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DE10164822B4 - Delay circuit for electronic device testing apparatus, generates desired time delay by changing junction capacitance of FET through which shaped signal passes - Google Patents

Delay circuit for electronic device testing apparatus, generates desired time delay by changing junction capacitance of FET through which shaped signal passes Download PDF

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DE10164822B4
DE10164822B4 DE10164822A DE10164822A DE10164822B4 DE 10164822 B4 DE10164822 B4 DE 10164822B4 DE 10164822 A DE10164822 A DE 10164822A DE 10164822 A DE10164822 A DE 10164822A DE 10164822 B4 DE10164822 B4 DE 10164822B4
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DE
Germany
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signal
voltage
gate electrode
delay circuit
electronic device
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Toshiyuki Okayasu
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Advantest Corp
Original Assignee
Advantest Corp
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Abstract

The source and drain of a FET are connected to a path through which the shaped signal transmits. The shaped signal is delayed by a desired time by controlling a capacitance between source and drain, by applying desired voltage to the gate electrode. Independent claims are also included for the following: (a) Testing apparatus; (b) A capacitor.

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Prüfvorrichtung mit einer Verzögerungsschaltung, welche eine gewünschte Verzögerungszeit erzeugt.The The present invention relates to a test apparatus with a delay circuit, which a desired Delay Time generated.

Entsprechende Prüfvorrichtungen nach dem Stand der Technik sind beispielswise in den Druckschriften DE 4436494 A1 und US 4,497,056 beschrieben.Corresponding test devices according to the prior art are beispielswise in the publications DE 4436494 A1 and US 4,497,056 described.

1 zeigt eine herkömmliche Verzögerungsschaltung 300. Die herkömmliche Verzögerungsschaltung 300 hat einen ersten Puffer 302, welcher die Wellenform eines Eingangssignals formt und dann das erhaltene geformte Signal ausgibt, einen Pfad 306, über welchen das Ausgangssignal übertragen wird, einen ersten Kondensator 312, welcher die Kapazität C zu dem Pfad 306 hinzufügt, einen zweiten Kondensator 314, welcher die Kapazität C' zu dem Pfad 306 hinzufügt, eine erste Schaltvorrichtung 308, welche den Pfad 306 und den ersten Kondensator 312 elektrisch verbindet oder trennt, eine zweite Schaltvorrichtung 310, welche den Pfad 306 und den zweiten Kondensator 314 elektrisch verbindet oder trennt, und einen zweiten Puffer 304, welcher die Wellenform des Signals formt, das über den Pfad 306 übertragen wurde, und das erhaltene geformte Signal ausgibt. Eine in der Zeichnung nicht gezeigte Steuereinheit steuert die Schaltvorrichtungen 308 und 310, um die zu dem Pfad 306 hinzugefügte Kapazität zu verändern. Auf diese Weise verzögert die in der Zeichnung nicht gezeigte Steuereinheit das über den Pfad 306 übertragene Signal um eine gewünschte Zeitdauer. 1 shows a conventional delay circuit 300 , The conventional delay circuit 300 has a first buffer 302 which shapes the waveform of an input signal and then outputs the obtained shaped signal, a path 306 , via which the output signal is transmitted, a first capacitor 312 which assigns the capacity C to the path 306 adds a second capacitor 314 which gives the capacitance C 'to the path 306 adds, a first switching device 308 which the path 306 and the first capacitor 312 electrically connects or disconnects, a second switching device 310 which the path 306 and the second capacitor 314 electrically connects or disconnects, and a second buffer 304 which shapes the waveform of the signal that passes over the path 306 was transferred, and outputs the resulting shaped signal. A control unit not shown in the drawing controls the switching devices 308 and 310 to the to the path 306 to add added capacity. In this way, the control unit not shown in the drawing delays this over the path 306 transmitted signal for a desired period of time.

Die herkömmliche Verzögerungsschaltung 300 erzielt eine feine Verzögerungsauflösung durch selektives Hinzufügen entweder der Kapazität C oder der Kapazität C', welche sich geringfügig von der Kapazität C unterscheidet. Jedoch unterscheidet sich bei der herkömmlichen Verzögerungsschaltung 300 die Kanalkapazität der ersten Schaltvorrichtung 308 von der der zweiten Schaltvorrichtung 310, und die Drahtkapazität des Drahtes, welcher den ersten Kondensator 312 mit dem Pfad 306 verbindet, unterscheidet von der Drahtkapazität des Drahtes, welcher den zweiten Kondensator 314 mit dem Pfad 306 verbindet. Die Kapazitätsunterschiede beeinflussen die zu dem Pfad 306 hinzugefügte Kapazität. Als eine Folge ist es sehr schwierig, die gewünschte feine Auflösung der Verzögerung, die durch Verwendung des geringen Unterschieds zwischen der Kapazität C und der Kapazität C' erhalten werden soll, zu erzielen.The conventional delay circuit 300 achieves a fine delay resolution by selectively adding either the capacitance C or the capacitance C ', which differs slightly from the capacitance C. However, the conventional delay circuit differs 300 the channel capacity of the first switching device 308 from the second switching device 310 , and the wire capacity of the wire, which is the first capacitor 312 with the path 306 connects, different from the wire capacity of the wire, which the second capacitor 314 with the path 306 combines. The capacity differences affect those to the path 306 added capacity. As a result, it is very difficult to achieve the desired fine resolution of the delay to be obtained by using the small difference between the capacitance C and the capacitance C '.

