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DE102006019372B4 - Arrangement of active elements and methods for testing an array of active elements - Google Patents

Arrangement of active elements and methods for testing an array of active elements Download PDF

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DE102006019372B4
DE102006019372B4 DE102006019372A DE102006019372A DE102006019372B4 DE 102006019372 B4 DE102006019372 B4 DE 102006019372B4 DE 102006019372 A DE102006019372 A DE 102006019372A DE 102006019372 A DE102006019372 A DE 102006019372A DE 102006019372 B4 DE102006019372 B4 DE 102006019372B4
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Chien-Chih Jen
Chun-Hung Tung
Fu-Yuan Shiau
Yuan-Hao Chang
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Chunghwa Picture Tubes Ltd
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Abstract

Eine Anordnung von aktiven Elementen, die folgendes umfasst: ein Substrat, das einen Anzeigebereich und einen Randbereich umfasst; eine Vielzahl von Abtastzeilen, die auf dem Substrat angeordnet sind; eine Vielzahl von Datenleitungen, die auf dem Substrat angeordnet sind, wobei die Datenleitungen und die Abtastzeilen eine Vielzahl von Pixelbereichen in dem Anzeigebereich und eine Vielzahl von Pixeltestbereichen in dem Randbereich umfassen; eine Vielzahl von Pixeleinheiten, die auf dem Substrat und in den Pixelbereichen angeordnet sind, die jeweils mit den Abtastzeilen und den Datenleitungen verbunden sind; eine Vielzahl von Testfeldern, die auf dem Substrat und in dem Randbereich angeordnet sind, wobei jedes der Testfelder in einem der Pixeltestbereiche angeordnet ist und mit einer der Datenleitungen verbunden ist; und eine Vielzahl von zweiten aktiven Elementen, die auf dem Substrat und in den Pixeltestbereichen angeordnet sind, wobei die zweiten aktiven Elemente immer eingeschaltet sind und in jedem der Pixeltestbereiche...An array of active elements comprising: a substrate including a display area and an edge area; a plurality of scan lines arranged on the substrate; a plurality of data lines disposed on the substrate, the data lines and scan lines including a plurality of pixel areas in the display area and a plurality of pixel test areas in the edge area; a plurality of pixel units disposed on the substrate and in the pixel areas connected to the scanning lines and the data lines, respectively; a plurality of test fields arranged on the substrate and in the edge region, each of the test fields being arranged in one of the pixel test regions and being connected to one of the data lines; and a plurality of second active elements disposed on the substrate and in the pixel test areas, the second active elements being always on and in each of the pixel test areas ...

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

Gebiet der ErfindungField of the invention

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Anordnung von aktiven Elementen. Insbesondere bezieht sich die vorliegende Erfindung auf eine Anordnung von aktiven Elementen und ein Verfahren für das Testen einer Anordnung von aktiven Elementen mit hoher Testgenauigkeit.The present invention relates to an arrangement of active elements. In particular, the present invention relates to an array of active elements and a method for testing an array of active elements with high accuracy of testing.

Beschreibung der zugehörigen TechnikDescription of the associated technique

Die Nachfrage nach Bildschirmen wird größer. Aus diesem Grund unternimmt die Industrie große Anstrengungen in deren Forschung und Entwicklung. Unter verschiedenen Bildschirmtypen nimmt der Flachbildschirm aufgrund seiner herausragenden Eigenschaften, wie etwa hohe Bildqualität, geringe Einbautiefe, niedriger Stromverbrauch und Strahlungsfreiheit die vorherrschende Rolle ein.The demand for screens is getting bigger. For this reason, the industry is making great efforts in their research and development. Among various screen types, the flat screen takes the predominant role due to its excellent characteristics such as high picture quality, low installation depth, low power consumption and freedom from radiation.

Derzeit schließen die Haupttypen von Flachbildschirmen Flüssigkristallbildschirme (LCD, liquid crystal display), organische Leuchtdiodenbildschirme (OELD, organic electro-luminescence display) und Plasmabildschirme (PDP, plasma display panel), etc. ein. Von den oben erwähnten werden der LCD-Bildschirm und der OELD-Bilschirm im Allgemeinen durch aktive Elemente gesteuert, um die Ansprechzeit von Bildschirmen zu verkürzen.Currently, the main types of flat panel displays include liquid crystal display (LCD), organic electro-luminescence display (OELD), and plasma display panel (PDP). Of the above, the LCD screen and the OELD screen are generally controlled by active elements to shorten the response time of screens.

Außerdem hat sich aufgrund der Forderung nach höherer Auflösung und geringerer Größe die Technologie des Einbauens und Integrierens von gesteuerten integrierten Schaltkreisen (IC, integrated circuits) in Bildschirmen allmählich von On-Board Chip (COB, chip an board) zu Tape Automated Bonding (TAB) und danach zu Chip an Glass (COG) entwickelt, wo feine Gräben zwischen den Anschlüssen von integrierten Schaltkreisen vorliegen.In addition, due to the demand for higher resolution and smaller size, the technology of incorporating and integrating in-circuit integrated circuits (ICs) in video screens has gradually changed from on-board chip (COB) to tape-automated bonding (TAB). and then to Chip on Glass (COG), where there are fine trenches between the pins of integrated circuits.

1 ist ein schematisches Diagramm, das einen Anzeigebildschirm zeigt, der von aktiven Elementen, die die herkömmliche COG-Technologie verwenden, gesteuert wird. Unter Bezugnahme auf 1 umfasst der von den aktiven Elementen gesteuerte Anzeigebildschirm 100 den Anzeigebereich 102 und den Randbereich 104. Der Anzeigebereich 102 umfasst eine Vielzahl von Abtastzeilen 112, eine Vielzahl von Datenleitungen 114 und eine Vielzahl von Pixeleinheiten 116, die mit den Abtastzeilen 112 und den Datenleitungen 114 verbunden sind. Der Randbereich 104 umfasst eine Vielzahl von Gate-Steuerungen 120 und eine Vielzahl von Datensteuerungen 130. Die Gate-Steuerungen 120 sind elektrisch mit den Abtastzeilen 112 verbunden, während die Datensteuerungen 130 elektrisch mit den Datenleitungen 114 verbunden sind. Anders gesagt werden die Abtastzeilen 112 und die Datenleitungen 114 jeweils von den Gate-Steuerungen 120 und den Datensteuerungen 130 gesteuert. 1 Fig. 10 is a schematic diagram showing a display screen controlled by active elements using the conventional COG technology. With reference to 1 includes the display screen controlled by the active elements 100 the display area 102 and the border area 104 , The display area 102 includes a plurality of scanning lines 112 , a variety of data lines 114 and a plurality of pixel units 116 that with the scan lines 112 and the data lines 114 are connected. The border area 104 includes a variety of gate controls 120 and a variety of data controls 130 , The gate controls 120 are electrical with the scan lines 112 connected while the data controls 130 electrically with the data lines 114 are connected. In other words, the scanning lines become 112 and the data lines 114 each from the gate controllers 120 and the data controllers 130 controlled.

