DD218087A1 - DIELECTRIC CERAMIC MATERIAL - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Elektrotechnik/Elektronik und betrifft niedrig sinternde dielektrische keramische Werkstoffe fuer Vielschichtkondensatoren und Dickschichtpasten. Das Ziel der Erfindung besteht in der Herstellung niedrig sinternder Keramiken mit DK-Werten von 400 bis 1 500, die die sogenannten halbstabilen Keramiken auf BaTiO3-Basis mit Sintertemperaturen um 1 400 C in den Stabilitaetswerten uebertreffen. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, dielektrische Werkstoffe mit niedrigen Sintertemperaturen zu entwickeln, die bei DK-Werten von etwa 400-1 500 hohe Stabilitaet hinsichtlich Temperaturabhaengigkeit, Feldstaerkeabhaengigkeit und Alterung der DK besitzen, darueber hinaus guenstige Verlustfaktoren ( 250 10 4) und einen hohen Isolationswiderstand ( 1010) aufweisen. Diese Aufgabe ist nach der Erfindung mit einem dielektrischen Werkstoff geloest, dessen Grundzusammensetzung einem ternaeren System mit folgenden Einzelkomponenten entspricht:III Ferroelektrikum vom Perowskit-TypIII Antiferroelektrikum vom Perowskit-TypIII BiFeO3,wobei fuer ABCDE folgende Koordinaten im Dreistoffkoordinatensystem festliegen (Angaben in Mol-%):I FerroelektrikumII AntiferroelektrikumIII BiFeO3A501040B105040C107020D3067 3E8710 3The invention relates to the field of electrical engineering / electronics and relates to low-sintering dielectric ceramic materials for multilayer capacitors and thick-film pastes. The aim of the invention is the production of low-sintering ceramics with DK values of 400 to 1500, which exceed the so-called semi-stable ceramics based on BaTiO3 with sintering temperatures of 1 400 C in the stability values. The invention has for its object to develop dielectric materials with low sintering temperatures, which at DK values of about 400-1 500 have high stability with respect to temperature dependence, Feldstaerkeabhaengigkeit and aging of the DK, beyond favorable dissipation factors (250 10 4) and a high Insulation resistance (1010) have. This object is achieved according to the invention with a dielectric material whose basic composition corresponds to a ternary system with the following individual components: III perovskite type III ferroelectric III perovskite type III BiFeO3 antigroelectric, the following coordinates being in the three-coordinate system for ABCDE (data in mol%) : I Ferroelectric II Antiferroelectric III BiFeO3A501040B105040C107020D3067 3E8710 3
Description
Dielektrischer keramischer Werkstoff Anwendungsgebiet der ErfindungDielectric ceramic material Field of application of the invention
Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Elektrotechnik/ Elektronik und betrifft einen dielektrischen keramischen Werkstoff, welcher als Dielektrikum für Keramikkondensatoren, vorzugsweise für Keramikvielschichtkondensatoren und auch als Wirksubstanz für Dickschichtpasten, die zum Drucken von Kodensatoren eingesetzt werden, anwendbar ist·The invention relates to the field of electrical engineering / electronics and relates to a dielectric ceramic material, which is applicable as a dielectric for ceramic capacitors, preferably for ceramic multilayer capacitors and also as active substance for thick film pastes, which are used for printing of Kodensatoren ·
For die Realisierung von Kondensatoren im Rahmen der Mikroelektronik werden in steigendem Maße dielektrische keramische Werkstoffe mit niedrigen Sintertemperaturen benötigt· Die niedrige Sintertemperatur ist bedeutungsvoll für Einbrennpasten der Dickschichttechnik aber auch für Vielschicht- oder MondLithkondensatoren. Im letzten Fall vor allem für eine Pd-Substitution beim Elektrodenmaterial und für eine vereinfachte Herstellungstechnologie· Niedrig sinternde dielektrische Werkstoffe werden zur Zeit so hergestellt, daß keramische Pulver verschiedener Zusammensetzung in eine Glassubstanz mit niedrigem Schmelzpunkt eingebettet werden· Mit diesen Glaskeramiken erreicht man DK-Werte von 20 bis 1200,im besten Falle von 2500, wobei mit steigender DK