DE10051173C2 - Arrangement and method for reducing the voltage drop along a word line / bit line of an MRAM memory - Google Patents
Arrangement and method for reducing the voltage drop along a word line / bit line of an MRAM memoryInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Anordnung und ein Verfahren zur Verringerung des Spannungsabfalles entlang einer Wortleitung/Bitleitung eines MRAM-Speichers, bei der bzw. dem eine selektierte Wortleitung/Bitleitung an beiden Enden auf das gleiche Potential gelegt wird.The invention relates to an arrangement and a method for reducing the voltage drop along a word line / bit line of an MRAM memory, in which a selected word line / bit line is connected to the same potential at both ends.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung und ein Verfahren zur Verringerung des Spannungsabfalles entlang ei ner Wortleitung/Bitleitung beim Lesen einer in einem Spei cherzellenfeld eines MRAM-Speichers angeordneten Speicherzel le, die am Kreuzungspunkt einer selektierten Wortleitung mit einer selektierten Bitleitung gelegen ist, nach dem Oberbe griff des Patentanspruches 1 bzw. 2.The present invention relates to an arrangement and a Method for reducing the voltage drop along an egg ner word line / bit line when reading one in a memory memory cell array of an MRAM memory le, the at the crossing point of a selected word line with is located on a selected bit line, according to the Oberbe handle of claim 1 or 2.
Bekanntlich wird Information in einer MRAM-Zelle (MRAM = ma gnetoresistiver Schreib-/Lese-Speicher) gespeichert, indem der Durchgangswiderstand RZ der Zelle verändert wird. Eine MRAM-Zelle besteht aus einer hartmagnetischen Schicht, einer Tunnelbarrierenschicht und einer weichmagnetischen Schicht. Bei paralleler Magnetisierungsrichtung der weichmagnetischen Schicht und der hartmagnetischen Schicht ist der Durchgangs widerstand RZ der Zelle kleiner als bei deren antiparalleler Magnetisierungsrichtung. Die Magnetisierungsrichtung in der weichmagnetischen Schicht kann parallel oder antiparallel zu der Magnetisierungsrichtung in der hartmagnetischen Schicht eingestellt werden, indem durch die zugehörigen Wort- und Bitleitungen Ströme in entsprechender Richtung geschickt wer den.As is known, information is stored in an MRAM cell (MRAM = magnetoresistive read / write memory) by changing the volume resistance R Z of the cell. An MRAM cell consists of a hard magnetic layer, a tunnel barrier layer and a soft magnetic layer. With parallel magnetization direction of the soft magnetic layer and the hard magnetic layer, the volume resistance R Z of the cell is smaller than with its anti-parallel magnetization direction. The direction of magnetization in the soft magnetic layer can be set parallel or anti-parallel to the direction of magnetization in the hard magnetic layer by sending currents in the corresponding direction through the associated word and bit lines.
Einem hohen Durchgangswiderstand, also einer antiparallelen Magnetisierung der beiden magnetischen Schichten, kann so beispielsweise eine logische "1" zugeordnet werden, während ein niedriger Durchgangswiderstand, also eine antiparallele Magnetisierung der beiden magnetischen Schichten, dann eine logische "0" bedeutet. Die Zuordnung des Informationsinhaltes "0" bzw. "1" kann selbstverständlich auch umgekehrt sein. A high volume resistance, i.e. an anti-parallel one Magnetization of the two magnetic layers, so For example, a logical "1" can be assigned while a low volume resistance, i.e. an anti-parallel one Magnetization of the two magnetic layers, then one logical "0" means. The assignment of the information content "0" or "1" can of course also be reversed.
