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DE102014114330A1 - Solar control layer system with neutral coating color on the side and glass unit - Google Patents

Solar control layer system with neutral coating color on the side and glass unit Download PDF

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DE102014114330A1
DE102014114330A1 DE102014114330.2A DE102014114330A DE102014114330A1 DE 102014114330 A1 DE102014114330 A1 DE 102014114330A1 DE 102014114330 A DE102014114330 A DE 102014114330A DE 102014114330 A1 DE102014114330 A1 DE 102014114330A1
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Markus Berendt
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Von Ardenne GmbH
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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Solar-Control-Schichtsystem auf einem transparenten, dielektrischen Substrat sowie eine Glaseinheit. Damit ein solches Schichtsystem möglichst neutrale schichtseitige Reflexionsfarbwerte sowie Transmissionsfarbwerte aufweist, umfasst das Schichtsystem zumindest folgende Schichten vom Substrat S aufwärts betrachtet: eine siliziumhaltige dielektrische Grundschicht GS, eine erste Funktionsschicht FS 1, eine niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht ZS 1, eine zweite Funktionsschicht FS 2, eine siliziumhaltige dielektrische Deckschicht DS.The invention relates to a solar control layer system on a transparent, dielectric substrate and a glass unit. In order for such a layer system to have as neutral a layer-side reflection color values and transmission color values, the layer system comprises at least the following layers viewed upstream from the substrate S: a silicon-containing dielectric base layer GS, a first functional layer FS 1, a low-index dielectric intermediate layer ZS 1, a second functional layer FS 2, a silicon-containing dielectric cover layer DS.

Description

Die Erfindung betrifft allgemein ein Solar-Control-Schichtsystem auf einem transparenten, dielektrischen Substrat sowie eine Glaseinheit. The invention generally relates to a solar control layer system on a transparent, dielectric substrate and a glass unit.

Derartige Solar-Control-Schichtsysteme, nachfolgend auch nur als Schichtsysteme bezeichnet, werden, z. B. auf Glas mittels Vakuumbeschichtung aufgebracht, hauptsächlich in der Architekturglasindustrie zur Fenster- und Fassadengestaltung und in der Automobilindustrie verwendet. Ziel ist eine Reduzierung des Gesamtenergiedurchlassgrades g. Die Gesamtenergie setzt sich zusammen aus dem Teil der Solarstrahlungsenergie, der direkt durch das Glas mittels Transmission von sichtbarem Licht (380 nm bis 780 nm) und Strahlung im Wellenlängenbereich des nahen Infrarots (ca. 780 nm bis 3 µm) in das Innere des Raumes gelangt und der Energie, die nach vorheriger Glaserwärmung nach innen abgegeben wird, wobei maximal der Anteil abgegeben werden kann, der zuvor absorbiert wurde. Je kleiner der g-Wert, desto höher ist die Sonnenschutzwirkung. Such solar control layer systems, hereinafter also referred to only as layer systems are, z. B. applied to glass by means of vacuum coating, mainly used in the architectural glass industry for window and facade design and in the automotive industry. The goal is a reduction of the total energy transmittance g. The total energy is composed of the part of the solar radiation energy, which passes directly through the glass by transmission of visible light (380 nm to 780 nm) and radiation in the wavelength range of the near infrared (about 780 nm to 3 microns) in the interior of the room and the energy that is released inward after previous glass heating, whereby at most the portion that has been previously absorbed can be released. The smaller the g-value, the higher the sunscreen effect.

Das typische Schichtsystem reduziert durch seinen Aufbau die Transmission nichtselektiv, d. h. über den gesamten Wellenlängenbereich der Solarstrahlung gleichermaßen, wobei je nach konkreter Anwendung ein bestimmter Transmissionsgrad erwünscht ist. The typical layer system does not selectively reduce the transmission due to its structure, ie. H. over the entire wavelength range of solar radiation equally, depending on the specific application, a certain degree of transmission is desired.

Zudem kann ein vorzugebendes Maß an Reflexions- und/oder Absorptionsvermögen für Strahlung im sichtbaren spektralen sowie nahen Infrarotbereich gefordert sein, um einen Wärmeeintrag von außen zu verringern. In addition, a specified degree of reflection and / or absorption capacity for radiation in the visible spectral and near infrared range may be required in order to reduce heat input from the outside.

Das übliche Solar-Control-Schichtsystem umfasst meist drei Schichten, wobei die Funktionsschicht dabei regelmäßig zwischen zwei dielektrischen Schichten, einer Grundschicht und einer Deckschicht beispielsweise aus Siliziumnitrid Si3N4, eingebettet ist, die z. B. der Entspiegelung, Verhinderung von Diffusionsprozessen, der Haftungsverbesserung und/oder der Erhöhung der mechanischen Stabilität des Schichtsystems dienen. Als Funktionsschicht dient dabei eine Schicht, die eine relativ hohe Absorption und geringe Reflexion im solaren Bereich (sichtbares Licht und nahes Infrarot bis λ < 3 µm) aufweist. Diese Reflexion und/oder Absorption der Infrarotstrahlung wird innerhalb des Schichtsystems hauptsächlich durch eine metallische oder metallnitridische Funktionsschicht, nachfolgend nur als Funktionsschicht bezeichnet, beispielsweise aus CrN, NiCr, Cr, Ni, NiNx, CrNx oder NiCrNx, realisiert. The usual solar control layer system usually comprises three layers, wherein the functional layer is regularly embedded between two dielectric layers, a base layer and a cover layer, for example of silicon nitride Si 3 N 4 , the z. B. the anti-reflection, preventing diffusion processes, the adhesion improvement and / or increasing the mechanical stability of the layer system serve. The functional layer used here is a layer which has a relatively high absorption and low reflection in the solar range (visible light and near infrared to λ <3 μm). This reflection and / or absorption of the infrared radiation is realized within the layer system mainly by a metallic or metal nitride functional layer, hereinafter referred to only as a functional layer, for example of CrN, NiCr, Cr, Ni, NiNx, CrNx or NiCrNx.

Eine weitere Eigenschaft der beschriebenen Schichtsysteme ist deren Eignung für eine Wärmebehandlung (Tempern), z. B. bei der Herstellung von Sicherheitsglas im Architektur- und Fahrzeugbereich und der Formgebung, z. B. bei der Herstellung von Windschutzscheiben. Da die Beschichtung der Substrate aus prozesstechnischen sowie Kostengründen zumeist vor der Wärmebehandlung stattfindet, kommen vorrangig Schichtsysteme zum Einsatz, deren mechanische und optische Eigenschaften sich durch die Wärmebehandlung nicht oder nicht wesentlich verschlechtern. Another property of the coating systems described is their suitability for a heat treatment (tempering), z. B. in the manufacture of safety glass in the architectural and automotive sector and the shaping, z. B. in the manufacture of windshields. Since the coating of the substrates for process engineering and cost reasons usually takes place before the heat treatment, layer systems are mainly used, the mechanical and optical properties of which do not worsen or not significantly by the heat treatment.

