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DE102017114845B3 - Chamber wall element, insulating tile, chamber wall element arrangement and process chamber arrangement - Google Patents

Chamber wall element, insulating tile, chamber wall element arrangement and process chamber arrangement Download PDF

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DE102017114845B3
DE102017114845B3 DE102017114845.0A DE102017114845A DE102017114845B3 DE 102017114845 B3 DE102017114845 B3 DE 102017114845B3 DE 102017114845 A DE102017114845 A DE 102017114845A DE 102017114845 B3 DE102017114845 B3 DE 102017114845B3
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insulating
tiles
wall element
chamber
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Daniel Helbig
Michael Hentschel
Daniel Stange
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Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
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Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
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Abstract

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Trägeranordnung (104) Folgendes aufweisen: zwei einander benachbarte Trägerstrukturen (114a, 114b), welche in einem Abstand voneinander angeordnet sind und sich entlang einer Einschubrichtung (105) erstrecken derart, dass zwischen diesen ein Aufnahmeraum (110) gebildet ist zum Aufnehmen mehrerer Isolierkacheln (200), wobei die zwei einander benachbarten Trägerstrukturen (114a, 114b) jeweils einen Eingriffsabschnitt (124a, 124b) aufweisen, der sich zumindest abschnittsweise entlang der Einschubrichtung erstreckt und in den Aufnahmeraum (110) hineinragt derart, dass die mehreren Isolierkacheln (200) entlang der Einschubrichtung in den Aufnahmeraum (110) eingeschoben werden können und mittels der jeweiligen Eingriffsabschnitte (124a, 124b) in dem Aufnahmeraum (110) gehalten werden können.According to various embodiments, a carrier assembly (104) may include: two adjacent support structures (114a, 114b) spaced apart from one another and extending along an insertion direction (105) such that a receiving space (110) is formed therebetween for receiving a plurality of insulating tiles (200), the two adjacent support structures (114a, 114b) each having an engagement portion (124a, 124b) extending at least in sections along the insertion direction and projecting into the receiving space (110) such that the plurality of Insulating tiles (200) along the insertion direction in the receiving space (110) can be inserted and held by means of the respective engagement portions (124a, 124b) in the receiving space (110).

Description

Die Erfindung betrifft ein Kammerwandelement gemäß Anspruch 1, eine Isolierkachel gemäß Anspruch 9, eine Kammerwandelement-Anordnung gemäß Anspruch 11 und eine Prozesskammer-Anordnung gemäß Anspruch 13. Weitere Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.The invention relates to a chamber wall element according to claim 1, an insulating tile according to claim 9, a chamber wall element arrangement according to claim 11 and a process chamber arrangement according to claim 13. Further embodiments of the invention will become apparent from the dependent claims.

Im Allgemeinen werden viele verschiedene Verfahren zum Prozessieren von Substraten verwendet. Als Substrate können beispielsweise Glasscheiben, Kunststoffplatten, Metallbänder, Folien, Wafer, Werkstücke oder Ähnliches verwendet werden. Die Substrate können beispielsweise mittels einer Prozessiervorrichtung prozessiert werden, z.B. mittels einer Beschichtungsvorrichtung beschichtet werden, mittels einer Ätzvorrichtung gereinigt oder strukturiert werden, mittels einer Heizvorrichtung und/oder einer Kühlvorrichtung einer Temperaturbehandlung unterzogen werden, oder Ähnliches. Dabei werden die Substrate herkömmlicherweise in mindestens einem Prozessierbereich in einer Prozesskammer prozessiert. Als Prozesskammer kann beispielsweise eine Vakuum-Prozesskammer, eine Atmosphärendruck-Prozesskammer oder eine Überdruck-Prozesskammer verwendet werden. Dabei können die Substrate einzeln oder im Verbund prozessiert werden.In general, many different methods of processing substrates are used. As substrates, for example, glass sheets, plastic plates, metal strips, films, wafers, workpieces or the like can be used. For example, the substrates may be processed by a processing device, e.g. be coated by a coating device, cleaned or patterned by means of an etching device, subjected to a temperature treatment by means of a heating device and / or a cooling device, or the like. In this case, the substrates are conventionally processed in at least one processing area in a process chamber. As a process chamber, for example, a vacuum process chamber, an atmospheric pressure process chamber or an overpressure process chamber can be used. In this case, the substrates can be processed individually or in combination.

Im Allgemeinen kann es erforderlich sein, in einem Prozessierbereich einer Prozesskammer eine vordefinierte Temperatur bereitzustellen oder, mit anderen Worten, ein Substrat oder mehrere Substrate in dem Prozessierbereich auf eine vordefinierte Temperatur zu erwärmen. Dabei kann es schwierig sein, den Prozessierbereich von einer äußeren Kammerwand der Prozesskammer auf effiziente Weise thermisch zu isolieren. Insbesondere bei einer Prozesskammer ergeben sich neben den Anforderungen an die gewünschte thermische Isolierung weitere zu beachtende Aspekte wie ein möglichst geringer Bauraum, eine Verträglichkeit mit einer in der Prozesskammer bereitgestellten Atmosphäre oder Vakuum, eine einfache und kostengünstige Montage oder Wartung, und Ähnliches.In general, it may be necessary to provide a predefined temperature in a processing area of a process chamber or, in other words, to heat one or more substrates in the processing area to a predefined temperature. It may be difficult to thermally isolate the processing area from an outer chamber wall of the process chamber in an efficient manner. In particular, in the case of a process chamber, apart from the requirements for the desired thermal insulation, further aspects to be considered arise, such as the smallest possible installation space, compatibility with an atmosphere or vacuum provided in the process chamber, simple and cost-effective installation or maintenance, and the like.

DE 10 2011 088 099 A1 beschreibt eine Vakuumkammer mit einem metallischen Kammergehäuse. An die Wandung des Kammergehäuses wird abschnittsweise eine Verkleidung mechanisch oder durch Kleben befestigt, welche, zumindest als innerste Schicht, ein Material aufweist, das verglichen mit dem Material der Wandung einen verbesserten Korrosionsschutz und/oder verringerte Sorptions- und Desorptionsrate zumindest für Wasserstoff und den Bestandteilen der Luft aufweist. DE 10 2011 088 099 A1 describes a vacuum chamber with a metallic chamber housing. To the wall of the chamber housing, a cladding is mechanically or by gluing fixed in sections, which, at least as the innermost layer, a material that compared with the material of the wall improved corrosion protection and / or reduced sorption and desorption at least for hydrogen and the components the air has.

DE 10 2012 106 325 A1 beschreibt eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Aufheizen und Abkühlen einer Substratbehandlungsanlage sowie zum Aufheizen und Abkühlen eines Substrats in der Substratbehandlungsanlage. DE 10 2012 106 325 A1 describes an apparatus and a method for heating and cooling a substrate treatment plant and for heating and cooling a substrate in the substrate treatment plant.

DE 10 2012 111 636 A1 beschreibt eine Vorrichtung und ein Verfahren für eine effektive thermische Behandlung von Substraten. DE 10 2012 111 636 A1 describes an apparatus and method for effective thermal treatment of substrates.

DE 10 2013 108 405 A1 beschreibt eine Substratbehandlungsanlage. Die Substratbehandlungsanlage weist eine von Kammerwänden begrenzte Prozesskammer sowie eine Substrattransporteinrichtung innerhalb der Prozesskammer auf zum Transportieren plattenförmiger Substrate in einer Transportebene. DE 10 2013 108 405 A1 describes a substrate treatment plant. The substrate treatment system has a chamber limited by chamber walls process chamber and a substrate transport device within the process chamber for transporting plate-shaped substrates in a transport plane.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen werden eine Trägeranordnung und passend dazu eingerichtete Isolierkacheln als ein modulares System bereitgestellt zum thermischen Isolieren einer Kammerwand einer Prozesskammer von einem Prozessierbereich in der Prozesskammer. Beispielsweise können Substrate in dem Prozessierbereich behandelt werden, wobei die Substrate auf eine Temperatur von mehr als 200°C gebracht werden sollen, z.B. auf eine Temperatur in einem Bereich von ungefähr 200°C bis ungefähr 1200°C. Dazu soll der Prozessierbereich von der Kammerwand thermisch isoliert sein oder werden. Mittels des hierin beschriebenen Systems wird aus einer Vielzahl von Kacheln, welche thermisch isolierendes Material aufweisen (hierin als Isolierkacheln bezeichnet), eine im Wesentlichen geschlossene thermisch isolierende Wand gebildet, welche den Prozessierbereich der Prozesskammer teilweise oder vollständig umgibt.According to various embodiments, a carrier assembly and mating insulating tiles are provided as a modular system for thermally insulating a chamber wall of a process chamber from a processing area in the process chamber. For example, substrates may be treated in the processing area where the substrates are to be brought to a temperature greater than 200 ° C, e.g. to a temperature in a range of about 200 ° C to about 1200 ° C. For this purpose, the processing area of the chamber wall to be thermally insulated or be. By means of the system described herein, from a plurality of tiles comprising thermally insulating material (referred to herein as insulating tiles), a substantially closed thermally insulating wall is formed which partially or completely surrounds the processing area of the process chamber.

Dabei ist das System aus Kacheln und Trägeranordnung derart bereitgestellt, dass die Kacheln auf einfach Weise montiert werden können oder bei einem Defekt auf einfache Weise ausgetauscht werden können. Bei einem Defekt einer Kachel muss beispielsweise nur ein Teil der Kacheln demontiert werden und es müssen nur die defekten Kacheln ausgetauscht werden, wobei üblicherweise Defekte nur an wenigen der Kacheln auftreten und somit der Großteil der Kacheln weiterverwendet werden kann.In this case, the system of tiles and support arrangement is provided such that the tiles can be mounted in a simple manner or can be easily replaced in the event of a defect. In the case of a tile defect, for example, only a portion of the tiles need to be disassembled, and only the defective tiles need to be replaced, usually with defects only on a few of the tiles, and thus the majority of the tiles can continue to be used.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen eignet sich das hierin beschriebene modulare System aus Kacheln und Trägeranordnung dafür, eine Kammerwand einer Prozesskammer thermisch zu isolieren. Die Kammerwand kann beispielsweise auch als Deckelwand eines Prozesskammerdeckels ausgestaltet sein. Der Prozesskammerdeckel kann beispielsweise auf eine Prozesskammer aufgelegt werden, um eine Kammeröffnung der Prozesskammer zu verschließen, oder der Prozesskammerdeckel kann schwenkbar an der Prozesskammer gelagert sein zum Öffnen und Schließen der Prozesskammer mittels Schwenkens des Prozesskammerdeckels. Dabei sind die Kacheln beispielsweise im Normalbetrieb der Prozessieranlage an der Trägeranordnung hängend gelagert.According to various embodiments, the modular system of tiles and support assembly described herein is suitable for thermally isolating a chamber wall of a process chamber. The chamber wall may for example also be configured as a cover wall of a process chamber lid. For example, the process chamber lid may be placed on a process chamber to close a chamber opening of the process chamber, or the process chamber lid may be pivotally mounted to the process chamber for opening and closing the process chamber by pivoting the process chamber lid. there For example, in the normal operation of the processing system, the tiles are suspended from the carrier arrangement.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die Trägeranordnung mehrere Trägerstrukturen auf, die im Wesentlichen entlang der gleichen Richtung längserstreckt sind, wobei die Kacheln jeweils zwischen den Trägerstrukturen an diesen hängend montiert werden. Dabei sind die Trägerstrukturen passend zu den Kacheln derart ausgestaltet, dass die Kacheln zwischen zwei einander benachbarten Trägerstrukturen eingeschoben werden können, während die Trägerstrukturen ortsfest montiert bleiben. Die Trägerstrukturen bilden einen Formschluss mit den eingeschobenen Kacheln, so dass diese an den Trägerstrukturen (z.B. hängend) gelagert sind.According to various embodiments, the carrier arrangement has a plurality of carrier structures, which are elongated substantially along the same direction, wherein the tiles are each suspended between the carrier structures. Here, the support structures are adapted to the tiles designed such that the tiles between two adjacent support structures can be inserted, while the support structures remain stationary mounted. The support structures form a positive fit with the inserted tiles so that they are supported on the support structures (e.g., suspended).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Kammerwandelement Folgendes aufweisen: eine Trägeranordnung, welche auf einer ersten Seite des Kammerwandelements angeordnet ist und eine Vielzahl von Trägerstrukturen aufweist, wobei jeweils zwei einander benachbarte Trägerstrukturen der Vielzahl Trägerstrukturen derart in einem Abstand voneinander angeordnet sind und sich entlang einer Einschubrichtung erstrecken, dass zwischen diesen ein Aufnahmeraum gebildet ist zum Aufnehmen mehrerer Isolierkacheln, wobei die zwei einander benachbarten Trägerstrukturen jeweils einen Eingriffsabschnitt aufweisen, der sich zumindest derart abschnittsweise entlang der Einschubrichtung erstreckt und (anschaulich seitlich) in den Aufnahmeraum hineinragt, dass die mehreren Isolierkacheln entlang der Einschubrichtung in den Aufnahmeraum eingeschoben werden können und mittels der jeweiligen Eingriffsabschnitte in dem Aufnahmeraum gehalten werden können.According to various embodiments, a chamber wall element may include: a support assembly disposed on a first side of the chamber wall member and having a plurality of support structures, wherein each two adjacent support structures of the plurality of support structures are spaced apart from one another and extend along an insertion direction in that a receiving space is formed between these for receiving a plurality of insulating tiles, the two adjacent support structures each having an engagement portion which extends at least partially along the direction of insertion and protrudes (illustratively laterally) into the receiving space such that the plurality of insulating tiles extend along the direction of insertion can be inserted into the receiving space and can be held by means of the respective engaging portions in the receiving space.

