DE102015101817B4 - PIEZOELECTRIC DEVICE, PIEZO ACTUATOR, HARD DRIVE AND INKJET PRINTER - Google Patents
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Abstract
Piezoelektrische Vorrichtung mit einem Piezoelement umfassend eine Piezoschicht und Elektrodenschichten, zwischen denen die Piezoschicht angeordnet ist, und mit einer Treiberschaltung, die ein elektrisches Treiberfeld mit Wechselstrom über die Elektrodenschichten an die Piezoschicht anlegt, wobei die Polarisierbarkeit γ der Piezoschicht beim Anlegen eines elektrischen Feldes bis zur Sättigungspolarisation kleiner als 1 × 10-9(C/(V·m) beträgt, dadurch gekennzeichnet, dass die Treiberschaltung ein Mittel, das den Minimalwert des elektrischen Treiberfeldes auf größer als das positive elektrische Koerzitivfeld der Piezoschicht einstellt, und ein Mittel, das den Maximalwert des elektrischen Treiberfeldes auf kleiner als (Pm' (Maximalwert der Polarisation) - Pr' (Quasi-Restpolarisation)) / (1 × 10-9) einstellt, aufweist, wobei die Polarisierbarkeit y = (Pm (Sättigungspolarisation) - Pr (Restpolarisation)) / Ed (Maximalwert des angelegten elektrischen Feldes) beträgt.Piezoelectric device with a piezo element comprising a piezo layer and electrode layers, between which the piezo layer is arranged, and with a driver circuit that applies an electric driver field with alternating current via the electrode layers to the piezo layer, the polarizability γ of the piezo layer when an electric field is applied up to Saturation polarization is less than 1 × 10-9 (C / (V · m), characterized in that the driver circuit has a means which sets the minimum value of the driving electric field to be greater than the positive electric coercive field of the piezo layer, and a means which sets the Maximum value of the electric driver field to less than (Pm '(maximum value of the polarization) - Pr' (quasi-residual polarization)) / (1 × 10-9), the polarizability y = (Pm (saturation polarization) - Pr (residual polarization )) / Ed (maximum value of the applied electric field).
Description
Gebiet der ErfindungöField of Invention
Die vorliegende Erfindung betrifft eine piezoelektrische Vorrichtung, die ein Piezoelement mit einer Piezoschicht und eine Treiberschaltung aufweist, die ein elektrisches Treiberfeld zum Anlegen an die Piezoschicht steuert, und einen Piezoaktor, der die piezoelektrische Vorrichtung verwendet, sowie ein Festplattenlaufwerk und einen Tintenstrahldruckerapparat mit dem Piezoaktor.The present invention relates to a piezoelectric device comprising a piezo element with a piezo layer and a drive circuit which controls an electric drive field to be applied to the piezo layer, and a piezo actuator using the piezoelectric device, as well as a hard disk drive and an ink jet printer apparatus with the piezo actuator.
Stand der TechnikState of the art
In der letzten Zeit schreitet die praktische Anwendung des Piezoelements unter Verwendung von piezoelektrischen Dünnschichtmaterialien anstelle von piezoelektrischen Massivmaterialien fort. Beispiele dafür sind Kreiselsensor, Drucksensor, Pulswellensensor, Stoßsensor oder Mikrofon als piezoelektrische Sensoren anhand des piezoelektrischen Effekts, bei dem die auf die Piezoschicht wirkende Kraft in eine Spannung umgewandelt wird. Es gibt auch Festplattenlaufwerk-Kopfgleiter und Tintenstrahldruckkopf als Piezoaktor anhand des inversen piezoelektrischen Effekts, bei dem die Piezoschicht verformt wird, wenn ein elektrisches Feld an die Piezoschicht angelegt wird. Als weiteres sind noch Lautsprecher, Summer, Resonator usw. zu nennen, die ebenfalls den inversen piezoelektrischen Effekt nutzen.Recently, the practical application of the piezo element using thin-film piezoelectric materials in place of solid piezoelectric materials is advancing. Examples of this are gyro sensors, pressure sensors, pulse wave sensors, shock sensors or microphones as piezoelectric sensors based on the piezoelectric effect, in which the force acting on the piezo layer is converted into a voltage. There are also hard disk drive head sliders and ink jet printheads as piezo actuators based on the inverse piezoelectric effect, in which the piezo layer is deformed when an electric field is applied to the piezo layer. Loudspeakers, buzzers, resonators, etc. should also be mentioned, which also use the inverse piezoelectric effect.
Außerdem ermöglicht die Reduzierung der Dicke eines piezoelektrischen Materials die Verkleinerung der Elemente, so dass deren Anwendungsbereich erweitert und die Produktivität gestiegen wird, da eine große Anzahl des Elements auf einmal auf einem Substrat hergestellt werden kann. Ferner gibt es viele Vorteile in Bezug auf die Leistung wie beispielsweise die Erhöhung der Empfindlichkeit, wenn es sich um einen Sensor handelt.In addition, reducing the thickness of a piezoelectric material makes it possible to downsize the elements, so that the application range thereof is expanded and productivity is increased, since a large number of the element can be fabricated at one time on one substrate. Also, there are many performance benefits such as increasing sensitivity when it is a sensor.
Dokument aus Stand der TechnikPrior art document
PatentliteraturPatent literature
Patentliteratur 1: Japanische Veröffentlichte Ungeprüfte Patentanmeldung Nr.
