DE102006026032B8 - Beleuchtungssystem zur Ausleuchtung eines vorgegebenen Beleuchtungsfeldes einer Objektoberfläche mit EUV-Strahlung - Google Patents
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CN102629082B (zh) * | 2012-04-28 | 2013-11-06 | 北京理工大学 | 一种极紫外光刻复眼照明系统的设计方法 |
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CN103488061B (zh) * | 2013-10-09 | 2015-01-21 | 北京理工大学 | 极紫外光刻机中匹配多个物镜的照明系统调整与设计方法 |
DE102014221175A1 (de) * | 2014-10-17 | 2016-04-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für ein Projektionsbelichtungssystem |
DE102015224598A1 (de) | 2015-12-08 | 2016-03-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik |
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10045265A1 (de) * | 2000-09-13 | 2002-03-21 | Zeiss Carl | Vorrichtung zum Bündeln der Strahlung einer Lichtquelle |
US6859328B2 (en) * | 1998-05-05 | 2005-02-22 | Carl Zeiss Semiconductor | Illumination system particularly for microlithography |
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DE10100265A1 (de) * | 2001-01-08 | 2002-07-11 | Zeiss Carl | Beleuchtungssystem mit Rasterelementen unterschiedlicher Größe |
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US7109497B2 (en) * | 1998-05-05 | 2006-09-19 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination system particularly for microlithography |
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JP2004061177A (ja) * | 2002-07-25 | 2004-02-26 | Canon Inc | 光学装置及び測定方法、半導体デバイスの製造方法 |
JP2004288803A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Nikon Corp | 照明光学系及び投影露光装置 |
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JP2005259949A (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Nikon Corp | ミラー及び照明光学装置 |
JP2006019476A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Nikon Corp | 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
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DE10045265A1 (de) * | 2000-09-13 | 2002-03-21 | Zeiss Carl | Vorrichtung zum Bündeln der Strahlung einer Lichtquelle |
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