Anschaulich sind die Trägerstrukturen als Einschubschienen ausgestaltet auf die die jeweiligen Kacheln nacheinander aufgeschoben werden können, so dass die Kacheln nach dem Aufschieben formschlüssig mittels der Trägerstrukturen gehalten werden.Clearly, the support structures are designed as insertion rails on which the respective tiles can be pushed one after the other, so that the tiles are held in a form-fitting manner by means of the support structures after being pushed on.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Isolierkachel Folgendes aufweisen: zwei Aussparungsstrukturen, welche in einander gegenüberliegenden Randbereichen der Isolierkachel gebildet sind zum Einschieben der Isolierkachel in einen Aufnahmeraum einer Trägeranordnung und zum Halten der Isolierkachel in dem Aufnahmeraum, wobei die zwei Aussparungsstrukturen derart gebildet sind, dass die Isolierkachel auf einer ersten Seite einen ersten Abschnitt aufweist, der sich zwischen den beiden Aussparungsstrukturen mit einer ersten Breite erstreckt, und dass die Isolierkachel auf einer der ersten Seite gegenüberliegenden zweiten Seite einen zweiten Abschnitt mit einer zweiten Breite aufweist, wobei die zweite Breite größer ist als die erste Breite, so dass die Isolierkachel von der ersten Seite aus mittels einer Trägeranordnung, welche zumindest teilweise in die beiden Aussparungsstrukturen eingreifen kann, gehalten werden kann.According to various embodiments, an insulating tile may include: two recess structures formed in opposite edge portions of the insulating tile for inserting the insulating tile into a receiving space of a carrier assembly and holding the insulating tile in the receiving space, wherein the two recess structures are formed such that the insulating tile on a first side has a first portion extending between the two recess structures with a first width, and that the insulating tile on a first side opposite the second side has a second portion with a second width, wherein the second width is greater than that first width, so that the insulating tile can be held from the first side by means of a carrier arrangement which can at least partially engage in the two recess structures.

Mit anderen Worten kann eine Isolierkachel Folgendes aufweisen: einen ersten (z.B. einen oberen) Abschnitt und einen an den ersten Abschnitt angrenzenden zweiten (z.B. einen unteren) Abschnitt, wobei sich der erste Abschnitt auf einer ersten Seite (z.B. einer Oberseite) der Isolierkachel von einer ersten (z.B. einer oberen linken) Kante zu einer der ersten Kante gegenüberliegenden zweiten (z.B. einer oberen rechten) Kante mit einer ersten Breite erstreckt, und wobei sich der zweite Abschnitt auf einer der ersten Seite gegenüberliegenden zweiten Seite (z.B. einer Unterseite) der Isolierkachel von einer dritten (z.B. einer unteren linken) Kante zu einer der dritten Kante gegenüberliegenden vierten (z.B. einer unteren rechten) Kante mit einer zweiten Breite erstreckt, wobei die erste Breite geringer ist als die zweite Breite; eine erste Aussparungsstruktur und eine zweite Aussparungsstruktur, wobei die erste Aussparungsstruktur auf einer dritten Seite (z.B. einer linken Seite) der Isolierkachel zwischen der ersten Kante und der dritten Kante gebildet ist und wobei die zweite Aussparungsstruktur auf einer vierten Seite (z.B. einer rechten Seite) der Isolierkachel zwischen der zweiten Kante und der vierten Kante gebildet ist, so dass die Isolierkachel von der ersten Seite aus mittels einer Trägeranordnung, welche zumindest teilweise in die beiden Aussparungsstrukturen eingreifen kann, gehalten werden kann.In other words, an insulating tile may include: a first (eg, an upper) portion and a second (eg, a lower) portion adjacent the first portion, the first portion being on a first side (eg, top) of the insulating tile of one first (eg, an upper left) edge to a first edge opposite the second (eg, an upper right) edge having a first width, and wherein the second portion on a first side opposite the second side (eg a bottom) of the insulating tile of a third (eg, a lower left) edge extends to a fourth (eg, lower right) edge having a second width opposite the third edge, the first width being less than the second width; a first recess structure and a second recess structure, wherein the first recess structure is formed on a third side (eg, a left side) of the insulating tile between the first edge and the third edge, and wherein the second recess structure on a fourth side (eg, a right side) of the Insulating tile is formed between the second edge and the fourth edge, so that the insulating tile can be held from the first side by means of a carrier assembly which can at least partially engage in the two recess structures.

Anschaulich ist die jeweilige Kachel im Wesentlichen quaderförmig, wobei die Aussparungsstrukturen seitlich angeordnet sind und wobei die Grundfläche der Kachel, welche (im montierten Zustand der Kachel) der Trägeranordnung abgewandt ist, breiter ist als die Deckfläche der Kachel, welche (im montierten Zustand der Kachel) der Trägeranordnung zugewandt ist, so dass die Trägeranordnung, welche von der Deckfläche aus in die Aussparungsstrukturen eingreift, von unten aus mittels eines Abschnitts der Kachel abgedeckt ist. Somit kann ein direktes Erwärmen der Trägeranordnung von unten aus verhindert werden. Anschaulich können mehrere Kacheln nebeneinander derart angeordnet sein oder werden, dass die Grundflächen der Kacheln im Wesentlichen eine geschlossene Fläche bilden und dass gleichzeitig zwischen den Kacheln von der Deckfläche aus gesehen ein Spalt verbleibt, durch welchen die Trägeranordnung hindurch in die seitlichen Aussparungsstrukturen der Kacheln eingreifen kann, wenn die mehreren Kacheln an der Trägeranordnung montiert sind.Illustratively, the respective tile is substantially cuboid, wherein the recess structures are arranged laterally and wherein the base surface of the tile, which faces away (in the mounted state of the tile) of the support assembly is wider than the top surface of the tile, which (in the assembled state of the tile ) faces the carrier assembly, so that the carrier assembly, which engages from the top surface into the recess structures, is covered from below by means of a portion of the tile. Thus, direct heating of the carrier assembly from below can be prevented. Illustratively, a plurality of tiles may be arranged side by side in such a way that the base surfaces of the tiles essentially form a closed surface and that at the same time a gap remains between the tiles viewed from the top surface, through which the carrier arrangement can engage in the lateral recess structures of the tiles when the plurality of tiles are mounted on the carrier assembly.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein System aus einer Trägeranordnung, wie hierin beschrieben ist, und eine Vielzahl von Isolierkacheln, wie hierin beschrieben ist, gebildet sein. Die Isolierkacheln können mittels der Trägeranordnung an einer Kammerwand (z.B. an einer Deckelwand) einer Prozesskammer befestigt sein oder werden. Dazu können die Isolierkacheln zwischen zwei einander benachbarten Trägerstrukturen der Trägeranordnung gelagert sein oder werden, wobei Eingriffsabschnitte der zwei einander benachbarten Trägerstrukturen jeweils in zwei seitliche Aussparungsstrukturen der Isolierkacheln eingreifen.According to various embodiments, a system of a carrier arrangement, such as described herein, and a plurality of insulating tiles, as described herein, be formed. The insulating tiles can be attached to a chamber wall (eg on a top wall) of a process chamber by means of the carrier arrangement. For this purpose, the insulating tiles between two adjacent support structures of the support assembly may be stored or be, engaging portions of the two adjacent support structures in each case engage in two lateral recess structures of the insulating tiles.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Kammerwandelement-Anordnung (z.B. ein System aus Kammerwand, einer an der Kammerwand befestigten Trägeranordnung mit Isolierkacheln) Folgendes aufweisen: ein Kammerwandelement, wie hierin beschrieben ist, und eine Vielzahl von Isolierkacheln, wie hierin beschrieben ist. Dabei können die Isolierkacheln mittels der Trägeranordnung in einem Aufnahmeraum zwischen zwei einander benachbarten Trägerstrukturen gelagert sein oder werden, und Eingriffsabschnitte der zwei einander benachbarten Trägerstrukturen können jeweils in zwei dazu passend ausgestaltete Aussparungsstrukturen der jeweiligen Isolierkachel eingreifen.According to various embodiments, a chamber wall element assembly (e.g., a chamber wall system, a chamber wall mounted carrier assembly with insulating tiles) may include: a chamber wall element as described herein and a plurality of insulating tiles as described herein. In this case, the insulating tiles can be stored by means of the support assembly in a receiving space between two adjacent support structures or, and engaging portions of the two adjacent support structures can each engage in two matching designed recess structures of the respective insulating tile.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozesskammer-Anordnung Folgendes aufweisen: eine Prozesskammer zum Prozessieren eines Substrats innerhalb eines Prozessierbereichs der Prozesskammer, wobei die Prozesskammer eine (z.B. obere) Kammeröffnung aufweist, eine Kammerwandelement-Anordnung wie hierin beschrieben zum Abdecken der Kammeröffnung mittels eines Kammerwandelements der Kammerwandelement-Anordnung und zum thermischen Isolieren des Kammerwandelements von dem Prozessierbereich mittels mehrerer Isolierkacheln.According to various embodiments, a process chamber assembly may include: a process chamber for processing a substrate within a processing region of the process chamber, the process chamber having a (eg upper) chamber opening, a chamber wall element arrangement as described herein for covering the chamber opening by means of a chamber wall element of the chamber wall element Arrangement and for thermally insulating the chamber wall element of the processing area by means of a plurality of insulating tiles.

Beispielsweise kann ein Prozesskammerdeckel zum Abdecken einer Kammeröffnung einer Prozesskammer Folgendes aufweisen: eine Trägeranordnung, mit einer Vielzahl von Trägerstrukturen, wobei jeweils zwei einander benachbarte Trägerstrukturen der Vielzahl von Trägerstrukturen derart voneinander beabstandet sind und sich entlang einer Einschubrichtung erstrecken, dass zwischen diesen ein Aufnahmeraum zum Aufnehmen mehrerer Isolierkacheln gebildet ist, wobei die zwei einander benachbarten Trägerstrukturen jeweils einen Eingriffsabschnitt aufweisen, der sich entlang der Einschubrichtung erstreckt und in den Aufnahmeraum hineinragt; und mehrere Isolierkacheln, welche jeweils zwei Aussparungsstrukturen aufweisen, die in einander gegenüberliegenden Randbereichen der jeweiligen Isolierkachel gebildet sind, wobei die Isolierkacheln und die Trägeranordnung derart passend zueinander eingerichtet sind, dass die mehreren Isolierkacheln entlang der Einschubrichtung in den Aufnahmeraum eingeschoben werden können und dass die jeweiligen Eingriffsabschnitte der zwei einander benachbarten Trägerstrukturen in die zwei Aussparungsstrukturen der jeweiligen Isolierkacheln eingreifen zum Halten der Isolierkacheln in dem Aufnahmeraum.For example, a process chamber lid for covering a chamber opening of a process chamber may comprise: a carrier arrangement having a multiplicity of carrier structures, wherein in each case two adjacent carrier structures of the plurality of carrier structures are spaced apart from one another and extend along an insertion direction, between them a receiving space for receiving a plurality of insulating tiles is formed, wherein the two adjacent support structures each having an engagement portion which extends along the insertion direction and projects into the receiving space; and a plurality of insulating tiles, each having two recess structures formed in opposite edge portions of the respective insulating tile, wherein the insulating tiles and the support structure are adapted to each other so that the plurality of insulating tiles can be inserted along the insertion direction into the accommodating space, and the respective ones Engagement portions of the two adjacent support structures in the two recess structures of the respective insulating tiles engage for holding the insulating tiles in the receiving space.

Ausführungsbeispiele sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.Embodiments are illustrated in the figures and are explained in more detail below.