Zusammenfassung der ErfindungSummary of the invention
AufgabenstellungTask
Beim Anlegen eines elektrischen Feldes an einen piezoelektrischen Körper findet eine Polarisation am piezoelektrischen Körper statt, sodass eine Hysterese als Ablauf einer Veränderung der Polarisationsrichtung beobachtet wird. Beim piezoelektrischen Körper, bei dem die Veränderung der Polarisation gegenüber dem anzulegenden elektrischen Feld klein ist und sich eine Hysterese mit einem großen Rechteckigkeitsverhältnis zeigt, ereignet sich trotz der Wertänderung des anzulegenden elektrischen Feldes keine signifikante Änderung der piezoelektrischen Eigenschaften. Beim piezoelektrischen Körper hingegen, bei dem sich eine Hysterese mit einem geringen Rechteckigkeitsverhältnis zeigt, ergeben sich dahingehend Probleme, dass in Abhängigkeit von den Bedingungen des anzulegenden elektrischen Feldes keine ausreichenden piezoelektrischen Eigenschaften erhalten werden, oder dass durch einen dauerhaften Antrieb des Piezoelements die Wahrscheinlichkeit der Polarisationsverschlechterung oder der Verminderung der Belastbarkeit erhöht wird. Im Allgemeinen ist das Rechteckigkeitsverhältnis bei der verdünnten Piezoschicht im Vergleich zum piezoelektrischen Körper aus einem Massenmaterial kleiner. Diese Tendenz ist bei einer Piezoschicht, die kein Blei enthält, besonders ausgeprägt.When an electric field is applied to a piezoelectric body, polarization takes place on the piezoelectric body, so that a hysteresis is observed as the course of a change in the direction of polarization. In the case of the piezoelectric body, in which the change in polarization is small compared to the electric field to be applied and a hysteresis with a large squareness ratio is shown, there is no significant change in the piezoelectric properties despite the change in value of the electric field to be applied. In the case of the piezoelectric body, on the other hand, in which a hysteresis with a low squareness ratio is shown, problems arise that, depending on the conditions of the electric field to be applied, insufficient piezoelectric properties are obtained, or that permanent drive of the piezo element increases the likelihood of polarization deterioration or the reduction in resilience is increased. In general, the squareness ratio of the thinned piezo layer is smaller compared to the piezoelectric body made of a bulk material. This tendency is particularly pronounced with a piezo layer that does not contain lead.
In Bezug auf die oben genannte Aufgabe zeigt die in der Patentliteratur 1 beschriebene Technik auf, dass die Abnahme des Ausmaßes der Polarisation bei einem dauerhaften Antrieb des Piezoaktors sowohl bei hohen Temperaturen als auch unter hohem Druck durch das Verfahren zu überwinden ist, beim Antrieb eines Piezoaktors ein immer positives elektrisches Feld an einen piezoelektrischen Körper anzulegen. Weil das Verfahren aber ein piezoelektrisches Massivmaterial als piezoelektrischen Körper voraussetzt, kann es bei der Anwendung des Verfahrens für eine dünne Piezoschicht leicht zur Zerstörung der Membran führen, auch wenn die Piezoschicht ein elektrisches Feld angelegt, bei dem keine Polarisationsverschlechterung stattfindet. Wenn übrigens ein elektrisches Feld angelegt wird, das kleiner als das elektrische Koerzitivfeld ist, kann das zwar zur Verringerung der Polarisationsverschlechterung beitragen, aber kein ausreichendes Ausmaß an Verschiebung erreichen.With regard to the above-mentioned object, the technique described in
Die vorliegende Erfindung entstand in Anbetracht der Aufgaben des oben genannten Standes der Technik und setzt ihr Ziel darin, aufgrund der dielektrischen Eigenschaften der verwendeten Piezoschicht, das an die Piezoschicht anzulegende, elektrische Treiberfeld durch die Treiberschaltung einer piezoelektrischen Vorrichtung zu steuern und dadurch eine gute Leistung in der piezoelektrischen Vorrichtung zu erzeugen.The present invention was made in view of the objects of the above-mentioned prior art and its aim is to control the electric drive field to be applied to the piezo layer by the drive circuit of a piezoelectric device and thereby a good performance in due to the dielectric properties of the piezo layer used of the piezoelectric device.
Lösung der AufgabeSolution of the task
Für die Realisierung des oben genannten Ziels handelt es sich um die erfindungsmäßige piezoelektrische Vorrichtung mit einem Piezoelement umfassend eine Piezoschicht und die Elektrodenschichten, zwischen denen die Piezoschicht angeordnet ist, und mit einer Treiberschaltung, die ein elektrisches Treiberfeld mit Wechselstrom über die Elektrodenschichten an die Piezoschicht anlegt, wobei die Polarisierbarkeit y der Piezoschicht beim Anlegen eines elektrischen Feldes bis zur Sättigungspolarisation bei kleiner als 1×10-9(C/(V·m)) liegt, und die Treiberschaltung ein Mittel, das den Minimalwert des elektrischen Treiberfeldes auf größer als das positive elektrische Koerzitivfeld der Piezoschicht einstellt, und ein Mittel, das den Maximalwert des elektrischen Treiberfeldes auf kleiner als (Pm' (Maximalwert der Polarisation) - Pr' (Quasi-Restpolarisation)) / (1 × 10-9) einstellt, aufweist. Hierbei beträgt Polarisierbarkeit: y = (Pm (Sättigungspolarisation) - Pr (Restpolarisation)) / Ed (Maximalwert des anzulegenden elektrischen Feldes), wobei die Einheit der Polarisation (C/m2) und die Einheit des elektrischen Feldes (V/m) betragen.For the realization of the above-mentioned goal, the piezoelectric device according to the invention is concerned with a piezo element comprising a piezo layer and the electrode layers, between which the piezo layer is arranged, and with a driver circuit that applies an electric driver field with alternating current to the piezo layer via the electrode layers , wherein the polarizability y of the piezo layer when an electric field is applied up to saturation polarization is less than 1 × 10 -9 (C / (V m)), and the driver circuit means that the minimum value of the electric driver field is greater than that sets positive electric coercive field of the piezo layer, and a means which sets the maximum value of the electric driving field to less than (Pm '(maximum value of polarization) - Pr' (quasi-residual polarization)) / (1 × 10 -9 ). Here polarizability is: y = (Pm (saturation polarization) - Pr (residual polarization)) / Ed (maximum value of the electric field to be applied), where the unit of polarization is (C / m 2 ) and the unit of the electric field is (V / m) .
Wie oben beschrieben, ereignet sich bei einem piezoelektrischen Körper, dessen Polarisierbarkeit y bei Sättigung nahe 0 liegt, und bei dem eine Hysterese mit großem Rechteckigkeitsverhältnis gezeigt wird, keine signifikante Veränderung der erhaltenen piezoelektrischen Eigenschaften trotz der Wertänderung des anzulegenden elektrischen Feldes.As described above, in a piezoelectric body whose saturation polarizability y is close to 0 and which exhibits a hysteresis with a large squareness ratio, no significant change in the obtained piezoelectric properties occurs despite the change in the value of the electric field to be applied.