Die Druckschriften EP 0539831 A2 und DE 69308978 T2 zeigen vergleichbare Verzögerungsschaltungen nach dem Stand der Technik, bei denen Feldeffekttransistoren als zusätzliche Kapazitäten verwendet werden, für die ansonsten aber das zuvor Gesagte gilt.The pamphlets EP 0539831 A2 and DE 69308978 T2 show comparable delay circuits according to the prior art, in which field effect transistors are used as additional capacities, for which, however, otherwise applies the above.

Es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Prüfvorrichtung zu schaffen, welche das vorbeschriebene Problem überwindet. Diese Aufgabe wird gelöst durch in dem unabhängigen Anspruch beschriebene Kombination. Der abhängige Anspruch definiert eine vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung.It It is therefore an object of the present invention to provide a testing device to create, which overcomes the problem described above. This task will solved through in the independent Claim described combination. The dependent claim defines a advantageous embodiment of the invention.

Gemäß der vorliegenden Erfindung ist eine Prüfvorrichtung vorgesehen, welche ein Prüfsignal zu einer elektronischen Vorrichtung liefert und die elektronische Vorrichtung prüft. Die Prüfvorrichtung besitzt eine Mustererzeugungseinheit, welche ein Muster erzeugt, dass dem Prüfsignal entspricht, eine Wellenform-Formungseinheit mit einer Verzögerungsschaltung zum Erzeugen eines verzögerten Signals, das der Operationscharakteristik der elektronischen Vorrichtung entspricht, welche das Muster formt und das Prüfsignal ausgibt, eine Signaleingangs-/-ausgangs-Einheit, welche das Prüfsignal zu der elektronischen Vorrichtung liefert und ein von der elektronischen Vorrichtung ausgegebenes Ausgangssignal empfängt, und eine Beurteilungseinheit, welche auf der Grundlage des Ausgangssignals feststellt, ob die elektronische Vorrichtung akzeptierbar ist oder nicht. Die Verzögerungsschaltung hat einen Puffer, welcher die Wellenform eines Eingangssignals formt und ein geformtes Signal ausgibt, einen Feldeffekttransistor mit einem Sourcebereich, einem Drainbereich, einer Gateelektrode und einem Substrat, in welchem der Sourcebereich und der Drainbereich angeordnet sind, und eine Spannungssteuereinheit, welche eine gewünschte Spannung an die Gateelektrode anlegt. Der Sourcebereich und der Drainbereich sind mit einem Pfad verbunden, über welchen ein Ausgangssignal übertragen wird. Das Verzögerungssignal wird erzeugt durch Steuern der Kapazität zwischen dem Sourcebereich, dem Drainbereich und dem Substrat, indem die Spannung an die Gateelektrode angelegt wird, wobei die Spannungssteuereinheit zum Erzeugen von mindestens drei verschiedenen an die Gateelektrode anzulegenden Spannungswerten ausgebildet ist. Vorzugsweise weist die Spannungssteuereinheit dazu einen Digital-/Analog-Wandler auf.According to the present Invention is a test device provided which a test signal to an electronic device supplies and the electronic device reviewed. The test device has a pattern generation unit that generates a pattern that corresponds to the pattern generation unit test signal corresponds to a waveform shaping unit having a delay circuit for generating a delayed Signal, the operating characteristic of the electronic device which forms the pattern and outputs the test signal corresponds to a signal input / output unit, which the test signal to the electronic device supplies and one of the electronic Device receives output signal output, and a judgment unit, which on the basis of the output signal determines whether the electronic Device is acceptable or not. The delay circuit has a buffer which shapes the waveform of an input signal and a shaped signal outputs a field effect transistor a source region, a drain region, a gate electrode and a substrate in which the source region and the drain region are arranged, and a voltage control unit, which is a desired voltage to the gate electrode. The source region and the drain region are connected to a path over which transmit an output signal becomes. The delay signal is generated by controlling the capacitance between the source region, the drain region and the substrate by applying the voltage to the gate electrode is applied, wherein the voltage control unit for generating at least three different to be applied to the gate electrode Voltage values is formed. Preferably, the voltage control unit to a digital / analog converter.

Die Erfindung wird im Folgenden anhand von in den Figuren dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert. Es zeigen:The Invention will be described below with reference to FIGS Embodiments explained in more detail. It demonstrate:

1 eine herkömmliche Verzögerungsschaltung, 1 a conventional delay circuit,

2 eine Prüfvorrichtung zum Prüfen einer elektronischen Vorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, 2 a test apparatus for testing an electronic device according to an embodiment of the present invention,

3 eine in der Prüfvorrichtung nach 2 verwendete Verzögerungsschaltung, und 3 one in the tester 2 used delay circuit, and

4 eine weitere in der Prüfvorrichtung nach 2 verwendete Verzögerungsschaltung. 4 another in the tester after 2 used delay circuit.