Qualitätsabstriche in Bezug auf Haftbarkeit u.a. erfolgen müssen. Zur Realisierung sehr hoher DK-Werte für große Volumenkapazitäten sind Glaskeramiken nicht verwendbar. Dielektrische Werkstoffe mit niedriger Sinterten»-Dielectric ceramic materials with low sintering temperatures are increasingly required for the realization of capacitors in the context of microelectronics. The low sintering temperature is important for thick film technology stoving pastes but also for multilayer or lunar lithium capacitors. In the latter case, especially for a Pd substitution in the electrode material and for a simplified manufacturing technology · Low-sintering dielectric materials are currently produced so that ceramic powders of different composition are embedded in a glass substance with a low melting point · With these glass ceramics, DK values are achieved from 20 to 1200, in the best case of 2500, whereby with increasing DK quality deductions with respect to liability among other things must be done. Glass ceramics can not be used to realize very high DK values for large volume capacities. Dielectric materials with low sintering »
peratur und DK-Werten bis 30 000 können aus kombinierten Ferroelektrika, die im Perowskit-Typ kristallisieren, aufgebaut werden. Teilweise werden auch Antiferroelektrika mit eingesetzt. Die Zahl der möglichen Werkstoffsysteme mit hoher DK ist durch die Forderung nach einer niedrigen Sintertemperatur stark eingeengt. Eine besondere Rolle spielen die sogenannten halbstabilen Werkstoffe. Sie erreichen nicht die Stabilität der Werkstoffe Typ I (z.B. NPO), sind aber den Werkstoffen vom Typ II hinsichtlich Temperaturverlauf der DK, Feldstärkeabhängigkeit, Alterung u.a. Stabilitätsparametern weit überlegen. Dazu kommt die relativ große DK im Bereich von etwa 700 - 1200, die in Verbindung mit den Stabilitätswerten einen sehr günstigen Kompromiß darstellt. Zum technischen Stand bei den hochsinternden Keramiken gehören folgende Werte:temperature and DK values up to 30,000 can be built up from combined ferroelectrics that crystallize in the perovskite type. Partly antiferroelectrics are also used. The number of possible material systems with high DK is severely limited by the requirement for a low sintering temperature. A special role is played by the so-called semi-stable materials. They do not achieve the stability of Type I materials (e.g., NPO), but are of type II materials in terms of temperature history of the DK, field strength dependence, aging, and the like. Far superior to stability parameters. In addition there is the relatively large DK in the range of about 700 - 1200, which, in combination with the stability values, represents a very favorable compromise. The technical status of high-sintering ceramics includes the following values:
DK-Wert Änderung der DK von -55 0C bis +125°CDK value Change in the DK from -55 0 C to + 125 ° C
400 +. 3 %400 +. 3%
700 '. '+7.SJ 1200 £ 10 %700 '. '+ 7.SJ 1200 £ 10%
2000 £ 15 % 2000 £ 15 %
Die Entwicklung analoger Werkstoffe auf niedrig sinternder Basis, die in diesem breiten Temperaturintervall die genannten Temperaturabhängigkeiten übertreffen, ist noch nicht gelungen. So besitzen die angebotenen Dickschichtpasten bei einer DK um 1200 eine DK-Änderung von _+ 12 % in einem eingeschränkten Temperaturbereich und altern 2-3 % pro Dekade. Bei einem bekannten derartigen Werkstoff treten bei DK-Werten um 1100 im Temperaturbereich von 0 - 100 ° Änderungen um + 20 % ein (US-PS 3 852 077). Die DK ändert sich sehr stark mit der Sinterteraperatur.The development of analogous materials on a low sintering basis, which exceed the mentioned temperature dependencies in this broad temperature range, has not yet been achieved. Thus, the thick film pastes offered at a DK around 1200 have a DK change of _ + 12 % in a restricted temperature range and age 2-3 % per decade. In a known material of this type, changes of + 20% occur at DK values around 1100 in the temperature range from 0 to 100 ° (US Pat. No. 3,852,077). The DK is changing very much with the sinterertaperatur.
