DD285463A5 - METHOD FOR REGULATING THE BURNING FLASH POSITION ON A VACUUM BOW EVAPORATOR - Google Patents
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Abstract
Das Verfahren zur Regelung der Brennfleckposition bei einem Vakuumbogenverdampfer kann bei allen Verdampfern dieser Bauart eingesetzt werden, um eine gleichmaeszige Verdampfung des Katodenmaterials zu sichern. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren anzugeben, bei dem die Brennfleckposition derart beeinfluszt wird, dasz das Katodenmaterial eines Vakuumbogenverdampfers weitgehend gleichmaeszig ueber die gesamte Katodenoberflaeche abgetragen wird. Erfindungsgemaesz wird die Aufgabe derart geloest, dasz in bekannter Weise im Bereich der Katodenoberflaeche aeuszere, im wesentlichen parallel zur Erosionsflaeche der Katode verlaufende Magnetfelder, die wenigstens zu einem Teil des Begrenzungsrandes der Erosionsflaeche parallele Komponenten aufweisen, angewendet werden, dasz mittels einer Sonde auszerhalb und isoliert zur Katode das Floatingpotential des Plasmas erfaszt wird und dasz bei Erreichen eines vorgegebenen Sollwertes die Richtung des aeuszeren Magnetfeldes geaendert wird. Fig. 1{Vakuumbogenverdampfung; Brennfleckposition, regelbar; Magnetfelder; Plasmasonde}The method of controlling the focal spot position in a vacuum arc evaporator can be used on all evaporators of this type to ensure uniform evaporation of the cathode material. The object of the invention is to specify a method in which the focal spot position is influenced in such a way that the cathode material of a vacuum arc evaporator is removed substantially uniformly over the entire cathode surface. According to the invention, the object is achieved by applying, in a known manner in the area of the cathode surface, additional magnetic fields substantially parallel to the erosion surface of the cathode, which have components parallel to at least part of the boundary edge of the erosion surface, which are separated and isolated by means of a probe to the cathode, the floating potential of the plasma is detected and that upon reaching a predetermined setpoint, the direction of the external magnetic field is changed. Fig. 1 {Vacuum arc evaporation; Focal spot position, adjustable; magnetic fields; Plasma probe}
Description
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Das Verfahren zur Regelung der Brennfleckposition bei einem Vakuumbogenverdampfer kann bei allen Verdampfern dieser Bauart eingesetzt werden, um eine gleichmäßige Verdampfung des Katodenmaterials zu sichern.The method of controlling the focal spot position in a vacuum arc evaporator may be used on all evaporators of this type to ensure uniform vaporization of the cathode material.
Aufbau und Wirkungsweise von Verdampfern, diedasPrinzipderVakuumbogenentladung nutzen, sind bereits beschrieben und weitgehend bekannt (z. B. Neue Hütte 32 [1987) 4,121). Der wesentliche Vorteil dieses Verdampferprinzips besteht darin, daß mit vergleichsweise einfachen Einrichtungen hohe Abscheideraten erreicht werden können. Darüber hinaus zeichnet sich der Vakuumbogen-Verdampfer dadurch aus, daß der vom Katodenbrennfleck freigesetzte Dampf hoch ionisiert ist und die Ionen beträchtliche kinetische Energien (100...10OeV) besitzen, wodurch Schichten hoher Dichte und guter Haftfestigkeit erzeugt werden können.Construction and operation of evaporators that use the principle of vacuum arc discharge have already been described and are widely known (eg Neue Hütte 32 [1987] 4,121). The main advantage of this evaporator principle is that with relatively simple means high deposition rates can be achieved. In addition, the vacuum-arc evaporator is characterized in that the vapor released from the cathode spot is highly ionized and the ions have significant kinetic energies (100... 10 OeV), whereby layers of high density and good adhesion can be produced.