Fig. 6 zeigt schematisch eine MRAM-Zelle Z an der Kreuzungs stelle einer Wortleitung WL mit einer Bitleitung BL, wobei hier diese Zelle Z, die tatsächlich aus einer weichmagneti schen Schicht, einer Tunnelbarrierenschicht und einer hartma gnetischen Schicht besteht, welche zwischen der Wortleitung WL und der Bitleitung BL an deren Kreuzungsstelle gestapelt sind, durch einen Widerstand RZ schematisch veranschaulicht ist. Sind die Wortleitung WL mit einer Spannung VWL und die Bitleitung BL mit einer Spannung VBL beaufschlagt, so liegt an der MRAM-Zelle eine bestimmte Spannung VZ, die durch VZ = VWL - VBL gegeben ist. Es fließt dann ein bestimmter Strom IZ = VZ/RZ durch die MRAM-Zelle. Dieser Strom IZ kann gemessen werden, um den Speicherzustand der Zelle, also einen hohen oder niedrigen Durchgangswiderstand RZ, zu bestimmen. Fig. 6 shows schematically an MRAM cell Z at the intersection of a word line WL with a bit line BL, here this cell Z, which actually consists of a soft magnetic layer, a tunnel barrier layer and a hard magnetic layer, which lies between the word line WL and the bit line BL are stacked at their crossing point, is schematically illustrated by a resistor R Z. If the word line WL is supplied with a voltage V WL and the bit line BL with a voltage V BL , then a certain voltage V Z is present at the MRAM cell, which is given by V Z = V WL - V BL . A certain current I Z = V Z / R Z then flows through the MRAM cell. This current I Z can be measured in order to determine the storage state of the cell, that is to say a high or low volume resistance R Z.
In der Praxis wird der für diese Messung notwendige Span nungsabfall über der Zelle dadurch erreicht, dass die Wort leitung WL dieser Zelle auf ein bestimmtes Potential gebracht wird, während die der Zelle zugehörige Bitleitung BL auf ei nem anderen, beispielsweise niedrigeren Potential belassen wird.In practice, the chip required for this measurement The drop in voltage across the cell is achieved by the word line WL of this cell brought to a certain potential is, while the bit line BL belonging to the cell on ei leave another, e.g. lower potential becomes.
Es ist nun zu bedenken, dass ein Speicherzellenfeld eines MRAMs, das auch als MRAM-Array bezeichnet wird, ein Wider standsnetzwerk bildet, in welchem durch jede Zelle, an der eine Spannung anliegt, parasitäre Ströme fließen. Außerdem entsteht entlang jeder Wortleitung und jeder Bitleitung durch deren jeweiligen Leitungswiderstand ein Spannungsabfall, der letztlich verschiedene Zellströme IZ durch die einzelnen Speicherzellen zur Folge hat und Lesefehler bedingen kann.It should now be considered that a memory cell array of an MRAM, which is also referred to as an MRAM array, forms a resistance network in which parasitic currents flow through each cell to which a voltage is applied. In addition, a voltage drop arises along each word line and each bit line due to their respective line resistance, which ultimately results in different cell currents I Z through the individual memory cells and can cause read errors.
Aus der WO 99/14760 sind eine Speicherzellenanordnung und de ren Verwendung als magnetischer RAM und als assoziativer Speicher bekannt. Bei dieser Speicherzellenanordnung werden alle Wortleitungen und Bitleitungen einschließlich der selektierten Bitleitung, aber mit Ausnahme der selektierten Wort leitung, oder alle Wortleitungen und Bitleitungen einschließ lich der selektierten Wortleitung, aber mit Ausnahme der se lektierten Bitleitung, an einem Ende auf ein vorbestimmtes erstes Potential gelegt. Die selektierte Wortleitung bzw. Bitleitung wird bei dieser bekannten Speicherzellenanordnung auf ein zweites Potential gelegt, das im Vergleich zum ersten Potential höher ist. So kann beispielsweise das zweite Poten tial eine Spannungsgröße von 1 V haben, während das erste Po tential 0 V aufweist.WO 99/14760 describes a memory cell arrangement and de Use as magnetic RAM and as associative Known memory. In this memory cell arrangement all word lines and bit lines including the selected ones Bit line, but with the exception of the selected word line, or include all word lines and bit lines Lich the selected word line, but with the exception of the se selected bit line, at one end to a predetermined one first potential. The selected word line or Bit line is used in this known memory cell arrangement placed on a second potential, compared to the first Potential is higher. For example, the second pot tial have a voltage of 1 V, while the first Po has potential 0 V.