Im Herstellungsverfahren des aktiven Flachbildschirms schließt sich an die Fertigstellung des Flachbildschirms 100 in 1 für gewöhnlich ein Schaltkreistest an, um zu überprüfen, ob während des Herstellungsverfahrens Fehler im Schaltkreis des Anzeigebildschirms 100 erzeugt wurden. 2 zeigt die herkömmliche Verteilung der Testfelder für das Testen des Anzeigebildschirms 100 in 1. Unter Bezugnahme auf 1 und 2 umfasst der Randbereich 104 des Anzeigebildschirms 100 außer den Gate-Steuerungen 120 und den Datensteuerungen 130 eine Vielzahl von Testfeldern 140 für das Testen des Schaltkreises. Die Testfelder 140 sind jeweils mit den empfangenden Feldern 132 der Datensteuerungen 130 (oder der Gate-Steuerungen 120) verbunden.In the manufacturing process of the active flat screen closes to the completion of the flat screen 100 in 1 usually a circuit test to check if any errors in the circuit of the display screen during the manufacturing process 100 were generated. 2 shows the conventional distribution of test fields for testing the display screen 100 in 1 , With reference to 1 and 2 includes the border area 104 of the display screen 100 except the gate controls 120 and the data controllers 130 a variety of test fields 140 for testing the circuit. The test fields 140 are each with the receiving fields 132 the data controllers 130 (or the gate controls 120 ) connected.

In dem oben erwähnten Schaltkreis-Test verwendet der Tester den Tastkopf 108, um Testsignale an die Testfelder 140 zu senden. Die Testsignale werden über die Testfelder 140 an den Anzeigebereich 102 geliefert, um die Pixeleinheiten 116 innerhalb des Anzeigebereichs 102 zu testen. Um Platz in Anzeigebildschirmen von mittlerer und kleiner Größe zu sparen, sind die empfangenden Felder 132 der Gate-Steuerungen 120 und der Datensteuerungen 130 auf dem Anzeigebildschirm in einer zwischen liegenden Weise angeordnet, wie in 2 gezeigt.In the above-mentioned circuit test, the tester uses the probe 108 to test signals to the test fields 140 to send. The test signals are transmitted via the test fields 140 to the display area 102 delivered to the pixel units 116 within the display area 102 to test. To save space in medium and small size display screens, the receiving fields are 132 the gate controls 120 and the data controllers 130 on the display screen in an intermediate manner, as in FIG 2 shown.

Des Weiteren werden die Größen von und die Abstände zwischen den Testfeldern 140 und den empfangenden Feldern 132 zunehmend kleiner, um die Auflösung von gängigen Anzeigebildschirmen von mittlerer und kleiner Größe zu erhöhen. Betrachtet man zum Beispiel einen 5,5-Zoll Anzeigebildschirm, dann beträgt der Bereich eines Testfeldes 140 ungefähr 36 Mikrometer mal 150 Mikrometer, und der Abstand d beträgt ungefähr 24 Mikrometer. Für Testfelder dieser Größe muss der in dem Test verwendete Tastkopf 108 kleiner und genauer sein. Solche Tastköpfe sind jedoch teuer und erhöhen die Kosten für das Testen des Anzeigebildschirms 100.Furthermore, the sizes of and the distances between the test fields become 140 and the receiving fields 132 progressively smaller to increase the resolution of popular medium and small size display screens. For example, considering a 5.5-inch display screen, the area of a test field is 140 about 36 microns by 150 microns, and the distance d is about 24 microns. For test fields of this size, the probe used in the test must be 108 be smaller and more accurate. However, such probes are expensive and increase the cost of testing the display screen 100 ,

Zudem wird sich die Genauigkeit des Testes zwangsläufig verschlechtern, da der Tastkopf 108 an falschen Stellen tasten kann und nebeneinander liegende Testsignale sich während des Schaltkreistests überlagern können, da der Abstand d zwischen den Testfeldern 140 geringer wird.In addition, the accuracy of the test will inevitably worsen, since the probe 108 can key in wrong places and adjacent test signals can overlap during the circuit test, since the distance d between the test fields 140 becomes smaller.

In der US 2004/0119917 A1 wird ein Gerät mit einem Flüssigkristallbildschirm beschrieben, der über ein Substrat mit einem Anzeige- und einem Randbereich, auf dem Substrat angeordneten Abtastzeilen, Datenleitungen und Testfeldern verfügt. Die erfindungsgemäße Art der Verbindung zwischen den Testfeldern und den Datenleitungen oder Abtastzeilen sowie der Vorteil der Verwendung von daueraktiven zweiten Elementen auf dem Substrat und in den Pixeltestbereichen wurde jedoch nicht erkannt.In the US 2004/0119917 A1 US 5,143,842 discloses a liquid crystal display device having a substrate with a display and a peripheral area, scan lines disposed on the substrate, data lines, and test pads. The However, the type of connection according to the invention between the test fields and the data lines or scan lines as well as the advantage of using permanently active second elements on the substrate and in the pixel test areas has not been recognized.

In der US 2003/01800975 A1 wird eine Anordnung von aktiven Elementen mit Pixeltestbereichen offenbart, bei denen die Testfelder in einem der Pixeltestbereiche angeordnet sind.In the US 2003/01800975 A1 An arrangement of active elements with pixel test areas is disclosed in which the test fields are arranged in one of the pixel test areas.

Aus der DE 103 17 628 A1 ist eine Anordnung aktiver Elemente in Form eines TFT-Array-Substrats bekannt, die über Testfelder im Randbereich des Substrats verfügt, wobei jedes der Testfelder mit einer der Datenleitungen oder Abtastleitungen verbunden ist.From the DE 103 17 628 A1 For example, an arrangement of active elements in the form of a TFT array substrate is known which has test fields in the edge region of the substrate, wherein each of the test fields is connected to one of the data lines or scan lines.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNGSUMMARY OF THE INVENTION

Dementsprechend richtet sich die vorliegende Erfindung auf eine Anordnung von aktiven Elementen, deren Testfelder dazu beitragen, die Schwierigkeit beim Schaltkreistest zu verringern und die Genauigkeit des Schaltkreistests zu erhöhen.Accordingly, the present invention is directed to an array of active elements whose test fields help to reduce the difficulty in the circuit test and to increase the accuracy of the circuit test.