Bei der piezoelektrischen Vorrichtung wird das Ausmaß der Verschiebung des Piezoelements dadurch erweitert, dass der Minimalwert des an die Piezoschicht anzulegenden elektrischen Treiberfeldes auf größer als das positive elektrische Koerzitivfeld eingestellt wird, weil die Polarisationsrichtungen der die Piezoschicht konfigurierenden Kristallpartikel dadurch aufeinander abgestimmt werden. Des Weiteren kann ein größeres Ausmaß der Verschiebung dadurch erreicht werden, dass der Maximalwert des elektrischen Treiberfeldes auf kleiner als (Pm' (Maximalwert der Polarisation) - Pr' (Quasi-Restpolarisation)) / (1 × 10-9) eingestellt wird, weil eine Verschiebung erzielt wird, die auf die Drehung der elektrischen Dipole in der Domäne der die Piezoschicht konfigurierenden Kristallpartikel zurückzuführen ist.In the piezoelectric device, the extent of the displacement of the piezo element is expanded by setting the minimum value of the electrical driver field to be applied to the piezo layer to be greater than the positive electrical coercive field, because the polarization directions of the crystal particles configuring the piezo layer are thereby coordinated with one another. Furthermore, a greater degree of displacement can be achieved by setting the maximum value of the electric driver field to less than (Pm '(maximum value of polarization) - Pr' (quasi-residual polarization)) / (1 × 10 -9 ) because a shift is achieved which is due to the rotation of the electrical dipoles in the domain of the crystal particles configuring the piezo layer.
Die Piezoschicht der erfindungsmäßigen piezoelektrischen Vorrichtung weist auf der positiven und der negativen Seite des elektrischen Feldes jeweils ein elektrisches Koerzitivfeld auf. Die Treiberschaltung der piezoelektrischen Vorrichtung umfasst vorzugsweise ein Mittel, das in die Richtung mit einem kleinen Absolutwert des elektrischen Koerzitivfeldes ein positives elektrisches Feld, und in die Richtung mit einem großen Absolutwert des elektrischen Koerzitivfeldes ein negatives elektrisches Feld anlegt. Weil dadurch die piezoelektrischen Eigenschaften der Piezoschicht in einem größeren Bereich des elektrischen Feldes angetrieben werden können, kann das Ausmaß der Verschiebung der Piezoschicht noch erweitert werden.The piezo layer of the piezoelectric device according to the invention has an electric coercive field on the positive and the negative side of the electric field. The drive circuit of the piezoelectric device preferably comprises a means which applies a positive electric field in the direction with a small absolute value of the electric coercive field and a negative electric field in the direction with a large absolute value of the electric coercive field. Because this allows the piezoelectric properties of the piezo layer to be driven in a larger area of the electric field, the extent of the displacement of the piezo layer can be further expanded.
Die Treiberschaltung der erfindungsmäßigen piezoelektrischen Vorrichtung umfasst vorzugsweise ein Mittel, das den Minimalwert des elektrischen Treiberfeldes auf mehr als fünffach vom positiven elektrischen Koerzitivfeld der Piezoschicht und den Maximalwert des elektrischen Treiberfeldes auf weniger als fünfzigfach vom positiven elektrischen Koerzitivfeld der Piezoschicht einstellt. Weil dadurch die Verschiebung, die auf die Drehung der elektrischen Dipole in der Domäne der die Piezoschicht konfigurierenden Kristallpartikel zurückzuführen ist, vergrößert wird, kann das Ausmaß der Verschiebung der Piezoschicht noch erweitert werden.The driver circuit of the piezoelectric device according to the invention preferably comprises a means which sets the minimum value of the electrical driver field to more than five times the positive electrical coercive field of the piezo layer and the maximum value of the electrical driver field to less than fifty times the positive electrical coercive field of the piezo layer. Because this increases the displacement which can be attributed to the rotation of the electrical dipoles in the domain of the crystal particles configuring the piezo layer, the extent of the displacement of the piezo layer can be further expanded.
Die Piezoschicht der erfindungsmäßigen piezoelektrischen Vorrichtung besteht vorzugsweise aus Kaliumnatriumniobat. Die Wirkung des erhöhten Ausmaßes der Verschiebung durch die Einstellung des elektrischen Treiberfelds zeigt sich deutlich, weil bei Kaliumnatriumniobat das elektrische Koerzitivfeld kleiner als bei anderen Materialien ist, und die Domäne in der Kristallpartikel klein ist. Kaliumnatriumniobat kann auch Mn, Li, Ta, Ba, Sr, Zr als Zusatzstoffe enthalten.The piezo layer of the piezoelectric device according to the invention preferably consists of potassium sodium niobate. The effect of the increased amount of displacement by adjusting the driving electric field is clearly evident because the coercive electric field of potassium sodium niobate is smaller than that of other materials and the domain in the crystal particles is small. Potassium sodium niobate can also contain Mn, Li, Ta, Ba, Sr, Zr as additives.
Der erfindungsmäßige Piezoaktor weist die in der oben beschriebenen Konfiguration dargestellte piezoelektrische Vorrichtung auf. Als Piezoaktor sind in der konkreten Hinsicht die Kopfanordnung eines Festplattenlaufwerks, der Piezoaktor für einen Tintenstrahldruckkopf usw. zu nennen.The piezo actuator according to the invention has the piezoelectric device shown in the configuration described above. As a piezo actuator, the head arrangement of a hard disk drive, the piezo actuator for an inkjet print head, etc. should be mentioned in this specific respect.
Das Festplattenlaufwerk und der Tintenstrahldruckapparat der vorliegenden Erfindung verwenden den oben beschriebenen Piezoaktor.The hard disk drive and the ink jet printing apparatus of the present invention use the piezo actuator described above.
Wirkung der ErfindungEffect of the invention
Durch die piezoelektrische Vorrichtung der vorliegenden Erfindung kann eine Erhöhung der Leistung des Piezoaktors erzielt werden, wodurch ein Festplattenlaufwerk und ein Tintenstrahldruckerapparat mit hoher Leistung bereitgestellt werden kann.The piezoelectric device of the present invention can achieve an increase in the performance of the piezo actuator, whereby a hard disk drive and an ink jet printer apparatus with high performance can be provided.
FigurenlisteFigure list
Es zeigt:
- [
1 ] eine P-E-Hysterese im Sättigungszustand einer Piezoschicht nach der vorliegenden Ausführungsform, - [
2 ] eine P-E-Hysterese bei dem Vorsättigungszustand einer Piezoschicht nach der vorliegenden Ausführungsform, - [
3 ] einen Schaltplan für die Stromleitung einer piezoelektrischen Vorrichtung nach der vorliegenden Ausführungsform, - [
4A ] einen Aufbauplan für einen Piezoaktor nach der vorliegenden Ausführungsform, - [
4B ] einen Aufbauplan für einen Piezoaktor nach der vorliegenden Ausführungsform, - [
5 ] einen Aufbauplan für ein Festplattenlaufwerk nach der vorliegenden Ausführungsform und - [
6 ] einen Aufbauplan für einen Tintenstrahldruckerapparat nach der vorliegenden Ausführungsform.
