095616A (en) | 2015-12-18 | 2018-08-27 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 ＆ 컴파니 케이지 | Preparation of silica glass body using dew point control in melting furnace |
| KR20180095622A (en) | 2015-12-18 | 2018-08-27 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 ＆ 컴파니 케이지 | Manufacture of Silica Glass Products from Molten Crucibles Made of Refractory Metals |
| WO2017103153A1 (en) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Glass fibers and preforms made of quartz glass having low oh, cl, and al content |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2550929A1 (en) * | 1974-11-18 | 1976-05-20 | Philips Nv | METHOD OF MANUFACTURING QUARTZ GLASS OBJECTS BY DRAWING |
| US4225443A (en) * | 1978-03-22 | 1980-09-30 | The Taulman Company | Sintered-glass-granule filter medium |
| WO1988003914A1 (en) * | 1986-11-20 | 1988-06-02 | Tsl Group Plc | Vitreous silica |
| JPH10287416A (en) * | 1997-04-08 | 1998-10-27 | Mitsubishi Chem Corp | Production of synthetic quartz powder |
| EP1076043A2 (en) * | 1999-08-13 | 2001-02-14 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Process for producing dense quartz glass granules |
| EP1088789A2 (en) * | 1999-09-28 | 2001-04-04 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Porous silica granule, its method of production and its use in a method for producing quartz glass |
| DE102004038602B3 (en) * | 2004-08-07 | 2005-12-29 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Process for making quartz glass for use in the manufacture of lamps and semiconductors involves melting glass by electrically heating in a vacuum, the glass containing a specified concentration of temperature-stable hydroxyl groups |
| DE102012006914A1 (en) * | 2012-04-05 | 2013-10-10 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Process for the preparation of synthetic quartz glass grains |
-
2012
- 2012-04-25 DE DE201210008123 patent/DE102012008123B4/en active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2550929A1 (en) * | 1974-11-18 | 1976-05-20 | Philips Nv | METHOD OF MANUFACTURING QUARTZ GLASS OBJECTS BY DRAWING |
| US4225443A (en) * | 1978-03-22 | 1980-09-30 | The Taulman Company | Sintered-glass-granule filter medium |
| WO1988003914A1 (en) * | 1986-11-20 | 1988-06-02 | Tsl Group Plc | Vitreous silica |
| JPH10287416A (en) * | 1997-04-08 | 1998-10-27 | Mitsubishi Chem Corp | Production of synthetic quartz powder |
| EP1076043A2 (en) * | 1999-08-13 | 2001-02-14 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Process for producing dense quartz glass granules |
| EP1088789A2 (en) * | 1999-09-28 | 2001-04-04 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Porous silica granule, its method of production and its use in a method for producing quartz glass |
| DE102004038602B3 (en) * | 2004-08-07 | 2005-12-29 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Process for making quartz glass for use in the manufacture of lamps and semiconductors involves melting glass by electrically heating in a vacuum, the glass containing a specified concentration of temperature-stable hydroxyl groups |
| DE102012006914A1 (en) * | 2012-04-05 | 2013-10-10 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Process for the preparation of synthetic quartz glass grains |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE102012008123A1 (en) | 2013-10-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2834200B1 (en) | Method for the production of a mold body from an electrically melted synthetic quartz glass | |
| DE102012008123B4 (en) | Process for the production of a shaped body of electro-melted synthetic quartz glass | |
| DE102012006914B4 (en) | Process for the preparation of synthetic quartz glass grains | |
| DE102012008437B3 (en) | Producing synthetic quartz glass granules, comprises vitrifying pourable silicon dioxide granules made of porous granules that is obtained by granulating pyrogenically produced silicic acid, in rotary kiln | |
| EP2632865B1 (en) | Method for producing synthetic quartz glass granules | |
| EP3000790B1 (en) | Method for synthetic quartz-glass production from SiO2 granulate and SiO2 granulate suitable for the same | |
| DE102010008162B4 (en) | Method for the production of quartz glass for a quartz glass crucible | |
| DE10019693B4 (en) | Method for producing a component of opaque, synthetic quartz glass, quartz glass tube produced by the method, and use thereof | |
| DE19962449C2 (en) | Quartz glass crucibles and process for its production | |
| EP2315727B1 (en) | Method for producing quartz glass doped with nitrogen | |
| EP1240114B1 (en) | Method for the production of opaque quartz glass, sio2 granulate suitable for use in performing the method and a component made of opaque quartz glass | |
| DE102004038602B3 (en) | Process for making quartz glass for use in the manufacture of lamps and semiconductors involves melting glass by electrically heating in a vacuum, the glass containing a specified concentration of temperature-stable hydroxyl groups | |
| DE102008030310B3 (en) | Process to fabricate quartz glass crucible with coarse silicon dioxide grains under barrier layer of fine grains | |
| EP2697179B1 (en) | Method for producing foam glass by recycling a waste glass mixture | |
| EP3381870B1 (en) | Method for producing a component made of rare earth doped quartz glass | |
| DE112011101801B4 (en) | Process for the preparation of quartz glass grains |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R012 | Request for examination validly filed | ||
| R016 | Response to examination communication | ||
| R016 | Response to examination communication | ||
| R016 | Response to examination communication | ||
| R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
| R020 | Patent grant now final |