In dieser Ausführung werden zur Vermeidung von überwiegend temperaturinduzierten, die Funktionsschicht beeinträchtigenden Diffusions- und Oxidationsvorgänge kann ein- oder beidseitig der Funktionsschicht eine Blockerschicht abgeschieden, die als Puffer für die diffundierenden Komponenten dient. Diese Blockerschichten sind entsprechend der auftretenden Temperaturbelastung angeordnet und schützen die empfindliche, oft sehr dünne Funktionsschicht vor dem Einfluss benachbarter Schichten. In this embodiment, in order to avoid predominantly temperature-induced diffusion and oxidation processes impairing the functional layer, a blocking layer can be deposited on one or both sides of the functional layer, which serves as a buffer for the diffusing components. These blocking layers are arranged according to the temperature load that occurs and protect the sensitive, often very thin functional layer against the influence of adjacent layers.

Ein Solar-Control-Schichtsystem wird im Bereich Architekturverglasung in der Regel auf Position 2, das heißt auf der Innenseite der ersten, äußeren Scheibe einer Zweischeibenisolierglaseinheit, aufgebracht. In besonderen Fällen ist jedoch auch ein Aufbringen auf Position 1, das heißt auf der Außenseite der ersten, äußeren Scheibe einer Zweischeibenisolierglaseinheit, möglich. In the field of architectural glazing, a solar control layer system is generally applied to position 2, that is to say on the inside of the first, outer pane of a double-pane insulating glass unit. In special cases, however, an application to position 1, that is, on the outside of the first outer pane of a Zweiperibenisolierglaseinheit possible.

Insbesondere für Architekturverglasungen spielt der Farbeindruck der beschichteten Substrate eine wichtige Rolle. Neutrale Farben sind im CIE L*a*b*-Farbsystem durch a*- und b*-Farbwerte von ca. Null gekennzeichnet, während grüne Farben durch negative a*-Farbwerte, blaue Farben durch negative b*-Farbwerte, rote Farben durch positive a*-Farbwerte und gelbe Farben durch positive b*-Farbwerte charakterisiert sind. In particular for architectural glazings, the color impression of the coated substrates plays an important role. Neutral colors in the CIE L * a * b * color system are characterized by a * and b * color values of approximately zero, while green colors are characterized by negative a * color values, blue colors by negative b * color values, red colors by positive a * color values and yellow colors are characterized by positive b * color values.

Alternativ zum CIE L*a*b*-Farbsystem können Farbwerte auch im Yxy-System angegeben werden, wobei die Y-Koordinate den Helligkeits- oder Intensitätswert beschreibt. Je größer der zu einer Farbe gehörige Y-Wert ist, desto intensiver erscheint die Farbe. As an alternative to the CIE L * a * b * color system, color values can also be specified in the Yxy system, where the Y coordinate describes the brightness or intensity value. The larger the Y value associated with a color, the more intense the color appears.

Mitunter ist beispielsweise für die Verkleidung von Gebäudefassaden eine ganz bestimmte, mitunter auch intensive, substratseitige Reflexionsfarbe, gekennzeichnet durch bestimmte a*(Rg)- und b*(Rg)-Werte gewünscht, um eine bestimmte Farbassoziation, das heißt eine bestimmte emotionale und psychologische Wirkung, hervorzurufen oder eine harmonische Anpassung an die Umgebung zu bewirken. Beispielsweise ist in der bisher unveröffentlichten Anmeldung DE 10 2013 112 990 ein Solar-Control-Schichtsystem mit einem intensiven Farbeindruck beschrieben. Occasionally, for example, for the cladding of building facades a very specific, sometimes intense, substrate-side reflection color, characterized by certain a * (Rg) - and b * (Rg) values desired to a certain color association, that is, a specific emotional and psychological Effect, or cause harmonious adaptation to the environment. For example, in the previously unpublished application DE 10 2013 112 990 described a solar control layer system with an intense color impression.

Vor allem bei Schichtsystemen mit gezielt farblichen Rg-Werten, z. B. mit einem blauen, grünen oder goldenen substratseitigen Farbeindruck, d. h. im Falle einer Architekturverglasung von außen betrachtet, ergeben sich oft unvorteilhafte, z. B. gelb-braune oder rötliche, schichtseitige Farbwerte (Reflexionsfarbwerte a*(Rf) und b*(Rf) sowie Transmissionsfarbwerte a*(T) und b*(T)). Dies ist visuell außerordentlich unangenehm und daher höchst unerwünscht. Especially in layer systems with specifically colored Rg values, eg. B. with a blue, green or golden substrate-side color impression, ie viewed in the case of architectural glazing from the outside, often unfavorable, z. B. yellow-brown or reddish, layer-side color values (reflection color values a * (Rf) and b * (Rf) and transmission color values a * (T) and b * (T)). This is visually extremely unpleasant and therefore highly undesirable.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein auf einem Substrat abgeschiedenes Solar-Control-Schichtsystem anzugeben, welches möglichst neutrale schichtseitige Reflexionsfarbwerte sowie Transmissionsfarbwerte aufweist. Weiterhin sollen der Transmissionsgrad und die substratseitigen Farbwerte eines solchen Schichtsystems einstellbar sein. The object of the present invention is to specify a solar control layer system deposited on a substrate, which has as neutral as possible layer-side reflection color values as well as transmission color values. Furthermore, the transmittance and the substrate-side color values of such a layer system should be adjustable.

Insbesondere ist gewünscht, ein derartiges Schichtsystem anzugeben, dessen Y(Rg)-Wert möglichst hoch ist, damit der substratseitige Farbeindruck möglichst intensiv ist. Das Schichtsystem soll zudem eine hohe chemische und mechanische Stabilität, auch hinsichtlich der Farbe, aufweisen sowie temperbar und kostengünstig herstellbar sein. In particular, it is desired to provide such a layer system whose Y (Rg) value is as high as possible so that the substrate-side color impression is as intense as possible. The layer system should also have a high chemical and mechanical stability, including in terms of color, as well as be produced temperable and inexpensive.

Weiterhin soll die Emissivität des Schichtsystems, d. h., das Maß für die Fähigkeit einer Oberfläche absorbierte Wärme wieder als Strahlung abzugeben, möglichst gering sein. Furthermore, the emissivity of the layer system, i. That is, the measure of the ability of a surface to return absorbed heat as radiation is to be as low as possible.

Zur Lösung der Aufgabe werden ein Solar-Control-Schichtsystem mit den Merkmalen gemäß Anspruch 1 sowie eine Glaseinheit mit den Merkmalen des Anspruchs 12 angegeben. To achieve the object, a solar control layer system with the features of claim 1 and a glass unit with the features of claim 12 are given.

Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche. Advantageous embodiments are the subject of the dependent claims.