Zusammenfassend kann gesagt werden, daß niedrig sinternde halbstabile Keramiken schlechtere dielektrische Daten besitzen als ihre hochsinternden Vorläufer.In summary, low-sintering semi-stable ceramics have poorer dielectric data than their high-sintering precursors.
Ziel der ErfindungObject of the invention
Das Ziel der Erfindung besteht in der Herstellung niedrig sinternder Keramiken mit OK-Werten von 400 bis 1500, die die sogenannten halbstabilen Keramiken auf BaTiO,-Basis mit Sintertemperaturen um 1400 C in den Stabilitätswerten übertreffen.The aim of the invention is to produce low-sintering ceramics with OK values of 400 to 1500, which exceed the so-called semi-stable ceramics based on BaTiO, with sintering temperatures around 1400 C in the stability values.
Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, dielektrische Werkstoffe mit niedrigen Sintertemperaturen zu entwickeln, die bei DK-Werten von etwa 400 - 1500 hohe Stabilität hinsichtlich Temperaturabhängigkeit, Feldsterkeabhängigkeit und Alterung der DK besitzen, darüber hinaus günstige Verlustfaktoren ( < 250 10 ) und einen hohen Isolationswiderstand ( > 10 ) aufweisen. Diese Aufgabe ist nach der Erfindung mit einem dielektrischen keramischen Werkstoff gelöst, dessen ürundzusammensetzung einem ternären System mit folgenden Einzelkomponenten entspricht:The invention has for its object to develop dielectric materials with low sintering temperatures, which have high stability with respect to temperature dependence, Feldsterkeabhängigkeit and aging of the DK at DK values of about 400 - 1500, in addition favorable loss factors (<250 10) and a high insulation resistance (> 10). This object is achieved according to the invention with a dielectric ceramic material whose ürundzusammensetzung corresponds to a ternary system with the following individual components:
I Ferroelektrikum vom Perowskit-Typ . II Antiferroelektrikum vom Perowskit-Typ III BiFeO3,I Perovskite-type ferroelectric. II perovskite type III BiFeO 3 antiferroelectric,
wobei für ABCDE folgende Koordinaten im Dreistoffkoordinatensystem festliegen (Angaben in Mol%):where the following coordinates are defined in the three-coordinate system for ABCDE (data in mol%):
I Ferroelektrikum II Antiferroelektrikum III BiFeO,I Ferroelectric II Antiferroelectric III BiFeO,
10 4010 40
50 4050 40
70 2070 20
67 367 3
10 310 3
Die Erfindung kann in der nachstehenden Weise vorteilhaft ausgestaltet sein:The invention can be advantageously designed in the following way:
Es werden für die Einzelkomponente I PbTiO. und für II Pb LM9y2W/2J°3 verwendet, wobei im DreistoffkoordinatensystemThere are PbTiO for the individual component I. and for II Pb L M 9y2 W / 2J ° 3, where in the three- coordinate system
folgende Koordinaten BKLH festliegen (Angaben in Mol%):following coordinates BKLH are fixed (in%):
- 4 Pb ] Mg1, „VW I 0, BiFeO- 4 Pb] Mg 1 , "VW I 0, BiFeO