Die vorliegende Erfindung richtet sich auch auf ein Verfahren für das Testen einer Anordnung von aktiven Elementen für das Verbessern der Genauigkeit des Schaltkreistests in Anordnungen von aktiven Elementen. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe gelöst durch die Gegenstände der unabhängigen Ansprüche.The present invention is also directed to a method for testing an array of active elements for improving the accuracy of the circuit test in active element arrays. According to the invention the object is achieved by the subject matters of the independent claims.

Gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird eine Anordnung von aktiven Elementen bereitgestellt. Die Anordnung umfasst ein Substrat, eine Vielzahl von Abtastzeilen, eine Vielzahl von Datenleitungen, eine Vielzahl von Pixeleinheiten und eine Vielzahl von Testfeldern. Das Substrat umfasst einen Anzeigebereich und einen Randbereich. Die Abtastzeilen und die Datenleitungen sind auf dem Substrat angeordnet und umfassen jeweils eine Vielzahl von Pixelbereichen und Pixeltestbereichen in dem Anzeigebereich und dem Randbereich. Die Pixeleinheiten sind in den Pixelbereichen angeordnet und sind jeweils mit den Abtastzeilen und den Datenleitungen verbunden. Schließlich sind die Testfelder in der Nähe der Abtastzeilen und/oder der Datenleitungen angeordnet und sind auf dem Substrat und in dem Randbereich angeordnet. Jedes Testfeld ist mit einer Datenleitung oder einer Abtastzeile verbunden.In accordance with one embodiment of the present invention, an array of active elements is provided. The arrangement comprises a substrate, a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, a plurality of pixel units and a plurality of test fields. The substrate comprises a display area and a peripheral area. The scanning lines and the data lines are arranged on the substrate and each include a plurality of pixel areas and pixel test areas in the display area and the peripheral area. The pixel units are arranged in the pixel areas and connected to the scanning lines and the data lines, respectively. Finally, the test fields are located near the scan lines and / or the data lines and are disposed on the substrate and in the edge region. Each test field is connected to a data line or a scan line.

In einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst jede Pixeleinheit ein erstes aktives Element und eine Pixelelektrode. Das erste aktive Element ist mit der entsprechenden Abtastzeile und der entsprechenden Datenleitung verbunden. Die Pixelelektrode ist zum Beispiel aus Indium-Zinn-Oxid (ITO, Indium Tin Oxide) oder Indium-Zink-Oxid (IZO, Indium Zinc Oxide) gebildet und ist mit dem ersten aktiven Element verbunden.In an embodiment of the present invention, each pixel unit comprises a first active element and a pixel electrode. The first active element is connected to the corresponding scan line and the corresponding data line. The pixel electrode is formed of, for example, Indium Tin Oxide (ITO) or Indium Zinc Oxide (IZO, Indium Zinc Oxide) and is connected to the first active element.

In einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist jedes der Testfelder in einem der Pixeltestbereiche angeordnet und mit der entsprechenden Datenleitung verbunden. Die Testfelder sind zum Beispiel aus Indium-Zinn-Oxid (ITO) oder Indium-Zink-Oxid (IZO) gebildet. Des Weiteren umfasst die Anordnung von aktiven Elementen in einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ferner eine Vielzahl von zweiten aktiven Elementen. Die zweiten aktiven Elemente werden auf dem Substrat und in den Pixeltestbereichen angeordnet. Die zweiten aktiven Elemente sind immer eingeschaltet und in jedem Pixeltestbereich ist das entsprechende Testfeld über das entsprechende zweite aktive Element mit der entsprechenden Datenleitung verbunden. Außerdem sind die zweiten aktiven Elemente zum Beispiel Dünnschichttransistoren und der Source-Anschluss und der Drain-Anschluss jedes Dünnschichttransistors sind miteinander verbunden.In one embodiment of the present invention, each of the test fields is located in one of the pixel test areas and connected to the corresponding data line. The test fields are formed, for example, from indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO). Furthermore, the arrangement of active elements in one embodiment of the present invention further comprises a plurality of second active elements. The second active elements are arranged on the substrate and in the pixel test areas. The second active elements are always switched on and in each pixel test area the corresponding test field is connected to the corresponding data line via the corresponding second active element. In addition, the second active elements are, for example, thin-film transistors, and the source and drain of each thin-film transistor are connected together.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren für das Testen einer Anordnung von aktiven Elementen bereitgestellt. Das Verfahren ist für das Testen einer Anordnung von aktiven Elementen geeignet. Die Anordnung von aktiven Elementen umfasst eine Vielzahl von Pixelstrukturen und eine Vielzahl von Pixelteststrukturen. Jede der Pixelstrukturen umfasst ein erstes aktives Element, während jede der Pixelteststrukturen ein zweites aktives Element umfasst. Die Pixelteststrukturen sind jeweils mit den Pixelstrukturen verbunden. Das Verfahren umfasst die Schritte des Einschaltens der ersten aktiven Elemente, des Einschaltens der zweiten aktiven Elemente und das Bereitstellen eines Testsignals für jede der Pixelteststrukturen, um die Testsignale über die Pixelteststrukturen an die Pixelstrukturen zu übertragen.In accordance with another embodiment of the present invention, a method for testing an array of active elements is provided. The method is suitable for testing an array of active elements. The array of active elements includes a plurality of pixel structures and a plurality of pixel test structures. Each of the pixel structures includes a first active element while each of the pixel test structures comprises a second active element. The pixel test structures are each connected to the pixel structures. The method includes the steps of turning on the first active elements, turning on the second active elements, and providing a test signal for each of the pixel test structures to transmit the test signals to the pixel structures via the pixel test structures.

In einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst jede Pixelteststruktur der Anordnung von aktiven Elementen ferner eine Pixeltestelektrode und der Schritt des Bereitstellens des Testsignals umfasst ferner das Bereitstellen der Testsignale für die Pixeltestelektroden. Die Testsignale werden von den Pixeltestelektroden über die zweiten aktiven Elemente an die Pixelstrukturen übertragen.In an embodiment of the present invention, each pixel test structure of the array of active elements further comprises a pixel test electrode, and the step of providing the test signal further comprises providing the test signals for the pixel test electrodes. The test signals are transmitted from the pixel test electrodes to the pixel structures via the second active elements.