2 zeigt eine Prüfvorrichtung 100 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, welche eine elektronische Vorrichtung prüft. Die Prüfvorrichtung 100 hat eine Mustererzeugungseinheit 110, welche Musterdaten eines Prüfsignals erzeugt, das in eine zu prüfende elektronische Vorrichtung 160 einzugeben ist, eine Wellenform-Formungseinheit 120, welche die Musterdaten formt, eine Signaleingabe-/-ausgabe-Einheit 140, welche die geformten Musterdaten zu der elektronischen Vorrichtung 160 liefert und ein von der elektronischen Vorrichtung 160 ausgegebenes Signal empfängt, und eine Beurteilungseinheit 150, welche beurteilt, ob die elektronische Vorrichtung 160 zufriedenstellend ist oder nicht. Darüber hinaus hat die Wellenform-Formungseinheit 120 eine Verzögerungsschaltung 200. Diese Verzögerungsschaltung 200 hat einen Feldeffekttransistor und eine Spannungssteuereinheit. Der Feldeffekttransistor hat einen Sourcebereich S, einen Drainbereich D, eine Gateelektrode G und ein Substrat B, in welchem der Sourcebereich S und der Drainbereich D angeordnet sind (siehe 3(a)). Der Sourcebereich S und der Drainbereich D sind elektrisch mit einem Pfad verbunden, über welchen das in die Wellenform-Formungseinheit 120 eingegebene Signal übertragen wird. Die Spannungssteuereinheit legt eine gewünschte Spannung an die Gateelektrode G an. 2 shows a tester 100 according to an embodiment of the present invention, which tests an electronic device. The tester 100 has a pattern generation unit 110 which generates pattern data of a test signal which is to be tested in an electronic device 160 is to input a waveform shaping unit 120 forming the pattern data, a signal input / output unit 140 showing the shaped pattern data to the electronic device 160 supplies and one of the electronic device 160 output signal, and a judgment unit 150 which judges whether the electronic device 160 satisfactory or not. In addition, the waveform shaping unit has 120 a delay circuit 200 , This delay circuit 200 has a field effect transistor and a voltage control unit. The field effect transistor has a source region S, a drain region D, a gate electrode G and a substrate B, in which the source region S and the drain region D are arranged (see FIG 3 (a) ). The source region S and the drain region D are electrically connected to a path through which the into the waveform shaping unit 120 input signal is transmitted. The voltage control unit applies a desired voltage to the gate electrode G.

Die Mustererzeugungseinheit 110 erzeugt Musterdaten, welche ein in die elektronische Vorrichtung 160 einzugebendes Prüfmuster sind, und Erwartungswertdaten, welche die elektronische Vorrichtung 160 auf der Grundlage der empfangenen Eingangsmusterdaten ausgeben sollte. Darüber hinaus gibt die Mustererzeugungseinheit 110 nicht nur die Musterdaten zu der Wellenform-Formungseinheit 120 aus, sondern auch den Erwartungswert, welcher von der elektronischen Vorrichtung 160 auszugeben ist, zu der Beurteilungseinheit 150. Zusätzlich gibt die Mustererzeugungseinheit 110 ein Zeitsetzsignal, welches die Erzeugung eines Verzögerungstaktsignals bezeichnet, das eine vorbestimmte Verzögerungsgröße hat, welches den Operationscharakteristiken der elektronischen Vorrichtung 160 entspricht, zu der Verzögerungsschaltung 240 aus.The pattern generation unit 110 generates pattern data which enters the electronic device 160 test pattern to be input, and expected value data representing the electronic device 160 should output based on the received input pattern data. In addition, there is the pattern generation unit 110 not only the pattern data to the waveform shaping unit 120 but also the expected value of which of the electronic device 160 issue to the assessment unit 150 , In addition, there is the pattern generation unit 110 a timing signal indicative of the generation of a delay clock signal having a predetermined delay amount corresponding to the operation characteristics of the electronic device 160 corresponds to the delay circuit 240 out.

Die Verzögerungsschaltung 200 erzeugt ein Verzögerungssignal mit einer Verzögerungsgröße, die durch das Zeitsetzsignal bezeichnet ist. Die Wellenform-Formungseinheit 120 formt die Musterdaten auf der Grundlage des von der Verzögerungsschaltung 200 gelieferten Verzögerungssignals und die geformten Musterdaten, welche den Operationscharakteristik der elektronischen Vorrichtung 160 entsprechen, zu der Signaleingabe-/-ausgabe-Einheit 140 aus. Die elektronische Vorrichtung 160 gibt Ausgangswerte, die den geformten Musterdaten entsprechen, über die Signaleingabe-/-ausgabe-Einheit 140 zu der Beurteilungseinheit 150 aus. Die Beurteilungseinheit 150 vergleicht die Ausgangswerte mit den Erwartungswerten, die von der Mustererzeugungseinheit 110 geliefert wurden, und beurteilt, ob die elektronischen Vorrichtung 160 ak zeptierbar ist oder nicht.The delay circuit 200 generates a delay signal having a delay amount designated by the timing signal. The waveform shaping unit 120 forms the pattern data based on that of the delay circuit 200 supplied delay signal and the shaped pattern data which the operation characteristic of the electronic device 160 correspond to the signal input / output unit 140 out. The electronic device 160 Output values corresponding to the shaped pattern data are input via the signal input / output unit 140 to the assessment unit 150 out. The assessment unit 150 compares the output values with the expected values from the pattern generation unit 110 were supplied, and judges whether the electronic device 160 ak is zeptierbar or not.