Das erfindungsgemäße Solar-Control-Schichtsystem ist auf einem transparenten dielektrischen Substrat, insbesondere aus Glas oder einem Polymermaterial, angeordnet. The solar control layer system according to the invention is arranged on a transparent dielectric substrate, in particular made of glass or a polymer material.

Das Schichtsystem umfasst eine siliziumhaltige dielektrische Grundschicht. Sie dient insbesondere der Verminderung von unerwünschten Diffusionsvorgängen aus dem Substrat in das darüber liegende Schichtsystem und hier insbesondere in die Funktionsschichten und trägt dadurch zur Stabilität des gesamten Schichtsystems bei. Zudem sorgt die Grundschicht für eine gute Haftung der nachfolgenden Schichten. Die Grundschicht beeinflusst zusammen mit der Deckschicht mit ihrer Schichtdicke und ihren Dispersionsverläufen der optischen Daten Brechungsindex und Extinktionskoeffizient dabei die Farbeinstellung in hohem Maß. The layer system comprises a silicon-containing dielectric base layer. In particular, it serves to reduce unwanted diffusion processes from the substrate into the overlying layer system and in particular into the functional layers, thereby contributing to the stability of the entire layer system. In addition, the base layer ensures good adhesion of the subsequent layers. The base layer, together with the cover layer with its layer thickness and its dispersion characteristics of the optical data refractive index and extinction coefficient while the color adjustment to a large extent.

Eine gute Barrierewirkung, welche insbesondere für zu tempernde Schichtsysteme aufgrund der erhöhten Diffusionsneigung bei höheren Temperaturen wichtig ist, wird insbesondere durch solche Schichten erzielt wird, welche neben den spezifischen Ionenfängern speziell für Natriumionen auch eine dichte Struktur aufweisen. A good barrier effect, which is particularly important for layer systems to be tempered due to the increased tendency to diffusion at higher temperatures, is achieved in particular by those layers which, in addition to the specific ion scavengers, also have a dense structure, especially for sodium ions.

Aufgrund seiner dichten Struktur und der damit verbundenen guten Barriereeigenschaften gegenüber einer Diffusion von Natriumionen sowie seiner Temperaturstabilität der Aufwachsstruktur ist insbesondere Si3N4 für temperbare Schichtsysteme geeignet. Due to its dense structure and the associated good barrier properties against diffusion of sodium ions and its temperature stability of the growth structure, Si 3 N 4 in particular is suitable for heatable layer systems.

Die Schichtdicke der Grundschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 9 und 115 nm. The layer thickness of the base layer is preferably in the range between 9 and 115 nm.

Über der Grundschicht ist eine erste Funktionsschicht angeordnet, welche die einfallende Solarstrahlung zumindest teilweise absorbiert und/oder reflektiert. Die Schichtdicke der ersten Funktionsschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 1 und 15 nm, weiter bevorzugt im Bereich zwischen 3 und 7 nm. Above the base layer, a first functional layer is arranged which at least partially absorbs and / or reflects the incident solar radiation. The layer thickness of the first functional layer is preferably in the range between 1 and 15 nm, more preferably in the range between 3 and 7 nm.

Über der ersten Funktionsschicht ist eine niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht angeordnet. Niedrigbrechend bedeutet, dass der Brechungsindex der Zwischenschicht bei einer Wellenlänge von 550 nm kleiner als der Brechungsindex der Grund- und Deckschicht ist. Die Schichtdicke der Zwischenschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 30 und 100 nm, weiter bevorzugt im Bereich zwischen 45 und 100 nm. Over the first functional layer, a low-refractive dielectric interlayer is arranged. Low refractive index means that the refractive index of the intermediate layer at a wavelength of 550 nm is smaller than the refractive index of the base and top layers. The layer thickness of the intermediate layer is preferably in the range between 30 and 100 nm, more preferably in the range between 45 and 100 nm.

Über der Zwischenschicht ist eine zweite Funktionsschicht angeordnet, welche ebenfalls die einfallende Solarstrahlung zumindest teilweise absorbiert und/oder reflektiert. Die Schichtdicke der zweiten Funktionsschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 15 und 40 nm, weiter bevorzugt im Bereich zwischen 15 und 30 nm. Arranged above the intermediate layer is a second functional layer, which likewise at least partially absorbs and / or reflects the incident solar radiation. The layer thickness of the second functional layer is preferably in the range between 15 and 40 nm, more preferably in the range between 15 and 30 nm.

Optional können über der zweiten Funktionsschicht eine oder mehrere weitere Funktionsschichten angeordnet sein, wobei die einzelnen Funktionsschichten jeweils durch niedrigbrechende dielektrische Zwischenschichten voneinander getrennt sind. Optionally, one or more further functional layers may be arranged above the second functional layer, the individual functional layers being separated from one another by low-dielectric intermediate layers.

Nach oben abgeschlossen wird das Schichtsystem mittels einer siliziumhaltigen dielektrischen Deckschicht, welche beispielsweise aus Si3N4 oder Siliziumoxinitrid bestehen kann. Die Deckschicht dient insbesondere dem mechanischen und chemischen Schutz des Schichtsystems und der Einstellung der Farbe. Mit Si3N4 als Material der Deckschicht können aufgrund seiner dichten Struktur besonders stabile Schichtsysteme erzeugt werden. Die Schichtdicke der Deckschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 25 und 100 nm, weiter bevorzugt im Bereich zwischen 35 und 70 nm. At the top, the layer system is completed by means of a silicon-containing dielectric cover layer, which may consist, for example, of Si 3 N 4 or silicon oxynitride. The cover layer serves in particular for the mechanical and chemical protection of the layer system and the adjustment of the color. With Si 3 N 4 as the material of the cover layer, due to its dense structure, particularly stable layer systems can be produced. The layer thickness of the cover layer is preferably in the range between 25 and 100 nm, more preferably in the range between 35 and 70 nm.

Das erfindungsgemäße Schichtsystem kann optional weitere Schichten wie z. B. Haft-, Keim- und/oder Blockerschichten enthalten, welche die Funktion der beschriebenen Schichten unterstützen. The layer system according to the invention can optionally further layers such. B. contain adhesion, germ and / or blocking layers, which support the function of the described layers.

Es kann beispielsweise mittels physikalischer Gasphasenabscheidung auf dem Substrat abgeschieden werden. Vorzugsweise erfolgt die Abscheidung mittels Magnetronsputtern, was die Erzeugung von dichten Einzelschichten auch mit geringen Schichtdicken ermöglicht. For example, it can be deposited on the substrate by means of physical vapor deposition. Preferably, the deposition takes place by means of magnetron sputtering, which enables the production of dense individual layers even with small layer thicknesses.