Die Größen von und die Abstände zwischen den Testfeldern in den Anordnungen von aktiven Elementen gemäß der vorliegenden Erfindung sind groß genug, um die Schwierigkeit des Schaltkreistests von Anordnungen von aktiven Elementen zu verringern und dessen Genauigkeit zu verbessern. Außerdem ist es nicht mehr notwendig, viel Geld für teure Tastköpfe mit hoher Genauigkeit auszugeben.The sizes of and the distances between the test fields in the active element arrays according to the present invention are large enough to reduce the difficulty of the circuit test of active element arrays and to improve its accuracy. In addition, it is no longer necessary to spend a lot of money on expensive probes with high accuracy.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

Die begleitenden Zeichnungen sind eingeschlossen, um ein genaueres Verständnis der Erfindung bereitzustellen, und sind in diese Spezifikation inkorporiert und stellen einen Teil von ihr dar. Die Zeichnungen veranschaulichen Ausführungsformen der Erfindung und dienen, zusammen mit der Beschreibung dazu, die Prinzipien der Erfindung zu erläutern.The accompanying drawings are included to provide a more thorough understanding of the invention and are incorporated in and constitute a part of this specification. The drawings illustrate embodiments of the invention and, together with the description, serve to explain the principles of the invention.

1 ist ein schematisches Diagramm, das einen Anzeigebildschirm zeigt, der von aktiven Elementen, die die herkömmliche COG-Technologie verwenden, gesteuert wird. 1 Fig. 10 is a schematic diagram showing a display screen controlled by active elements using the conventional COG technology.

2 zeigt die herkömmliche Verteilung der Testfelder für das Testen des Anzeigebildschirms 100 in 1. 2 shows the conventional distribution of test fields for testing the display screen 100 in 1 ,

3 ist ein schematisches Diagramm, das einen Teil einer Anordnung von aktiven Elementen gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. 3 Fig. 10 is a schematic diagram showing a part of an arrangement of active elements according to the first embodiment of the present invention.

4 ist ein schematisches Diagramm, das einen Teil einer Anordnung von aktiven Elementen gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. 4 Fig. 10 is a schematic diagram showing a part of an arrangement of active elements according to the second embodiment of the present invention.

5 ist ein schematisches Diagramm, das einen Teil einer Anordnung von aktiven Elementen gemäß der dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. 5 Fig. 12 is a schematic diagram showing a part of an arrangement of active elements according to the third embodiment of the present invention.

6 ist ein schematisches Diagramm, das einen Teil einer allgemeinen Anordnung von aktiven Elementen zeigt. 6 Fig. 12 is a schematic diagram showing part of a general arrangement of active elements.

7 ist das Flussdiagramm eines Verfahrens für das Testen einer Anordnung von aktiven Elementen gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 7 FIG. 5 is the flow diagram of a method for testing an array of active elements according to one embodiment of the present invention. FIG.

BESCHREIBUNG DER AUSFÜHRUNGSFORMENDESCRIPTION OF THE EMBODIMENTS

Es wird nun detailliert Bezug genommen auf die vorliegenden bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung, von denen Beispiele in den begleitenden Zeichnungen veranschaulicht werden. Soweit möglich werden dieselben Bezugszeichen in den Zeichnungen sowie in der Beschreibung verwendet, wenn Bezug auf die gleichen oder ähnlichen Teile genommen wird.Reference will now be made in detail to the present preferred embodiments of the invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings. As far as possible, the same reference numbers are used in the drawings and in the description when reference is made to the same or similar parts.

Die vorliegende Erfindung verwendet Testpixel (Dummy-Pixel), die in allgemeinen Anordnungen von aktiven Elementen vorhanden sind, als Testfelder, um Testsignale zu übertragen, sodass verhindert wird, dass nebeneinander liegende Signale sich in dem Schaltkreistest gegenseitig überlagern. Es folgen nachstehend detaillierte Beschreibungen der Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung.The present invention uses test pixels (dummy pixels) present in general arrangements of active elements as test fields to transmit test signals so as to prevent adjacent signals from interfering with each other in the circuit test. The following are detailed descriptions of the embodiments of the present invention.

3 ist ein schematisches Diagramm, das einen Teil einer Anordnung von aktiven Elementen gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Unter Bezugnahme auf 3 umfasst die Anordnung 300 von aktiven Elementen das Substrat 302, eine Vielzahl von Abtastzeilen 312, eine Vielzahl von Datenleitungen 314, eine Vielzahl von Testfeldern 316 und eine Vielzahl von Pixeleinheiten 320. Das Substrat 302 ist in zwei Bereiche aufgeteilt, nämlich den Anzeigebereich 304 und den Randbereich 306. Die Abtastzeilen 312 und die Datenleitungen 314 sind auf dem Substrat 302 angeordnet und umfassen eine Vielzahl von Pixelbereichen 305 in dem Anzeigebereich 304. Außerdem umfassen die Abtastzeilen 312 und die Datenleitungen 314 eine Vielzahl von Pixeltestbereichen 307 in dem Randbereich 306. 3 Fig. 10 is a schematic diagram showing a part of an arrangement of active elements according to the first embodiment of the present invention. With reference to 3 includes the arrangement 300 of active elements the substrate 302 , a variety of scanning lines 312 , a variety of data lines 314 , a variety of test fields 316 and a plurality of pixel units 320 , The substrate 302 is divided into two areas, namely the display area 304 and the border area 306 , The scan lines 312 and the data lines 314 are on the substrate 302 arranged and comprise a plurality of pixel areas 305 in the display area 304 , In addition, the scan lines include 312 and the data lines 314 a variety of pixel test areas 307 in the border area 306 ,