Figurenlistelist of figures

  • 1A und 1B jeweils ein Kammerwandelement oder einen Prozesskammerdeckel in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 1A and 1B each a chamber wall element or a process chamber lid in a schematic side view or cross-sectional view, according to various embodiments;
  • 2A und 2B jeweils eine Isolierkachel in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 2A and 2 B each an insulating tile in a schematic side view or cross-sectional view, according to various embodiments;
  • 3A und 3B jeweils eine Detaildarstellung mehrerer mittels einer Trägeranordnung gelagerter Isolierkacheln in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 3A and 3B in each case a detailed representation of a plurality of insulating tiles mounted by means of a carrier arrangement in a schematic side view or cross-sectional view, according to various embodiments;
  • 4A eine Trägerstruktur einer Trägeranordnung mit einem Pufferband in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 4A a carrier structure of a carrier assembly with a buffer band in a schematic view, according to various embodiments;
  • 4B eine Trägerstruktur einer Trägeranordnung mit mindestens einer Pufferstruktur in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 4B a carrier structure of a carrier assembly having at least one buffer structure in a schematic view, according to various embodiments;
  • 5 ein Kammerwandelement oder einen Prozesskammerdeckel in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 5 a chamber wall element or a process chamber lid in a schematic side view or cross-sectional view, according to various embodiments;
  • 6 eine Prozesskammer-Anordnung mit einem Kammerwandelement oder einen Prozesskammerdeckel und einer Prozesskammer in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 6 a process chamber arrangement with a chamber wall element or a process chamber lid and a process chamber in a schematic side view or cross-sectional view, according to various embodiments;
  • 7A ein Kammerwandelement oder einen Prozesskammerdeckel in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 7A a chamber wall element or a process chamber lid in a schematic side view or cross-sectional view, according to various embodiments;
  • 7B zwei aneinandergrenzende Kammerwandelemente oder Prozesskammerdeckel in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; und 7B two adjoining chamber wall elements or process chamber lids in a schematic side view or cross-sectional view, according to various embodiments; and
  • 8 veranschaulicht eine Haltestruktur eines Kammerwandelements oder eines Prozesskammerdeckels in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 8th illustrates a support structure of a chamber wall member or a process chamber lid in a schematic view, according to various embodiments.

In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa „oben“, „unten“, „vorne“, „hinten“, „vorderes“, „hinteres“, usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.In the following detailed description, reference is made to the accompanying drawings, which form a part hereof, and in which is shown by way of illustration specific embodiments in which the invention may be practiced. In this regard, directional terminology such as "top", "bottom", "front", "back", "front", "rear", etc. is used with reference to the orientation of the described figure (s). Because components of embodiments can be positioned in a number of different orientations, the directional terminology is illustrative and is in no way limiting. It should be understood that other embodiments may be utilized and structural or logical changes may be made without departing from the scope of the present invention. It should be understood that the features of the various exemplary embodiments described herein may be combined with each other unless specifically stated otherwise. The following detailed description is therefore not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined by the appended claims.

Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe „verbunden“, „angeschlossen“ sowie „gekoppelt“ verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.As used herein, the terms "connected," "connected," and "coupled" are used to describe both direct and indirect connection, direct or indirect connection, and direct or indirect coupling. In the figures, identical or similar elements are provided with identical reference numerals, as appropriate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Trägeranordnung bereitgestellt, mittels derer eine Keramikisolation lösbar an einer Kammerwand (z.B. einer Deckelwand) einer Prozesskammer gehalten werden kann. Um ein entsprechend eingerichtetes Kammerwandelement für eine Prozesskammer bereitzustellen, kann die Trägeranordnung auf einer Seite der Kammerwand befestigt sein oder werden. Auf der gleichen Seite können zusätzliche Halterungen bereitgestellt sein oder werden, z.B. zum Halten einer Heizvorrichtung und/oder einer Prozessiervorrichtung.According to various embodiments, there is provided a support assembly by means of which a ceramic insulation can be releasably retained on a chamber wall (e.g., a top wall) of a process chamber. To provide a suitably configured chamber wall member for a process chamber, the support assembly may or may not be mounted on one side of the chamber wall. Additional brackets may or may be provided on the same side, e.g. for holding a heating device and / or a processing device.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Keramikisolation in Form eines Kacheldesigns bereitgestellt sein oder werden, was aufgrund der Modularität eine einfache und kostengünstige Austauschbarkeit mit sich bringt. Die Halterung kann mittels eines T-Profils und/oder eines L-Profils (d.h. allgemein mittels entsprechend ausgestalteter Trägerstrukturen) erfolgen. Diese sind derart eingerichtet, dass die Kacheln in entsprechend mittels der Trägerstrukturen gebildete Aufnahmeräume eingeschoben werden können, d.h. in eine Richtung quer zur Einschubrichtung (z.B. nur) mittels Formschlusses gehalten werden.According to various embodiments, the ceramic insulation may or may not be provided in the form of a tile design, which due to the modularity, provides a simple and inexpensive interchangeability. The support may be by means of a T-profile and / or an L-profile (i.e., generally by means of appropriately designed support structures). These are set up in such a way that the tiles can be pushed into receiving spaces correspondingly formed by the support structures, i. held in a direction transverse to the insertion direction (e.g., only) by positive locking.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen sind sowohl die Kammerwand als auch die aus den Kacheln gebildete Keramikisolation im Wesentlichen plan ausgestaltet. Somit kann ein möglichst geringer Bauraum in der Prozesskammer realisiert werden.According to various embodiments, both the chamber wall and the ceramic insulation formed from the tiles are configured substantially planar. Thus, the smallest possible space in the process chamber can be realized.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Trägerstrukturen in Form von profilierten Blechen bereitgestellt sein oder werden. Die Trägerstrukturen können sich entlang einer gemeinsamen Richtung erstrecken und in einem Abstand voneinander angeordnet sein, so dass diese eine Rahmenstruktur (oder anschaulich eine Schienenstruktur) bilden zum Einschieben der Kacheln.According to various embodiments, the support structures may or may be provided in the form of profiled sheets. The support structures may extend along a common direction and be spaced apart so as to form a frame structure (or illustratively a rail structure) for insertion of the tiles.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Halterung der Kacheln derart erfolgen, dass die Trägeranordnung, mittels derer die Kacheln gehalten wird, nicht bis zur Prozessseite durchreicht bzw. dass die Trägerstrukturen, zwischen die die Kacheln eingeschoben werden, nicht bis zur Prozessseite durchreichen. Anschaulich erfolgt die Lagerung der Kacheln somit ausschließlich von der kälteren (d.h. dem Prozessierbereich abgewandten) Seite.According to various embodiments, the mounting of the tiles can take place such that the support arrangement, by means of which the tiles are held, does not extend to the process side or that the support structures between which the tiles are inserted do not extend to the process side. Illustratively, the tiles are thus stored exclusively from the colder side (that is, away from the processing area).

Dabei kann der Prozessierbereich auf eine Temperatur von beispielsweise mehr als 500°C geheizt werden, wobei die Kammerwand (z.B. die Deckelwand) auf einer Temperatur von weniger als 100°C gehalten werden kann.In this case, the processing area can be heated to a temperature of, for example, more than 500 ° C, whereby the chamber wall (e.g., the top wall) can be maintained at a temperature of less than 100 ° C.

Ein Kostenvorteil kann beispielsweise sein, dass die Kacheln und/oder die Trägerstrukturen einzeln austauschbar sind. Ferner müssen die Kacheln nicht miteinander und/oder mit der Trägeranordnung verklebt werden, da diese eingeschoben werden können und somit mittels Formschlusses gelagert werden können.A cost advantage may be, for example, that the tiles and / or the support structures are individually interchangeable. Furthermore, the tiles do not have to be glued together and / or with the carrier assembly, since they can be inserted and thus can be stored by means of positive locking.

Mittels der Kacheln kann ferner auch eine thermische Isolation in einem Kupplungsbereich zweier aneinandergrenzender Prozesskammern erfolgen, d.h. in einem Bereich zwischen zwei aneinandergrenzenden Kammerwandelementen.By means of the tiles can also be carried out, a thermal insulation in a coupling region of two adjacent process chambers, i. in an area between two adjoining chamber wall elements.

Als Auflageschutz zwischen den Kacheln und der Trägeranordnung bzw. den Trägerstrukturen kann eine Pufferstruktur oder ein Pufferelement verwendet werden. Die Pufferstruktur oder das Pufferelement kann einen Aramid-Werkstoff aufweisen oder einen anderen ausheizbaren Glasfaser-Werkstoff, oder Ähnliches. Somit kann ein mechanischer Schutz der Kacheln (z.B. während des Montierens und im montierten Zustand) bereitgestellt sein oder werden.As a support protection between the tiles and the carrier arrangement or the carrier structures, a buffer structure or a buffer element can be used. The buffer structure or the buffer element may comprise an aramid material or another bakeable glass fiber material, or the like. Thus, a mechanical Protection of the tiles (eg during mounting and mounted state) be or be provided.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen greifen die Trägerstrukturen abschnittsweise seitlich in die Kacheln ein. Dazu können die Trägerstrukturen jeweils mindestens einen Eingriffsabschnitt aufweisen und die Kacheln können passend dazu mindestens eine Aussparungsstruktur auf zwei einander gegenüberliegenden Seiten der Kachel aufweisen.According to various embodiments, the support structures partially engage laterally in the tiles. For this purpose, the support structures may each have at least one engagement portion and the tiles may suitably have at least one recess structure on two opposite sides of the tile.

1A veranschaulicht ein Kammerwandelement 100 (z.B. einen Prozesskammerdeckel 100) in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 1B veranschaulicht das in 1A dargestellte Kammerwandelement 100 in einem Zustand, in dem zumindest eine Kachel 200 an dem Kammerwandelement 100 montiert ist. 1A illustrates a chamber wall element 100 (eg, a process chamber lid 100) in a schematic side view or cross-sectional view, according to various embodiments. 1B illustrates this in 1A shown chamber wall element 100 in a state in which at least one tile 200 on the chamber wall element 100 is mounted.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Kammerwandelement 100 eine Trägeranordnung 104 aufweisen. Die Trägeranordnung 104 kann eine entsprechend eingerichtete Rahmenkonstruktion bzw. Gitterkonstruktion sein, zum Beispiel aus Blechprofilen als Trägerstrukturen für die Kacheln 200. Die Trägeranordnung 104 kann beispielsweise lösbar an einer Kammerwand 102 einer Prozesskammer befestigt sein. Mit Bezug auf eine Prozesskammer kann die Kammerwand 102 eine Innenseite 102i und eine Außenseite 102a aufweisen, wobei die Innenseite 102i dem Inneren der Prozesskammer zugewandt ist (bzw. wenn das Kammerwandelement 100 als Prozesskammerdeckel ausgestaltet ist, zumindest dann, wenn der Prozesskammerdeckel 100 geschlossen ist). Dementsprechend kann das Kammerwandelement 100 eine Innenseite und eine Außenseite aufweisen, wobei die Innenseite des Kammerwandelements 100 dem Inneren der Prozesskammer zugewandt ist, wenn das Kammerwandelement 100 an dieser montiert ist. Die Trägeranordnung 104 kann auf der Innenseite 102i der Kammerwand 102 angeordnet sein oder werden.According to various embodiments, the chamber wall element 100 may include a carrier assembly 104 exhibit. The carrier assembly 104 may be a correspondingly configured frame construction or grid construction, for example of sheet metal profiles as carrier structures for the tiles 200 , The carrier arrangement 104 For example, it may be releasably secured to a chamber wall 102 of a process chamber. With respect to a process chamber, the chamber wall 102 an inside 102i and an outside 102 , wherein the inner side 102i faces the interior of the process chamber (or if the chamber wall element 100 is designed as a process chamber lid, at least when the process chamber lid 100 is closed). Accordingly, the chamber wall element 100 an inner side and an outer side, wherein the inside of the chamber wall element 100 faces the interior of the process chamber when the chamber wall element 100 is mounted on this. The carrier arrangement 104 can on the inside 102i the chamber wall 102 be arranged or become.

Die Trägeranordnung 104 kann mehrere Trägerstrukturen 114a, 114b aufweisen. Die Trägeranordnung 104 kann beispielsweise mindestens zwei oder mehr als zwei Trägerstrukturen 114a, 114b aufweisen, z.B. 5 bis 20 Trägerstrukturen, je nach zu isolierender Fläche und entsprechender Größe der einzelnen Kacheln 200.The carrier arrangement 104 can have several carrier structures 114a . 114b exhibit. The carrier arrangement 104 For example, it may be at least two or more than two support structures 114a . 114b have, for example, 5 to 20 carrier structures, depending on the area to be insulated and corresponding size of the individual tiles 200th

In den hierin dargestellten Figuren sind teilweise der Einfachheit halber nur zwei einander benachbarte Trägerstrukturen 114a, 114b dargestellt, wobei es sich versteht, dass dieses Prinzip mit mehr als zwei Trägerstrukturen beliebig fortgesetzt werden kann.For the sake of simplicity, only two mutually adjacent support structures 114a, 114b are shown partially in the figures shown here, it being understood that this principle can be continued as desired with more than two support structures.