Fig. 7 zeigt ein Speicherzellenfeld aus Wortleitungen WL0, WL1, . . . WL4 und Bitleitungen BL0, BL1, . . ., BL4, an deren Kreuzungsstellen sich Zellen Z00, Z01, Z02, . . ., Z44 befin den. Es sei nun angenommen, dass die Zelle Z22 an der Kreu zungsstelle der Wortleitung WL2 mit der Bitleitung BL2 ausge lesen werden soll. An die damit selektierte Wortleitung WL wird dann eine Spannung V2 angelegt, während alle anderen Wortleitungen WL0, WL1, WL3 und WL4 mit einer Spannung V1 (V2 < V1) beaufschlagt sind. In ähnlicher Weise wird an die se lektierte Bitleitung BL2 die Spannung V1 angelegt, während sich alle übrigen Bitleitungen BL0, BL1, BL3 und BL4 auf der Spannung V2 befinden. Fig. 7 shows a memory cell array of word lines WL0, WL1,. , , WL4 and bit lines BL0, BL1,. , ., BL4, at the intersection of which cells Z00, Z01, Z02,. , ., Z44 are the. It is now assumed that the cell Z22 is to be read out at the intersection of the word line WL2 with the bit line BL2. A voltage V2 is then applied to the word line WL thus selected, while a voltage V1 (V2 <V1) is applied to all other word lines WL0, WL1, WL3 and WL4. Similarly, the voltage V1 is applied to the selected bit line BL2, while all the other bit lines BL0, BL1, BL3 and BL4 are at the voltage V2.
Bei dieser Anordnung sind also die Wortleitungen WL0, WL1, WL3 und WL4 sowie die Bitleitung BL2 auf dem Potential der Spannung V1, während an den Bitleitungen BL0, BL1, BL3 und BL4 sowie an der Wortleitung WL2 die Spannung V2 anliegt. Dies bedeutet, dass an den beiden selektierten Leitungen WL2 und BL2 ein Spannungsabfall VZ22 = V2 - V1 nur an der Zelle Z22 auftritt, während die übrigen, mit diesen selektierten Leitungen WL2 und BL2 verbundenen Zellen Z02, Z12, Z32, Z42 sowie Z20, Z21, Z23 und Z24 einen Spannungsabfall "0" erfah ren, so dass VZ02 = 0, VZ12 = 0, VZ32 = 0, VZ42 = 0, VZ20 = 0, VZ21 = 0, VZ23 = 0 und VZ24 = 0 gelten. In this arrangement, the word lines WL0, WL1, WL3 and WL4 and the bit line BL2 are at the potential of the voltage V1, while the voltage V2 is present on the bit lines BL0, BL1, BL3 and BL4 and on the word line WL2. This means that a voltage drop V Z22 = V2 - V1 only occurs at cell Z22 on the two selected lines WL2 and BL2, while the other cells Z02, Z12, Z32, Z42 and Z20 connected to these selected lines WL2 and BL2, Z21, Z23 and Z24 experience a voltage drop "0", so that V Z02 = 0, V Z12 = 0, V Z32 = 0, V Z42 = 0, V Z20 = 0, V Z21 = 0, V Z23 = 0 and V Z24 = 0 apply.
Mit anderen Worten, für die selektierten Wort- und Bitleitun gen sind hier sämtliche parasitären Ströme eliminiert, da al lein an der gewünschten Zelle Z22 eine Spannung zwischen der Wortleitung WL2 und der Bitleitung BL2 entsteht, welche den Lesestrom verursacht.In other words, for the selected word and bit lines all parasitic currents are eliminated here since al ln the desired cell Z22 a voltage between the Word line WL2 and the bit line BL2 arises, which the Reading current caused.
Nachteilhaft an der Anordnung von Fig. 7 ist aber, dass wäh rend des gesamten Lesevorganges an allen Zellen, die nicht an der selektiven Wortleitung WL2 oder an der selektierten Bit leitung BL2 liegen, eine Spannung V1-V2 anliegt, die je weils einen parasitären Strom Ipar hervorruft, der durch die Zellen Z00, Z01, Z03, Z04, Z10, Z11, Z13, Z14, Z30, Z31, Z33, Z34, Z40, Z41, Z43 und Z44 fließt und schematisch durch einen Pfeil vor dem Widerstandssymbol angedeutet ist. Die Summe dieser parasitären Ströme lässt die Verlustleistung in dem dargestellten Speicherzellenfeld erheblich ansteigen, so dass eine Anordnung mit verringertem Spannungsabfall längs der Wortleitungen/Bitleitungen beim Lesen eines Speicherzellen feldes gewünscht wird.A disadvantage of the arrangement of FIG. 7, however, is that during the entire reading process, a voltage V1-V2 is present on all cells that are not on the selective word line WL2 or on the selected bit line BL2, each of which has a parasitic current Ipar, which flows through cells Z00, Z01, Z03, Z04, Z10, Z11, Z13, Z14, Z30, Z31, Z33, Z34, Z40, Z41, Z43 and Z44 and is indicated schematically by an arrow in front of the resistance symbol. The sum of these parasitic currents causes the power loss in the memory cell array shown to increase considerably, so that an arrangement with a reduced voltage drop along the word lines / bit lines when reading a memory cell array is desired.
Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Anord nung und ein Verfahren zur Verringerung des Spannungsabfalles längs einer Wortleitung/Bitleitung beim Lesen einer in einem Speicherzellenfeld eines MRAM-Speichers angeordneten Spei cherzelle anzugeben.It is therefore an object of the present invention to provide an arrangement voltage and a method for reducing the voltage drop along a word line / bit line when reading one in one Memory cell array of an MRAM memory arranged Spei to specify the cell.
Zur Lösung dieser Aufgabe sieht die vorliegende Erfindung ei ne Anordnung mit den Merkmalen des Patentanspruches 1 bzw. ein Verfahren mit den Merkmalen des Patentanspruches 2 vor.The present invention provides a solution to this problem ne arrangement with the features of claim 1 or a method with the features of claim 2 before.
Bei der erfindungsgemäßen Anordnung bzw. bei dem erfindungs gemäßen Verfahren werden so verschiedene Leitungen des MRAM- Speicherzellenfeldes auf verschiedene Spannungen gelegt, um die parasitären Ströme sowohl im Speicherzellenfeld insgesamt als auch direkt an den selektierten Wort- bzw. Bitleitungen zu minimieren. Außerdem werden eine selektierte Wortleitung/Bitleitung von beiden Seiten mit Spannung versorgt, wo durch der Spannungsabfall über dieser Leitung minimiert wer den kann.In the arrangement according to the invention or in the Invention According to the method, different lines of the MRAM Memory cell array placed at different voltages to the parasitic currents both in the memory cell array as a whole as well as directly on the selected word or bit lines to minimize. In addition, a selected word line / bit line powered from both sides where minimized by the voltage drop across this line that can.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:The invention will be described in more detail below with reference to the drawings explained. Show it:
Fig. 1 ein Speicherzellenfeld zur Erläuterung eines der Erfindung zugrundeliegenden Konzepts, Fig. 1 a memory cell array for explaining an underlying the inventive concept
Fig. 2 eine Wortleitung WL2 von Fig. 1 in Einzelheiten, Fig. 2 is a word line WL2 of Fig. 1 in detail,
Fig. 3 den Verlauf des Spannungsabfalles längs der Wort leitung WL2 von Fig. 2, Fig. 3 shows the profile of the voltage drop along the word line WL2 of Fig. 2,
Fig. 4 die Wortleitung WL2 von Fig. 1 bei erfindungsge mäßer Spannungsversorgung von beiden Seiten und Fig. 4, the word line WL2 of Fig. 1 with the power supply according to the invention from both sides and
Fig. 5 den Verlauf des Spannungsabfalles längs der Wort leitung von Fig. 4. Fig. 5 shows the course of the voltage drop along the word line of Fig. 4.
In den Figuren werden einander entsprechende Bauteile jeweils mit den gleichen Bezugszeichen versehen.Corresponding components are shown in the figures provided with the same reference numerals.
Fig. 1 zeigt eine Anordnung eines MRAM-Speicherzellenfeldes, mit der die hohen Verlustleistungen des Speicherzellenfeldes von Fig. 7 vermieden werden können. Es sei hier wiederum an genommen, dass die Zelle Z22 am Schnittpunkt der Wortleitung WL2 mit der Bitleitung BL2 ausgelesen werden soll. FIG. 1 shows an arrangement of an MRAM memory cell array with which the high power losses of the memory cell array from FIG. 7 can be avoided. It is again assumed here that cell Z22 should be read out at the intersection of word line WL2 with bit line BL2.