Außerdem ist jede der Pixeleinheiten 320 in einem einzelnen Pixelbereich 305 angeordnet und eine Pixeleinheit 320 umfasst ein erstes aktives Element 322 und eine Pixelelektrode 324. Die Pixelelektrode 324 ist mit dem ersten aktiven Element 322 verbunden, und das erste aktive Element 322 ist mit einer Abtastzeile 312 und einer Datenleitung 314 verbunden. Das erste aktive Element 322 steuert die Pixelelektrode 324 als Reaktion auf Signale, die von der Abtastzeile 312 und der Datenleitung 314 empfangen werden. In einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist das erste aktive Element 322 zum Beispiel ein Dünnschichttransistor, und die Pixelelektrode 324 ist zum Beispiel aus Indium-Zinn-Oxid (ITO) oder Indium-Zink-Oxid (IZO) gebildet.In addition, each of the pixel units 320 in a single pixel area 305 arranged and a pixel unit 320 includes a first active element 322 and a pixel electrode 324 , The pixel electrode 324 is with the first active element 322 connected, and the first active element 322 is with a scan line 312 and a data line 314 connected. The first active element 322 controls the pixel electrode 324 in response to signals coming from the scan line 312 and the data line 314 be received. In one embodiment of the present invention, the first active element is 322 for example, a thin film transistor, and the pixel electrode 324 is formed, for example, from indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

Unter Bezugnahme auf 3 haben die Testfelder 316 in dieser Ausführungsform dieselbe Breite w wie die Pixelelektroden 324. Außerdem kann, da die transparenten Elektroden 326 in den Pixeltestbereichen 307 auch mit den Datenleitungen 314 verbunden sind, der Tastkopf (nicht gezeigt) während des Tests Testsignale an die Testfelder 316 oder die transparenten Elektroden 326 liefern, so dass die Testsignale über die Datenleitungen 314 an die Pixeleinheiten 320 übertragen werden. Anders gesagt können die transparenten Elektroden 326 als Teil der Testfelder 316 betrachtet werden. In einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beträgt die Breite w eines Testfeldes 316 zum Beispiel 63 Mikrometer und die Gesamtlänge L eines Testfeldes 316 zusammen mit einer transparenten Elektrode 326 beträgt zum Beispiel 508 Mikrometer. Deshalb ist die Größe eines Testfeldes 316 ausreichend, so dass verhindert wird, dass der Tastkopf während des Schaltkreistests an falschen Stellen tastet.With reference to 3 have the test fields 316 in this embodiment, the same width w as the pixel electrodes 324 , In addition, because the transparent electrodes 326 in the pixel test areas 307 also with the data lines 314 During the test, the probe (not shown) connects test signals to the test fields 316 or the transparent electrodes 326 supply, allowing the test signals over the data lines 314 to the pixel units 320 be transmitted. In other words, the transparent electrodes 326 as part of the test fields 316 to be viewed as. In one embodiment of the present invention, the width w of a test field is 316 for example 63 microns and the total length L of a test field 316 together with a transparent electrode 326 is for example 508 microns. That is why the size of a test field 316 enough so that the probe is prevented from feeling in wrong places during the circuit test.

In dieser Ausführungsform sind die Testfelder 316 mit den Datenleitungen 314 verbunden. So können Testsignale über die Abtastzeilen 312 oder die Datenleitungen 314 an die Pixeleinheiten 320 übertragen werden. Deshalb wird die vorliegende Erfindung nicht dadurch beschränkt, ob die Testfelder für das Übertragen des Testsignals mit den Datenleitungen 314 oder den Abtastzeilen 312 verbunden sind. In this embodiment, the test fields are 316 with the data lines 314 connected. So can test signals over the scan lines 312 or the data lines 314 to the pixel units 320 be transmitted. Therefore, the present invention is not limited by whether the test fields for transmitting the test signal with the data lines 314 or the scan lines 312 are connected.

4 ist ein schematisches Diagramm, das einen Teil einer Anordnung von aktiven Elementen gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Unter Bezugnahme auf 4 sind in dieser Ausführungsform die Testfelder 416 mit den Abtastzeilen 312 verbunden. Die Pixelbereiche 305 umfassen zum Beispiel die Speicherkondensatoren Cs. Die Testfelder 416 sind zum Beispiel zwischen den mit den Speicherkondensatoren Cs verbundenen Bus-Elektroden 350 angeordnet. Insbesondere kann bei dieser Anordnung der Abstand D zwischen nebeneinander liegenden Testfeldern 416 zum Beispiel auf 242 Mikrometer vergrößert werden, um die Schwierigkeiten beim Testen der Anordnung 400 von aktiven Elementen zu verringern und die Genauigkeit zu erhöhen. Außerdem beträgt die Länge L eines Testfelds 416 zum Beispiel 275 Mikrometer und die Breite w eines Testfeldes 416 zum Beispiel 50 Mikrometer. Selbstverständlich ist die Größe der Testfelder 416 ausreichend, um zu verhindern, dass der Tastkopf (nicht gezeigt) während des Testens der Anordnung 400 von aktiven Elementen an falschen Stellen tastet. 4 Fig. 10 is a schematic diagram showing a part of an arrangement of active elements according to the second embodiment of the present invention. With reference to 4 are the test fields in this embodiment 416 with the scan lines 312 connected. The pixel areas 305 For example, the storage capacitors Cs. The test fields 416 are, for example, between the bus electrodes connected to the storage capacitors Cs 350 arranged. In particular, in this arrangement, the distance D between adjacent test fields 416 For example, to be increased to 242 microns, the difficulty in testing the arrangement 400 of active elements and increase the accuracy. In addition, the length L of a test field 416 for example, 275 microns and the width w of a test field 416 for example, 50 microns. Of course, the size of the test fields 416 sufficient to prevent the probe (not shown) from testing the assembly 400 from active elements in wrong places.

Außerdem kann die vorliegende Erfindung Elektroden, die in den Pixeltestbereichen angeordnet sind, direkt als Testfelder verwenden und erreicht damit Vorteile ähnlich wie die der oben erwähnten Ausführungsformen. Dies wird unter Bezug auf die folgende Ausführungsform erläutert.In addition, the present invention can directly use electrodes arranged in the pixel test areas as test fields and thus achieves advantages similar to those of the above-mentioned embodiments. This will be explained with reference to the following embodiment.

5 ist ein schematisches Diagramm, das einen Teil einer Anordnung von aktiven Elementen gemäß der dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Es gilt zu beachten, dass die Hauptbauteile der Anordnung 500 von aktiven Elementen in 5 im Wesentlichen dieselben sind wie die Hauptbestandteile der Anordnung 300 von aktiven Elementen in 3. Aus diesem Grund werden nachfolgend lediglich die Unterschiede zwischen der Anordnung 500 von aktiven Elementen und der Anordnung 300 von aktiven Elementen erläutert. 5 Fig. 12 is a schematic diagram showing a part of an arrangement of active elements according to the third embodiment of the present invention. It should be noted that the main components of the arrangement 500 of active elements in 5 essentially the same as the main components of the arrangement 300 of active elements in 3 , For this reason, only the differences between the arrangement will be described below 500 of active elements and the arrangement 300 of active elements.