3 zeigt ein Ausführungsbeispiel der Verzögerungsschaltung 200. In 3(a) hat die Verzögerungsschaltung 200 einen Puffer 202, einen Feldeffekttransistor (FET) 210, einen zweiten Puffer 204, eine Spannungssteuereinheit 220 und einen Pfad 206, der elektrisch zwischen dem ersten Puffer 202, dem zweiten Puffer 204 und dem FET 210 angeordnet ist. Der erste Puffer 202 und der zweite Puffer 204 formen die Wellenform eines Eingangssignals und geben das erhaltene geformte Signal aus. Bei diesem Ausführungsbeispiel haben sowohl der erste Puffer 202 als auch der zweite Puffer 204 einen Inverter. 3 shows an embodiment of the delay circuit 200 , In 3 (a) has the delay circuit 200 a buffer 202 , a field effect transistor (FET) 210 , a second buffer 204 , a voltage control unit 220 and a path 206 which is electrically connected between the first buffer 202 , the second buffer 204 and the FET 210 is arranged. The first buffer 202 and the second buffer 204 shape the waveform of an input signal and output the obtained shaped signal. In this embodiment, both the first buffer 202 as well as the second buffer 204 an inverter.

Der FET 210 hat einen Sourcebereich S, einen Drainbereich D, eine Gateelektrode G und ein Substrat B, in welchem der Sourcebereich S und der Drainbereich D angeordnet sind. Der Sourcebereich S und der Drainbereich D sind elektrische mit dem Pfad 206 verbunden, über welchen ein von dem ersten Puffer 202 ausgegebenes Signal übertragen wird. Der FET 210 kann entweder ein p-Kanal-FET oder n-Kanal-FET sein. Darüber hinaus kann der FET 210 ein FET vom Anreicherungstyp oder ein FET vom Verarmungstyp sein. Es ist bevorzugt, dass der Substratbereich B auf einem vorgeschriebenen Spannungswert gehalten wird. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist der Substratbereich B geerdet. Eine vorgeschriebene Kapazität, welche eine pn-Sperrschichtkapazität ist, ist zwischen dem Sourcebereich S, dem Drainbereich D und dem Substratbereich B gebildet, entsprechend der Fläche des pn-Sperrbereichs, der von dem Sourcebereich S, dem Drainbereich D und dem Substratbereich B gebildet ist, und der Dicke der in dem pn-Sperrbereich gebildeten Verarmungsschicht. Daher ist bei der Verzöge rungsschaltung 200 gemäß diesem Ausführungsbeispiel der FET 210 mit einem ersten Anschluß verbunden, an welchem der Sourcebereich S und der Drainbereich D mit der Spannungssteuereinheit 220 verbunden sind. Der FET 210 bildet zusammen mit einem zweiten Anschluß, an welchem das Substrat B auf einer vorbestimmten Spannung gehalten wird, einen Kondensator.The FET 210 has a source region S, a drain region D, a gate electrode G and a substrate B, in which the source region S and the drain region D are arranged. The source region S and the drain region D are electrical with the path 206 via which one of the first buffer 202 output signal is transmitted. The FET 210 can be either a p-channel FET or n-channel FET. In addition, the FET 210 be an enhancement type FET or a depletion type FET. It is preferable that the substrate region B is maintained at a prescribed voltage value. In this embodiment, the substrate region B is grounded. A prescribed capacitance, which is a pn junction capacitance, is formed between the source region S, the drain region D and the substrate region B, corresponding to the area of the pn stop region formed by the source region S, the drain region D and the substrate region B, and the thickness of the depletion layer formed in the pn-barrier region. Therefore, in the case of delay circuit 200 according to this embodiment, the FET 210 connected to a first terminal at which the source region S and the drain region D with the voltage control unit 220 are connected. The FET 210 forms together with one second terminal, on which the substrate B is maintained at a predetermined voltage, a capacitor.