- [
1 ] a PE hysteresis in the saturation state of a piezo layer according to the present embodiment, - [
2 ] a PE hysteresis in the presaturation state of a piezo layer according to the present embodiment, - [
3 ] a circuit diagram for the power line of a piezoelectric device according to the present embodiment. - [
4A ] a construction plan for a piezo actuator according to the present embodiment, - [
4B ] a construction plan for a piezo actuator according to the present embodiment, - [
5 ] a construction diagram for a hard disk drive according to the present embodiment and FIG - [
6th ] is a configuration diagram for an ink jet printer apparatus according to the present embodiment.
Ausführungsformen der ErfindungEmbodiments of the invention
Im Folgenden wird eine bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung anhand der beigefügten Zeichnungen im Detail beschrieben. In den Zeichnungen sind identische oder äquivalente Elemente mit gleichen Bezugszeichen versehen. Das Verhältnis der Position zwischen links und rechts sowie oben und unten ist übrigens so, wie es in den Zeichnungen gezeigt wird. Falls sich eine Erklärung wiederholt, wird sie abgekürzt.In the following, a preferred embodiment of the present invention is described in detail with reference to the accompanying drawings. Identical or equivalent elements are provided with the same reference symbols in the drawings. Incidentally, the relationship of the position between left and right and up and down is as shown in the drawings. If an explanation is repeated, it will be abbreviated.
(Das Piezoelement)(The piezo element)
Die erste Elektrodenschicht 81 besteht beispielsweise aus Pt (Platin). Die erste Elektrodenschicht 81 weist beispielsweise eine Dicke von 0,02 µm bis 1,0 µm auf. Durch die Gestaltung der ersten Elektrodenschicht 81 aus Pt kann die Piezoschicht 82 mit hoher Ausrichtungsfähigkeit ausgebildet werden. Als erste Elektrodenschicht 81 können ebenfalls Metallmaterialien wie Pd (Palladium), Rh (Rhodium), Au (Gold), Ru (Ruthenium), Ir (Iridium), Mo (Molybdän), Ti (Titan) und Ta (Tantal) oder leitfähige Metalloxide wie SrRuO3, LaNiO3 usw. verwendet werden. Die erste Elektrodenschicht 81 kann durch Sputterverfahren, Vakuumverdampfungsverfahren, Druckverfahren, Schleuderbeschichtungsverfahren, Sol-Gel-Verfahren usw. ausgebildet werden.The
Als Material für die Piezoschicht 82 kann die durch die allgemeine Formel ABO3 darzustellende Perovskitverbindung genannt werden. Die Piezoschicht 82 besteht bevorzugt vor allem aus (K, Na) NbO3 (Kaliumnatriumniobat). Die Piezoschicht 82 zeigt eine Hysterese mit relativ kleinem Rechteckigkeitsverhältnis, obwohl die Polarisierbarkeit y bei Sättigung bei kleiner als 1×10-9 (C/(V·m)) liegt. Hierbei beträgt Polarisierbarkeit: y = ein (Pm (Sättigungspolarisation) - Pr (Restpolarisation)) / Ed (Maximalwert des angelegten elektrischen Feldes) (siehe
Die Piezoschicht 82 kann durch Sputterverfahren, Vakuumverdampfungsverfahren, Druckverfahren, Schleuderbeschichtungsverfahren, Sol-Gel-Verfahren usw. ausgebildet werden. Die Dicke soll beispielsweise ca. von 1 µm bis 5 µm betragen.The
Die zweite Elektrodenschicht 83 besteht beispielsweise aus Pt. Die zweite Elektrodenschicht 83 weist beispielsweise eine Dicke von 0,02 µm bis 1,0 µm auf. Als zweite Elektrodenschicht 83 können die Metallmaterialien Pd, Rh, Au, Ru, Ir, Mo, Ti, Ta usw. oder auch leitfähige Metalloxide wie SrRuO3, LaNiO3 usw. verwendet werden. Die zweite Elektrodenschicht 83 kann durch Sputterverfahren, Vakuumverdampfungsverfahren, Druckverfahren, Schleuderbeschichtungsverfahren, Sol-Gel-Verfahren usw. ausgebildet werden.The
Das Piezoelement 80 kann auch mit einem Schutzfilm überzogen werden. Dadurch kann die Zuverlässigkeit erhöht werden.The
Beim Piezoelement 80 kann zwischen einer von der ersten Elektrodenschicht 81 und der zweiten Elektrodenschicht 83 bzw. beiden und der Piezoschicht 82 eine Mittelschicht vorgesehen werden.In the case of the
Als diese Mittelschicht wird ein leitfähiges Oxid verwendet. Bevorzugt sind vor allem SrRuO3, SrTiO3, LaNiO3, CaRuO3, BaRuO3, (LaxSr1-x) CoO3, YBa2Cu3O7, La4BaCu5O13, usw. die eine hohe Leitfähigkeit und Hitzebeständigkeit aufweisen.A conductive oxide is used as this middle layer. Above all, SrRuO 3 , SrTiO 3 , LaNiO 3 , CaRuO 3 , BaRuO 3 , (La x Sr 1 - x ) CoO 3 , YBa 2 Cu 3 O 7 , La 4 BaCu 5 O 13 , etc. which have high conductivity are preferred and have heat resistance.