Unter Bezugnahme auf 5 werden die Testfelder 516 auf dem Substrat 302 angeordnet. Jedes der Testfelder 516 ist in einem einzelnen Pixeltestbereich 307 angeordnet und ist mit einer entsprechenden Datenleitung 314 verbunden. Es gilt zu beachten, dass in einer bevorzugten Ausführungsform die Testfelder zum Beispiel transparente Elektroden sind, die in demselben Schritt des Herstellungsverfahrens hergestellt werden wie die Pixelelektroden 324. Anders gesagt sind die Testfelder 516 zum Beispiel aus demselben Material gebildet wie die Pixelelektroden 324, nämlich ITO oder IZO.With reference to 5 become the test fields 516 on the substrate 302 arranged. Each of the test fields 516 is in a single pixel test area 307 arranged and is connected to a corresponding data line 314 connected. It should be noted that in a preferred embodiment, the test fields are, for example, transparent electrodes made in the same step of the manufacturing process as the pixel electrodes 324 , In other words, the test fields 516 for example, formed of the same material as the pixel electrodes 324 namely ITO or IZO.

Insbesondere umfasst die Anordnung 500 von aktiven Elementen in dieser Ausführungsform zum Beispiel eine Vielzahl von zweiten aktiven Elementen 318, die immer eingeschaltet sind. Die zweiten aktiven Elemente 318 sind zum Beispiel Dünnschichttransistoren, und der Source-Anschluss und der Drain-Anschluss von jedem der Dünnschichttransistoren sind miteinander verbunden. Jedes der zweiten aktiven Elemente 318 ist in einem Pixeltestbereich 307 angeordnet und das Testfeld 516 in jedem Pixeltestbereich 307 ist mit den Datenleitungen 314 über ein zweites aktives Element 318 verbunden.In particular, the arrangement comprises 500 of active elements in this embodiment, for example, a plurality of second active elements 318 that are always on. The second active elements 318 For example, thin film transistors are used, and the source and drain of each of the thin film transistors are connected together. Each of the second active elements 318 is in a pixel test area 307 arranged and the test field 516 in every pixel test area 307 is with the data lines 314 via a second active element 318 connected.

Wiederum unter Bezugnahme auf 5 werden in dem Test der Anordnung 500 von aktiven Elementen die Testsignale, nachdem der Tester über den Tastfühler (nicht gezeigt) diese an die Testfelder 516 geliefert hat, über die mit den Testfeldern 516 verbundenen Datenleitungen 324 übertragen, um jede der Pixeleinheiten 320 zu testen. In dieser Ausführungsform wird die Größe eines Testfeldes 516 entsprechend der Größe eines Pixeltestbereiches 307 bestimmt, und die Größe eines Pixeltestbereiches 307 ist im Allgemeinen dieselbe wie die des Pixelbereiches 305. Deshalb ist die Größe der Testfelder 516 ausreichend um zu verhindern, dass der Tastkopf während des Schaltkreistests an falschen Stellen tastet.Again with reference to 5 be in the test of the arrangement 500 of active elements, the test signals after the tester via the feeler (not shown) to the test fields 516 has delivered over those with the test fields 516 connected data lines 324 transferred to each of the pixel units 320 to test. In this embodiment, the size of a test field becomes 516 according to the size of a pixel test area 307 determined, and the size of a pixel test area 307 is generally the same as that of the pixel area 305 , That's why the size of the test fields 516 enough to prevent the probe from feeling in wrong places during the circuit test.

In dieser Ausführungsform sind die zweiten aktiven Elemente 318 in den Pixeltestbereichen 307 der Anordnung 500 immer eingeschaltet, so dass die Elektroden in den Pixeltestbereichen 307 als die Testfelder 516 verwendet werden können, so dass in der Anordnung 500 von aktiven Elementen Einbauraum gespart wird. Außerdem können die Testfelder 516 in demselben Schritt des Herstellungsverfahrens hergestellt werden wie die Pixelelektroden 324. Deshalb kann der Herstellungspreis der Anordnung 500 von aktiven Elementen niedriger sein als der des Standes der Technik, da der Schritt des Herstellens der Testfelder nicht notwendig ist.In this embodiment, the second active elements are 318 in the pixel test areas 307 the arrangement 500 always turned on, leaving the electrodes in the pixel test areas 307 as the test fields 516 can be used, so that in the arrangement 500 is saved by active elements installation space. In addition, the test fields 516 in the same step of the manufacturing process as the pixel electrodes 324 , Therefore, the manufacturing price of the arrangement 500 of active elements may be lower than that of the prior art, since the step of producing the test fields is not necessary.

Auch wenn jedoch die zweiten aktiven Elemente 318 in den Pixeltestbereichen 307 dieselben herkömmlichen aktiven Elemente wie die ersten aktiven Elemente 322 in dem Pixelbereich 305 sind, kann die vorliegende Erfindung immer noch die transparenten, in den Pixeltestbereichen 307 angeordneten Elektroden direkt als die Testfelder 516 verwenden, um Testsignale an die Pixeleinheiten 320 in dem Anzeigebereich 304 zu liefern. Dies wird unter Bezugnahme auf die folgende Ausführungsform erläutert.Although, however, the second active elements 318 in the pixel test areas 307 the same conventional active elements as the first active elements 322 in the pixel area 305 However, the present invention may still be the transparent ones in the pixel test areas 307 arranged electrodes directly as the test fields 516 use to send test signals to the pixel units 320 in the display area 304 to deliver. This will be explained with reference to the following embodiment.