Die Spannungssteuereinheit 220 legt eine Spannung mit einem gewünschten Wert an die Gateelektrode G des FET 210 an. Die Spannungssteuereinheit 220 kann so ausgebildet sein, dass sie drei oder mehr bestimmte Spannungswerte erzeugt, so dass einer der drei oder mehr bestimmten Spannungswerte ausgewählt und dann die Spannung mit dem ausgewählten Wert an die Gateelektrode G angelegt wird. Darüber hinaus kann der Wert der Spannung, welche die Spannungssteuereinheit 220 an die Gateelektrode G anlegt, zwischen dem Spannungswert, bei welchem das Signal, das. über den Pfad 206 übertragen wird, eine H-Logik (VDD) darstellt, und dem Spannungswert, bei welchem das Signal, das über den Pfad 206 übertragen wird, eine L-Logik (VSS) darstellt, sein. Bei diesem Ausführungsbeispiel hat die Spannungssteuereinheit 220 einen Digital-/Analog-Wandler (DAC) und legt eine gewünschte Spannung an die Gateelektrode G auf der Grundlage eines Befehls, welcher von einer in der Zeichnung nicht gezeigten Steuereinheit geliefert wird, an. Darüber hinaus hängt die zwischen dem Sourcebereich S, dem Drainbereich D und dem Substratbereich B gebildete Kapazität von dem elektrischen Potential der Gateelektrode G mit Bezug auf das elektrische Potential des Substratbereichs B, das ein elektrisches Bezugspotential ist, an. Die Spannungssteuereinheit 220 steuert die Kapazität, welche zwischen dem Sourcebereich S, dem Drainbereich D und dem Substratbereich B gebildet ist, durch Steuerung des elektrischen Potentials der Gateelektrode G mit Bezug auf das elektrische Potential des Substratbereichs B.The voltage control unit 220 applies a voltage of a desired value to the gate electrode G of the FET 210 at. The voltage control unit 220 may be configured to generate three or more specified voltage values so that one of the three or more determined voltage values is selected and then the voltage having the selected value is applied to the gate electrode G. In addition, the value of the voltage affecting the voltage control unit 220 is applied to the gate electrode G, between the voltage value at which the signal, the. via the path 206 representing an H logic (VDD) and the voltage value at which the signal is transmitted through the path 206 being an L logic (VSS). In this embodiment, the voltage control unit has 220 a digital-to-analog converter (DAC) and applies a desired voltage to the gate electrode G on the basis of a command supplied from a control unit not shown in the drawing. Moreover, the capacitance formed between the source region S, the drain region D, and the substrate region B depends on the electric potential of the gate electrode G with respect to the electric potential of the substrate region B, which is a reference electric potential. The voltage control unit 220 controls the capacitance formed between the source region S, the drain region D and the substrate region B by controlling the electric potential of the gate electrode G with respect to the electric potential of the substrate region B.

Das von dem ersten Puffer 202 ausgegebene Signal wird über den Pfad 206 übertragen, um die Zeitdauer, welche der zwischen dem Sourcebereich S, dem Drainbereich D und dem Substratbereich B gebildeten Kapazität entspricht, verzögert und in den zweiten Puffer 204 eingegeben. Der zweite Puffer 204 invertiert dann die Wellenform des verzögerten Signals, formt die Wellenform des invertierten verzögerten Signals und gibt das geformte invertierte verzögerte Signal aus.That from the first buffer 202 output signal is over the path 206 to delay the time duration corresponding to the capacitance formed between the source region S, the drain region D and the substrate region B, and to the second buffer 204 entered. The second buffer 204 then inverts the waveform of the delayed signal, shapes the waveform of the inverted delayed signal, and outputs the shaped inverted delayed signal.

Die Verzögerungsschaltung 200 gemäß diesem Ausführungsbeispiel kann die Kapazität des Quellenbereichs S und des Drainbereichs D mit Bezug auf den Substratbereich B steuern, indem der Wert der an die Gateelektrode G des FET 210 anzulegenden Spannung gesteuert wird. Daher kann die Verzögerungsschaltung 200 gemäß diesem Ausführungsbeispiel die zu dem Pfad 206 hinzugefügte Kapazität steuern. Als eine Folge kann die Verzögerungsschaltung 200 gemäß diesem Ausführungsbeispiel eine Verzögerung jeder gewünschten Größe einfach erzeugen, indem die zu dem Pfad hinzugefügte Kapazität gesteuert wird, ohne dass eine Schaltvorrichtung wie ein Übertragungsgate oder ein Schalter zwischen dem Kondensator zur Erzeugung einer Verzögerungsgröße und dem Pfad, über welchen Signale übertragen werden, vorhanden ist. Darüber hinaus kann selbst in dem Fall, in welchem die Verzögerungsschaltung 200 eine Schaltvorrichtung zwischen dem Kondensator zur Erzeugung einer Verzögerungsgröße und dem Pfad, über welchen Signale übertragen werden, hat, die Verzögerungsschaltung 200 die Varianz von Verzögerungsgrößen korrigieren, die durch die Unterschiede in den Eigenschaften der Drähte und Schaltvorrichtungen aufgrund von Verarbeitungsvarianzen bei den Herstellungsvorgängen der Drähte und Schaltvorrichtungen bewirkt werden, indem einfach die zu dem Pfad hinzugefügte Kapazität gesteuert wird.The delay circuit 200 According to this embodiment, the capacitance of the source region S and the drain region D with respect to the substrate region B can be controlled by the value of the voltage applied to the gate electrode G of the FET 210 is controlled voltage to be applied. Therefore, the delay circuit 200 according to this embodiment, to the path 206 control added capacity. As a consequence, the delay circuit 200 According to this embodiment, simply generating a delay of any desired size by controlling the capacitance added to the path without having a switching device such as a transmission gate or a switch between the capacitor for generating a delay amount and the path over which signals are transmitted , In addition, even in the case where the delay circuit 200 a switching device between the capacitor for generating a delay amount and the path over which signals are transmitted has the delay circuit 200 correct the variance of delay quantities caused by the differences in the characteristics of the wires and switching devices due to processing variances in the manufacturing operations of the wires and switching devices, by simply controlling the capacitance added to the path.