50 4050 40
62 2862 28
62 862 8
50 2050 20
Es werden für die Einzelkomponente I Pb J FeOy,Wv, I 0, und für PbZrO, verwendet, wobei im Dreistoffkoordinatensystem folgende Koordinaten festliegen (Angaben inFor the individual component I Pb J Fe O y, W v , I 0, and for PbZrO, the following coordinates are specified in the three-coordinate system (details in FIG
Pb |.Fe«/,Wi„ IO3 PbZrO3 BiFeO3 Pb | .Fe «/, Wi" IO 3 PbZrO 3 BiFeO 3
F 70 10 20F 70 10 20
G 35 45 20G 35 45 20
H 50 45 5H 50 45 5
E 85 10 5E 85 10 5
Es werden für die Einzelkomponente I Pb [^9]/χ^2/ζ1 °3 unc* für II Pb[Mg^2VVw2Jo3 verwendet, wobei im Dreistoffkoordinatensystem folgende Koordinaten NOPQR festliegen (Angaben in Mol%):For the single component I Pb [^ 9] / χ ^ 2 / ζ1 ° 3 unc * for II Pb [Mg ^ 2 VVw 2 Jo 3 , the following coordinates NOPQR being specified in the three-coordinate system (data in mol%):
Pb [ Mg/3Nb2/3 ] O3 Pb [ Mg/2W/2 ] O3 BiFeO3 Pb [Mg / 3 Nb 2/3] O 3 Pb [Mg / 2 W / 2] O 3 BiFeO 3
30 4030 40
35 3535 35
35 l0 35 l0
12 1012 10
12 2512 25
die Einzelkomponente I Pb [Fe2/3VV3 J °3 unci *ür 1 °3 verwendet > wobei'im Dreistoffkoordinatensystem folgende Koordinaten ANDST festliegen (Angaben in Mol%):the individual component I Pb [Fe 2/3 V V3 J unci ° 3 * ÜR 1 ° 3 used> wobei'im ternary coordinate system the following coordinates Andst are fixed (in mol%):
Pb[Fe273W73]O3 Pb [ Mg/2W/2 ] O3 BiFeO3 Pb [Fe 273 W 73 ] O 3 Pb [Mg / 2 W / 2 ] O 3 BiFeO 3
10 4010 40
30 4030 40
67 367 3
37 337 3
10 3010 30
Es werden fur die Einzelkomponente I Pb [ Fey2Nby2 ] 0_ und für II pb [Mg^2Wy2 ] 0_ verwendet, wobei im Dreistoffkoordinatensystem folgende Koordinaten UBVWXY festliegen (Angaben in Mol%·)For the individual component I Pb [Fey 2 Nby 2 ] 0_ and for II p b [Mg ^ 2 Wy 2 ] 0_, the following coordinates UBVWXY are specified in the three-coordinate system (data in mol% ·)
PB / rOl/«HUWnPB / rOl / «HUWn
Nach der Erfindung kann der Werkstoff zusätzlich ,0,2 bis 2 Massel MnO« und/oder 0,1 bis 4 Masse% SiO9 enthalten. Zweckmäßigerweise wird der Werkstoff in eine Glasphase, vorzugsweise PbSiO,, eingelagert, wobei deren Anteil 5 bis 35 Vol.% ausmacht.According to the invention, the material may additionally contain 0.2 to 2 mass MnO 2 and / or 0.1 to 4 mass% SiO 9 . The material is expediently incorporated into a glass phase, preferably PbSiO ,, the proportion of which amounts to 5 to 35% by volume.
Ausführungsbeispielembodiment
Die Erfindung ist nachstehend an Hand mehrerer Ausführungsbeispiele näher erläutert:The invention is explained below with reference to several embodiments:
I .I.
System: PbTiO3 - Pb [M9/2 Wy2^°3 " BiFe03System: PbTiO 3 - Pb [M 9/2 W y2 ^ ° 3 "BiFe0 3
PbTiO3 (Ferroelektrikum) Pb [M9/2W/2 ] °PbTiO 3 (ferroelectric) Pb [ M 9/2 W / 2] °
3 BiFeO3 BiFeO
MnCO 05 Gew% 05 Gew% MnCO 05 wt% 05 wt %
Zusatz: MnCO3 0,5 Gew.% 05 Gew% Addition MnCO 3 0.5% by 05 weight%.