6 ist ein schematisches Diagramm, das einen Teil einer allgemeinen Anordnung von aktiven Elementen zeigt. 7 ist das Flussdiagramm eines Verfahrens für das Testen einer Anordnung von aktiven Elementen gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Zunächst weist unter Bezugnahme auf 6 die Anordnung 600 von aktiven Elementen eine Vielzahl von Pixelstrukturen 610 auf, die in dem Anzeigebereich 602 angeordnet sind, sowie eine Vielzahl von Pixelteststrukturen 620, die in dem Randbereich 604 angeordnet sind. Die Pixelstrukturen 610 teilen sich die Abtastzeilen 606 und die Datenleitungen 608 mit den Pixelteststrukturen 620. Anders gesagt sind die Pixelteststrukturen 620 jeweils über die Abtastzeilen 606 oder die Datenleitungen 608 mit den Pixelstrukturen 610 verbunden. Außerdem umfassen die Pixelstrukturen 610 ferner die ersten aktiven Elemente 612 und die Pixelelektroden 614. Die ersten aktiven Elemente 612 sind mit den Abtastzeilen 606 und den Datenleitungen 608 verbunden und die Pixelelektroden 614 sind mit den ersten aktiven Elementen 612 verbunden. In ähnlicher Weise umfassen die Pixelteststrukturen 620 ferner die zweiten aktiven Elemente 622 und die Pixeltestelektroden 624. Die zweiten aktiven Elemente 622 sind mit den Abtastzeilen 606 und den Datenleitungen 608 verbunden und die Pixeltestelektroden 624 sind mit den zweiten aktiven Elementen 622 verbunden. 6 Fig. 12 is a schematic diagram showing part of a general arrangement of active elements. 7 FIG. 5 is the flow diagram of a method for testing an array of active elements according to one embodiment of the present invention. FIG. First of all, with reference to 6 the order 600 of active elements a variety of pixel structures 610 in the display area 602 and a plurality of pixel test structures 620 in the edge area 604 are arranged. The pixel structures 610 divide the scan lines 606 and the data lines 608 with the pixel test structures 620 , In other words, the pixel test structures are 620 each over the scan lines 606 or the data lines 608 with the pixel structures 610 connected. In addition, the pixel structures include 610 furthermore, the first active elements 612 and the pixel electrodes 614 , The first active elements 612 are with the scan lines 606 and the data lines 608 connected and the pixel electrodes 614 are with the first active elements 612 connected. Similarly, the pixel test structures include 620 furthermore, the second active elements 622 and the pixel test electrodes 624 , The second active elements 622 are with the scan lines 606 and the data lines 608 connected and the pixel test electrodes 624 are with the second active elements 622 connected.

Unter Bezugnahme auf 6 und 7 werden in dem Test der Anordnung 600 von aktiven Elementen die ersten aktiven Elemente 612 zuerst eingeschaltet, wie in Schritt S700 beschrieben. Die ersten aktiven Elemente 612 werden zum Beispiel dadurch eingeschaltet, dass Signale an die Abtastzeilen 606 geliefert werden, die mit den ersten aktiven Elementen 612 verbunden sind. Darauf folgt Schritt S702, in dem die zweiten aktiven Elemente 622 eingeschaltet werden. In ähnlicher Weise werden die zweiten aktiven Elemente 622 dadurch eingeschaltet, dass Signale an die mit den zweiten aktiven Elementen 622 verbundenen Abtastzeilen 606 geliefert werden.With reference to 6 and 7 be in the test of the arrangement 600 of active elements the first active elements 612 first turned on, as described in step S700. The first active elements 612 For example, these are turned on by sending signals to the scan lines 606 delivered with the first active elements 612 are connected. This is followed by step S702, in which the second active elements 622 be turned on. Similarly, the second active elements become 622 This turns on signals to those with the second active elements 622 connected scan lines 606 to be delivered.

Schließlich werden in Schritt S704 Testsignale an jede der Pixelteststrukturen 620 geliefert, um die Testsignale über die Pixelteststrukturen 620 an die Pixelstrukturen 610 zu übertragen, um die Pixelstrukturen 610 zu testen. Hier werden die Testsignale zum Beispiel durch Eingabe der Testsignale an die Pixeltestelektroden 624 bereitgestellt. In einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung werden die Testsignale zum Beispiel durch Tastköpfe (nicht gezeigt) an die Pixeltestelektroden 624 geliefert. Zu diesem Zeitpunkt sind die zweiten aktiven Elemente 622 bereits eingeschaltet, die Testsignale werden über die Pixeltestelektroden 624 an die Datenleitungen 608 übertragen und dann über die Datenleitungen 608 an die Pixelelektroden 614 jeder Pixelstruktur 610 übertragen, um die Funktionen der Pixelstrukturen 610 zu testen.Finally, in step S704, test signals are sent to each of the pixel test structures 620 delivered to the test signals via the pixel test structures 620 to the pixel structures 610 to transfer to the pixel structures 610 to test. Here, the test signals become, for example, by inputting the test signals to the pixel test electrodes 624 provided. For example, in one embodiment of the present invention, the test signals are applied to the pixel test electrodes by probes (not shown) 624 delivered. At this time, the second active elements are 622 already switched on, the test signals are transmitted via the pixel test electrodes 624 to the data lines 608 transmitted and then over the data lines 608 to the pixel electrodes 614 every pixel structure 610 transferred to the functions of the pixel structures 610 to test.

Im Hinblick auf das Vorangehende verwendet diese Ausführungsform die Pixeltestelektroden 624 in den Pixelteststrukturen 620 direkt als Testfelder, um die Pixelstrukturen 610 zu testen. Anders gesagt benötigt die Anordnung 600 von aktiven Elementen keine zusätzlichen Testfelder, um Testsignale zu empfangen. Diese Eigenschaft spart nicht nur den Einbauraum der Anordnung 600 von aktiven Elementen, sondern sie spart auch Herstellungskosten.In view of the foregoing, this embodiment uses the pixel test electrodes 624 in the pixel test structures 620 directly as test fields to the pixel structures 610 to test. In other words, the arrangement requires 600 no additional test fields from active elements to receive test signals. This feature not only saves the installation space of the arrangement 600 of active elements, but it also saves manufacturing costs.

Insgesamt lässt sich sagen, dass die Größen der Testfelder in den Anordnungen von aktiven Vorrichtungen gemäß der vorliegenden Erfindung ausreichend sind, um es Testern zu ermöglichen, die Tastköpfe während des Schaltkreistests in einfacher Weise auf den richtigen Testfeldern zu platzieren. Anders gesagt trägt die vorliegende Erfindung dazu bei, die Schwierigkeiten des Schaltkreistests von Anordnungen von aktiven Elementen zu verringern. Außerdem ist es nicht mehr notwendig, viel Geld für teure Tastköpfe mit hoher Genauigkeit auszugeben.Overall, the sizes of the test pads in the active device arrays of the present invention are sufficient to allow testers to easily place the probes on the proper test pads during the circuit test. In other words, the present invention helps reduce the difficulties of the circuit test of active element arrays. In addition, it is no longer necessary to spend a lot of money on expensive probes with high accuracy.