Der prinzipielle Nachteil besteht darin, daß der Brennfleck sich völlig stochastisch auf der Katodenfläche bewegt. Daraus ergibt sich eine ungleichmäßige Erosion der Katodenoberfläche, die die Einsatzdauer der Katode herabsetzt und die Reproduzierbarkeit der Schichteige;!schäften verringert. Insbesondere trifft diese Einschätzung bei solchen Katodonmaterialien zu, bei denen der Brennfleck eine niedrige Beweglichkeit besitzt (z. B. Cu, C). Hierbei kommt es zur Herausbildung tiefer Erosionskrater, wodurch mit wachsender Tiefe die Richtungsverteilung des ionisierten Dampfes geändert wird und letztlich zum Verlöschen der Entladung führt. Nach dem Stand der Technik gibt es bereits verschiedene Versuche mittels magnetischer Felder, die Brennfleckbewegung auf der Katode zu beeinflussen. So beansprucht die DD-WP 265 507 axialsymmetrische Magnetfelder mit einer zur Katodenoberfläche parallelen Feldkomponente. D;,e DD-WP 265506 setzt magnetische Drehfelder zur Stimulierung der Brennfleckbewegung ein.The principal disadvantage is that the focal spot moves completely stochastically on the cathode surface. This results in uneven erosion of the cathode surface, which reduces the service life of the cathode and reduces the reproducibility of the layers! In particular, this assessment applies to such Katodonmaterialien where the focal spot has a low mobility (eg, Cu, C). This results in the formation of deep erosion craters, which changes the directional distribution of the ionized vapor with increasing depth and ultimately leads to extinction of the discharge. According to the prior art, there are already various attempts by magnetic fields to influence the focal spot movement on the cathode. For example, DD-WP 265 507 claims axially symmetric magnetic fields with a field component parallel to the cathode surface. D ; , e DD-WP 265506 uses rotating magnetic fields to stimulate the focal spot movement.
Mit diesen Methoden ist zwar eine Beeinflussung der Brennfleckbewegung erreichbar, es ist aber weder möglich die jeweilige Fleckposition zu bestimmen noch sicher zu verhindern, daß der Brennfleck die Katodenoberfläche verläßt, bzw. bevorzugt am Rand der Katode brennt und dort Schäden an der Einrichtung hervorruft.Although it is possible to influence the focal spot movement with these methods, it is neither possible to determine the respective spot position nor to reliably prevent the focal spot from leaving the cathode surface, or preferably burning at the edge of the cathode and causing damage to the device there.
Zur Verhinderung des Ausbrechens des Brennflecks wurde auch vorgeschlagen (DE-PS 3345442), einen magnetisierbar permeablen Begrenzungsring um den gewünschten Erosionsbereich anzuordnen. Dieser bewirkt, daß der Brennfleck auf die Erosionszone der Katode zurückgetrieben wird.To prevent the breaking out of the focal spot has also been proposed (DE-PS 3345442) to arrange a magnetizable permeable boundary ring around the desired erosion area. This causes the focal spot to be driven back to the erosion zone of the cathode.
Die EP 277341 schlägt vor, den Begrenzungsring aus gut leitfähigem Material, z. B. Kupfer, herzustellen. Diese Lösung verhindert vor allem bei höheren Stromstärken mit mehreren Brennflecken das Ausbrechen des Vakuumbogens. Die Lösung weist überraschende Vorteile auf, löst das Problem aber nicht, das die ungleichmäßige Erosion der Katode zu einer relativ geringen Ausnutzung des Katodenmaterials und somit zum instabilen Brennverhalten der Bogenentladung führt. Derartige Probleme treten insbesondere bei Katodenmaterialien auf, bei deren die Orennfleckbewegung gering ist, z. B. Cu, C. Hier kommt es zur bereits erwähnten Herausbildung tiefer Erosionskrater, die die Funktion der Einrichtung behindern können. Die stochastische Brennfleckbewegung auf der Katode innorhalb des Begrenzungsringes ruft durch die ungleichmäßige Katodenerosion weiterhin eine e. höhte Dropletemission und oine Verringerung der Schichtqualität bzw. der Reproduzierbarkeit der Schichtqualität hervor. Zur Erzielung einer gleichmäßigen Katodenerosion wurde auch bereits vorgeschlagen, gepulste Bogenentladungen mit einer Brenndauer von einigen μβ, die beispielsweise durch Laser-Plasmen gezündet werden, einzusetzen. Dinse Lösungen sind jedoch technisch sehr aufwendig und führen zu relativ geringen Beschichtungsraten, da die Pausenzeit zwirnen zwei Impulsen aus physikalischen Gründen im allgemeinen ein Vielfaches der Impulsdauer beträgt.EP 277341 proposes that the limiting ring of good conductive material, eg. As copper, manufacture. This solution prevents especially at higher currents with multiple focal spots the breaking out of the vacuum arc. The solution has surprising advantages, but does not solve the problem that the uneven erosion of the cathode leads to a relatively low utilization of the cathode material and thus to the unstable burning behavior of the arc discharge. Such problems occur in particular in cathode materials, in which the Orennfleckbewegung is low, z. B. Cu, C. Here it comes to the already mentioned formation of deep erosion craters, which can hinder the function of the device. The stochastic focal spot movement on the cathode within the boundary ring continues to cause an e due to the uneven cathode erosion. increased droplet emission and oine reduction of layer quality or reproducibility of layer quality. To achieve uniform cathode erosion, it has also been proposed to use pulsed arc discharges with a burning time of a few μβ, which are ignited, for example, by laser plasmas. However, Dinse solutions are technically very complex and lead to relatively low coating rates, since the pause time between two pulses for physical reasons is generally a multiple of the pulse duration.