Die Schichteigenschaften können dabei sehr gut und reproduzierbar mittels der Art des Sputterverfahrens, wie z. B. DC(Gleichspannungs)-, MF(Mittelfrequenz)-, pulsed DC(gepulstes Gleichspannungs)- oder DAS-(Dual-Anode-Sputtering) Sputtern, und den Sputterparametern eingestellt werden. Außerdem können sowohl rohrförmige Targets als auch planare Targets eingesetzt werden. The layer properties can be very good and reproducible by means of the type of sputtering process, such. DC (DC), MF (mid frequency), pulsed DC (pulsed DC) or DAS (dual anode sputtering) sputtering, and sputtering parameters. In addition, both tubular targets and planar targets can be used.

„Bestehend aus“ schließt auf alle Schichten des Schichtsystems bezogen ein, dass technologisch bedingte Verunreinigungen oder technologisch bedingte Beimengungen, die zur Prozessführung während der Abscheidung oder, z. B. bei der Kathodenzerstäubung, zur Targetherstellung dienlich sind, enthalten sein können. Derartige Verunreinigungen oder technologische Beimengungen liegen meist im Bereich von kleiner 1 At.-%, können aber auch einige wenige Prozent betragen. Die genannten stöchiometrischen Verbindungen schließen geringfügige stöchiometrische Abweichungen ein, sofern damit keine wesentlichen Eigenschaftsänderungen verbunden sind. Zudem können auch sogenannte Gradientenschichten eingesetzt werden, das heißt Schichten, deren Zusammensetzung sich über die Schichtdicke ändert. Alternativ kann insbesondere die Funktionsschicht aus mehreren Teilschichten unterschiedlicher Materialien aufgebaut sein. "Consisting of" includes, based on all layers of the layer system, that technologically related impurities or technologically related admixtures, the process control during deposition or, z. B. in the sputtering, are useful for target production, may be included. Such impurities or technological admixtures are usually in the range of less than 1 At .-%, but can also be a few percent. The stoichiometric compounds mentioned include minor stoichiometric deviations, provided that they are not associated with significant changes in properties. In addition, so-called gradient layers can also be used, ie layers whose composition changes over the layer thickness. Alternatively, in particular, the functional layer can be constructed from several partial layers of different materials.

Das erfindungsgemäße Schichtsystem zeichnet sich durch eine weitgehend neutrale schichtseitige Reflexionsfarbe und Transmissionsfarbe aus, d. h. a*(Rf), b*(Rf), a*(T) und b*(T) liegen nahe Null. Bevorzugt liegt der Farbwert a*(Rf) im Bereich zwischen –4 und 4, bevorzugt im Bereich zwischen –4 und 0. Der Farbwert b*(Rf) liegt bevorzugt im Bereich zwischen –7 und 0, bevorzugt im Bereich zwischen –4 und 0. Die Transmissions-Farbwerte des Schichtsystems lagen mit den erzielbaren Werten von –4 ≤ a*(T) ≤ 0 und –6 ≤ b*(T) ≤ 2 ebenfalls im neutralen Bereich. Zudem lassen sich der Transmissionsgrad und die substratseitige Reflexionsfarbe einstellen, wobei die substratseitige Reflexionsfarbe vorrangig über die Dicken der Grund- und Deckschichten eingestellt wird, während die Materialien der einzelnen Schichten für den erzielbaren Farbeindruck lediglich eine untergeordnete Rolle spielen. Mit den beschriebenen Schichtdicken sind sehr unterschiedliche substratseitige Reflexionsfarben erzielbar, beispielsweise Blau, Grün und ebenso Gold. The layer system of the invention is characterized by a largely neutral layer-side reflection color and transmission color, d. H. a * (Rf), b * (Rf), a * (T) and b * (T) are close to zero. Preferably, the color value a * (Rf) is in the range between -4 and 4, preferably in the range between -4 and 0. The color value b * (Rf) is preferably in the range between -7 and 0, preferably in the range between -4 and 0. The transmission color values of the layer system were also in the neutral range with the attainable values of -4 ≤ a * (T) ≤ 0 and -6 ≤ b * (T) ≤ 2. In addition, the transmittance and the substrate-side reflection color can be adjusted, wherein the substrate-side reflection color is primarily adjusted over the thicknesses of the base and cover layers, while the materials of the individual layers play only a minor role for the achievable color impression. With the layer thicknesses described, very different substrate-side reflection colors can be achieved, for example blue, green and likewise gold.

Weiterhin weist das erfindungsgemäße Schichtsystem einen hohen Y(Rg)-Wert auf, der die substratseitige Reflexionsfarbe besonders intensiv erscheinen lässt. Es konnten Werte bis 23 erzielt werden, im Vergleich zu Y(Rg) von 16 für das zu 1 beschriebene, bekannte Schichtsystem. Furthermore, the layer system according to the invention has a high Y (Rg) value, which makes the substrate-side reflection color appear particularly intense. Values up to 23 could be achieved, compared to Y (Rg) of 16 for the too 1 described, known layer system.

Das erfindungsgemäße Schichtsystem ist zudem chemisch und mechanisch beständig gemäß den gegenwärtigen Standards und lässt sich aufgrund des einfachen Aufbaus effektiv bezüglich Zeit- und Materialbedarf und damit kostengünstig herstellen. Auf die Kosteneffizienz wirkt sich weiter positiv aus, dass die Herstellung des Schichtsystems mit der gewünschten Farbe mit solchen Materialien erfolgen kann, die in ihrer Verarbeitung und Variabilität bekannt und erprobt sind, und die in regelmäßigen Anlagenkonfigurationen verwendet werden. Damit kann, auch bei einer gewünschten Reflexionsfarbe, häufig auf Umbauten verzichtet werden, was die Auslastung einer Anlage erhöht. The layer system according to the invention is also chemically and mechanically resistant according to the current standards and can be due to the simple structure effectively in terms of time and material requirements and thus produce cost. Cost-effectiveness is further enhanced by the ability to produce the desired color layer system with materials known and tested for their processing and variability used in regular plant configurations. This can be waived even with a desired reflection color, often on conversions, which increases the utilization of a plant.

Bei Verwendung von Si3N4 als Material der Grundschicht ist das erfindungsgemäße Schichtsystem zudem temperfähig, was die gleiche oder zumindest eine optisch nicht wahrnehmbare Veränderung der Reflexionsfarbe eines getemperten im Vergleich zum ungetemperten Schichtsystem einschließt. When using Si 3 N 4 as the material of the base layer, the layer system according to the invention is also temperable, which includes the same or at least an optically imperceptible change in the reflection color of a tempered compared to the untempered layer system.

Die Funktionsschichten des Schichtsystems können wahlweise aus demselben Material oder aus unterschiedlichen Materialien bestehen. The functional layers of the layer system can optionally consist of the same material or of different materials.