Die jeweils einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b der Trägeranordnung 104 können in einem Abstand voneinander angeordnet sein oder werden und sich entlang einer Einschubrichtung (z.B. senkrecht zu den beiden dargestellten Richtungen 101, 103) erstrecken. Dabei kann der Abstand zwischen den benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b im Wesentlichen der Breite der einzuschiebenden Kacheln 200 entsprechen. Anschaulich sind die einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b derart bereitgestellt, dass zwischen diesen ein Aufnahmeraum 110 gebildet ist zum Aufnehmen mehrerer Kacheln 200 (hierin als Isolierkacheln bezeichnet). Anschaulich können die Kacheln 200 nacheinander entlang der Einschubrichtung in den Aufnahmeraum 110 zwischen den einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b eingeschoben werden. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können jeweils mehr als zwei Isolierkacheln 200 in einen Aufnahmeraum 110 eingeschoben werden, z.B. mehr als fünf oder sogar mehr als zehn Isolierkacheln 200.The respective adjacent carrier structures 114a . 114b the carrier assembly 104 may be arranged at a distance from each other and be along an insertion direction (eg perpendicular to the two directions 101, 103 shown) extend. In this case, the distance between the adjacent support structures 114a . 114b essentially the width of the tiles to be inserted 200 correspond. Illustratively, the mutually adjacent support structures 114a, 114b are provided in such a way that between them a receiving space 110 is formed for receiving several tiles 200 (herein referred to as insulating tiles). The tiles can be clear 200 successively along the direction of insertion into the receiving space 110 between the adjacent support structures 114a . 114b be inserted. According to various embodiments, more than two insulating tiles may each be used 200 be inserted into a receiving space 110, for example, more than five or even more than ten insulating tiles 200 ,

Dabei können die einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b jeweils einen Eingriffsabschnitt 124a, 124b aufweisen. Der jeweilige Eingriffsabschnitt 124a, 124b kann sich zumindest abschnittsweise entlang der Einschubrichtung erstrecken und (anschaulich seitlich) in den Aufnahmeraum 110 hineinragen. Anschaulich kann der jeweilige Eingriffsabschnitt 124a, 124b derart eingerichtet sein, dass die mehreren Isolierkacheln 200 entlang der Einschubrichtung in den Aufnahmeraum 110 eingeschoben werden können und mittels der jeweiligen Eingriffsabschnitte 124a, 124b in dem Aufnahmeraum (z.B. mittels Formschlusses) gehalten werden können, wie beispielsweise in 1B veranschaulicht ist.In this case, the adjacent carrier structures 114a . 114b each an engagement section 124a . 124b exhibit. The respective engagement section 124a . 124b can extend at least in sections along the direction of insertion and (clearly laterally) in the receiving space 110 protrude. Illustratively, the respective engagement portion 124a, 124b may be configured such that the plurality of insulating tiles 200 along the direction of insertion into the receiving space 110 can be inserted and by means of the respective engagement sections 124a . 124b in the receiving space (eg by means of positive engagement) can be maintained, such as in 1B is illustrated.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Trägeranordnung 104 derart eingerichtet sein oder werden, dass die Isolierkacheln 200 in einem Abstand von der Kammerwand 102 bzw. dem Kammerdeckel 102 gehalten werden.According to various embodiments, the carrier assembly 104 may be or may be configured such that the insulating tiles 200 at a distance from the chamber wall 102 or the chamber lid 102 being held.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Trägerstrukturen 114a, 114b einen L-förmigen Querschnitt aufweisen, wobei sich ein Endabschnitt der Trägerstrukturen 114a, 114b in Richtung der Kammerwand 102 erstreckt und ein anderer Endabschnitt der Trägerstrukturen 114a, 114b seitlich in die jeweiligen Isolierkacheln 200 eingreift. In ähnlicher Weise können die Trägerstrukturen 114a, 114b einen T-förmigen Querschnitt aufweisen, so dass die gleiche Funktion auch für einen seitlich benachbarten weiteren Aufnahmeraum 110 bereitgestellt sein kann (siehe beispielsweise 3A und 3B).According to various embodiments, the support structures 114a, 114b may have an L-shaped cross section, wherein an end portion of the support structures 114a . 114b in the direction of the chamber wall 102 extends and another end portion of the support structures 114a . 114b laterally in the respective insulating tiles 200 intervenes. Similarly, the support structures 114a . 114b have a T-shaped cross-section, so that the same function for a laterally adjacent another receiving space 110 may be provided (see, for example 3A and 3B ).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können alle Trägerstrukturen 114a, 114b der Trägeranordnung 104 im Wesentlichen in einem gleichen Abstand voneinander angeordnet sein und die Isolierkacheln 200 können alle im Wesentlichen die gleiche Breite (z.B. eine Ausdehnung in Breitenrichtung 101) und/oder Querschnittsform aufweisen. Somit können die Isolierkacheln 200 wahlweise an verschiedenen Positionen der Trägeranordnung 104 montiert werden, d.h. wahlweise in verschiedene Aufnahmeräume der Trägeranordnung 104 eingeschoben werden. Die Tiefe (z.B. eine Ausdehnung in Einschubrichtung senkrecht zu den Richtungen 101, 103) der Isolierkacheln 200 kann für verschiedene Isolierkacheln 200 variieren. Zum Beispiel kann ein System aus Isolierkacheln 200 bereitgestellt sein oder werden, wobei alle Isolierkacheln 200 die gleiche Breite und/oder Querschnittsform aufweisen und wobei diese Isolierkacheln 200 in verschiedenen vordefinierten Tiefen bereitgestellt sind. Somit kann beispielsweise durch eine geeignete Wahl der Isolierkacheln 200 der jeweilige Aufnahmeraum 110 möglichst vollständig gefüllt werden.According to various embodiments, all support structures 114a, 114b of the carrier assembly 104 essentially in a same one Be spaced from each other and the insulating tiles 200 can all be substantially the same width (eg, an extension in the width direction 101 ) and / or cross-sectional shape. Thus, the insulating tiles 200 may be selectively mounted at different positions of the carrier assembly 104, that is, optionally in different receiving spaces of the carrier assembly 104 be inserted. The depth (eg an extension in the insertion direction perpendicular to the directions 101 . 103 ) of the insulating tiles 200 may be for different insulating tiles 200 vary. For example, a system of insulating tiles 200 be provided or, wherein all insulating tiles 200 have the same width and / or cross-sectional shape and wherein these insulating tiles 200 are provided in various predefined depths. Thus, for example, by a suitable choice of the insulating tiles 200 of the respective receiving space 110 be filled as completely as possible.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können alle Isolierkacheln 200 die gleiche Höhe bzw. Dicke (z.B. deren Ausdehnung in Richtung 103) aufweisen. Somit kann innerhalb einer Prozesskammer eine homogene Temperaturverteilung erzeugt werden, z.B. aufgrund der gleichmäßig Dickenverteilung der Isolierkacheln 200, die an dem Kammerwandelement 100 montiert sind.According to various embodiments, all insulating tiles 200 may have the same height or thickness (eg, their extension in the direction 103 ) exhibit. Thus, within a process chamber, a homogeneous temperature distribution can be generated, for example due to the uniform thickness distribution of the insulating tiles 200 , which are mounted on the chamber wall element 100.

Fig.2A und 2B veranschaulichen jeweils eine Isolierkachel 200 in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen.Fig.2A and 2 B each illustrate an insulating tile 200 in a schematic side view or cross-sectional view, according to various embodiments.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Isolierkachel 200 passend zu der Trägeranordnung 104 des Kammerwandelements 100 ausgestaltet sein. Dabei kann anschaulich ein modulares System aus einer Vielzahl von Isolierkacheln 200 und der Trägeranordnung 104 bereitgestellt sein oder werden.According to various embodiments, the insulating tile 200 matching the carrier assembly 104 the chamber wall element 100 be designed. A modular system consisting of a large number of insulating tiles can be used 200 and the carrier assembly 104 may or may not be provided.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Isolierkachel im Wesentlichen quaderförmig sein, wie hierin beschrieben ist. Falls es notwendig oder hilfreich ist, können auch andere Formen für die Isolierkacheln 200 verwendet werden, wobei die Trägeranordnung 104 entsprechend an die Form der Isolierkacheln 200 angepasst sein kann.According to various embodiments, the insulating tile may be substantially cuboid, as described herein. If necessary or helpful, other forms of insulation can be used 200 be used, wherein the carrier assembly 104 can be adapted according to the shape of the insulating tiles 200.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die Isolierkachel 200 mindestens zwei Aussparungsstrukturen 206a, 206b auf. Die zwei Aussparungsstrukturen 206a, 206b sind beispielsweise in einander gegenüberliegenden Randbereichen bzw. auf einander gegenüberliegenden Seiten der Isolierkachel 200 gebildet. Somit kann die Isolierkachel 200 in den Aufnahmeraum 110 der Trägeranordnung 104 eingeschoben werden und in dem Aufnahmeraum 110 gehalten werden, wie vorangehend beispielsweise bezüglich 1B beschrieben ist.According to various embodiments, the insulating tile 200 at least two recess structures 206a . 206b on. The two recess structures 206a . 206b For example, in opposite edge regions or on opposite sides of the insulating tile 200 educated. Thus, the insulating tile 200 in the recording room 110 the carrier assembly 104 are inserted and held in the receiving space 110, as described above, for example 1B is described.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen sind die mindestens zwei Aussparungsstrukturen 206a, 206b derart ausgebildet, dass die Isolierkachel 200 von der ersten Seite 202a aus mittels der Trägeranordnung 104 bzw. der Trägerstrukturen 114a, 114b, welche zumindest teilweise in die beiden Aussparungsstrukturen 206a, 206b eingreifen, gehalten werden kann, wie vorangehend beispielsweise bezüglich 1B beschrieben ist.According to various embodiments, the at least two recess structures 206a . 206b formed such that the insulating tile 200 from the first page 202a out by means of the carrier assembly 104 or the carrier structures 114a . 114b , which at least partially engage in the two recess structures 206a, 206b, can be held, as described above, for example 1B is described.

Die Isolierkachel 200 kann beispielsweise einen ersten (anschaulich einen oberen) Abschnitt 202o und einen zweiten (anschaulich einen unteren) Abschnitt 202u aufweisen, wobei sich der erste Abschnitt 202o auf einer ersten Seite (anschaulich einer Oberseite) 202a der Isolierkachel 200 von einer ersten Kante 202-k1 der Isolierkachel 200 zu einer der ersten Kante 202-k1 gegenüberliegenden zweiten Kante 202-k2 der Isolierkachel 200 mit einer ersten Breite erstreckt, und wobei sich der zweite Abschnitt 202u auf einer der ersten Seite gegenüberliegenden zweiten Seite (anschaulich einer Unterseite) 202b der Isolierkachel 200 von einer dritten Kante 202-k3 der Isolierkachel 200 zu einer der dritten Kante 202-k3 gegenüberliegenden vierten Kante 202-k4 der Isolierkachel 200 mit einer zweiten Breite erstreckt.The insulating tile 200 can, for example, a first (vividly an upper) section 202o and a second (illustratively a lower) section 202U have, wherein the first section 202o on a first side (illustratively an upper side) 202a of the insulating tile 200 from a first edge 202-k1 of the insulating tile 200 to a second edge 202-k2 of the insulating tile opposite the first edge 202-k1 200 extends with a first width, and wherein the second portion 202U on one of the first side opposite second side (illustratively a bottom) 202b of the insulating tile 200 from a third edge 202-k3 of the insulating tile 200 to a fourth edge 202-k4 of the insulating tile 200 having a second width opposite the third edge 202-k3.

Dabei kann die erste Breite gleich der zweiten Breite sein, wie beispielsweise in 2A dargestellt ist. Alternativ dazu kann die erste Breite geringer sein als die zweite Breite, wie beispielsweise in 2B dargestellt ist.In this case, the first width may be equal to the second width, such as in 2A is shown. Alternatively, the first width may be less than the second width, such as in FIG 2 B is shown.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen ist die erste Aussparungsstruktur 206a auf einer dritten Seite (anschaulich einer Seitenfläche) 202c der Isolierkachel 200 zwischen der ersten Kante 202-k1 und der dritten Kante 202-k3 gebildet. Ferner ist die zweite Aussparungsstruktur 206b auf einer vierten Seite (anschaulich einer gegenüberliegenden Seitenfläche) 202d der Isolierkachel 200 zwischen der zweiten Kante 202-k2 und der vierten Kante 202-k4 gebildet. Somit kann die Isolierkachel von der ersten Seite 202a aus mittels der Trägeranordnung 104 bzw. der Trägerstrukturen 114a, 114b gehalten werden.According to various embodiments, the first recess structure 206a is on a third side (illustratively a side surface) 202c of the insulating tile 200 formed between the first edge 202-k1 and the third edge 202-k3. Furthermore, the second recess structure is 206b on a fourth side (illustratively an opposite side surface) 202d of the insulating tile 200 formed between the second edge 202-k2 and the fourth edge 202-k4. Thus, the insulating tile from the first page 202a out by means of the carrier assembly 104 or the carrier structures 114a . 114b being held.