Wie in 3(b) gezeigt ist, kann die Verzögerungsschaltung 200 mehrere Feldeffekttransistoren 210-1 bis 210-n haben, so dass jeder FET 210-k einen Sourcebereich S-k und einen Drainbereich D-k hat, welche mit dem Pfad 206 verbunden sind, wobei 1 ≤ k ≤ n. Darüber hinaus ist es wünschenswert, dass die Verzögerungsschaltung 200 weiterhin mehrere Spannungssteuereinheiten 220-1 bis 220-n hat für das Anlegen von Spannungen mit gewünschten Werten an die Gateelektroden G-1 bis G-n der Feldeffekttransistoren 210-1 bis 210-n. Die Spannungssteuereinheiten 220-1 bis 220-n steuern die Werte der an die Gateelektroden G-1 bis G-n der Feldeffekttransistoren 210-1 bis 210-n anzulegenden Spannungen auf der Grundlage eines von einer in der Zeichnung nicht gezeigten Steuereinheit gelieferten Befehls, um ein Signal, das über den Pfad 206 übertragen wird, um eine gewünschte Zeitdauer zu verzögern.As in 3 (b) is shown, the delay circuit 200 several field effect transistors 210-1 to 210-n have, so every FET 210-k has a source region Sk and a drain region Dk, which are connected to the path 206 1 ≦ k ≦ n. Moreover, it is desirable that the delay circuit 200 continue several voltage control units 220-1 to 220-n has for applying voltages of desired values to the gate electrodes G-1 to Gn of the field effect transistors 210-1 to 210-n , The voltage control units 220-1 to 220-n Control the values of the to the gate electrodes G-1 to Gn of the field effect transistors 210-1 to 210-n voltages to be applied on the basis of an instruction supplied by a control unit, not shown in the drawing, by a signal passing through the path 206 is transmitted to delay a desired period of time.

4 zeigt ein anderes Ausführungsbeispiel der Verzögerungsschaltung 200. 4(a) zeigt eine beispielhafte Spannungssteuereinheit 220, welche drei unterschiedliche Spannungswerte erzeugt. In 4(a) hat die Spannungssteuereinheit 220 eine Spannungserzeugungseinheit 212, welche drei Spannungswerte erzeugt, und eine Spannungsauswahleinheit 214, welche einen der drei unterschiedlichen Spannungswerte, die von der Spannungserzeugungseinheit 212 erzeugt werden, auswählt. Die Spannungserzeugungseinheit 212 hat vier miteinander verbundene Widerstände. In der Span nungserzeugungseinheit 212 wird eine Spannung mit einem ersten vorbestimmten Wert an ein Ende der vier in Reihe geschalteten Widerstände angelegt, und eine andere Spannung mit einem zweiten vorbestimmten Wert wird an das andere Ende der vier in Reihe geschalteten Widerstände angelegt. Es ist bevorzugt, dass die Spannungserzeugungseinheit 212 drei Spannungen mit unterschiedlichen Werten in einer solchen Weise erzeugt, dass jeder dieser unterschiedlichen Wert zwischen dem Wert der an das eine Ende der in Reihe geschalteten Widerstände angelegten Spannung und dem Wert der an das andere Ende der in Reihe geschalteten Widerständen angelegten Spannung liegt. Bei diesem Ausführungsbeispiel hat die Spannungserzeugungseinheit 212 in Reihe geschaltete Feldeffekttransistoren 216-1 bis 216-4. Bei dieser Spannungserzeugungseinheit 212 ist eine Spannung VDD an den Sourcebereich oder Drainbereich des ersten FET 216-1 und die Gateelektrode des FET 216-1 angelegt, und eine Spannung VSS ist an den Drainbereich oder den Sourcebereich des letzten FET 216-4 angelegt. Aufgrund des Kanalwiderstandes jedes der in Reihe geschalteten Feldeffekttransistoren 216-1 bis 216-4 werden, wenn die Spannungen VDD und VSS auf diese Weise angelegt werden, die Werte der Spannungen an den Knoten N-1, N-2 und N-3, welche den Sourcebereich eines FET mit dem Drainbereich des benachbarten FET verbinden, auf der anderen Seite der Reihe, alle unterschiedlichen und liegen zwischen dem Wert von VDD und dem Wert von VSS. Auf diese Weise werden drei Spannungen mit unterschiedlichen Werten, die zwischen dem Wert von VDD und dem Wert von VSS liegen, erzeugt. Um n Spannungen mit unterschiedlichen Werten, welche zwischen dem Wert von VDD und dem Wert von VSS liegen, wobei n ≥ 4 ist, zu erzeugen, werden n + 1 in Reihe geschaltete Feldeffekttransistoren 216-1 bis 216-(n + 1) in der Spannungserzeugungseinheit angeordnet. In diesem Fall wird eine Spannung VDD an den Sourcebereich oder Drainbereich des ersten FET 216-1 und die Gateelektrode des FET 216-1 angelegt, und eine Spannung VSS wird an den Drainbereich oder den Sourcebereich des letzten FET 216-(n + 1) angelegt. 4 shows another embodiment of the delay circuit 200 , 4 (a) shows an exemplary voltage control unit 220 which generates three different voltage values. In 4 (a) has the voltage control unit 220 a voltage generation unit 212 which generates three voltage values, and a voltage selection unit 214 which is one of the three different voltage values provided by the voltage generation unit 212 be generated. The voltage generation unit 212 has four interconnected resistors. In the voltage generation unit 212 A voltage having a first predetermined value is applied to one end of the four series-connected resistors, and another voltage having a second predetermined value is applied to the other end of the four series-connected resistors. It is preferred that the voltage generating unit 212 Three voltages with different values are generated in such a way that each of these different values is between the value of the one end of the series-connected resistors and the voltage applied to the other end of the series-connected resistors. In this embodiment, the voltage generating unit has 212 series-connected field-effect transistors 216-1 to 216-4 , In this voltage generation unit 212 is a voltage VDD to the source region or drain region of the first FET 216-1 and the gate electrode of the FET 216-1 and a voltage VSS is applied to the drain region or the source region of the last FET 216-4 created. Due to the channel resistance of each of the series-connected field-effect transistors 216-1 to 216-4 When the voltages VDD and VSS are applied in this manner, the values of the voltages at the nodes N-1, N-2 and N-3 connecting the source region of one FET to the drain region of the adjacent FET on the other side of the series, all different ones, lying between the value of VDD and the value of VSS. In this way, three voltages with different values between the value of VDD and the value of VSS are generated. To generate n voltages having different values which are between the value of VDD and the value of VSS, where n ≥ 4, n + 1 become field-effect transistors connected in series 216-1 to 216- (n + 1) arranged in the voltage generating unit. In this case, a voltage VDD is applied to the source region or drain region of the first FET 216-1 and the gate electrode of the FET 216-1 is applied, and a voltage VSS is applied to the drain region or the source region of the last FET 216- (n + 1) created.