Der oben beschriebene Laminatkörper mit dem Piezoelement 80 wird auf einem bestimmten Substrat ausgebildet. Das Piezoelement 80 braucht aber dieses Substrat nicht unbedingt aufzuweisen. Nach dem Laminieren der ersten Elektrodenschicht 81, der Piezoschicht 82 und der zweiten Elektrodenschicht 83 auf dem Substrat sowie nach der Musterung des Piezoelements 80 durch Photolithographie kann das Substrat durch Trockenätzen oder dergleichen entfernt werden. Im Fall des Piezoelements 80 mit einem Substrat kann das Substrat nach der Musterung abgeschnitten werden.The above-described laminate body with the
Die Größe des Piezoelements 80 in die senkrechte Richtung zur Laminierrichtung ist nicht unbedingt vorgegeben, kann aber beispielsweise ungefähr 1,0 mm × 0,3 mm betragen.The size of the
Die Treiberschaltung 20 hat die Funktion, ein bestimmtes elektrisches Feld an das Piezoelement 80 anzulegen. Zum Beispiel dadurch, dass die Treiberschaltung 20 eine Ladungspumpe umfasst und wie in
Wie in
In der piezoelektrischen Vorrichtung
Die Steuerung der Aktion der Treiberschaltung 20, der Stromüberwachungsschaltung 30 und des Schaltmittels 40 kann auch zusammen in einer integrierten Schaltung durchgeführt werden. Bei der Verwendung einer Mehrzahl von piezoelektrischen Vorrichtungen in einem piezoelektrischen System können die Treiberschaltung 20, die Stromüberwachungsschaltung 30 und das Schaltmittel 40 der einzelnen piezoelektrischen Vorrichtungen
(Das Einstellungsverfahren des elektrischen Treiberfeldes)(The adjustment procedure of the electric driver field)
Die Treiberschaltung 20 der erfindungsmäßigen piezoelektrischen Vorrichtung
Hier zeigt sich 1 × 10-9 (C/ (V·m)) als numerischer Wert, der der Polarisierbarkeit y entspricht. Das betrifft aber den Fall, in dem die Einheit der Polarisation (C/m2) und die Einheit des elektrischen Feldes (V/m) genannt werden. In der nachfolgenden Beschreibung hingegen werden (µC/cm2) als Einheit der Polarisation und (kV/mm) als Einheit des elektrischen Feldes verwendet, sodass der kritische Wert der Polarisierbarkeit y 0,1 beträgt.Here, 1 × 10 -9 (C / (V · m)) is shown as a numerical value that corresponds to the polarizability y. But this applies to the case in which the unit of polarization (C / m 2 ) and the unit of the electric field (V / m) are mentioned. In the following description, however, (µC / cm 2 ) are used as the unit of polarization and (kV / mm) as the unit of the electric field, so that the critical value of the polarizability y is 0.1.
Zuerst wird die Stromüberwachungsschaltung 30 und das Piezoelement 80 durch das Schaltmittel 40 aneinander angeschlossen, um das elektrische Feld an das Piezoelement 80 anzulegen und das Ausmaß der Polarisation zu messen. Dabei wird das anzulegende elektrische Feld von der externen Stromquelle 52 erhalten. Das an das Piezoelement 80 anzulegende elektrische Feld wird von 0 kV/mm bis zum elektrischen Feld (Maximalwert Ed vom angelegten elektrischen Feld in
Als nächstes wird die oben beschriebene Operation des Pendelns durchgeführt, indem der Maximalwert Ed des anzulegenden elektrischen Feldes von der Stromüberwachungsschaltung 30 zum Piezoelement 80 hin schrittweise um 0,1 kV / mm erhöht wird, wobei bei jedem Schritt die Polarisierbarkeit y aus Pm' (Maximalwert der Polarisation) - Pr' (Quasi-Restpolarisation) und aus dem maximalen Wert Ed des anzulegenden elektrischen Feldes bewertet wird (siehe
Als nächstes werden der Treiberschalter 20 und das Piezoelement 80 aneinander angeschlossen, indem das Schaltmittel 40 von der Stromüberwachungsschaltung 30 auf den Treiberschalter 20 umgeschaltet wird. Innerhalb des eingegebenen Bereiches von EII bis EuI und in Abhängigkeit von den Signalen aus dem die piezoelektrische Vorrichtung
Innerhalb des Bereichs zwischen Emin und Emax wird dann das Piezoelement 80 unter Verwendung der externen Stromquelle 51 angetrieben.The
Von den positiven und negativen elektrischen Koerzitivfeldern Ec+ und Ecgelten dabei vorzugsweise die Richtung des elektrischen Feldes mit einem kleinen Absolutwert als positiv, das elektrische Feld P = O in der positiven Richtung als Ec+ und das elektrische Feld P = O in der negativen Richtung als Ec-. Zum Antrieb des Piezoelements 80 wird vorzugsweise das positive elektrische Koerzitivfeld Ec+ als unterer Grenzwert EII des elektrischen Treiberfeldes und das elektrische Feld bei γ = 0,1 als oberer Grenzwert EuI des elektrischen Treiberfeldes definiert. Dadurch kann die Verschiebung des Piezoelements 80 der piezoelektrischen Vorrichtung
Noch mehr vorzuziehen ist, beim Antrieb des Piezoelements 80 den Minimalwert Emin des elektrischen Treiberfeldes mehr als fünffach vom positiven elektrischen Koerzitivfeld Ec+ der Piezoschicht 82 und den Maximalwert Emax des elektrischen Treiberfeldes weniger als fünfzigfach vom positiven elektrischen Koerzitivfeld Ec+ der Piezoschicht 82 zu definieren. Dadurch kann die Verschiebung des Piezoelements 80 der piezoelektrischen Vorrichtung
(Das Messungsverfahren der piezoelektrischen Konstante)(The measurement method of the piezoelectric constant)
Die piezoelektrische Konstante des Piezoelements 80, die die piezoelektrische Vorrichtung
An die erste Elektrodenschicht 81 und die zweite Elektrodenschicht 83 wurde das von der Stromquelle 51 auf 1 kHz eingestellte elektrische Feld angelegt. Die Verschiebung des Piezoelements 80 wurde mit Hilfe eines Laserverschiebungsmessgerätes (hergestellt von der Firma Ono Sokki) gemessen. Die piezoelektrische Konstante (-d31) wurde dann durch die folgende Formel (1) berechnet:
Hierbei bedeutet hs: Dicke des Substrats, S11, p: Elastizitätsmodul der Piezoschicht, S11, s: Elastizitätsmodul des Substrats, L: Länge des Antriebsteils der Piezoschicht, δ: Ausmaß der Verschiebung, V: angelegte Spannung.Here, h s : thickness of the substrate, S 11, p : modulus of elasticity of the piezo layer, S 11, s : modulus of elasticity of the substrate, L: length of the drive part of the piezo layer, δ: amount of displacement, V: applied voltage.