Als Material für die Funktionsschichten sind besonders Metalle, Metalllegierungen, Halbleiter oder Verbindungen von Metallen, Metalllegierungen oder Halbleitern, insbesondere stöchiometrische oder unterstöchiometrische Nitride, geeignet. Bevorzugt können die Funktionsschichten beispielsweise aus Chrom, Nickel-Chrom NiCr, Titan oder deren stöchiometrischen oder unterstöchiometrischen Nitriden bestehen. Particularly suitable as material for the functional layers are metals, metal alloys, semiconductors or compounds of metals, metal alloys or semiconductors, in particular stoichiometric or substoichiometric nitrides. The functional layers can preferably consist, for example, of chromium, nickel-chromium NiCr, titanium or their stoichiometric or substoichiometric nitrides.

Besonders geeignet ist stöchiometrisches Titannitrid TiN, da mit einem derartigen Schichtsystem eine im Vergleich zum Stand der Technik deutlich höhere elektrische Leitfähigkeit erreicht werden kann. Damit einher geht eine gewünschte Verringerung der Emissivität des Schichtsystems. Beispielsweise können je nach konkreter Ausführung des Schichtsystems nach dem Tempern Emissivitäten kleiner 0,6 und bei Verwendung von zusätzlichen Blockerschichten sogar kleiner 0,5 erzielt werden. Übliche Solar-Control-Schichtsysteme weisen hingegen eine viel geringere Leitfähigkeit auf und zeigen daher die gleiche Emissivität wie das unbeschichtete Substrat, im Falle von Glas ca. 0,87. Particularly suitable is stoichiometric titanium nitride TiN, since with such a layer system a significantly higher electrical conductivity than in the prior art can be achieved. This is accompanied by a desired reduction in the emissivity of the layer system. For example, depending on the specific design of the layer system after annealing, emissivities of less than 0.6 and, if additional blocker layers are used, even less than 0.5 can be achieved. However, conventional solar control layer systems have a lot lower conductivity and therefore show the same emissivity as the uncoated substrate, in the case of glass about 0.87.

Gemäß einer Ausführungsvariante besteht die niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht aus Al2O3, einem Aluminiumoxinitrid, SiO2 oder einem Siliziumoxinitrid mit einem Brechungsindex kleiner 2,0 bei einer Wellenlänge von 550 nm. Bevorzugt besteht die Zwischenschicht aus Siliziumoxinitrid mit einem Brechungsindex zwischen 1,75 und 1,95 bei einer Wellenlänge von 550 nm. Für den Fall, dass das Schichtsystem mehrere Zwischenschichten umfasst, können auch mehrere oder auch alle Zwischenschichten aus einem der genannten Materialien bestehen. According to one embodiment variant, the low-refractive dielectric interlayer consists of Al 2 O 3 , an aluminum oxynitride, SiO 2 or a silicon oxynitride with a refractive index of less than 2.0 at a wavelength of 550 nm. The intermediate layer is preferably made of silicon oxynitride having a refractive index between 1.75 and 1.95 at a wavelength of 550 nm. In the event that the layer system comprises several intermediate layers, several or even all intermediate layers may consist of one of said materials.

Optional kann das Schichtsystem eine oder mehrere Blockerschichten umfassen, welche benachbart, insbesondere in direktem Kontakt, zu zumindest einer Funktionsschicht angeordnet sind. Derartige Blockerschichten verhindern eine Farbveränderung aufgrund eines Temperprozesses. Die Blockerschichten können beispielsweise aus NiCr oder einem Nickel-Chrom-Nitrid bestehen. Die Schichtdicke einer solchen Blockerschicht liegt bevorzugt im Bereich zwischen 1 und 5 nm. Optionally, the layer system may comprise one or more blocking layers, which are arranged adjacent to, in particular in direct contact with, at least one functional layer. Such blocker layers prevent a color change due to an annealing process. The blocking layers may be made of, for example, NiCr or a nickel-chromium nitride. The layer thickness of such a blocking layer is preferably in the range between 1 and 5 nm.

Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung ist lediglich direkt oberhalb der letzten Funktionsschicht eine Blockerschicht aus NiCr oder einem Nickel-Chrom-Nitrid angeordnet, welche das Schichtsystem während eines Temperprozesses insbesondere vor Oxidationsprozessen mit der umgebenden Atmosphäre noch besser schützt. According to a preferred embodiment, a blocking layer of NiCr or a nickel-chromium-nitride is arranged only directly above the last functional layer, which protects the layer system even better during an annealing process, in particular against oxidation processes with the surrounding atmosphere.

Eine erfindungsgemäße Glaseinheit weist zumindest zwei Glassubstrate auf, die mit oder ohne Abstand miteinander über geeignete Mittel zur Verbindung verbunden sind. Die Glaseinheit kann beispielsweise als Isolierglaseinheit fungieren oder aber auch als Verbundglaseinheit, z. B. als Fahrzeug- oder Sicherheitsverglasungen, bei denen zwei Glassubstrate als Scheiben ohne Zwischenraum über ein Verbindungsmittel, z. B. eine Folie, direkt miteinander verbunden sind. A glass unit according to the invention has at least two glass substrates, which are connected with or without a distance from each other via suitable means for connection. The glass unit can for example act as an insulating glass unit or as a laminated glass unit, z. B. as vehicle or safety glazings, in which two glass substrates as discs without space via a connecting means, for. As a film directly connected to each other.

Eines der Glassubstrate weist ein erfindungsgemäßes Schichtsystem auf, wobei das beschichtete Glassubstrat innerhalb der Glaseinheit meist so angeordnet ist, dass die Beschichtung zwischen den Substraten, bevorzugt auf Position 2 der Glaseinheit, liegt. One of the glass substrates has a layer system according to the invention, wherein the coated glass substrate within the glass unit is usually arranged such that the coating lies between the substrates, preferably at position 2 of the glass unit.

Nachfolgend soll die Erfindung anhand von zwei Ausführungsbeispielen näher erläutert werden. Die dazugehörigen Zeichnungen zeigen in The invention will be explained in more detail with reference to two embodiments. The accompanying drawings show in

1 schematischer Aufbau eines Solar-Control- Schichtsystems gemäß dem Stand der Technik, 1 schematic structure of a solar control layer system according to the prior art,

2 schematischer Aufbau eines Solar-Control- Schichtsystems gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel, 2 schematic structure of a solar control layer system according to the first embodiment,

3 schematischer Aufbau eines Solar-Control- Schichtsystems gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel, 3 schematic structure of a solar control layer system according to the second embodiment,

4 Gegenüberstellung der erreichbaren Farbwerte, Widerstände und Emissivitäten der ungetemperten Einzelscheibe. 4 Comparison of the achievable color values, resistances and emissivities of the untempered single pane.