Wie in 2B veranschaulicht ist, kann die Isolierkachel 200 auf der ersten Seite 202a einen ersten Abschnitt 202o mit einer ersten Breite aufweisen, und auf der zweiten Seite 202b einen zweiten Abschnitt 202u mit einer zweiten Breite aufweisen. Somit können beispielsweise zwei derartige Isolierkacheln 200 nebeneinander angeordnet werden, wobei die nebeneinander angeordneten Isolierkacheln 200 mittels der zweiten (unteren) Abschnitte 202u eine im Wesentlichen geschlossene Isolierung bilden, wobei gleichzeitig zwischen den ersten (oberen) Abschnitten 202o ein Spalt 301s zum Halten der Isolierkacheln 200 mittels der Trägeranordnung 104 gebildet ist, wie beispielsweise in Fig.3A und 3B in einer schematischen Ansicht dargestellt ist.As in 2 B is illustrated, the insulating tile 200 on the first page 202a a first section 202o having a first width, and on the second side 202b a second section 202U having a second width. Thus, for example, two such insulating tiles 200 can be arranged side by side, wherein the insulating tiles arranged side by side 200 by means of the second (lower) sections 202U form a substantially closed insulation, wherein simultaneously between the first (upper) sections 202o A gap 301s for holding the insulating tiles 200 by means of the carrier arrangement 104 is formed, as for example in Fig.3A and 3B is shown in a schematic view.

Zum Halten zweier benachbarter Isolierkacheln 200 kann die verwendete Trägerstruktur 114 einen T-förmigen Querschnitt aufweisen, wobei beispielsweise jeweils ein Eingriffsabschnitt 124 der Trägerstrukturen 114 in die zugehörige Aussparungsstruktur 206 der angrenzenden Isolierkacheln 200 eingreift.For holding two adjacent insulating tiles 200 may be the carrier structure used 114 have a T-shaped cross section, wherein, for example, in each case an engagement portion 124 of the support structures 114 into the associated recess structure 206 the adjacent insulating tiles 200 engages.

Wie beispielsweise in 3A und 3B dargestellt ist, kann die Trägerstruktur 114 zwischen den ersten Abschnitten 202o der einander benachbarten Isolierkacheln 200 angeordnet sein aber nicht zwischen den zweiten Abschnitten 202u der einander benachbarten Isolierkacheln 200. Da das Kammerwandelement 100 derart eingerichtet ist, dass bei montierten Isolierkacheln 200 jeweils deren zweiter Abschnitt 202u dem Inneren der Prozesskammer zugewandt ist, kann die Trägerstruktur 114 anschaulich vor einer thermischen Belastung geschützt sein.Such as in 3A and 3B is shown, the support structure 114 between the first sections 202o the adjacent insulating tiles 200 but not between the second sections 202U the adjacent insulating tiles 200 , As the chamber wall element 100 is set up so that when mounted insulating tiles 200 each second section 202U facing the interior of the process chamber, the support structure 114 be clearly protected against thermal stress.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Isolierkachel 200 ein keramisches Material aufweisen oder daraus bestehen. Die Isolierkachel 200 kann ein poröses Material aufweisen oder daraus bestehen. Beispielsweise kann eine poröse Keramik verwendet werden.According to various embodiments, the insulating tile 200 have or consist of a ceramic material. The insulating tile 200 may comprise or consist of a porous material. For example, a porous ceramic may be used.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Isolierkachel 200 derart eingerichtet sein, dass diese (zumindest in Dickenrichtung, z.B. in Richtung 103) eine Wärmeleitfähigkeit von weniger als 0,2 W/(m·K) aufweist. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Isolierkachel 200 aus einem Material bestehen, welches eine Wärmeleitfähigkeit von weniger als 0,2 W/(m·K) aufweist. Aufgrund der Temperaturabhängigkeit der Wärmeleitfähigkeit bezieht sich diese Angabe auf eine Temperatur von (0°C) und auf übliche Einsatzbedingungen (z.B. bei einem Druck von ungefähr 1 bar). According to various embodiments, the insulating tile 200 be set up so that this (at least in the thickness direction, eg in the direction 103 ) has a thermal conductivity of less than 0.2 W / (m · K). According to various embodiments, the insulating tile 200 consist of a material which has a thermal conductivity of less than 0.2 W / (m · K). Due to the temperature dependence of the thermal conductivity, this specification refers to a temperature of (0 ° C) and to normal operating conditions (eg at a pressure of about 1 bar).

Wie beispielsweise in Figur 2B und in den 3A und 3B dargestellt ist, können die zwei Aussparungsstrukturen 206 der Isolierkachel 200 im Wesentlichen L-förmig sein. Anschaulich bilden die Aussparungsstrukturen 206 sowohl den Raum zum Eingreifen der Eingriffsabschnitte 124 der Trägerstrukturen 114 als auch den Spalt 301s zum Durchführen der Trägerstrukturen 114 in Richtung der Kammerwand 102.As in FIG 2 B and in the 3A and 3B can be shown, the two recess structures 206 the insulating tile 200 be essentially L-shaped. The recessed structures form clearly 206 both the space for engaging the engaging portions 124 the support structures 114 as well as the gap 301s for carrying out the carrier structures 114 in the direction of the chamber wall 102 ,

4A veranschaulicht einen Abschnitt der Trägeranordnung 104 bzw. einen Abschnitt einer Trägerstruktur der Trägeranordnung 104 in einer schematischen Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 4A illustrates a portion of the carrier assembly 104 or a section of a carrier structure of the carrier arrangement 104 in a schematic cross-sectional view, according to various embodiments.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Trägeranordnung 104 oder können die jeweiligen Trägerstrukturen 114 einen Träger 406 oder einen Abschnitt 406 mit mehreren Durchgangsöffnungen 406a aufweisen. Mit anderen Worten können die Trägerstrukturen 114a, 114b in dem Bereich, in dem die Isolierkacheln 200 gehalten werden, mehrere Durchgangsöffnungen aufweisen. In diesem Fall kann beispielsweise ein Pufferband 402p (z.B. eine bandförmige Pufferstruktur, z.B. ein Aramid-Faser-Band) als Auflageschutz verwendet werden, wobei das Pufferband 402p durch die mehreren Durchgangsöffnungen 406a hindurchgeführt sein kann und sich zumindest abschnittsweise entlang der Einschubrichtung (zum Beispiel Richtung 105) erstreckt. Anschaulich kann das Pufferband 402p zumindest teilweise mit dem Träger 406 verflochten sein oder werden. Somit kann beispielsweise auf eine klebende oder aufwändige mechanische Befestigung einer Pufferstruktur verzichtet werden.According to various embodiments, the carrier assembly 104 or the respective carrier structures 114 may be a carrier 406 or a section 406 with several through holes 406a exhibit. In other words, the support structures 114a . 114b in the area where the insulating tiles 200 are held, have a plurality of through holes. In this case, for example, a buffer band 402p (Eg, a band-shaped buffer structure, such as an aramid fiber band) can be used as a support protection, wherein the buffer band 402p through the multiple passage openings 406a can be passed and at least partially along the insertion direction (for example, direction 105 ). Illustratively, the buffer band 402p at least partially with the carrier 406 be or become intertwined. Thus, for example, an adhesive or complex mechanical attachment of a buffer structure can be dispensed with.

4B veranschaulicht ein Kammerwandelement 100 in einer schematischen Ansicht, wobei mindestens eine Pufferstruktur 402p (zum Beispiel das in 4A dargestellte Pufferband, oder eine andere Pufferstruktur) als Auflageschutz zwischen den Isolierkacheln 200 und der Trägerstrukturen 114 verwendet wird. 4B illustrates a chamber wall element 100 in a schematic view, wherein at least one buffer structure 402p (for example, the in 4A illustrated buffer band, or other buffer structure) as support protection between the insulating tiles 200 and the support structures 114 is used.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Pufferstruktur 402p an den jeweils verwendeten Trägerstrukturen 114 befestigt sein oder werden und jeweils zumindest abschnittsweise in Richtung des Aufnahmeraums 110 freiliegen. Somit kann beispielsweise ein direkter körperlicher Kontakt der jeweiligen Isolierkacheln 200 mit den jeweils benachbarten Trägerstrukturen 114 vermieden werden, wenn die Isolierkacheln 200 in den Aufnahmeraum 110 eingeschoben werden oder sind.According to various embodiments, the buffer structure 402p at the respectively used carrier structures 114 be attached or be and in each case at least partially in the direction of the receiving space 110 exposed. Thus, for example, a direct physical contact of the respective insulating tiles 200 with the respective adjacent carrier structures 114 be avoided when the insulating tiles 200 in the receiving space 110 be inserted or are.

5 veranschaulicht ein Kammerwandelement 100 in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. Das Kammerwandelement 100 kann mindestens eine Dichtungsstruktur 502 aufweisen, welche auf der gleichen Seite 102i der Kammerwand 102 angeordnet ist, wie die Trägeranordnung 104. Die Dichtungsstruktur 502 kann beispielsweise zum Abdichten einer Kammeröffnung 602o einer Prozesskammer 602 eingerichtet sein, wie beispielsweise in 6 in einer schematischen Ansicht veranschaulicht ist. 5 illustrates a chamber wall element 100 in a schematic view, according to various embodiments. The chamber wall element 100 may comprise at least one sealing structure 502, which on the same side 102i of the chamber wall 102 is arranged as the carrier assembly 104. The sealing structure 502 For example, for sealing a chamber opening 602o a process chamber 602, such as in 6 is illustrated in a schematic view.

Wie beispielsweise in 5 veranschaulicht ist, können jeweils zwei äußere Trägerstrukturen 514a des Kammerwandelements 100 einen L-förmigen Querschnitt aufweisen und die dazwischenliegenden inneren Trägerstrukturen 514i des Kammerwandelements 100 können einen T-förmigen Querschnitt aufweisen. Somit können mehrere Aufnahmeräume 110 (in Richtung 101, z.B. quer zur Einschubrichtung) nebeneinander bereitgestellt sein oder werden.Such as in 5 each may have two outer support structures 514a of the chamber wall member 100 have an L-shaped cross section and the intermediate inner support structures 514i of Chamber wall element 100 may have a T-shaped cross-section. Thus, several recording rooms 110 (in the direction 101, for example, transversely to the insertion direction) be provided side by side or be.

Die Kammerwand 102 kann beispielsweise eine Breite bzw. Tiefe (in Richtung 101 bzw. 105) in einem Bereich von ungefähr 1 m bis ungefähr 5 m aufweisen. Anschaulich kann es in diesem Fall hilfreich sein, eine Fläche von einem oder mehreren Quadratmetern (z.B. mehr als 1 m2, mehr als 4 m2, oder mehr als 10 m2) thermisch zu isolieren, wobei es vorteilhaft sein kann, dazu eine Vielzahl kleinerer Isolierkacheln 200 zu verwenden, wie hierin beschrieben ist.The chamber wall 102 For example, a width or depth (in the direction 101 respectively. 105 ) in a range of about 1 m to about 5 m. Clearly, in this case, it may be helpful to thermally isolate an area of one or more square meters (eg, more than 1 m 2 , more than 4 m 2 , or more than 10 m 2 ), and it may be advantageous to do so in a variety smaller insulating tiles 200 to use as described herein.

Die Isolierkacheln 200 können beispielsweise eine Breite bzw. Tiefe (in Richtung 101 bzw. 105) von weniger als einem Meter (z.B. in einem Bereich von ungefähr 10 cm bis ungefähr 100 cm) aufweisen bzw. eine Fläche von weniger als einem Quadratmeter (z.B. in einem Bereich von ungefähr 100 cm2 bis ungefähr 1 m2). Die Isolierkacheln 200 können beispielsweise eine Dicke (in Richtung 103) in einem Bereich von ungefähr 5 cm bis ungefähr 30 cm aufweisen.The insulating tiles 200 For example, a width or depth (in the direction 101 respectively. 105 ) of less than one meter (eg in a range of about 10 cm to about 100 cm) or an area of less than one square meter (eg in a range of about 100 cm 2 to about 1 m 2 ). The insulating tiles 200 For example, a thickness (in the direction 103 ) in a range of about 5 cm to about 30 cm.

6 veranschaulicht eine Prozesskammer-Anordnung 600 in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. Die Prozesskammer-Anordnung 600 kann beispielsweise Folgendes aufweisen: eine Prozesskammer 602 zum Prozessieren eines Substrats innerhalb eines Prozessierbereichs 610 der Prozesskammer 602. Ferner kann die Prozesskammer 602 eine Kammeröffnung aufweisen, z.B. kann die Prozesskammer 602 nach oben hin geöffnet sein. Wie vorangehend beschrieben ist, kann das Kammerwandelement 100 (z.B. mit montierten Isolierkacheln 200) zum Abdecken der Kammeröffnung verwendet werden. Daher ist beispielsweise die Kammerwand 102 des Kammerwandelements 100 von dem Prozessierbereich 610 mittels der mehreren Isolierkacheln 200 thermisch isoliert (mit anderen Worten abgeschirmt). Anschaulich ist das Kammerwandelement 100 in diesem Fall ein Prozesskammerdeckel 100 bzw. wird als Prozesskammerdeckel 100 verwendet. 6 illustrates a process chamber arrangement 600 in a schematic view, according to various embodiments. The process chamber arrangement 600 For example, it may include: a process chamber 602 for processing a substrate within a processing area 610 of the process chamber 602 , Furthermore, the process chamber 602 may have a chamber opening, eg, the process chamber 602 may be open at the top. As described above, the chamber wall element 100 (eg with mounted insulating tiles 200 ) are used to cover the chamber opening. Therefore, for example, the chamber wall 102 of the chamber wall element 100 from the processing area 610 by means of the plurality of insulating tiles 200 thermally isolated (in other words shielded). Illustrative is the chamber wall element 100 in this case, a process chamber lid 100 or is used as a process chamber lid 100 used.