(Der Piezoaktor)(The piezo actuator)
Die Elementschaltung 13b weist eine integrierte Schaltung auf, die eine Treiberschaltung, eine Stromüberwachungsschaltung und ein Schaltmittel umfasst. Weiterhin ist es auch möglich, mehrere Elementschaltungen zum Steuern einer Mehrzahl von Piezoelementen in einer einzigen integrierten Schaltung zusammenzulegen. Die Elementschaltung 13b ist zwar auf dem flexiblen Substrat zur Verdrahtung 15 angeordnet, das einen Teil der Biegung 17 bildet. Die Funktion der integrierten Schaltung kann aber auch allein an die Steuereinrichtung des Schwingspulenmotors auf dem HDD-Substrat hinzugefügt werden.The
Der Lastträger 11 umfasst ein proximales Ende 11b, das beispielsweise durch Elektronenstrahlschweißen auf der Grundplatte 9 befestigt ist, den ersten und zweiten Blattfederteil 11c und 11d, die sich vom proximalen Ende 11b her verjüngt erstrecken, die Öffnung 11e, die zwischen dem ersten und zweiten Blattfederteil 11c und 11d ausgebildet ist, und den Auslegerhauptabschnitt 11f, der sich vom ersten und zweiten Blattfederteil 11c und 11d kontinuierlich linear und verjüngt erstreckt.The
Das erste und zweite Piezoelement 13a sind jeweils auf dem flexiblen Substrat zur Verdrahtung 15, das einen Teil der Biegung 17 bildet, mit einem vorgegebenen Abstand angeordnet. Der Schieber 19 ist an der Spitze der Biegung 17 befestigt und wird in Übereinstimmung mit der Ausdehnung des ersten und zweiten Piezoelements 13a in eine Drehbewegung gesetzt.The first and second
Das erste und zweite Piezoelement 13a bestehen aus der ersten und zweiten Elektrodenschicht sowie aus der Piezoschicht, die zwischen der ersten und zweiten Elektrodenschicht angeordnet ist. Bei dem Piezoaktor der vorliegenden Erfindung kann eine hohe Zuverlässigkeit und ein ausreichendes Ausmaß der Verschiebung erreicht werden, weil das anzulegende elektrische Feld, das die optimalen piezoelektrischen Eigenschaften der einzelnen Piezoelemente erzielen kann, vor der Einstellung des elektrischen Treiberfeldes in der piezoelektrischen Vorrichtung überprüft wird.The first and second
Der Piezoaktor
Die Piezoschicht 25 wird nicht verformt, wenn kein vorgegebenes Entladungssignal zugeführt wird, und das elektrische Feld zwischen der unteren Elektrodenschicht 24 und der oberen Elektrodenschicht 26 nicht angelegt wird. In der Druckkammer 21 mit dem Piezoelement, dem kein Entladungssignal zugeführt wird, entsteht keine Druckänderung, sodass kein Tintentropfen aus seiner Düse 27 ausgestoßen wird.The
Die Piezoschicht 25 wird hingegen verformt, wenn ein vorgegebenes Entladungssignal zugeführt wird und ein bestimmtes elektrisches Feld zwischen der unteren Elektrodenschicht 24 und der oberen Elektrodenschicht 26 angelegt wird. In der Druckkammer 21 mit dem Piezoelement, zu dem ein Entladungssignal zugeführt wird, wird sein Isolierfilm 23 stark verbogen. Dadurch steigt der Druck in der Druckkammer 21 augenblicklich, sodass Tintentropfen aus der Düse 27 ausgestoßen werden.The
Als piezoelektrische Vorrichtung des erfindungsmäßigen Piezoaktors wird hier eine piezoelektrische Vorrichtung verwendet, die das elektrische Feld einstellt und anlegt, das die optimalen piezoelektrischen Eigenschaften der einzelnen Piezoelemente erzielen kann, um eine hohe Zuverlässigkeit und ein ausreichendes Ausmaß der Verschiebung zu erreichen.A piezoelectric device is used here as the piezoelectric device of the piezoelectric actuator according to the invention, which sets and applies the electric field that can achieve the optimal piezoelectric properties of the individual piezoelectric elements in order to achieve high reliability and a sufficient degree of displacement.
(Das Festplattenlaufwerk)(The hard disk drive)
Das Festplattenlaufwerk
Die Kopfstapelanordnung 62 besteht aus mehreren, in die Tiefenrichtung der Figur hin laminierten Zusammenstellungen, die durch einen Aktorarm 64, der drehbar um eine Welle durch einen Schwingspulenmotor 63 unterstützt ist, und durch eine Kopfanordnung 65, die an dem Aktorarm 64 verbunden ist, konfiguriert sind. An der Spitze der Kopfanordnung 65 wird der Kopfverschiebeteil 19 der Festplatte 61 zugewandt montiert (siehe
Die Kopfanordnung 65 (
Dadurch, dass bei der für die Kopfanordnung 65 verwendeten piezoelektrischen Vorrichtung die piezoelektrische Vorrichtung eingesetzt wird, die das elektrische Feld einstellt und anlegt, das die optimalen piezoelektrischen Eigenschaften der einzelnen Piezoelemente erzielen kann, können eine hohe Zuverlässigkeit und eine ausreichende Zugänglichkeit erreicht werden.Because the piezoelectric device used for the
(Der Tintenstrahldruckerapparat)(The inkjet printer apparatus)
Der Tintenstrahldruckerapparat
Der Tintenstrahldruckerapparat
Dadurch, dass bei der für den Piezoaktor des Tintenstrahldruckkopfs 70 verwendeten piezoelektrischen Vorrichtung das elektrische Feld eingestellt und angelegt wird, das die optimalen piezoelektrischen Eigenschaften der einzelnen Piezoelemente erzielen kann, kann ein Tintenstrahldruckerapparat mit einer hohen Zuverlässigkeit und Sicherheit bereitgestellt werden.By setting and applying the electric field which can achieve the optimum piezoelectric properties of the individual piezo elements in the piezoelectric device used for the piezo actuator of the ink
AusführungsbeispieleEmbodiments
Im Folgenden wird die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen und Vergleichsbeispielen konkreter erläutert, obgleich die vorliegende Erfindung nicht auf die folgenden Beispiele beschränkt werden soll.In the following, the present invention is explained more concretely on the basis of working examples and comparative examples, although the present invention is not intended to be restricted to the following examples.