Die Erfindung verfolgt das Ziel, mittels leistungsfähiger Vakuumbogenverdampfer Schichten mit großer Homogenität bei hoher Wirtschaftlichkeit herzustellen.The invention pursues the goal of producing layers with high homogeneity and high economic efficiency by means of efficient vacuum arc evaporators.
-2- 285 463 Darlegung des Wesens der Erfindung-2- 285 463 Explanation of the nature of the invention
das Katodenmaterial eines Vakuumbogenverdampfers weltgehend gleichmäßig über die gesamte Katodenoberfläche abgetragen wird. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe derart gelöst, daß in bekannter Weise im Bereich der Katodenoberfläche äußere, im wesentlichen parallel zur Erosionsfläche der Katode verlaufende Magnetfelder, die wenigstens zu einem Teil desthe cathode material of a vacuum arc evaporator is removed world-wide evenly over the entire cathode surface. According to the invention the object is achieved such that in a known manner in the region of the cathode surface outer, substantially parallel to the erosion surface of the cathode extending magnetic fields, at least part of the
außerhalb und isoliert zur Katode das Floatingpotential des Plasmas erfaßt wird und daß bei Erreichen eines vorgegebenenoutside and isolated to the cathode, the floating potential of the plasma is detected and that upon reaching a predetermined
einzelnen Verdampfer zu ermitteln und wird in der Regel so festgelegt, daß er gerade dann erreicht wird, wenn der Brennfleck den Rand der Erosionsfläche erreicht hat, da dann das Floatingpotential am höchsten ist.determine individual evaporator and is usually determined so that it is just reached when the focal spot has reached the edge of the erosion surface, since then the floating potential is highest.
durch die äußeren Magnetfelder aufgeprägt wird. Wenn beim Erreichen des Sollwertes an der Sonde die Richtung des äußerenis impressed by the external magnetic fields. If the direction of the outer
entgegengesetzten Verschiebung des Katodenfleckes und des vom Katodenfleck wegströmenden Plasmas.opposite displacement of the cathode spot and the plasma flowing away from the cathode spot.
btosionsfläche der Katode parallel verlaufen, wird der Aufenthaltsbereich des Katodenflecks stets in Richtung des Randes derWhen the cathode surface is parallel to the surface of the cathode, the location area of the cathode spot is always in the direction of the edge of the cathode spot
der Katode identisch ist und diese konzentrisch umschließt, stellt sich nun entsprechend der aktuellen Fleckposition und derThe cathode is identical and surrounds concentrically, now turns according to the current spot position and the
das Floatingpotential eine Funktion des Abstandes des Fleckes von der Sonde ist.the floating potential is a function of the distance of the spot from the probe.
aktuellen Magnetfeldes von Bereichen mit ungünstigen Existenzbedingungen nach Bereichen mit besseren verschoben werden.Current magnetic field of areas with unfavorable conditions for areas to be shifted with better.