Beispielsweise kann der Prozesskammerdeckel 100 abschnittsweise auf der Prozesskammer 602 aufliegen zum Verschließen bzw. Abdichten mindestens einer Kammeröffnung 602o. Dabei kann die Dichtungsstruktur 502 optional sein, da die Kammeröffnung je nach Arbeitsdruck in der Prozesskammer 602 auch bereits nur durch Auflegen des Kammerdeckels ausreichend dicht verschlossen sein kann oder werden kann.For example, the process chamber lid 100 in sections on the process chamber 602 rest for closing or sealing at least one chamber opening 602o , In this case, the sealing structure 502 be optional, since the chamber opening depending on the working pressure in the process chamber 602 even already by placing the chamber lid can be tightly sealed or can be.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Kammerwandelement 100 derart ausgestaltet sein, dass Isolierkacheln 200 mittels der Trägeranordnung 104 in einem Kupplungsbereich 700k zwischen zwei aneinandergrenzenden Prozesskammern gehalten werden können, wie beispielsweise in Fig.7A und 7B jeweils in einer schematischen Ansicht veranschaulicht ist.According to various embodiments, the chamber wall element 100 may be configured such that insulating tiles 200 by means of the carrier assembly 104 can be held in a coupling region 700k between two adjacent process chambers, such as in Fig. 7A and 7B each illustrated in a schematic view.

Dazu kann eine äußere Trägerstruktur 714 der Trägeranordnung 104 einen Eingriffsabschnitt aufweisen, der nach außen gerichtet ist, wie in 7A dargestellt ist. Dabei bildet die Trägeranordnung 104 eines Kammerwandelements 100 nur einen Teil der Halterung zum Halten der Isolierkacheln 200 in dem Kupplungsbereich, welcher von einem im Wesentlichen baugleichen angrenzenden Kammerwandelement 100 komplettiert wird, wie beispielsweise in 7B dargestellt ist. Somit können mehrere Isolierkacheln 200 in den Aufnahmeraum 710, der im Kupplungsbereich 700k zwischen zwei bzw. zwischen zwei Kammerwandelementen 100 gebildet ist, eingeschoben werden, analog zum vorangehend Beschriebenen.This can be an outer support structure 714 the carrier assembly 104 an engaging portion facing outward, as in FIG 7A is shown. In this case, forms the carrier assembly 104 a chamber wall element 100 only a part of the holder for holding the insulating tiles 200 in the coupling region, which of a substantially identical adjacent chamber wall element 100 is completed, such as in 7B is shown. Thus, several insulating tiles can 200 in the recording room 710 in the coupling area 700k is formed between two or between two chamber wall elements 100, are inserted, analogous to the above-described.

8 veranschaulicht die Trägerstrukturen 114a, 114b einer Trägeranordnung 104 sowie eine Haltestruktur 802 in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. Die Haltestruktur 802 ist derart eingerichtet, dass mittels dieser mehrere Isolierkacheln 200, wenn diese in den Aufnahmeraum 110 eingeschoben sind, in Einschubrichtung (z.B. in Richtung 105) gegeneinandergepresst (805) werden können. 8th illustrates the support structures 114a . 114b a carrier assembly 104 and a support structure 802 in a schematic view, according to various embodiments. The holding structure 802 is set up so that by means of this several insulating tiles 200 , if they are inserted into the receiving space 110, in the insertion direction (eg in the direction 105 ) pressed against each other ( 805 ) can be.

Dabei kann die Haltestruktur 802 ein oder mehrere Federelemente aufweisen zum Pressen der Isolierkacheln 200 gegeneinander. Alternativ oder zusätzlich dazu kann die Haltestruktur 802 ein verstellbares Element aufweisen, das in eine feste Position gebracht wird (z.B. mittels Schrauben oder Ähnlichem) um eine Kraft auf die Isolierkacheln 200 zu übertragen oder um die Isolierkacheln 200 zumindest mittels Formschlusses in Einschubrichtung zu fixieren.In this case, the holding structure 802 have one or more spring elements for pressing the insulating tiles 200 up to today. Alternatively, or additionally, the support structure 802 may include an adjustable member that is placed in a fixed position (eg, by screws or the like) to apply a force to the insulating tiles 200 to transfer or to the insulating tiles 200 at least to fix by means of positive locking in the insertion direction.

Im Folgenden werden verschiedene Beispiele beschrieben, welche sich auf das vorangehend Beschriebene und Dargestellte beziehen.In the following, various examples relating to the above described and illustrated will be described.

Beispiel 1 ist ein Kammerwandelement 100, aufweisend: eine Trägeranordnung 104, welche auf einer ersten Seite 102i einer Kammerwand 102 angeordnet ist und mehrere Trägerstrukturen (z.B. die dargestellten Trägerstrukturen 114, 114a, 114b, 514a, 514i und/oder 714) aufweist, wobei jeweils zwei einander benachbarte Trägerstrukturen (z.B. die dargestellten einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b) der mehreren Trägerstrukturen derart in einem Abstand voneinander angeordnet sind und sich entlang einer Einschubrichtung 105 erstrecken, dass zwischen diesen ein Aufnahmeraum 110 gebildet ist zum Aufnehmen mehrerer Isolierkacheln 200, wobei die zwei einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b jeweils einen Eingriffsabschnitt 124a, 124b aufweisen, der sich zumindest derart abschnittsweise entlang der Einschubrichtung erstreckt und (anschaulich seitlich) in den Aufnahmeraum 110 hineinragt, dass die mehreren Isolierkacheln 200 entlang der Einschubrichtung in den Aufnahmeraum 110 eingeschoben werden können und mittels der jeweiligen Eingriffsabschnitte 124a, 124b in dem Aufnahmeraum 110 gehalten werden können.Example 1 is a chamber wall element 100 comprising: a carrier assembly 104 which is on a first side 102i a chamber wall 102 is arranged and a plurality of support structures (eg, the support structures shown 114 . 114a . 114b . 514a . 514i and or 714 ), wherein in each case two adjacent carrier structures (eg the illustrated adjacent carrier structures 114a . 114b ) of the plurality of support structures are arranged at a distance from each other and along a direction of insertion 105 extend that between these a recording room 110 is formed for receiving a plurality of insulating tiles 200 , wherein the two adjacent support structures 114a . 114b each an engagement section 124a . 124b which extends at least in sections along the direction of insertion and (clearly laterally) protrudes into the receiving space 110, that the plurality of insulating tiles 200 along the direction of insertion into the receiving space 110 can be inserted and by means of the respective engagement portions 124a, 124b in the receiving space 110 can be kept.

In Beispiel 2 weist das Kammerwandelement 100 gemäß Beispiel 1 ferner Folgendes auf: mindestens eine Pufferstruktur 402p, welche an mindestens einem der zwei einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b befestigt ist und zumindest abschnittsweise in Richtung des Aufnahmeraums 110 freiliegt zum Verhindern eines direkten körperlichen Kontakts der mehreren Isolierkacheln 200 mit dem mindestens einen der zwei einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b.In Example 2, the chamber wall element 100 According to Example 1 further comprises: at least one buffer structure 402p, which on at least one of the two adjacent support structures 114a . 114b is fixed and at least partially exposed in the direction of the receiving space 110 for preventing direct physical contact of the plurality of insulating tiles 200 with the at least one of the two adjacent support structures 114a, 114b.

In Beispiel 3 weist das Kammerwandelement 100 gemäß Beispiel 2 auf, dass die jeweiligen Trägerstrukturen 114 einen Abschnitt 406 mit mehreren Durchgangsöffnungen 406a aufweisen, und dass die mindestens eine Pufferstruktur 402p ein Pufferband aufweist, welches durch die mehreren Durchgangsöffnungen 406a hindurchgeführt ist. Das Pufferband erstreckt sich beispielsweise zumindest abschnittsweise entlang der Einschubrichtung 105.In Example 3, the chamber wall element 100 according to Example 2, that the respective carrier structures 114 a section 406 having a plurality of through holes 406a and that the at least one buffer structure 402p a buffer belt which is passed through the plurality of through holes 406a. The buffer strip extends, for example, at least in sections along the direction of insertion 105 ,

In Beispiel 4 weist das Kammerwandelement 100 gemäß Beispiel 3 auf, dass das Pufferband ein Fasergewebe aufweist. Das Pufferband kann vorzugsweise ein Aramid-Fasergewebe aufweisen.In Example 4, the chamber wall element 100 according to Example 3 on that the buffer tape comprises a fiber fabric. The buffer band may preferably comprise an aramid fiber fabric.

In Beispiel 5 weist das Kammerwandelement 100 gemäß einem der Beispiele 1 bis 4 ferner auf, dass jede der mehreren Trägerstrukturen als ein L-förmiger oder T-förmiger Träger ausgebildet ist.In Example 5, the chamber wall element 100 according to any one of examples 1 to 4 further, that each of the plurality of support structures is formed as an L-shaped or T-shaped support.

In Beispiel 6 weist das Kammerwandelement 100 gemäß einem der Beispiele 1 bis 5 ferner Folgendes auf: eine Dichtungsstruktur 502, welche auf der ersten Seite angeordnet ist, zum Abdichten einer Kammeröffnung 602o einer Prozesskammer 602 mittels des Kammerwandelements 100. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Dichtungsstruktur 502 eine Auflagedichtung sein. Die Dichtungsstruktur 502 kann beispielsweise zwei Dichtflächen aufweisen, die miteinander in passenden körperlichen Kontakt gebracht werden können, z.B. eine erste an der Kammerwand 102 des Kammerwandelements 100 und eine zweite an der Prozesskammer 602 (z.B. die Kammeröffnung 602o umlaufend). Die Dichtungsstruktur 502 kann ferner beispielsweise mindestens ein Dichtungselement aufweisen, welches zwischen den zwei Dichtflächen angeordnet ist.In Example 6, the chamber wall element 100 according to any one of examples 1 to 5, further comprising: a seal structure 502 disposed on the first side for sealing a chamber opening 602o a process chamber 602 by means of the chamber wall element 100 , According to various embodiments, the sealing structure 502 be a padding seal. The seal structure 502 For example, it may have two sealing surfaces that can be brought into proper physical contact with each other, eg a first one on the chamber wall 102 the chamber wall element 100 and a second one at the process chamber 602 (eg the chamber opening 602o circulating). The seal structure 502 may further comprise, for example, at least one sealing element, which is arranged between the two sealing surfaces.

In Beispiel 7 weist das Kammerwandelement 100 gemäß einem der Beispiele 1 bis 6 ferner Folgendes auf: eine Haltestruktur 802 zum Gegeneinanderpressen mehrerer in den Aufnahmeraum 110 eingeschobener Isolierkacheln 200 (in Einschubrichtung 105) und/oder zum formschlüssigen Halten bzw. Fixieren mehrerer in den Aufnahmeraum 110 eingeschobener Isolierkacheln 200 (in Einschubrichtung 105). Anschaulich kann die Haltestruktur 802 die in einem Aufnahmeraum 110 aufgenommenen mehreren Isolierkacheln 200 aktiv gegeneinanderpressen oder lediglich verhindern, dass die in einem Aufnahmeraum 110 aufgenommenen mehreren Isolierkacheln 200 herausfallen können.In Example 7, the chamber wall element 100 according to any one of examples 1 to 6, further comprising: a holding structure 802 to press against each other several in the recording room 110 inserted insulating tiles 200 (in the insertion direction 105 ) and / or for positive holding or fixing several in the receiving space 110 inserted insulating tiles 200 (in the insertion direction 105). Clearly, the holding structure 802 in a recording room 110 taken several insulating tiles 200 actively against each press or merely prevent the in a receiving space 110 taken several insulating tiles 200 can fall out.