(Ausführungsbeispiel 1)(Embodiment 1)
Zunächst wurde die erste Elektrodenschicht 81, welche als Basisfilm der Piezoschicht 82 diente, auf einem 3 inches großen Substrat aus Einkristall Si durch einen Prozess des Kristallwachstums geschaffen. Diese erste Elektrodenschicht 81 war ein Pt-Film, deren Filmdicke 0,2 µm betrug. Das betreffende Erzeugungsverfahren war das Sputterverfahren, bei dem die Abscheidung beim Erhitzen des Substrats auf 500 °C durchgeführt wurde.First, the
Anschließend wurde unter Verwendung des Sputter-Targets aus der Zusammensetzung von (K0,5Na0,5) NbO3 (Kaliumnatriumniobat) eine Piezoschicht 82 auf der ersten Elektrodenschicht 81 abgeschieden. Beim Erzeugungsverfahren handelte es sich um das Sputterverfahren, bei dem die Abscheidung unter der Bedingung der Erhitzung des Substrats auf 750 °C wie bei der ersten Elektrodenschicht 81 durchgeführt wurde. Die Filmdicke betrug dabei 2,0 µm (KNN1).A
Nachfolgend wurde Pt als zweite Elektrodenschicht 83 auf der Piezoschicht 82 abgeschieden. Wie bei der ersten Elektrodenschicht 81 handelte es sich beim Erzeugungsverfahren um das Sputterverfahren, wobei die Temperatur des Substrats aber auf 200 °C eingestellt wurde. Die Filmdicke betrug dabei 0,2 µm.Subsequently, Pt was deposited as a
Dann wurde die Laminierstruktur auf dem Substrat durch die Fotolithografie gemustert. Das Substrat wurde dann durch das RIE-Trockenätzen entfernt, wodurch ein Piezoelement 80 mit einem 0,3 mm × 1,0 mm großen mobilen Teil hergestellt wurde.Then, the lamination structure on the substrate was patterned by the photolithography. The substrate was then removed by the RIE dry etching, thereby fabricating a
Als nächstes wurde eine piezoelektrische Vorrichtung
Zunächst wurde an das Piezoelement 80 ein elektrisches Feld angelegt, bei dem die Piezoschicht 82 gesättigt wurde, wodurch jeweils 0,44 und 1,02 kV / mm als positives und negatives elektrisches Koerzitivfeld Ec- und Ec+ erhalten wurden. Folglich betrug die untere Grenze EII des anzulegenden elektrischen Feldes in diesem Zustand etwa 1 kV / mm. In diesem Fall betrug die Polarisierbarkeit y = 0,086.First, an electric field was applied to the
Als nächstes wurde der Maximalwert Ed des anzulegenden elektrischen Feldes von der Stromüberwachungsschaltung 30 zum Piezoelement 80 hin schrittweise um 0,1 kV / mm erhöht, wobei bei jedem Schritt die Polarisierbarkeit y aus Pm' (Maximalwert der Polarisation) - Pr' (Quasi-Restpolarisation) und aus dem maximalen Wert Ed des anzulegenden elektrischen Feldes bewertet wurde (siehe
Der dadurch erhaltene untere Grenzewert EII und der obere Grenzewert EuI des anzulegenden elektrischen Feldes wurden als Signale von der Stromüberwachungsschaltung 30 an die Treiberschaltung 20 eingegeben. Das Schaltmittel 40 wurde dann von der Stromüberwachungsschaltung 30 an die Treiberschaltung 20 umgeschaltet. Nachdem dann unter der Annahme der Einschränkungen des piezoelektrischen Systems etc. Emin auf 5 kV/mm und Emax auf 52 kV/mm eingestellt wurden, wurde das Piezoelement 80 durch eine Sinuswelle im Bereich zwischen Emin und Emax angetrieben.The lower limit value EII obtained thereby and the upper limit value EuI of the electric field to be applied were inputted as signals from the
Die piezoelektrischen Eigenschaften des Piezoelements 80 wurde übrigens wie oben beschrieben mittels eines Laserverschiebungsmessgeräts (hergestellt von der Firma Ono Sokki) bewertet. Eine Sinuswelle mit Frequenz 1 kHz wurde durch Emin und Emax der obigen Bedingungen angelegt. Bei der Messung der Verschiebung wurde die piezoelektrische Konstante -d31 bewertet. Die piezoelektrische Konstante -d31 des Piezoelements 80 nach Ausführungsbeispiel 1 betrug 37 pm/V.Incidentally, the piezoelectric properties of the
(Vergleichsbeispiele 1-1, 1-2 und 1-3)(Comparative examples 1-1, 1-2 and 1-3)
Die Konfiguration und der Herstellungsprozess des Piezoelements der piezoelektrischen Vorrichtung in den Vergleichsbeispielen 1-1, 1-2 und 1-3 wurden genauso wie in Ausführungsbeispiel 1 durchgeführt. Der Unterschied lag jedoch in der Einstellung in der Treiberschaltung, in der EII und EuI, die von der Stromüberwachungsschaltung erhaltenen wurden, Emin und Emax definieren.The configuration and manufacturing process of the piezo element of the piezoelectric device in Comparative Examples 1-1, 1-2, and 1-3 were performed in the same way as in
Was das jeweilige elektrische Treiberfeld betraf, so galt in Vergleichsbeispiel 1-1 die Bedingung, dass der Minimalwert Emin des elektrischen Treiberfeldes bei kleiner als 0 kV/mm (und natürlich auch bei kleiner als das elektrische Koerzitivfeld des piezoelektrischen Körpers Ec+) lag. In Vergleichsbeispiel 1-2 galt die Bedingung, dass der Minimalwert Emin des elektrischen Treiberfeldes bei größer als 0 kV/mm und bei kleiner als das elektrische Koerzitivfeld des piezoelektrischen Körpers Ec+ lag. In Vergleichsbeispiel 1-3 galt die Bedingung, dass der Maximalwert Emax des elektrischen Treiberfeldes bei größer als der obere Grenzwert EuI lag, bei dem die Polarisierbarkeit y = 0,1 betrug. Die piezoelektrische Konstante wurde in der gleichen Weise wie in Ausführungsbeispiel 1 bewertet.As far as the respective driving electric field was concerned, the condition in Comparative Example 1-1 was that the minimum value Emin of the driving electric field was less than 0 kV / mm (and of course also less than the coercive electric field of the piezoelectric body Ec +). In Comparative Example 1-2, the condition was that the minimum value Emin of the driving electric field was greater than 0 kV / mm and less than the coercive electric field of the piezoelectric body Ec +. In Comparative Example 1-3, the condition was that the maximum value Emax of the electric driver field was greater than the upper limit value EuI, at which the polarizability was y = 0.1. The piezoelectric constant was evaluated in the same manner as in