Außerdem sind die Abstände zwischen den Testfeldern der Anordnungen von aktiven Elementen gemäß der vorliegenden Erfindung ebenfalls ausreichend, um zu verhindern, dass Testsignale auf nebeneinander liegenden Testfeldern sich während des Schaltkreistests gegenseitig überlagern. Aus diesem Grund ist es möglich, Testergebnisse mit hoher Genauigkeit von den Anordnungen von aktiven Elementen gemäß der vorliegenden Erfindung zu erhalten.In addition, the distances between the test fields of the active element arrays according to the present invention are also sufficient to prevent test signals on adjacent test arrays from interfering with each other during the circuit test. For this reason, it is possible to obtain test results with high accuracy from the arrangements of active elements according to the present invention.

Des Weiteren spart das Verfahren für das Testen einer Anordnung von aktiven Geräten gemäß der vorliegenden Erfindung nicht nur den Einbauraum von Testfeldern auf herkömmlichen Anzeigebildschirmen, sondern es wird auch ein Schritt in der Herstellung der Testfelder eingespart, so dass der Herstellungspreis für Anordnungen von aktiven Elementen verringert wird.Further, the method for testing an array of active devices according to the present invention not only saves the installation space of test panels on conventional display screens, but also saves a step in the manufacture of the test panels, thereby reducing the manufacturing cost of active element arrays becomes.

Claims (7)

Eine Anordnung von aktiven Elementen, die folgendes umfasst: ein Substrat, das einen Anzeigebereich und einen Randbereich umfasst; eine Vielzahl von Abtastzeilen, die auf dem Substrat angeordnet sind; eine Vielzahl von Datenleitungen, die auf dem Substrat angeordnet sind, wobei die Datenleitungen und die Abtastzeilen eine Vielzahl von Pixelbereichen in dem Anzeigebereich und eine Vielzahl von Pixeltestbereichen in dem Randbereich umfassen; eine Vielzahl von Pixeleinheiten, die auf dem Substrat und in den Pixelbereichen angeordnet sind, die jeweils mit den Abtastzeilen und den Datenleitungen verbunden sind; eine Vielzahl von Testfeldern, die auf dem Substrat und in dem Randbereich angeordnet sind, wobei jedes der Testfelder in einem der Pixeltestbereiche angeordnet ist und mit einer der Datenleitungen verbunden ist; und eine Vielzahl von zweiten aktiven Elementen, die auf dem Substrat und in den Pixeltestbereichen angeordnet sind, wobei die zweiten aktiven Elemente immer eingeschaltet sind und in jedem der Pixeltestbereiche das entsprechende Testfeld über das entsprechende zweite aktive Element mit der entsprechenden Datenleitung verbunden ist.An array of active elements, comprising: a substrate comprising a display area and a peripheral area; a plurality of scanning lines arranged on the substrate; a plurality of data lines disposed on the substrate, the data lines and the scan lines including a plurality of pixel areas in the display area and a plurality of pixel test areas in the edge area; a plurality of pixel units disposed on the substrate and in the pixel areas, the each connected to the scanning lines and the data lines; a plurality of test pads disposed on the substrate and in the edge region, each of the test pads disposed in one of the pixel test areas and connected to one of the data lines; and a plurality of second active elements disposed on the substrate and in the pixel test areas, wherein the second active elements are always turned on and in each of the pixel test areas the corresponding test field is connected to the corresponding data line via the corresponding second active element. Die Anordnung von aktiven Elementen von Anspruch 1, wobei jede der Pixeleinheiten folgendes umfasst: ein erstes aktives Element, das mit der entsprechenden Abtastzeile und der entsprechenden Datenleitung verbunden ist; und eine Pixelelektrode, die mit dem ersten aktiven Element verbunden ist.The array of active elements of claim 1, wherein each of the pixel units comprises: a first active element connected to the corresponding scan line and the corresponding data line; and a pixel electrode connected to the first active element. Die Anordnung von aktiven Elementen gemäß Anspruch 2, wobei die Pixelelektroden aus Indium-Zinn-Oxid (ITO) oder Indium-Zink-Oxid (IZO) gebildet sind.The array of active elements according to claim 2, wherein the pixel electrodes are formed of indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO). Die Anordnung von aktiven Elementen gemäß Anspruch 1, wobei die ersten Testfelder aus Indium-Zinn-Oxid (ITO) oder Indium-Zink-Oxid (IZO) gebildet sind.The array of active elements according to claim 1, wherein the first test fields are formed of indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO). Die Anordnung von aktiven Elementen gemäß Anspruch 1, wobei die zweiten aktiven Elemente Dünnschichttransistoren sind und der Source-Anschluss und der Drain-Anschluss jedes Dünnschichttransistors miteinander verbunden sind.The array of active elements according to claim 1, wherein the second active elements are thin film transistors and the source and drain of each thin film transistor are interconnected. Ein Verfahren für das Testen einer Anordnung von aktiven Elementen, die für das Testen einer Anordnung von aktiven Elementen geeignet ist, wobei die Anordnung von aktiven Elementen eine Vielzahl von Pixelstrukturen und eine Vielzahl von Pixelteststrukturen umfasst und jede der Pixelstrukturen ein erstes aktives Element umfasst und jede der Pixelteststrukturen ein zweites aktives Element umfasst und die Pixelteststrukturen mit den Pixelstrukturen verbunden sind und das Verfahren folgendes umfasst: Einschalten der ersten aktiven Elemente; Einschalten der zweiten aktiven Elemente; und Bereitstellen eines Testsignals für jede der Pixelteststrukturen, um die Testsignale an die Pixelstrukturen zu übertragen.A method of testing an array of active elements suitable for testing an array of active elements, the array of active elements comprising a plurality of pixel structures and a plurality of pixel test structures, and each of the pixel structures comprises a first active element and each the pixel test structures comprises a second active element and the pixel test structures are connected to the pixel structures and the method comprises: Switching on the first active elements; Switching on the second active elements; and Providing a test signal for each of the pixel test structures to transmit the test signals to the pixel structures. Das Verfahren für das Testen einer Anordnung von aktiven Elementen gemäß Anspruch 6, wobei jede Pixelteststruktur der Anordnung von aktiven Elementen ferner eine Pixeltestelektrode umfasst, und der Schritt des Bereitstellens der Testsignale ferner folgendes umfasst: Bereitstellen der Testsignale für die Pixeltestelektroden, um die Testsignale über die Pixeltestelektroden an die Pixelstrukturen zu übertragen.The method for testing an array of active elements according to claim 6, wherein each pixel test structure of the array of active elements further comprises a pixel test electrode, and the step of providing the test signals further comprises: Providing the test signals for the pixel test electrodes to transmit the test signals to the pixel structures via the pixel test electrodes.
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