Beispiel 8 ist eine Isolierkachel 200, aufweisend: zwei Aussparungsstrukturen 206a, 206b, welche in einander gegenüberliegenden Randbereichen 202c, 202d der Isolierkachel 200 gebildet sind zum Einschieben der Isolierkachel 200 in einen Aufnahmeraum 110 einer Trägeranordnung 104 und zum Halten der Isolierkachel 200 in dem Aufnahmeraum 110; wobei die zwei Aussparungsstrukturen 206a, 206b derart gebildet sind, dass die Isolierkachel 200 auf einer ersten Seite 202a einen ersten Abschnitt 202o mit einer ersten Breite aufweist, und dass die Isolierkachel 200 auf einer der ersten Seite 202a gegenüberliegenden zweiten Seite 202b einen zweiten Abschnitt 202u mit einer zweiten Breite aufweist, wobei die zweite Breite größer ist als die erste Breite, so dass die Isolierkachel 200 von der ersten Seite 202a aus mittels der Trägeranordnung 104, welche zumindest teilweise in die beiden Aussparungsstrukturen 206a, 206b eingreifen kann, gehalten werden kann.Example 8 is an insulating tile 200 comprising: two recess structures 206a, 206b disposed in opposite edge areas 202c . 202d the insulating tile 200 are formed for inserting the insulating tile 200 in a recording room 110 a carrier assembly 104 and to hold the insulating tile 200 in the recording room 110 ; the two recess structures 206a . 206b are formed such that the insulating tile 200 on a first side 202a, a first section 202o having a first width, and that the insulating tile 200 on one of the first page 202a opposite second side 202b a second section 202U having a second width, wherein the second width is greater than the first width, so that the insulating tile 200 from the first page 202a out by means of the carrier assembly 104 , which at least partially in the two recess structures 206a . 206b can engage, can be held.

Beispiel 9 ist eine Isolierkachel 200, aufweisend: einen ersten Abschnitt 202o und einen an den ersten Abschnitt 202o angrenzenden zweiten Abschnitt 202u, wobei sich der erste Abschnitt 202o auf einer ersten Seite 202a der Isolierkachel 200 von einer ersten Kante 202-k1 zu einer der ersten Kante 202-k1 gegenüberliegenden zweiten Kante 202-k2 mit einer ersten Breite erstreckt, und wobei sich der zweite Abschnitt 202u auf einer der ersten Seite 202a gegenüberliegenden zweiten Seite 202b der Isolierkachel 200 von einer dritten Kante 202-k3 zu einer der dritten Kante 202-k3 gegenüberliegenden vierten Kante 202-k4 mit einer zweiten Breite erstreckt, wobei die erste Breite geringer ist als die zweite Breite; eine erste Aussparungsstruktur 206a und eine zweite Aussparungsstruktur 206b, wobei die erste Aussparungsstruktur 206a auf einer dritten Seite 202c der Isolierkachel 200 zwischen der ersten Kante 202-k1 und der dritten Kante 202-k3 gebildet ist und wobei die zweite Aussparungsstruktur 206b auf einer vierten Seite 202d der Isolierkachel 200 zwischen der zweiten Kante 202-k2 und der vierten Kante 202-k4 gebildet ist, so dass die Isolierkachel 200 von der ersten Seite 202a aus mittels einer Trägeranordnung 104, welche zumindest teilweise in die beiden Aussparungsstrukturen 206a, 206b eingreifen kann, gehalten werden kann.Example 9 is an insulating tile 200 comprising: a first section 202o and one to the first section 202o adjacent second section 202U wherein the first portion 202o is on a first side 202a the insulating tile 200 from a first edge 202-k1 to a second edge 202-k2 opposite the first edge 202-k1 having a first width, and wherein the second portion 202U on one of the first page 202a opposite second side 202b the insulating tile 200 extending from a third edge 202-k3 to a fourth edge 202-k4 opposite the third edge 202-k3, the first width being less than the second width; a first recess structure 206a and a second recess structure 206b wherein the first recess structure 206a is on a third side 202c the insulating tile 200 is formed between the first edge 202-k1 and the third edge 202-k3, and wherein the second recess structure 206b is on a fourth side 202d the insulating tile 200 between the second edge 202-k2 and the fourth edge 202-k4 is formed, so that the insulating tile 200 from the first page 202a can be held by means of a carrier assembly 104 which can at least partially engage in the two recess structures 206a, 206b.

In Beispiel 10 kann die Isolierkachel 200 gemäß Beispiel 8 oder 9 ein keramisches Material aufweisen oder daraus bestehen.In Example 10, the insulating tile 200 according to Example 8 or 9 have a ceramic material or consist thereof.

In Beispiel 11 kann die Isolierkachel 200 gemäß einem der Beispiele 8 bis 10 ein poröses Material aufweisen oder daraus bestehen.In Example 11, the insulating tile 200 according to any one of Examples 8 to 10 have or consist of a porous material.

In Beispiel 12 kann die Isolierkachel 200 gemäß einem der Beispiele 8 bis 11 aufweisen, dass die zwei einander gegenüberliegenden Aussparungsstrukturen 206a, 206b im Wesentlichen L-förmig sind.In Example 12, the insulating tile 200 according to one of the examples 8 to 11, that the two opposing recess structures 206a . 206b are essentially L-shaped.

Beispiel 13 ist eine Kammerwandelement-Anordnung, aufweisend: ein Kammerwandelement 100 gemäß einem der Beispiele 1 bis 7; und mehrere Isolierkacheln 200 gemäß einem der Beispiele 8 bis 12. Dabei können die mehreren Isolierkacheln 200 mittels der Trägeranordnung 104 des Kammerwandelements 100 in dem Aufnahmeraum 110 zwischen den zwei einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b gelagert sein. Ferner können die Eingriffsabschnitte 124a, 124b der zwei einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b jeweils in die zwei Aussparungsstrukturen 206a, 206b der mehreren Isolierkacheln 200 eingreifen.Example 13 is a chamber wall element assembly comprising: a chamber wall element 100 according to any one of examples 1 to 7; and several insulating tiles 200 according to any of Examples 8 to 12. In this case, the plurality of insulating tiles 200 by means of the carrier arrangement 104 the chamber wall element 100 be stored in the receiving space 110 between the two adjacent support structures 114a, 114b. Further, the engagement portions 124a, 124b of the two adjacent support structures 114a, 114b respectively into the two recess structures 206a, 206b of the plurality of insulating tiles 200 intervention.

In Beispiel 14 weist die Kammerwandelement-Anordnung gemäß Beispiel 13 auf, dass jeweils die ersten Abschnitte 202o der mehreren Isolierkacheln 200 der Kammerwand 102 zugewandt sind, und dass die zweiten Abschnitte 202u der mehreren Isolierkacheln 200 der Kammerwand 102 abgewandt sind.In Example 14, the chamber wall element arrangement according to Example 13, that in each case the first sections 202o the several insulating tiles 200 the chamber wall 102 are facing, and that the second sections 202U the plurality of insulating tiles 200 of the chamber wall 102 are averted.

In Beispiel 15 weist die Kammerwandelement-Anordnung gemäß Beispiel 13 oder 14 auf, dass jeweils die zweiten Abschnitte 202u der mehreren Isolierkacheln 200 gemeinsam eine im Wesentlichen flächig geschlossene thermische Isolierung bilden. Dabei kann zwischen den jeweils einander benachbarten Isolierkacheln 200 ein geringer Spalt mit einer Spaltbreite von beispielsweise weniger als 5 cm (z.B. weniger als 4 cm, weniger als 3 cm, weniger als 2 cm oder sogar weniger als 1 cm) bereitgestellt sein oder werden.In Example 15, the chamber wall element arrangement according to Example 13 or 14, that in each case the second sections 202U the several insulating tiles 200 together form a substantially flat closed thermal insulation. In this case, a small gap with a gap width of, for example, less than 5 cm (eg less than 4 cm, less than 3 cm, less than 2 cm or even less than 1 cm) can be provided between the mutually adjacent insulating tiles 200.

Beispiel 16 ist eine Prozesskammer-Anordnung 600, aufweisend: eine Prozesskammer 602 zum Prozessieren eines Substrats innerhalb eines Prozessierbereichs 610 der Prozesskammer 602, wobei die Prozesskammer 602 mindestens eine Kammeröffnung 602o aufweist; und mindestens ein Kammerwandelement 100 gemäß einem der Beispiele 1 bis 7 oder mindestens eine Kammerwandelement-Anordnung gemäß einem der Beispiele 13 bis 15 zum Abdecken der mindestens einen Kammeröffnung 602o.Example 16 is a process chamber arrangement 600 comprising: a process chamber 602 for processing a substrate within a processing area 610 the process chamber 602 , wherein the process chamber 602 at least one chamber opening 602o having; and at least one chamber wall element 100 according to one of the examples 1 to 7 or at least one chamber wall element arrangement according to one of the examples 13 to 15 for covering the at least one chamber opening 602o ,

Beispiel 17 ist ein Prozesskammerdeckel 100 zum Abdecken einer Kammeröffnung einer Prozesskammer 602, der Prozesskammerdeckel 100 aufweisend: eine Trägeranordnung 104, welche auf einer ersten Seite 102i einer Deckelwand 102 montiert ist und mehrere Trägerstrukturen 114a, 114b aufweist, wobei jeweils zwei einander benachbarte Trägerstrukturen 114a, 114b der mehreren Trägerstrukturen derart in einem Abstand voneinander angeordnet sind und sich entlang einer Einschubrichtung 105 erstrecken, dass zwischen diesen ein Aufnahmeraum 110 zum Aufnehmen mehrerer Isolierkacheln 200 gebildet ist, wobei die zwei einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b jeweils einen Eingriffsabschnitt 124a, 124b aufweisen, der sich zumindest abschnittsweise entlang der Einschubrichtung 105 erstreckt und in den Aufnahmeraum 110 hineinragt; und mehrere Isolierkacheln 200, welche jeweils zwei Aussparungsstrukturen 206a, 206b aufweisen, die in einander gegenüberliegenden Randbereichen der jeweiligen Isolierkachel 200 gebildet sind, wobei die Isolierkacheln 200 und die Trägeranordnung 104 derart passend zueinander eingerichtet sind, dass die mehreren Isolierkacheln 200 entlang der Einschubrichtung 105 in den Aufnahmeraum 110 eingeschoben werden können und dass die jeweiligen Eingriffsabschnitte 124a, 124b der zwei einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b in die zwei Aussparungsstrukturen 206a, 206b der jeweiligen Isolierkacheln 200 eingreifen zum Halten der Isolierkacheln 200 in dem Aufnahmeraum 110.Example 17 is a process chamber lid 100 for covering a chamber opening of a process chamber 602 , the process chamber lid 100 comprising: a carrier assembly 104 , which on a first page 102i a lid wall 102 is mounted and several support structures 114a . 114b wherein in each case two adjacent support structures 114a, 114b of the plurality of support structures are arranged at a distance from each other and along an insertion direction 105 extend that between these a recording room 110 is formed for receiving a plurality of insulating tiles 200, wherein the two adjacent support structures 114a . 114b each have an engagement portion 124a, 124b, at least in sections along the insertion direction 105 extends and into the recording room 110 projects; and a plurality of insulating tiles 200 each having two recess structures 206a . 206b have, in opposite edge regions of the respective insulating tile 200 are formed, with the insulating tiles 200 and the carrier assembly 104 are arranged to match each other, that the plurality of insulating tiles 200 along the insertion direction 105 in the recording room 110 can be inserted and that the respective engagement sections 124a . 124b of the two adjacent support structures 114a . 114b into the two recess structures 206a, 206b of the respective insulating tiles 200 for holding the insulating tiles 200 in the recording room 110 ,

Beispiel 18 ist ein Kammerwandelement 100, aufweisend: zwei einander benachbarte Trägerstrukturen (z.B. die dargestellten einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b), welche in einem Abstand voneinander angeordnet sind und sich entlang einer Einschubrichtung 105 erstrecken derart, dass zwischen diesen ein Aufnahmeraum 110 gebildet ist zum Aufnehmen einer oder mehrerer Isolierkacheln 200, wobei die zwei einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b jeweils einen Eingriffsabschnitt 124a, 124b aufweisen, der sich zumindest abschnittsweise entlang der Einschubrichtung erstreckt und (anschaulich seitlich) in den Aufnahmeraum 110 hineinragt derart, dass die eine oder mehreren Isolierkacheln 200 entlang der Einschubrichtung in den Aufnahmeraum 110 eingeschoben werden können und mittels der jeweiligen Eingriffsabschnitte 124a, 124b in dem Aufnahmeraum 110 gehalten werden können.Example 18 is a chamber wall element 100 comprising: two adjacent support structures (eg, the illustrated adjacent support structures 114a . 114b ), which are arranged at a distance from each other and along a direction of insertion 105 extend such that between these a receiving space 110 is formed for receiving one or more insulating tiles 200 , wherein the two adjacent support structures 114a . 114b each have an engagement portion 124a, 124b, which extends at least partially along the insertion direction and (vividly laterally) in the receiving space 110 protrudes such that the one or more insulating tiles 200 along the direction of insertion into the receiving space 110 can be inserted and by means of the respective engagement portions 124a, 124b in the receiving space 110 can be kept.