Pb3O4, TiO2, MgCO3, WO3, Bi2O31 Fe2O3 und MnCO3 werden als Ausgangsstoffe entsprechend obiger Versatzangaben eingewogen, in einer Pulverisette naß gemischt und nach dem Trocknen bei 850 p/ 2 h verglüht. Das erhaltene Pulver wird erneut feingemahlen und in Tabletten von 12 mm 0 und 1 mm Stärke gepreßt. Das SinternPb 3 O 4, TiO 2, MgCO 3, WO 3, Bi 2 O 31 Fe 2 O 3 and MnCO 3 were weighed as starting materials in accordance with the above displacement information, wet-mixed in a Pulverisette and burns up after drying at 850 p / 2 h. The resulting powder is finely ground again and pressed into tablets of 12 mm 0 and 1 mm thickness. The sintering
der Scheiben erfolgt bei 900 0C/lh. Nach einer Kontaktierung mit Poliersilber wurden folgende Daten gemessen:the discs are at 900 0 C / lh. After contact with polishing silver, the following data were measured:
RiS TKB ο TKc O RiS TK B o TK c O
-25-.+850C -5% -+125°C-25 -. + 85 0 C -5% - + 125 ° C
Versatz 1 Versatz 2Offset 1 offset 2
1200 9001200 900
200.10"*4 1O12Tl -1/-2% -2/-4% 150.1O"4 1O12Zl -2/-1% -4/-2%200.10 "* 4 1O 12 Tl -1 / - 2% -2 / -4% 150.1O" 4 1O 12 Zl -2 / -1% -4 / -2%
Feldstärkeabhängigkeit 1 kV/mm Gleichsp.Field strength dependence 1 kV / mm Gleichsp.
12 Mol% BiFeO3 + 0,5 Masse% MnCO3 12 mol% BiFeO 3 + 0.5 mass% MnCO 3
Pb3O4, Fe3O3, VVO3, ZrO2, Bi3O3 und MnCO3 werden als Ausgangsrohstoffe entsprechend obiger Versatzeinwaage eingewogen und in einer Pulverisette naß gemischt und nach dem Trocknen bei 850 2/2h verglüht. Das erhaltene Pulver wird erneut feingemahlen und in Tabletten von 12 mm 0 und 1 mm Stärke gepreßt. Das Sintern der Scheiben erfolgt bei 870 0C (1 Std. Haltezeit) . Die Kontaktierung erfolgt mit Poliersilber, wobei folgende Daten erhalten wurden:Pb 3 O 4, Fe 3 O 3, VVO 3, ZrO 2, Bi 3 O 3 and MnCO 3 were weighed as starting raw materials according to the above Versatzeinwaage and wet-mixed in a Pulverisette and burns up after drying at 850 2 / 2h. The resulting powder is finely ground again and pressed into tablets of 12 mm 0 and 1 mm thickness. The sintering of the discs takes place at 870 ° C. (1 hour holding time). The contact is made with polishing silver, whereby the following data were obtained:
tan ei RisTan egg Ris
2000 < 180 >102000 < 180> 10
"4 " 4
11Jl 11 Jl
Bereich -25 °C- +125 0C i 15Range -25 ° C- + 125 C 0 i 15
Beispiel 3 System: Pb Example 3 System: Pb
O3 - Pb [O 3 - Pb [
] O3 - BiFeO] O 3 - BiFeO
50 Mol% Pb [Mgy3 Nb2/3-] °3 23 Mol% Pb lMgi/2Wy2 JO3 27 Mol% BiFeO3 + 0,5 Massed MnCO3 50 mole% Pb [Mgy 3 Nb 2 / 3-] ° 3 23 mole% Pb lMg i / 2 Wy 2 JO3 27 mole% BiFeO 3 + 0.5 Massed MnCO 3
Die Aufbereitung aus den Ausgangsrohstoffen erfolgt entsprechendThe treatment from the raw materials takes place accordingly
dem Beispiel 2.Example 2.