In dem Fall, in welchem drei Spannungen mit unterschiedlichen Werten erzeugt werden, hat die Spannungsauswahleinheit 214 drei Feldeffekttransistoren 218-1 bis 218-3, welche als Schaltvorrichtungen dienen. Es ist bevorzugt, dass der Sourcebereich oder Drainbereich von jedem der Feldeffekttransistoren 218-1 bis 218-3 mit den Knoten N-1, N-2 bzw. N-3 in der Spannungserzeugungseinheit 212 verbunden ist. Die in der Zeichnung nicht gezeigte Steuereinheit legt eine Spannung an die Gateelektrode von einem Feldeffekttransistoren 218-1 bis 218-3 an, um eine Spannung mit einem vorbestimmten Wert an die Gateelektrode G des FET 210 anzulegen. In dem Fall der Erzeugung von n Spannung mit unterschiedlichen Werten, welche zwischen dem Wert von VDD und dem Wert von VSS, wobei n ≥ 4 ist, hat die Spannungsauswahleinheit 214n Feldeffekttransistoren 218-1 bis 218-n, welche als Schaltvorrichtungen dienen. Es ist bevorzugt, dass der Sourcebereich oder der Drainbereich von jedem der Feldeffekttransistoren 218-1 bis 218-n mit jeweils einem der Knoten N-1 bis N-n in der Spannungserzeugungseinheit 212 verbunden ist. In diesem Fall legt die in der Zeichnung nicht gezeigte Steuereinheit eine Spannung an die Gateelektrode von einem der Feldeffekttransistoren 218-1 bis 218-n an, um eine Spannung mit einem vorbestimmten Wert an die Gateelektrode G des FET 210 anzulegen. Auf diese Weise wird das Signal, das über den Pfad 206 übertragen wird, um eine gewünschte Zeitdauer verzögert.In the case where three voltages having different values are generated, the voltage selection unit has 214 three field effect transistors 218-1 to 218-3 , which serve as switching devices. It is preferable that the source region or drain region of each of the field effect transistors 218-1 to 218-3 with the nodes N-1, N-2 and N-3 in the voltage generation unit 212 connected is. The control unit not shown in the drawing applies a voltage to the gate electrode of a field effect transistor 218-1 to 218-3 to apply a voltage of a predetermined value to the gate electrode G of the FET 210 to apply. In the case of generating n voltage having different values, which is between the value of VDD and the value of VSS, where n ≥ 4, the voltage selection unit has 214n FETs 218-1 to 218-n , which serve as switching devices. It is preferable that the source region or the drain region of each of the field effect transistors 218-1 to 218-n each with one of the nodes N-1 to Nn in the voltage generating unit 212 connected is. In this case, the control unit not shown in the drawing applies a voltage to the gate electrode of one of the field effect transistors 218-1 to 218-n to apply a voltage of a predetermined value to the gate electrode G of the FET 210 to apply. That way, the signal is going through the path 206 is transmitted delayed by a desired period of time.