Beispiel 19 ist eine Trägeranordnung 104 zum Halten einer Vielzahl von Isolierkacheln 200, die Trägeranordnung 104 aufweisend: zwei einander benachbarte Trägerstrukturen (z.B. die dargestellten einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b), welche in einem Abstand voneinander angeordnet sind und sich entlang einer Einschubrichtung 105 erstrecken derart, dass zwischen diesen ein Aufnahmeraum 110 gebildet ist zum Aufnehmen mehrerer Isolierkacheln 200, wobei die zwei einander benachbarten Trägerstrukturen 114a, 114b jeweils einen Eingriffsabschnitt 124a, 124b aufweisen, der sich zumindest abschnittsweise entlang der Einschubrichtung erstreckt und (anschaulich seitlich) in den Aufnahmeraum 110 hineinragt derart, dass die mehreren Isolierkacheln 200 entlang der Einschubrichtung in den Aufnahmeraum 110 eingeschoben werden können und mittels der jeweiligen Eingriffsabschnitte 124a, 124b in dem Aufnahmeraum 110 gehalten werden können.Example 19 is a carrier assembly 104 for holding a plurality of insulating tiles 200 , the carrier assembly 104 comprising: two adjacent support structures (eg, the illustrated adjacent support structures 114a . 114b ), which are arranged at a distance from each other and along a direction of insertion 105 extend such that between these a receiving space 110 is formed for receiving a plurality of insulating tiles 200 , wherein the two adjacent support structures 114a . 114b each an engagement section 124a . 124b have, which extends at least partially along the insertion direction and (vividly side) in the receiving space 110 protrudes such that the plurality of insulating tiles 200 along the direction of insertion into the receiving space 110 can be inserted and by means of the respective engagement portions 124a, 124b in the receiving space 110 can be kept.

In Beispiel 20 wird die Trägeranordnung 104 gemäß Beispiel 19 zum Montieren einer Vielzahl von Isolierkachel 200 an einem Kammerdeckel 102 oder einer Kammerwand 102 einer Prozesskammer 602 verwendet.In Example 20, the carrier assembly 104 according to Example 19 for mounting a plurality of insulating tile 200 on a chamber lid 102 or a chamber wall 102 a process chamber 602 used.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ferner mindestens eine Heizvorrichtung an dem Kammerwandelement 100 montiert sein oder werden, z.B. auf der gleichen Seite wie die Trägeranordnung 104, z.B. kann die Trägeranordnung 104 zwischen der Kammerwand 102 und der Heizvorrichtung angeordnet sein, so dass die thermische Isolierung aus der Vielzahl von Isolierkacheln 200 zwischen der Kammerwand 102 und der Heizvorrichtung bereitgestellt sein kann oder werden kann.In accordance with various embodiments, at least one heater may further be attached to the chamber wall member 100 be mounted or, for example, on the same side as the carrier assembly 104, for example, the carrier assembly 104 between the chamber wall 102 and the heating device can be arranged so that the thermal insulation of the plurality of insulating tiles 200 between the chamber wall 102 and the heater may or may be provided.

Claims (13)

Kammerwandelement (100), aufweisend: • eine Trägeranordnung (104), welche auf einer ersten Seite (102i) einer Kammerwand (102) angeordnet ist und mehrere Trägerstrukturen (114a, 114b) aufweist, wobei jeweils zwei einander benachbarte Trägerstrukturen (114a, 114b) der mehreren Trägerstrukturen derart in einem Abstand voneinander angeordnet sind und sich entlang einer Einschubrichtung (105) erstrecken, dass zwischen den zwei einander benachbarten Trägerstrukturen (114a, 114b) ein Aufnahmeraum (110) gebildet ist zum Aufnehmen mehrerer Isolierkacheln (200), • wobei die zwei einander benachbarten Trägerstrukturen (114a, 114b) jeweils einen Eingriffsabschnitt (124a, 124b) aufweisen, der sich zumindest derart abschnittsweise entlang der Einschubrichtung (105) erstreckt und in den Aufnahmeraum (110) hineinragt, dass die mehreren Isolierkacheln (200) entlang der Einschubrichtung (105) in den Aufnahmeraum (110) eingeschoben werden können und mittels der jeweiligen Eingriffsabschnitte (124a, 124b) in dem Aufnahmeraum (110) gehalten werden können.Chamber wall element (100), comprising: A carrier arrangement (104) which is arranged on a first side (102i) of a chamber wall (102) and has a plurality of carrier structures (114a, 114b), wherein in each case two adjacent carrier structures (114a, 114b) of the plurality of carrier structures are spaced apart are arranged from one another and extend along an insertion direction (105), that a receiving space (110) is formed between the two adjacent carrier structures (114a, 114b) for receiving a plurality of insulating tiles (200), Wherein the two adjacent support structures (114a, 114b) each have an engagement portion (124a, 124b) that extends at least partially along the direction of insertion (105) and projects into the receiving space (110), that the plurality of insulating tiles (200) along the insertion direction (105) in the receiving space (110) can be inserted and by means of the respective engagement portions (124a, 124b) in the receiving space (110) can be held. Kammerwandelement (100) gemäß Anspruch 1, ferner aufweisend: mindestens eine Pufferstruktur (402p), welche an mindestens einem der zwei einander benachbarten Trägerstrukturen (114a, 114b) befestigt ist und zumindest abschnittsweise in Richtung des Aufnahmeraums (110) freiliegt.Chamber wall element (100) according to Claim 1 , further comprising: at least one buffer structure (402p) attached to at least one of the two adjacent support structures (114a, 114b) and at least partially exposed in the direction of the receiving space (110). Kammerwandelement (100) gemäß Anspruch 2, wobei die jeweiligen Trägerstrukturen (114) einen Abschnitt (406) mit mehreren Durchgangsöffnungen (406a) aufweisen; und wobei die mindestens eine Pufferstruktur (402p) ein Pufferband aufweist, welches durch die mehreren Durchgangsöffnungen (406a) hindurchgeführt ist und sich zumindest abschnittsweise entlang der Einschubrichtung (105) erstreckt.Chamber wall element (100) according to Claim 2 wherein the respective support structures (114) include a portion (406) having a plurality of through holes (406a); and wherein the at least one buffer structure (402p) has a buffer band which is passed through the plurality of through openings (406a) and extends at least in sections along the direction of insertion (105). Kammerwandelement (100) gemäß Anspruch 3, wobei das Pufferband ein Fasergewebe, vorzugsweise ein Aramid-Fasergewebe, aufweist oder daraus besteht.Chamber wall element (100) according to Claim 3 wherein the buffer tape comprises or consists of a fibrous web, preferably an aramid fibrous web. Kammerwandelement (100) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei jede der mehreren Trägerstrukturen (114, 114a, 114b, 514a, 514i, 714) einen L-förmigen oder T-förmigen Querschnitt aufweist.Chamber wall element (100) according to one of Claims 1 to 4 wherein each of the plurality of support structures (114, 114a, 114b, 514a, 514i, 714) has an L-shaped or T-shaped cross-section. Kammerwandelement (100) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, ferner aufweisend: eine Dichtungsstruktur (502), welche auf der ersten Seite (102i) angeordnet ist, zum Abdichten einer Kammeröffnung einer Prozesskammer (602).Chamber wall element (100) according to one of Claims 1 to 5 , further comprising: a sealing structure (502) disposed on the first side (102i) for sealing a chamber opening of a process chamber (602). Kammerwandelement (100) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, ferner aufweisend: eine Haltestruktur (802) zum Gegeneinanderpressen mehrerer in den Aufnahmeraum (110) eingeschobener Isolierkacheln (200) und/oder zum formschlüssigen Halten mehrerer in den Aufnahmeraum (110) eingeschobener Isolierkacheln (200).Chamber wall element (100) according to one of Claims 1 to 6 , further comprising: a holding structure (802) for pressing a plurality of insulating tiles (200) pushed into the receiving space (110) against each other and / or for holding a plurality of insulating tiles (200) pushed into the receiving space (110) in a positive-locking manner. Kammerwandelement (100) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei das Kammerwandelement (100) als Prozesskammerdeckel ausgestaltet ist und die Kammerwand eine Deckelwand ist.Chamber wall element (100) according to one of Claims 1 to 7 wherein the chamber wall member (100) is configured as a process chamber lid and the chamber wall is a lid wall. Isolierkachel (200), aufweisend: • zwei Aussparungsstrukturen (206a, 206b), welche in einander gegenüberliegenden Randbereichen (202c, 202d) der Isolierkachel (200) gebildet sind zum Einschieben der Isolierkachel (200) in einen Aufnahmeraum (110) einer Trägeranordnung (104) und zum Halten der Isolierkachel (200) in dem Aufnahmeraum (110); • wobei die zwei Aussparungsstrukturen (206a, 206b) derart gebildet sind, dass die Isolierkachel (200) auf einer ersten Seite (202a) einen ersten Abschnitt (202o) mit einer ersten Breite aufweist, und dass die Isolierkachel (200) auf einer der ersten Seite (202a) gegenüberliegenden zweiten Seite (202b) einen zweiten Abschnitt (202u) mit einer zweiten Breite aufweist, wobei die zweite Breite größer ist als die erste Breite, so dass die Isolierkachel (200) von der ersten Seite (202a) aus mittels der Trägeranordnung (104), welche zumindest teilweise in die beiden Aussparungsstrukturen (206a, 206b) eingreifen kann, gehalten werden kann.Insulating tile (200), comprising: two recess structures (206a, 206b) which are formed in mutually opposite edge regions (202c, 202d) of the insulating tile (200) for inserting the insulating tile (200) into a receiving space (110) of a carrier arrangement (104 ) and holding the insulating tile (200) in the receiving space (110); Wherein the two recess structures (206a, 206b) are formed such that the insulating tile (200) on a first side (202a) has a first portion (202o) with a first width, and in that the insulating tile (200) is on one of the first page (202a) opposite second side (202b) has a second portion (202u) with a second width, the second width being greater than the first width, so that the insulating tile (200) from the first side (202a) by means of the carrier assembly (104), which at least partially in the two recess structures (206a, 206b) can be held. Isolierkachel (200) gemäß Anspruch 9, wobei die Isolierkachel (200) ein keramisches Material aufweist oder daraus besteht; und/oder wobei die Isolierkachel (200) ein poröses Material aufweist oder daraus besteht.Insulating tile (200) according to Claim 9 wherein the insulating tile (200) comprises or consists of a ceramic material; and / or wherein the insulating tile (200) comprises or consists of a porous material. Kammerwandelement-Anordnung, aufweisend: • ein Kammerwandelement (100) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8; und • mehrere Isolierkacheln (200) gemäß Anspruch 9 oder 10, • wobei die mehreren Isolierkacheln (200) mittels der Trägeranordnung (104) des Kammerwandelements in dem Aufnahmeraum (110) zwischen den zwei einander benachbarten Trägerstrukturen (114a, 114b) gelagert sind, und • wobei die Eingriffsabschnitte (124a, 124b) der zwei einander benachbarten Trägerstrukturen (114a, 114b) jeweils in die zwei Aussparungsstrukturen (206a, 206b) der mehreren Isolierkacheln (200) eingreifen.A chamber wall element arrangement, comprising: a chamber wall element (100) according to one of Claims 1 to 8th ; and • a plurality of insulating tiles (200) according to Claim 9 or 10 • wherein the plurality of insulating tiles (200) are supported in the receiving space (110) between the two adjacent support structures (114a, 114b) by means of the support assembly (104) of the chamber wall element, and wherein the engagement portions (124a, 124b) of the two face each other adjacent support structures (114a, 114b) respectively in the two recess structures (206a, 206b) of the plurality of insulating tiles (200) engage. Kammerwandelement-Anordnung gemäß Anspruch 11, wobei jeweils die ersten Abschnitte (202o) der mehreren Isolierkacheln (200) der Kammerwand (102) des Kammerwandelements (100) zugewandt sind, und wobei die zweiten Abschnitte (202u) der mehreren Isolierkacheln (200) der Kammerwand (102) abgewandt sind.Chamber wall element arrangement according to Claim 11 wherein each of the first portions (202o) of the plurality of insulating tiles (200) faces the chamber wall (102) of the chamber wall member (100) and the second portions (202u) of the plurality of insulating tiles (200) face away from the chamber wall (102). Prozesskammer-Anordnung (600), aufweisend: • eine Prozesskammer (602) zum Prozessieren eines Substrats innerhalb eines Prozessierbereichs (610) der Prozesskammer (602), wobei die Prozesskammer (602) mindestens eine Kammeröffnung (602o) aufweist, • mindestens ein Kammerwandelement 100 gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8 oder mindestens eine Kammerwandelement-Anordnung gemäß Anspruch 11 oder 12 zum Abdecken der mindestens einen Kammeröffnung (602o).A process chamber assembly (600), comprising: a process chamber (602) for processing a substrate within a processing region (610) of the process chamber (602), the process chamber (602) having at least one chamber opening (602o), at least one chamber wall element 100 according to one of Claims 1 to 8th or at least one chamber wall element arrangement according to Claim 11 or 12 for covering the at least one chamber opening (602o).
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