Ein Solar-Control-Schichtsystem gemäß dem Stand der Technik (1) weist vom Substrat S (6 mm dickes Glas) aufwärts betrachtet folgende Schichten auf: eine Grundschicht GS aus Si3N4 mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 18 und 228 nm, eine Funktionsschicht FS aus einem Chromnitrid CrNx mit einer Schichtdicke zwischen 9 und 17 nm und darüber eine Deckschicht DS ebenfalls aus Si3N4 mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 18 und 54 nm. Für ein derartiges Schichtsystem ergeben sich die in 4 angegebenen Farbwerte sowie ein Widerstand größer als 1000 Ω, so dass das Schichtsystem gemäß dem Stand der Technik als nicht leitfähig eingestuft wird. A solar control layer system according to the prior art ( 1 ) has, viewed from the substrate S (6 mm thick glass), the following layers: a base layer GS of Si 3 N 4 with a layer thickness in the range between 18 and 228 nm, a functional layer FS of a chromium nitride CrN x with a layer thickness between 9 and 17 nm and above a cover layer DS also of Si 3 N 4 with a layer thickness in the range between 18 and 54 nm. For such a layer system, the result in 4 given color values and a resistance greater than 1000 Ω, so that the layer system according to the prior art is classified as non-conductive.

Gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Schichtsystems (2) ist auf einem 6 mm dicken Glassubstrat S eine Grundschicht GS aus Si3N4 mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 9 und 15 nm angeordnet. Direkt darüber folgt eine erste Funktionsschicht FS 1 aus einem Nickel-Chrom-Nitrid NiCrNx oder einem Chromnitrid CrNx mit einer Schichtdicke zwischen 4 und 7 nm. Direkt oberhalb der ersten Funktionsschicht FS 1 ist eine niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht ZS aus einem Siliziumoxinitrid SiOxNy mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 90 und 100 nm angeordnet. Der Brechungsindes der Zwischenschicht ZS beträgt bei einer Wellenlänge von 550 nm zwischen 1,75 und 1,95. According to a first exemplary embodiment of the layer system according to the invention ( 2 ) is on a 6 mm thick glass substrate S, a base layer GS of Si 3 N 4 arranged with a layer thickness in the range between 9 and 15 nm. Directly above this follows a first functional layer FS 1 made of a nickel-chromium nitride NiCrN x or a chromium nitride CrN x with a layer thickness between 4 and 7 nm. Directly above the first functional layer FS 1 is a low-refractive dielectric interlayer ZS made of a silicon oxynitride SiO x N y arranged with a layer thickness in the range between 90 and 100 nm. The refractive index of the intermediate layer ZS at a wavelength of 550 nm is between 1.75 and 1.95.

Direkt oberhalb der Zwischenschicht ZS befindet sich die zweite Funktionsschicht FS 2 aus einem Titannitrid TiNx mit einer Schichtdicke zwischen 25 und 30 nm. Direkt oberhalb der zweiten Funktionsschicht FS 2 ist eine Deckschicht DS aus Si3N4 mit einer Schichtdicke im Bereich zwischen 30 und 45 nm angeordnet. Directly above the intermediate layer ZS is the second functional layer FS 2 of a titanium nitride TiN x with a layer thickness between 25 and 30 nm. Directly above the second functional layer FS 2 is a cover layer DS of Si 3 N 4 with a layer thickness in the range between 30 and 45 nm arranged.

Mit dem genannten Schichtaufbau lassen sich die in 4 unter „Ausführungsbeispiel 1“ angegebenen Farbwerte für die substratseitige und schichtseitige Reflexion sowie für die Transmission erreichen. Bei Variation der Schichtdicken in den angegebenen Bereichen wurde beispielsweise festgestellt, dass sich bei gleichbleibend neutraler schichtseitiger Reflexionsfarbe mit zunehmender Schichtdicke der Grundschicht die substratseitigen Farbwerte b*(Rg) in Richtung der positiven Werte verschieben. Hingegen wurde mit der höchsten Schichtdicke der Deckschicht die niedrigsten a*(Rg) und der höchste Wert für Y(Rg) erzielt. With the layer structure mentioned can be in 4 under "embodiment 1" specified color values for the substrate-side and layer-side reflection as well as for the transmission. With variation of the layer thicknesses in the For example, it has been determined in the given ranges that the substrate-side color values b * (Rg) shift in the direction of the positive values with a constant neutral layer-side reflection color as the layer thickness of the base layer increases. By contrast, with the highest layer thickness of the cover layer, the lowest a * (Rg) and the highest value for Y (Rg) were achieved.

Im Vergleich zum Stand der Technik weist das erfindungsgemäße Schichtsystem eine neutrale schichtseitige Reflexionsfarbe und Transmissionsfarbe aus, d. h. a*(Rf), b*(Rf), a*(T) und b*(T) liegen nahe Null. Zudem weist das Schichtsystem gemäß Ausführungsbeispiel 1 einen deutlich verringerten Widerstand auf, was sich in einer verringerten Emissivität widerspiegelt. Compared to the prior art, the layer system according to the invention comprises a neutral layer-side reflection color and transmission color, i. H. a * (Rf), b * (Rf), a * (T) and b * (T) are close to zero. In addition, the layer system according to embodiment 1 has a significantly reduced resistance, which is reflected in a reduced emissivity.

Das zweite Ausführungsbeispiel (3) unterscheidet sich vom ersten Ausführungsbeispiel dadurch, dass zwischen zweiter Funktionsschicht FS und der Deckschicht DS eine Blockerschicht BS aus NiCr oder einem Nickel-Chrom-Nitrid NiCrNx angeordnet ist. Die Schichtdicke der Blockerschicht BS liegt im Bereich zwischen 1 und 3 nm, die übrigen Schichtdicken sind dem Ausführungsbeispiel 1 entsprechend ausgebildet. The second embodiment ( 3 ) differs from the first embodiment in that between the second functional layer FS and the cover layer DS a blocking layer BS of NiCr or a nickel-chromium nitride NiCrN x is arranged. The layer thickness of the blocking layer BS is in the range between 1 and 3 nm, the other layer thicknesses are formed according to the embodiment 1.

Auch die zum zweiten Ausführungsbeispiel zugehörigen Farbwerte können 4 entnommen werden. Die substratseitige Reflexionsfarbe ist vergleichbar dem Ausführungsbeispiel 1 einstellbar. Im Vergleich zum Ausführungsbeispiel 1 sind der Widerstand und damit die Emissivität nochmals verringert. Also, the color values associated with the second embodiment can 4 be removed. The substrate-side reflection color is comparable to the embodiment 1 adjustable. Compared to the embodiment 1, the resistance and thus the emissivity are reduced again.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

  • SS
    Substrat substratum
    GSGS
    Grundschicht base layer
    FSFS
    Funktionsschicht functional layer
    ZSZS
    Zwischenschicht interlayer
    BSBS
    Blockerschicht blocker layer
    DSDS
    Deckschicht topcoat

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • DE 102013112990 [0011] DE 102013112990 [0011]

Claims (12)