wird das niedrigste Plasmapotential gemessen, wenn der Brennfleck sich dem Rand nähert. Danach wird das Magnetfeld geändert und der Brennfleck wird in die entsprechende neue Vorzugsrichtung getrieben bis er wieder im Randbereich an derThe lowest plasma potential is measured as the focal spot approaches the edge. Thereafter, the magnetic field is changed and the focal spot is driven in the appropriate new preferred direction until it again in the edge region at the
ein Magnetsystem aufzubauen, bei dei η die Umschaltung des Magnetfeldes drehfeldähnlich erfolgt.To build a magnetic system, in which η the switching of the magnetic field is similar to a rotating field.
im Krater verhindert werden, da sich dabei das gemessene Floatingpotential des Plasmas an der Sonde erhöht.be prevented in the crater, as this increases the measured floating potential of the plasma at the probe.
verlassen kann. Günstigerweise wird das Potential der erfindungsgemäßen Sonde gegenüber dem der Anode dercan leave. Conveniently, the potential of the probe according to the invention over that of the anode of the
erfindungsgemäßen Regelung der Brennfleckbewegung und in Fig. 2: die Draufsicht zu Fig. 1.according to the invention control of the focal spot movement and in Fig. 2: the plan view of Fig. 1st
einer Anode 2 mit einem Innendurchmesser von 150 mm angeordnet. Zur Steuerung der Fleckbewegung auf deran anode 2 with an inner diameter of 150 mm. To control the stain movement on the
verlängerten Polschuhen 6, die unmittelbar an die Erosionsfläche 3 der Katode 1 herangeführt sind. Koaxial um die Katode 1 befindet sich eine Sonde 7 zur Messung des Floatingpotentiais des Plasmas und als elektrostatische Abschirmung zurextended pole pieces 6, which are brought directly to the erosion surface 3 of the cathode 1. Coaxially around the cathode 1 is a probe 7 for measuring the floating potential of the plasma and as an electrostatic shield for
elektrostatischen Abschirmung 7 entsprechend der Fleckposition ein Potential von -5 V bis -19Vgegenüber der Anode 2ein.Electrostatic shield 7 according to the spot position has a potential of -5 V to -19V compared to the anode 2ein.
erodierten Gebieten der Erosionsfläche 3.eroded areas of the erosion area 3.
der Magnetfeldrichtung bewirkt.the magnetic field direction causes.
magnetischen Feldstärke in Richtung des Randes der Erosionsfläche 3 getrieben. Bei Erreichen eines elektrischen Potentials der elektrostatischen Abschirmung 7 von -13V oder -18V gegenüber der Anode 2 wird das Magnetfeld des Magnetsystems weitergeschaltet, so daß der Katodenfleck von den kritischen Bereichen weg auf andere Positionen getrieben wird.magnetic field strength in the direction of the edge of the erosion surface 3 driven. Upon reaching an electric potential of the electrostatic shield 7 of -13V or -18V with respect to the anode 2, the magnetic field of the magnet system is indexed, so that the cathode spot is driven away from the critical areas to other positions.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4329155A1 (en) * | 1993-08-30 | 1995-03-02 | Bloesch W Ag | Magnetic field cathode |
EP2720249A2 (en) | 2007-04-17 | 2014-04-16 | Sulzer Metaplas GmbH | Arc evaporation chamber with a vacuum arc evaporation source |
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Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4223592C2 (en) * | 1992-06-24 | 2001-05-17 | Leybold Ag | Arc vaporization device |
DE10006336C2 (en) * | 2000-02-10 | 2002-01-17 | Dresden Ev Inst Festkoerper | Process for depositing thin layers |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4329155A1 (en) * | 1993-08-30 | 1995-03-02 | Bloesch W Ag | Magnetic field cathode |
EP2720249A2 (en) | 2007-04-17 | 2014-04-16 | Sulzer Metaplas GmbH | Arc evaporation chamber with a vacuum arc evaporation source |
EP2720248A2 (en) | 2007-04-17 | 2014-04-16 | Sulzer Metaplas GmbH | Vacuum arc evaporation source, and arc evaporation chamber with a vacuum arc evaporation source |
DE102022118927A1 (en) | 2022-07-28 | 2024-02-08 | Rainer Cremer | Method for evaporating a cathode in a vacuum arc evaporator |
Also Published As
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DE4008850A1 (en) | 1991-01-03 |
FR2648955A1 (en) | 1990-12-28 |
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