Folgende Werte wurden erhalten:The following values were obtained:
£ 900£ 900
tan ei <150 . 1O-4 tan egg <150. 1O -4
Ris >5 . 1O11-^Ris> 5. 1O 11 - ^
ΤΚ,τ Bereich -25 °t- +125 0C +2 & ΤΚ, τ range -25 ° t- +125 0 C +2 &
System: Pb [Fe2^3Vy3 ] O3 - Pb [^9y^y2 Jo3 - BiFeO3 39 Μ0Ι& Pb [Fe2/3Wy3]°3 31 Mol% Pb [Mgy2Wy|0330 Mol% BiFeO3 + 0,5 Massel MnCO3 System: Pb [Fe 2 ^ 3 Vy 3 ] O 3 - Pb [^ 9y ^ y 2 Jo 3 - BiFeO 3 39 Μ0Ι & Pb [Fe 2/3 W y3 ] ° 3 31 mol% Pb [Mgy 2 Wy | 0 3 30 mol% BiFeO 3 + 0.5 mass MnCO 3
Die Aufbereitung erfolgte aus den Oxiden bzw. Karbonaten entsprechend den Beispielen 1 bzw. Es wurden folgende Werte erhalten:The preparation was carried out from the oxides or carbonates corresponding to Examples 1 and the following values were obtained:
tan <f <200 . 10 _.tan<f <200. 10 _.
Ris >10 XlRis> 10 Xl
v r ~. r ~r v r ~. r ~ r
System: Pb Fe Nb1/O |0_ - Pb MgVoWI/o 0_ - BiFeO, ·- y 2 / <- - <3 *— 7 c- 7 <t- * ο ο System: Pb Fe Nb1 / O | 0_ - Pb MgVoWI / o 0_ - BiFeO, · - y 2 / <- - <3* - 7 c- 7 <t- * ο ο
40 Mol% Pb [ Fey2Nby2"] O3 40 mole% Pb [Fey 2 Nby 2 "] O 3
30 MoI^ Pb [MQy2Wy2] °3 . 30 Mol% BiFeO3 + 0,5 Masse% MnCO3 30 MoI ^ Pb [MQy 2 Wy 2 ] ° 3. 30 mol% BiFeO 3 + 0.5 mass% MnCO 3
Die Aufbereitung erfolgte aus den Oxiden bzw. Karbonaten entsprechend den Beispielen 1 bzw.The treatment was carried out from the oxides or carbonates according to Examples 1 and
Es wurden folgende Werte erhalten:The following values were obtained:
^l kHz 125°^ l kHz 125 °
tan cT < 160 . lö"*tan cT <160. Erase "*
Ris >3 . 1011 £1 Ris> 3. 10 11 £ 1
TK e im Bereich von -25 0C- + 125 0C +2TK e in the range of -25 0 C- + 125 0 C +2
Claims (10)
28
8
2040
28
8th
20
II P[I Pb [Fe / 2 Nb / 2 ] 0 3
II P [
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD25563083A DD218087A1 (en) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | DIELECTRIC CERAMIC MATERIAL |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DD25563083A DD218087A1 (en) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | DIELECTRIC CERAMIC MATERIAL |
Publications (1)
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DD218087A1 true DD218087A1 (en) | 1985-01-30 |
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DD25563083A DD218087A1 (en) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | DIELECTRIC CERAMIC MATERIAL |
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DD (1) | DD218087A1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0351940A2 (en) * | 1988-05-18 | 1990-01-24 | Mitsubishi Mining & Cement Co., Ltd. | Composite sintered ceramic material |
EP2301903A1 (en) * | 2009-07-09 | 2011-03-30 | Fujifilm Corporation | Perovskite oxide material, ferroelectric compound, piezoelectric body, piezoelectric device, and liquid discharge device |
-
1983
- 1983-10-13 DD DD25563083A patent/DD218087A1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0351940A2 (en) * | 1988-05-18 | 1990-01-24 | Mitsubishi Mining & Cement Co., Ltd. | Composite sintered ceramic material |
EP0351940A3 (en) * | 1988-05-18 | 1991-05-15 | Mitsubishi Mining & Cement Co., Ltd. | Composite sintered ceramic material |
EP2301903A1 (en) * | 2009-07-09 | 2011-03-30 | Fujifilm Corporation | Perovskite oxide material, ferroelectric compound, piezoelectric body, piezoelectric device, and liquid discharge device |
US8598769B2 (en) | 2009-07-09 | 2013-12-03 | Fujifilm Corporation | Perovskite oxide material, ferroelectric compound, piezoelectric body, piezoelectric device, and liquid discharge device |
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