Wie in 4(b) gezeigt ist, kann die Verzögerungsschaltung 200 einen zusätzlichen Kondensator 230 mit einer vorbestimmten Kapazität aufweisen. Es ist bevorzugt, dass der Kondensator 230 eine feste Kapazität hat. Es ist bevorzugt, dass die feste Kapazität des Kondensators 230 ein vorbestimmtes Verhältnis mit Bezug auf die Änderung der Kapazität des FET 210, die zu dem Pfad 206 hinzugefügt wird, hat.As in 4 (b) is shown, the delay circuit 200 an additional capacitor 230 having a predetermined capacity. It is preferred that the capacitor 230 has a fixed capacity. It is preferred that the fixed capacitance of the capacitor 230 a predetermined ratio with respect to the change of the capacity of the FET 210 leading to the path 206 has added.

Wie aus der vorstehenden Beschreibung ersichtlich ist, kann gemäß der vorliegenden Erfindung eine gewünschte Verzögerungsgröße erzeugt werden.As can be seen from the above description, according to the present Invention a desired Delay quantity generated become.

Claims (2)

Prüfvorrichtung, welche ein Prüfsignal zu einer elektronischen Vorrichtung liefert und die elektronische Vorrichtung prüft, mit einer Mustererzeugungseinheit, welche ein Muster, das dem Prüfsignal entspricht, erzeugt, einer Wellenform-Formungseinheit mit einer Verzögerungsschaltung zum Erzeugen eines Verzögerungssignals, das einer Operationscharakteristik der elektronischen Vorrichtung entspricht, welche das Muster formt und das Prüfsignal ausgibt, einer Signaleingabe-/-ausgabe-Einheit, welche das Prüfsignal zu der elektronischen Vorrichtung liefert und ein Ausgangssignal von der elektronischen Vorrichtung empfängt, und eine Beurteilungseinheit, welche anhand des Ausgangssignals feststellt, ob die elektronische Vorrichtung akzeptierbar ist oder nicht, dadurch gekennzeichnet, dass die Verzögerungsschaltung einen Puffer hat, der eine Wellenform eines Eingangssignals formt und ein geformtes Signal ausgibt, wobei die Verzögerungsschaltung weiterhin aufweist: einen Feldeffekttransistor enthaltend einen Sourcebereich, einen Drainbereich, eine Gateelektrode und ein Substrat, in welchem der Sourcebereich und der Drainbereich angeordnet sind, und eine Spannungssteuereinheit, welche eine gewünschte Spannung an die Gateelektrode anlegt, worin der Sourcebereich und der Drainbereich mit einem Pfad, über welchen ein Ausgangssignal übertragen wird, verbunden sind, und wobei das Verzögerungssignal erzeugt wird durch Steuern einer Kapazität zwischen dem Sourcebereich, dem Drainbereich und dem Substrat durch Anlegen der gewünschten Spannung an die Gateelektrode, wobei die Spannungssteuereinheit zum Erzeugen von mindestens drei verschiedenen an die Gateelektrode anzulegenden Spannungswerten ausgebildet ist.A test apparatus which supplies a test signal to an electronic apparatus and tests the electronic apparatus with a pattern generation unit which generates a pattern corresponding to the test signal, a waveform shaping unit having a delay circuit for generating a delay signal corresponding to an operation characteristic of the electronic apparatus forming the pattern and outputting the test signal, a signal input / output unit which supplies the test signal to the electronic device and receives an output signal from the electronic device, and a judgment unit which determines from the output signal whether the electronic device is acceptable or not, characterized in that the delay circuit has a buffer which forms a waveform of an input signal and outputs a shaped signal, wherein the delay circuit further comprises: a Feldeffekttra A transistor includes a source region, a drain region, a gate electrode and a substrate in which the source region and the drain region are disposed, and a voltage control unit that applies a desired voltage to the gate electrode, wherein the source region and the drain region connect to a path across which Output signal is transmitted, and wherein the delay signal is generated by controlling a capacitance between the source region, the drain region and the substrate by applying the desired voltage to the gate electrode, wherein the voltage control unit for generating at least three different to the Gate electrode to be applied voltage values is formed. Prüfvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Spannungssteuereinheit einen Digital-/Analog-Wandler aufweist, der mit der Gateelektrode des Feldeffektransistors verbunden ist und die gewünschte Spannung an diese Gateelektrode anlegt zum Steuern der Kapazität des Feldeeffekttransistors.Tester according to claim 1, wherein the voltage control unit comprises a digital / analog converter which is connected to the gate electrode of the field effect transistor is and the desired Voltage to this gate electrode applies to control the capacitance of the field effect transistor.
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