Bei dem der Anordnung von Fig. 1 zugrundeliegenden Konzept liegt nun nur die Wortleitung WL2 an der Spannung V2, während alle anderen Wortleitungen WL0, WL1, WL3 und WL4 sowie alle Bitleitungen BL0 bis BL4 an der Spannung V1 liegen. Dies hat zunächst den Vorteil, dass an allen Zellen außer den mit der Wortleitung WL2 verbundenen Zellen ein Spannungsabfall "0" auftritt, so dass für diese Zellen VZ = 0 gilt.In the concept on which the arrangement of FIG. 1 is based, only the word line WL2 is connected to the voltage V2, while all other word lines WL0, WL1, WL3 and WL4 and all bit lines BL0 to BL4 are connected to the voltage V1. First of all, this has the advantage that a voltage drop "0" occurs at all cells except the cells connected to the word line WL2, so that V Z = 0 applies to these cells.
Es sei angemerkt, dass durch Aktivierung von an den Bitlei tungen BL0 bis BL4 liegenden Sense Amplifiers (Leseverstärkern) jede gewünschte Speicherzelle bei entsprechender sich auf der Spannung V2 befindender Wortleitung angesteuert wer den kann.It should be noted that by activating the bitlei BL0 to BL4 Sense Amplifiers (sense amplifiers) every desired memory cell with corresponding itself who is on the voltage V2 word line driven that can.
Bei der in Fig. 1 gezeigten Anordnung tritt nun das Problem auf, dass durch jede Zelle Z20, Z21, Z22, Z23 und Z24 entlang der selektiven Wortleitung WL2 parasitäre Ströme abfließen. Bei n Zellen an einer Wortleitung WL ist somit der Gesamt strom IWL, der in eine selektive Wortleitung fließt, also beispielsweise in die Wortleitung WL2, n-mal so hoch wie bei dem Speicherzellenfeld von Fig. 7. Es liegt also eine Bezie hung IWL = n × IZ vor. Mit anderen Worten, auch durch die Zel len Z20, Z21, Z23 und Z24 fließt ein parasitärer Strom Ipar = IZ, wobei dieser Strom IZ der durch die selektive Zelle Z22 fließende Strom ist.The problem now arises in the arrangement shown in FIG. 1 that parasitic currents flow through each cell Z20, Z21, Z22, Z23 and Z24 along the selective word line WL2. With n cells on a word line WL, the total current I WL that flows into a selective word line, for example into the word line WL2, is therefore n times as high as in the memory cell array of FIG. 7. There is therefore a relationship I. WL = n × I Z before. In other words, a parasitic current I par = I Z also flows through the cells Z20, Z21, Z23 and Z24, this current I Z being the current flowing through the selective cell Z22.
Durch den Leitungswiderstand der Wortleitung und den hohen Wortleitungsstrom IWL entsteht ein Spannungsabfall ΔVWL über der Wortleitung WL2, wie dies in Fig. 2 veranschaulicht ist. Hier bedeutet RL den Widerstandswert jedes Abschnittes der Wortleitung WL zwischen einzelnen Bitleitungen BL0, BL1, . . ., BL4. Damit wird über jeder Zelle Z20, Z21, . . ., Z24 entlang der Wortleitung WL2 eine andere Spannung VZ und damit ein an derer Zellstrom erhalten, wie dies in Fig. 3 veranschaulicht ist, in der die Spannung an der Wortleitung WL über deren Länge aufgetragen ist. Soll beispielsweise die Zelle Z20 aus gelesen werden, so wird ein wesentlich höherer Strom als beim Auslesen der Zelle Z24 erhalten. Diese Differenz im Lesestrom kann Lesefehler bedingen.The line resistance of the word line and the high word line current I WL result in a voltage drop .DELTA.V WL across the word line WL2, as is illustrated in FIG. 2. Here R L means the resistance value of each section of the word line WL between individual bit lines BL0, BL1,. , ., BL4. So that over each cell Z20, Z21,. , ., Z24 along the word line WL2 receive a different voltage V Z and thus a different cell current, as illustrated in FIG. 3, in which the voltage on the word line WL is plotted over its length. For example, if cell Z20 is to be read out, a much higher current is obtained than when cell Z24 is read out. This difference in the reading current can cause reading errors.