(Ausführungsbeispiel 2)(Embodiment 2)
Unter Verwendung des Piezoelements 80 mit der gleichen Eigenschaft wie in Ausführungsbeispiel 1 wurde die piezoelektrische Vorrichtung
(Ausführungsbeispiel 3)(Embodiment 3)
In der gleichen piezoelektrischen Vorrichtung
(Ausführungsbeispiel 4)(Embodiment 4)
Außer, dass die Abscheidungstemperatur der Piezoschicht 82 auf 800 °C eingestellt wurde, wurde die piezoelektrische Vorrichtung
(Ausführungsbeispiel 5)(Embodiment 5)
Unter Verwendung des gleichen Piezoelements 80 wie in Ausführungsbeispiel 4 wurde die piezoelektrische Vorrichtung
(Ausführungsbeispiel 6)(Embodiment 6)
Unter Verwendung des gleichen Piezoelements 80 wie in Ausführungsbeispiel 4 wurde die piezoelektrische Vorrichtung
(Vergleichsbeispiel 2)(Comparative example 2)
Unter Verwendung des gleichen Piezoelements 80 aus Ausführungsbeispiel 4 wurde die piezoelektrische Vorrichtung
(Ausführungsbeispiel 7)(Embodiment 7)
Außer, dass das Material der Piezoschicht 82 aus (Bi0,5 Na0,5) TiO3 bestand, wurde die piezoelektrische Vorrichtung
(Ausführungsbeispiel 8)(Embodiment 8)
Unter Verwendung des gleichen Piezoelements 80 wie in Ausführungsbeispiel 7 wurde die piezoelektrische Vorrichtung
(Ausführungsbeispiel 9)(Embodiment 9)
Unter Verwendung des gleichen Piezoelements 80 wie in Ausführungsbeispiel 7 wurde die piezoelektrische Vorrichtung
(Vergleichsbeispiel 3)(Comparative example 3)
Unter Verwendung des gleichen Piezoelements 80 wie in Ausführungsbeispiel 7 wurde die piezoelektrische Vorrichtung
(Ausführungsbeispiele 10 bis 17)(Examples 10 to 17)
Das Material (K0,5Na0,5) NbO3 für die Piezoschicht 82 wurde unter einer Temperatur 700° C abgeschieden, um die Filmdicke zu verändern. Die Filmdicke der Piezoschicht 82 (KNN3) betrug dabei jeweils 1,0 µm, 1,4 µm, 1,6 µm, 2,1 µm, 2,5 µm, 2,9 µm, 3,1 µm und 3,5 µm. Die Elemente außer der Piezoschicht 82 konfigurierten die piezoelektrische Vorrichtung
Tabelle 1 zeigt die Ergebnisse der Messung von Pm', Pr', (Pm'- Pr')/0,1, Ec-, Ec+, 5Ec+ und 50Ec+ des Piezoelements, das in den Vergleichsbeispielen 1-1 bis 1-3, 2 und 3 sowie in den Ausführungsbeispielen
Die piezoelektrische Vorrichtung
Die piezoelektrische Vorrichtung
Die piezoelektrischen Vorrichtungen
In den Ausführungsbeispielen 10 bis 17 war die Tendenz ersichtlich, dass die piezoelektrische Konstante erhöht wird, wenn die Filmdicke der Piezoschicht 82 von 1,0 µm steigt, und dass die piezoelektrische Konstante sich ab 2,5 µm senkt. Das ist darauf zurückzuführen, dass die Zunahme der Filmdicke der Piezoschicht 82 zwar eine Verbesserung der Kristallinität und eine Erhöhung der piezoelektrischen Konstante fördert, aber die Kristallinität der ersten Elektrodenschicht 81 ab um 2,5 µm nicht mehr übernommen werden kann, und sich dann die Kristalle mit unterschiedlichen Orientierungen vermehren.In Embodiments 10 to 17, there was a tendency that the piezoelectric constant increases as the film thickness of the
Darüber hinaus kann die ausreichend hohe piezoelektrische Konstante mit der piezoelektrischen Vorrichtung unter Verwendung einer Schaltung realisiert werden, die das elektrische Treiberfeld in einem geeigneten Bereich steuert.In addition, the sufficiently high piezoelectric constant can be realized with the piezoelectric device using a circuit that controls the driving electric field in an appropriate range.
Oben wurden die bevorzugten erfindungsmäßigen Ausführungsformen erläutert. Die vorliegende Erfindung wird aber nicht auf die obigen Ausführungsformen beschränkt, sondern kann im Umfang der erfindungsmäßigen Absicht noch durch unterschiedliche Änderungen erweitert werden, welche selbstverständlich auch zur vorliegenden Erfindung gehören.The preferred embodiments according to the invention have been explained above. However, the present invention is not restricted to the above embodiments, but can be expanded within the scope of the inventive intention by various changes which of course also belong to the present invention.
Beispielsweise ist in den obigen Ausführungsformen die Stromüberwachungsschaltung 30 zusätzlich zur Treiberschaltung 20 vorgesehen. Die Stromüberwachungsschaltung 30 ist aber nicht unbedingt notwendig. Denn die Wirkung der vorliegenden Erfindung kann auch bei der Konfiguration ohne Stromüberwachungsschaltung 30 erzielt werden, wenn ein geeigneter Bereich für das elektrische Treiberfeld des Piezoelements 80 durch eine Sondenmessung usw. bestätigt werden kann. In dem Fall ist das Schaltmittel 40 natürlich unnötig.For example, in the above embodiments, the
In den obigen Ausführungsbeispielen wurde übrigens das Piezoelement 80 unter Verwendung der Treiberschaltung 20 und der externen Stromquelle 51 angetrieben. Es ist aber auch möglich, das Piezoelements 80 anhand einer anderen Stromquelle der piezoelektrischen Vorrichtung anzutreiben.Incidentally, in the above exemplary embodiments, the
BezugszeichenlisteList of reference symbols
- 11
- piezoelektrische Vorrichtungpiezoelectric device
- 200200
- KopfanordnungHead arrangement
- 300300
- PiezoaktorPiezo actuator
- 700700
- FestplattenlaufwerkHard disk drive
- 800800
- TintenstrahldruckerapparatInk jet printer apparatus
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