Solar-Control-Schichtsystem auf einem transparenten dielektrischen Substrat (S) mit zumindest folgenden Schichten vom Substrat (S) aufwärts betrachtet: – eine siliziumhaltige dielektrische Grundschicht (GS), – eine erste Funktionsschicht (FS 1), – eine niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht (ZS 1), – eine zweite Funktionsschicht (FS 2), – eine siliziumhaltige dielektrische Deckschicht (DS).  Solar control layer system on a transparent dielectric substrate (S) with at least the following layers viewed from the substrate (S) upwards: A silicon-containing dielectric base layer (GS), A first functional layer (FS 1), A low-refractive dielectric interlayer (ZS 1), A second functional layer (FS 2), - A silicon-containing dielectric cover layer (DS). Schichtsystem nach Anspruch 1, wobei über der zweiten Funktionsschicht (FS 2) eine oder mehrere weitere Funktionsschichten (FS x mit x = 3, 4, ...) angeordnet sind, die von der jeweils darunterliegenden Funktionsschicht (FS x –1) durch eine weitere niedrigbrechende dielektrische Zwischenschicht (ZS) getrennt sind. Layer system according to claim 1, wherein over the second functional layer (FS 2) one or more further functional layers (FS x with x = 3, 4, ...) are arranged, of the respective underlying functional layer (FS x -1) by a further low-index dielectric interlayer (ZS) are separated. Schichtsystem nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Funktionsschichten (FS) aus demselben Material oder aus unterschiedlichen Materialien bestehen. Layer system according to claim 1 or 2, wherein the functional layers (FS) consist of the same material or of different materials. Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Funktionsschichten (FS) aus einem Metall, einer Metalllegierung, einem Halbleiter oder einer Metall- oder Halbleiterverbindung, insbesondere einem stöchiometrischen oder unterstöchiometrischen Nitrid, bestehen. Layer system according to one of the preceding claims, wherein the functional layers (FS) consist of a metal, a metal alloy, a semiconductor or a metal or semiconductor compound, in particular a stoichiometric or substoichiometric nitride. Schichtsystem nach Anspruch 4, wobei die Funktionsschichten (FS) aus Chrom, NiCr, Titan oder deren stöchiometrischen oder unterstöchiometrischen Nitriden, insbesondere TiN, bestehen. Layer system according to claim 4, wherein the functional layers (FS) consist of chromium, NiCr, titanium or their stoichiometric or substoichiometric nitrides, in particular TiN. Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei zumindest eine der niedrigbrechenden dielektrischen Zwischenschichten (ZS) aus Al2O3, einem Aluminiumoxinitrid, SiO2 oder einem Siliziumoxinitrid mit einem Brechungsindex kleiner 2,0, insbesondere einem Brechungsindex zwischen 1,75 und 1,95, bei einer Wellenlänge von 550 nm besteht. Layer system according to one of the preceding claims, wherein at least one of the low-refractive dielectric intermediate layers (ZS) of Al 2 O 3 , an aluminum oxynitride, SiO 2 or a silicon oxynitride having a refractive index less than 2.0, in particular a refractive index between 1.75 and 1.95 , at a wavelength of 550 nm. Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Grund- und Deckschicht (GS, DS) aus Si3N4 besteht. Layer system according to one of the preceding claims, wherein the base and cover layer (GS, DS) consists of Si 3 N 4 . Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei eine oder mehrere Blockerschichten (BS) benachbart zu zumindest einer Funktionsschicht (FS) angeordnet sind. Layer system according to one of the preceding claims, wherein one or more blocking layers (BS) are arranged adjacent to at least one functional layer (FS). Schichtsystem nach Anspruch 8, wobei lediglich direkt oberhalb der letzten Funktionsschicht (FS) eine Blockerschicht (BS) aus NiCr oder Nickelchromnitrid angeordnet ist. Layer system according to claim 8, wherein only directly above the last functional layer (FS) a blocking layer (BS) of NiCr or nickel chromium nitride is arranged. Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei der Farbwert a*(Rf) des Schichtsystems im Bereich –4 ≤ a*(Rf) ≤ 4 und der Farbwert a*(T) des Schichtsystems im Bereich –4 ≤ a*(T) ≤ 0 liegt. Layer system according to one of the preceding claims, wherein the color value a * (Rf) of the layer system in the range -4 ≤ a * (Rf) ≤ 4 and the color value a * (T) of the layer system in the range -4 ≤ a * (T) ≤ 0 is. Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei der Farbwert b*(Rf) des Schichtsystems im Bereich –7 ≤ b*(Rf) ≤ 0 und der Farbwert b*(T) des Schichtsystems im Bereich –6 ≤ b*(T) ≤ 2 liegt. Layer system according to one of the preceding claims, wherein the color value b * (Rf) of the layer system in the range -7 ≤ b * (Rf) ≤ 0 and the color value b * (T) of the layer system in the range -6 ≤ b * (T) ≤ 2 lies. Glaseinheit mit zumindest zwei Glassubstraten (S, S1), die mit oder ohne Abstand zueinander über Mittel zur Verbindung der Glassubstrate (S, S1) miteinander verbunden sind, wobei eines der Glassubstrate (S, S1) ein Schichtsystem nach einem der vorstehenden Ansprüche aufweist. Glass unit comprising at least two glass substrates (S, S1) which are interconnected with or without a distance from one another via means for connecting the glass substrates (S, S1), one of the glass substrates (S, S1) comprising a layer system according to one of the preceding claims.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018129125A1 (en) * 2017-01-05 2018-07-12 Guardian Glass, LLC Heat treatable coated article having titanium nitride and nickel chrome based ir reflecting layers
WO2018129135A1 (en) 2017-01-05 2018-07-12 Guardian Glass, LLC Heat treatable coated article having titanium nitride based ir reflecting layer(s)
FR3068032A1 (en) * 2017-06-26 2018-12-28 Saint-Gobain Glass France GLAZING WITH ANTISOLAR PROPERTIES COMPRISING A TITANIUM NITRIDE LAYER
FR3068031A1 (en) * 2017-06-26 2018-12-28 Saint-Gobain Glass France GLAZING WITH ANTISOLAR PROPERTIES COMPRISING A TITANIUM OXYNITRIDE LAYER
WO2021170959A1 (en) 2020-02-28 2021-09-02 Saint-Gobain Glass France Solar-control glazing comprising a layer of titanium nitride
EP3821283A4 (en) * 2018-07-12 2022-04-13 Saint-Gobain Glass France Solar control glass articles
FR3118440A1 (en) 2020-12-31 2022-07-01 Saint-Gobain Glass France Solar protection glazing comprising a thin layer based on titanium nitride and a layer of silicon nitride sub-stoichiometric in nitrogen.
WO2023203192A1 (en) * 2022-04-22 2023-10-26 Saint-Gobain Glass France Solar control glazing panel comprising a single functional titanium nitride layer
WO2024170753A1 (en) 2023-02-16 2024-08-22 Saint-Gobain Glass France Thermal insulation and/or solar protection glazing comprising a of titanium nitride layer deposited by hipims

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10551740B2 (en) * 2017-01-16 2020-02-04 AGC Inc. Transparent substrate with antireflective film having specified luminous transmittance and luminous reflectance
US11021392B2 (en) 2017-01-16 2021-06-01 AGC Inc. Transparent substrate with multilayer antireflective film containing an oxide of molybdenum
EP3925938A1 (en) * 2020-06-19 2021-12-22 Saint-Gobain Glass France Heatable low-e glazing comprising two layers based on titanium nitride

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110146172A1 (en) * 2008-05-19 2011-06-23 Saint Gobain Glass France Glazing provided with a stack of thin layers
WO2012096771A1 (en) * 2011-01-11 2012-07-19 Centre Lexumbourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Heat treatable coated article with breaker layer with extended coloring possibilities
FR2992959A1 (en) * 2012-07-06 2014-01-10 Saint Gobain Transparent glazing, useful in facade facing panel that is used in e.g. building, has glass leaf with stack of thin layers including two functional layers having solar control properties, underlayer, intermediate layer and overcoat layer
DE102013112990A1 (en) 2013-11-25 2015-05-28 Von Ardenne Gmbh Solar control layer system with intensive color impression, process for its production and glass unit

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3990784A (en) * 1974-06-05 1976-11-09 Optical Coating Laboratory, Inc. Coated architectural glass system and method
US6007901A (en) * 1997-12-04 1999-12-28 Cpfilms, Inc. Heat reflecting fenestration products with color corrective and corrosion protective layers
US7122252B2 (en) * 2002-05-16 2006-10-17 Cardinal Cg Company High shading performance coatings
FR2858816B1 (en) * 2003-08-13 2006-11-17 Saint Gobain TRANSPARENT SUBSTRATE HAVING ANTIREFLECTION COATING
EP3228604A1 (en) * 2011-03-24 2017-10-11 Saint-Gobain Glass France Transparent substrate provided with a stack of thin layers
DE102011087967B4 (en) * 2011-12-08 2016-12-29 Von Ardenne Gmbh Color-stable, IR-reflective and transparent low-E layer system and method for its production, glass unit
DE102012207561A1 (en) * 2012-05-07 2013-11-07 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Infrared radiation-reflective system has transparent substrate, base layer, dielectric base layer, overlying layer, metallic functional layer containing copper and silver, and cover layer, sequentially

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110146172A1 (en) * 2008-05-19 2011-06-23 Saint Gobain Glass France Glazing provided with a stack of thin layers
WO2012096771A1 (en) * 2011-01-11 2012-07-19 Centre Lexumbourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Heat treatable coated article with breaker layer with extended coloring possibilities
FR2992959A1 (en) * 2012-07-06 2014-01-10 Saint Gobain Transparent glazing, useful in facade facing panel that is used in e.g. building, has glass leaf with stack of thin layers including two functional layers having solar control properties, underlayer, intermediate layer and overcoat layer
DE102013112990A1 (en) 2013-11-25 2015-05-28 Von Ardenne Gmbh Solar control layer system with intensive color impression, process for its production and glass unit

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110461792B (en) * 2017-01-05 2022-08-02 佳殿玻璃有限公司 Heat treatable coated article with titanium nitride and nickel chromium based IR reflecting layer
EP3565791B1 (en) * 2017-01-05 2022-09-21 Guardian Glass, LLC Heat treatable coated article having titanium nitride based ir reflecting layer(s)
AU2018205713B2 (en) * 2017-01-05 2022-03-31 Guardian Glass, LLC Heat treatable coated article having titanium nitride and nickel chrome based ir reflecting layers
WO2018129135A1 (en) 2017-01-05 2018-07-12 Guardian Glass, LLC Heat treatable coated article having titanium nitride based ir reflecting layer(s)
US10214956B2 (en) 2017-01-05 2019-02-26 Guardian Glass, LLC Heat treatable coated article having titanium nitride and nickel chrome based IR reflecting layers
US10294147B2 (en) 2017-01-05 2019-05-21 Guardian Glass, LLC Heat treatable coated article having titanium nitride based IR reflecting layer(s)
CN110461792A (en) * 2017-01-05 2019-11-15 佳殿玻璃有限公司 Coating product is heat-treated with titanium nitride and the reflecting layer nickel chromium triangle base IR
US10676986B2 (en) 2017-01-05 2020-06-09 Guardian Glass, LLC Heat treatable coated article having titanium nitride and nickel chrome based IR reflecting layers
WO2018129125A1 (en) * 2017-01-05 2018-07-12 Guardian Glass, LLC Heat treatable coated article having titanium nitride and nickel chrome based ir reflecting layers
RU2748280C2 (en) * 2017-01-05 2021-05-21 ГАРДИАН ГЛАСС, ЭлЭлСи Heat-treated coating product with ir-reflecting layers based on titanium nitride and nickel-chromium
FR3068032A1 (en) * 2017-06-26 2018-12-28 Saint-Gobain Glass France GLAZING WITH ANTISOLAR PROPERTIES COMPRISING A TITANIUM NITRIDE LAYER
FR3068031A1 (en) * 2017-06-26 2018-12-28 Saint-Gobain Glass France GLAZING WITH ANTISOLAR PROPERTIES COMPRISING A TITANIUM OXYNITRIDE LAYER
EP3821283A4 (en) * 2018-07-12 2022-04-13 Saint-Gobain Glass France Solar control glass articles
WO2021170959A1 (en) 2020-02-28 2021-09-02 Saint-Gobain Glass France Solar-control glazing comprising a layer of titanium nitride
US11884580B2 (en) 2020-02-28 2024-01-30 Saint-Gobain Glass France Solar-control glazing unit comprising a layer of titanium nitride
FR3107703A1 (en) 2020-02-28 2021-09-03 Saint-Gobain Glass France SOLAR CONTROL GLASS INCLUDING A TITANIUM NITRIDE LAYER
FR3118440A1 (en) 2020-12-31 2022-07-01 Saint-Gobain Glass France Solar protection glazing comprising a thin layer based on titanium nitride and a layer of silicon nitride sub-stoichiometric in nitrogen.
WO2022144518A1 (en) 2020-12-31 2022-07-07 Saint-Gobain Glass France Solar control glazing comprising a thin film based on titanium nitride and a film of sub-stoichiometric silicon nitride in nitrogen
WO2023203192A1 (en) * 2022-04-22 2023-10-26 Saint-Gobain Glass France Solar control glazing panel comprising a single functional titanium nitride layer
FR3134807A1 (en) * 2022-04-22 2023-10-27 Saint-Gobain Glass France Solar protection glazing comprising a single functional layer of titanium nitride
FR3145933A1 (en) 2023-02-16 2024-08-23 Saint-Gobain Glass France Thermal insulation and/or solar protection glazing comprising a layer of titanium nitride deposited by HiPIMS
WO2024170753A1 (en) 2023-02-16 2024-08-22 Saint-Gobain Glass France Thermal insulation and/or solar protection glazing comprising a of titanium nitride layer deposited by hipims

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