Um nun den Spannungsabfall an der Wortleitung WL2 möglichst gering zu halten, werden, wie in den Fig. 4 und 5 veranschau licht ist, beide Enden dieser Wortleitung auf die hohe Span nung V2 gebracht. Damit wird über der Länge der Wortleitung WL2 der in Fig. 5 veranschaulichte Spannungsverlauf erhalten. Wie ein Vergleich mit Fig. 3 zeigt, ist hier der maximale Spannungsabfall längs der Wortleitung WL2 im Vergleich zu der Wortleitung WL2 von Fig. 3 auf etwa 1/4 vermindert. Mit ande ren Worten, durch Festklemmen der Wortleitung an beiden Enden auf ein vorbestimmtes Potential wird der Spannungsabfall über der Wortleitung reduziert, was parasitäre Ströme vermindert und Lesefehler infolge stark voneinander abweichender Zell ströme verhindert.In order to keep the voltage drop on the word line WL2 as low as possible, as is illustrated in FIGS . 4 and 5, both ends of this word line are brought to the high voltage V2. The voltage curve illustrated in FIG. 5 is thus obtained over the length of the word line WL2. As a comparison with FIG. 3 shows, the maximum voltage drop along the word line WL2 is reduced to about 1/4 in comparison to the word line WL2 from FIG. 3. In other words, by clamping the word line at both ends to a predetermined potential, the voltage drop across the word line is reduced, which reduces parasitic currents and prevents reading errors due to cell currents that differ greatly from one another.
Das Festklemmen der Spannung an beiden Enden einer Leitung kann auch auf eine Bitleitung oder auf Wortleitung und Bit leitung in einem Speicherzellenfeld angewandt werden. Das heißt, die Erfindung ist nicht darauf begrenzt, bei einem MRAM die Spannung an beiden Enden einer selektiven Wortlei tung festzuklemmen. Vielmehr ist es auch möglich, beim Lesen bei Bitleitung ebenfalls die Spannung an deren beiden Enden festzuhalten. Ebenso kann daran gedacht werden, in einem MRAM beim Lesen die Spannungen von selektierten Wortleitungen und selektiven Bitleitungen jeweils an deren Enden festzuklemmen.Clamping the voltage on both ends of a line can also be on a bit line or on word line and bit line are used in a memory cell array. The means the invention is not limited to one MRAM the tension at both ends of a selective word sequence to clamp. Rather, it is also possible when reading for bit lines, the voltage at both ends hold. It can also be thought of in an MRAM when reading the voltages of selected word lines and to clamp selective bit lines at their ends.
Claims (2)
- a) alle Wortleitungen (WL) und Bitleitungen (BL) ein schließlich der selektierten Bitleitung, aber mit Ausnahme der selektierten Wortleitung, oder
- b) alle Wortleitungen (WL) und Bitleitungen (BL) ein schließlich der selektierten Wortleitung, aber mit Ausnahme der selektierten Bitleitung,
dadurch gekennzeichnet, dass die selektierte Wortleitung bzw. Bitleitung an beiden Enden auf ein bestimmtes zweites, im Vergleich zum ersten Potential höheres Potential (V1) gelegt ist.1. Arrangement for reducing the voltage drop along a word line (WL) / bit line (BL) when reading a memory cell (Z22) which is arranged in a memory cell array of an MRAM memory and which at the intersection of a selected word line (WL2) with a selected bit line (BL2) ge, where:
- a) all word lines (WL) and bit lines (BL) including the selected bit line, but with the exception of the selected word line, or
- b) all word lines (WL) and bit lines (BL) including the selected word line, but with the exception of the selected bit line,
characterized in that the selected word line or bit line is connected at both ends to a specific second potential (V1) which is higher than the first potential.
- a) alle Wortleitungen und Bitleitungen einschließlich der selektierten Bitleitung, aber mit Ausnahme der selektierten Wortleitung, oder
- b) alle Wortleitungen (WL) und Bitleitungen (BL) ein schließlich der selektierten Wortleitung, aber mit Ausnahme der selektierten Bitleitung,
dadurch gekennzeichnet, dass die selektierte Wortleitung bzw. Bitleitung an beiden Enden auf ein bestimmtes zweites, im Vergleich zum ersten Potential (V1) höheres Potential (V2) gelegt wird.2. Method for reducing the voltage drop along a word line (WL) / bit line (BL) when reading a memory cell (Z22) which is arranged in a memory cell array of an MRAM memory and which at the intersection of a selected word line (WL2) and a selected bit line (BL2) ge, where:
- a) all word lines and bit lines including the selected bit line, but with the exception of the selected word line, or
- b) all word lines (WL) and bit lines (BL) including the selected word line, but with the exception of the selected bit line,
characterized in that the selected word line or bit line is connected at both ends to a specific second potential (V2) which is higher than the first potential (V1).
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |