DD214483A1 - METHOD FOR PRODUCING A GUTTER IN FLAT DISPLAY DEVICES - Google Patents
METHOD FOR PRODUCING A GUTTER IN FLAT DISPLAY DEVICES Download PDFInfo
- Publication number
- DD214483A1 DD214483A1 DD24971083A DD24971083A DD214483A1 DD 214483 A1 DD214483 A1 DD 214483A1 DD 24971083 A DD24971083 A DD 24971083A DD 24971083 A DD24971083 A DD 24971083A DD 214483 A1 DD214483 A1 DD 214483A1
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
- Prior art keywords
- getter
- producing
- vacuum
- display devices
- flat display
- Prior art date
Links
Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Getters in einem flachen Vakuum-oder Plasmabauelement, mit dem ein Getterfilm noch vor dem letzten Verschliessen an geeigneter Stelle innerhalb des Bauelementes angebracht werden kann. Die Beladungen des Getters waehrend nachfolgender Belueftungen werden dadurch eleminiert, dassder Getterfilm selbt und eine gegenueberliegende, spiegelbildlich gleichgeformte Elektrode oder eine zweite Getterflaeche durch gesonderte Zufuehrung von aussen mit einer Spannung versorgt werden koennen, durch die bei zeitweiliger Fuellung desAnzeigevolumens eine lokalisierte Gasenladung brennen und eine Reinigung und oberflaechliche Zerstaeuberung und damit Reaktivierung des Getters erfolgen kann. Nunmehr kann das Anzeigefeld wie vorgesehen verschlossen und betriebsfertig gemacht werden.The invention relates to a method for producing a getter in a flat vacuum or plasma component, with which a getter film can be attached at a suitable location within the component even before the last closure. The loadings of the getter during subsequent vents are eliminated by allowing the getter film to self-suspend and provide an opposing mirror-inverted electrode or second getter area with a voltage externally to externally supply a localized gaseous charge and purge upon temporary filling of the display volume and superficial atomization and thus reactivation of the getter can take place. Now the display panel can be closed as intended and made ready for use.
Description
Titel der ErfindungTitle of the invention
Verfahren zur Herstellung eines Getters in flachen AnzeigeeinrichtungenMethod for producing a getter in flat display devices
Anwendungsgebiet der ErfindungField of application of the invention
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Getters in einem flachen Vakuum- oder Plasmabauelement, wie es vorzugsweise zur Herstellung von Anzeigefeldern für alphanumerische Zeichen oder grafische Informationen verwendet wird,The invention relates to a method for producing a getter in a flat vacuum or plasma component, as it is preferably used for the production of display fields for alphanumeric characters or graphic information,
Charakteristik der bekannten technischen LösungenCharacteristic of the known technical solutions
Elektronische Vakuum- oder Plasmaanzeigefelder benötigen zur Sicherung einer hohen Lebensdauer und einer geringen Parameterstreuung innerhalb der Betriebszeit ein geeignetes Getter, das gasförmige Verunreinigungen, die auch während des Betriebes entstehen können, durch Adsorption bindet. Bei Röhrenbauelementen werden diese Getter durch thermische Verdampfung einer geeigneten Mischung von Metallen und Niederschlagen des Verdampfungsfilms auf einer Innenseite der 'Wandung des Gefäßes unmittelbar vor dem Verschlußprozeß hergestellt.Electronic vacuum or plasma display panels require a suitable getter to ensure a long service life and a low dispersion of parameters within the operating time, which adsorbs gaseous impurities, which can also occur during operation. In tubular devices, these getters are made by thermal evaporation of a suitable mixture of metals and deposition of the evaporation film on an inside wall of the vessel immediately prior to the sealing process.
Im Falle kleiner geometrischer Abmessungen, insbesondere,In the case of small geometrical dimensions, in particular,
1 UPR 1983*0818361 UPR 1983 * 081836
wenn eine Abmessung nur einige Zehntel Millimeter beträgt, muß das oben beschriebene Getter außerhalb des Betriebsraumes in einer Ausbuchtung des Pumpstutzens untergebracht werden. Nur dort kann es unmittelbar vor dem Verschlußprozeß ohne Beeinträchtigung der Funktion des Bauelementes verdampft werden und liegt damit in aktivierter Form vor. Vorangehende Lagerungen des Bauelementes sind an normaler Atmosphäre dann möglich.if a dimension is only a few tenths of a millimeter, the getter described above outside the operating room must be accommodated in a bulge of the pump nozzle. Only there can it be vaporized immediately before the closure process without affecting the function of the component and is therefore in an activated form. Previous storage of the component are then possible in a normal atmosphere.
Diesem bekannten Verfahren der Getteranbringung und -aktivierung haften die folgenden Nachteile an:This known method of getter application and activation has the following disadvantages:
1. Der erforderliche Ansatz im Pumpstutzen stört den vorgesehenen flachen Aufbau des Bauelementes erheblich.1. The required approach in the pump nozzle disturbs the intended flat design of the device considerably.
2. Die.Getteroberflache ist klein und steht mit dem Betriebsraum nur über den geringen Querschnitt des Pump-Stutzens in Verbindung. Mit zunehmender Größe der Anzeigefelder wird deshalb die Getterwirksamkeit immer geringer.2. Die.Getteroberflache is small and communicates with the operating room only on the small cross-section of the pump nozzle. As the size of the display panels increases, therefore, the gettering efficiency becomes ever smaller.
Ziel der ErfindungObject of the invention
Ziel der Erfindung ist ein Herstellungsverfahren für ein Getter in flachen Vakuum- oder Plasmabauelementen, das die genannten Nachteile vermeidet und die Wirksamkeit des Getters erhöht, was eine höhere Stabilität der elektrischen Parameter und eine längere Nutzungsdauer nach sich zieht.The aim of the invention is a manufacturing method for a getter in flat vacuum or plasma devices, which avoids the disadvantages mentioned and increases the effectiveness of the getter, which entails a higher stability of the electrical parameters and a longer service life.
Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung . eines Getters in flachen Anzeigeeinrichtungen anzugeben, welches es ermöglicht, das Getter direkt im Betriebsraum anzuordnen und darüberhinaus den Ansatz im Pumpstutzen überflüssig macht.The object of the invention is a process for the preparation. specify a getter in flat display devices, which makes it possible to arrange the getter directly in the operating room and also makes the approach in the pump nozzle superfluous.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß das Gettermaterial vor dem vakuumdichten Zusammenfügen der Betriebsgehäuseteile unter Nutzung von Bedampfungsmasken auf eine geeignete Teilfläche der Innenwandung des späteren Gehäuses in Hochvakuum aufgedampft wird.According to the invention, this object is achieved in that the getter material is vapor-deposited before the vacuum-tight joining of the operating housing parts using vapor deposition masks on a suitable partial surface of the inner wall of the later housing in a high vacuum.
Da die weitere Bearbeitung der Komponenten des Bauelements im allgemeinen eine Manipulation und Lagerung an der Atmosphäre erfordert, wird die Getterflache infolge Beladung zunächst wieder wirkungslos. Deshalb muß vor der endgültigen Fertigstellung des Bauelementes eine Reaktivierung erfolgen. Das wird dadurch gelöst, daß im Bauelement kurz vor dem Verschließen unter einem geeigneten Gasgemisch, z. B. Argon, eine Glimmentladung zwischen dem Getterfilm, der zu diesem Zweck mit einem Kontakt versehen ist, und einer vorher aufgebrachten Gegenelektrode, z. B. einem zweiten Getterfilm, betrieben wird, die eine Reinigung und oberflächliche Zerstäubung der Getterschicht bewirkt und damit das Getter reaktiviert. Anschließend wird der Betriebsraum endgültig mit Hochvakuum oder dem vorgesehenen Arbeitsgas erfüllt und von der Pumpeinrichtung abgetrennt.Since the further processing of the components of the device generally requires manipulation and storage in the atmosphere, the getter surface is initially ineffective due to loading again. Therefore, a reactivation must take place before the final completion of the device. This is achieved in that in the device shortly before closing under a suitable gas mixture, for. As argon, a glow discharge between the getter film, which is provided for this purpose with a contact, and a previously applied counter electrode, for. B. a second getter film is operated, which causes a cleaning and superficial atomization of the getter and thus reactivated the getter. Subsequently, the operating room is finally filled with high vacuum or the intended working gas and separated from the pumping device.
Ausführungsbeispielembodiment
Die Erfindung soll nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden. Das erfindungsgemäße Verfahren wird am Beispiel eines AC-Plasmaanzeigefeldes beschrieben:The invention will be explained in more detail below using an exemplary embodiment. The method according to the invention is described using the example of an AC plasma display panel:
1. Auf die die Begrenzung des Anzeigefeldes bildenden Glasplatten werden die funktionswichtigen Schichten wie Elektrodenstruktur, Isolier- und Vergütungsschicht sowie der Glaslotrand für die vakuumdichte Hermetisierung beider Platten nach den bekannten Verfahren wie Aufdrucken und Sintern sowie HV-Verdampfung bzw. Aufstäuben aufgebracht und kontrolliert.1. On the glass plates forming the boundary of the display panel, the functionally important layers such as electrode structure, insulating and tempering layer and the solder glass rim for the vacuum-tight hermeticization of both plates by the known methods such as printing and sintering and HV evaporation or sputtering applied and controlled.
2. Als letzter Arbeitsgang vor dem Verschließen erfolgt das HV-Aufdampfen eines Getterrandes zwischen Glaslotrand und aktiver Anzeigefläche mit Hilfe einer Bedampf ungsmaske, welche die aktive Fläche und den Lotrand abdeckt. Dabei werden die bekannten Gettermaterialien verwendet.2. As the last operation before sealing the HV vaporization of Getterrandes between Glaslotrand and active display surface by means of a vapor deposition mask, which covers the active surface and the solder edge. The known getter materials are used.
Durch vorangegangene Naskengestaltung muß dafür gesorgt sein, daß eine gesonderte Elektrode durch eine öffnung in der Isolierschicht mit dem Getter verbunden ist.By previous nasal design must be ensured that a separate electrode is connected through an opening in the insulating layer with the getter.
Es ist weiter vorzusehen, daß sich auf der Getterfläche senkrecht gegenüberliegenden Glasfläche der zweiten Platte ein ebensolches kontaktierendes Getter oder ein beliebiger anderer Leiter befindet, der nach außen kontaktiert ist.It is further provided that on the getter surface perpendicular opposite glass surface of the second plate, a similar contacting getter or any other conductor is located, which is contacted to the outside.
3. Unter Vermeidung langdauernder Lagerung werden dann die so vorbereiteten Glasplatten unter Schutzgas in einer beheizbaren Einrichtung miteinander nach bekannten Verfahren verschlossen.3. While avoiding long-term storage, the glass plates prepared in this way are then sealed together under protective gas in a heatable device using known methods.
4. Anschließend wird der Betriebsraum evakuiert und mit einem Inertgas, beispielsweise Ar, bis zu einem Druck gefüllt, bei dem bei der vorgegebenen Geometrie eine Gasentladung mit der Stromstärke von mehreren 10 mA brennen kann. In diesem Gas wird nun eine Gasentladung betrieben, wobei der Getterfilm als Katode geschaltet wird. Falls sich zwei Getterfilme gegenüberstehen, wird eine Wechselspannung angelegt. Als Folge des Ionenbombardements werden die oberflächlichen Getter-Atomschichten abgestäubt, so daß unverbrauchtes, durch den vorherigen Luftzutritt nicht geschädigtes Gettermaterial freigelegt wird. Diese Getteroberflache darf bis zur endgültigen Fertigstellung des Bauelementes nicht wieder belüftet werden, so daß der Aktivierung des Getters das Evakuieren, Füllen mit dem Betriebsgasgemisch und endgültige Verschließen unmittelbar folgen.4. Subsequently, the operating room is evacuated and filled with an inert gas, for example Ar, up to a pressure at which, given the given geometry, a gas discharge with a current intensity of several 10 mA can burn. In this gas, a gas discharge is now operated, wherein the getter film is connected as a cathode. If there are two getter films, an alternating voltage is applied. As a result of ion bombardment, superficial getter atomic layers are sputtered, exposing unconsumed getter material not damaged by prior air entry. This getter surface must not be re-aerated until the final completion of the component, so that the activation of the getter immediately follow the evacuation, filling with the operating gas mixture and final sealing.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD24971083A DD214483A1 (en) | 1983-04-11 | 1983-04-11 | METHOD FOR PRODUCING A GUTTER IN FLAT DISPLAY DEVICES |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD24971083A DD214483A1 (en) | 1983-04-11 | 1983-04-11 | METHOD FOR PRODUCING A GUTTER IN FLAT DISPLAY DEVICES |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DD214483A1 true DD214483A1 (en) | 1984-10-10 |
Family
ID=5546346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DD24971083A DD214483A1 (en) | 1983-04-11 | 1983-04-11 | METHOD FOR PRODUCING A GUTTER IN FLAT DISPLAY DEVICES |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DD (1) | DD214483A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0397251A2 (en) * | 1989-05-10 | 1990-11-14 | Gec-Marconi Limited | Methods of producing vacuum devices and infrared detectors with a getter |
-
1983
- 1983-04-11 DD DD24971083A patent/DD214483A1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0397251A2 (en) * | 1989-05-10 | 1990-11-14 | Gec-Marconi Limited | Methods of producing vacuum devices and infrared detectors with a getter |
EP0397251A3 (en) * | 1989-05-10 | 1991-06-05 | Gec-Marconi Limited | Methods of producing vacuum devices and infrared detectors with a getter |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2136532C3 (en) | Vacuum evaporation system for the evaporation of metals | |
DE60130001T2 (en) | POROUS GRADUATES WITH REDUCED PARTICLE LOSS AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF | |
DE69810736T2 (en) | flat plasma panels used as screens containing a getter device | |
DE60318865T2 (en) | GETTING COMPOSITION REACTIVE AT LOW TEMPERATURE AFTER SUSPENSION OF REACTIVE GASES AT HIGHER TEMPERATURE | |
DE2500338A1 (en) | CONNECTING DEVICE FOR VACUUM PUMPS | |
DE69407433T2 (en) | ASSEMBLY PROCEDURE AND DEVICE FOR A FLAT PICTURE TUBE | |
DE69817775T2 (en) | METHOD FOR IMPROVING A VACUUM IN A HIGH VACUUM SYSTEM | |
DE2527184C3 (en) | Apparatus for the production of targets for cathode sputtering | |
DD214483A1 (en) | METHOD FOR PRODUCING A GUTTER IN FLAT DISPLAY DEVICES | |
DE2500340A1 (en) | WALL JOINTS FOR VACUUM CONTAINERS | |
DE10210045C1 (en) | Light source, used as a gas discharge lamp, comprises a discharge vessel filled with a gas and an electron beam source located in a vacuum or in a region of low pressure | |
DE1201945B (en) | Atomizing vacuum pump | |
DE3844630C2 (en) | ||
DE69709827T2 (en) | Process for producing a vacuum field emission device and devices for carrying out this process | |
DE2639033C3 (en) | Component in electrical vacuum devices that work with charge carrier beams and the process for their manufacture | |
AT501616B1 (en) | NOT EVAPORATORY GRILLE | |
DE1640240A1 (en) | Controllable vacuum switchgear | |
DD211428A1 (en) | METHOD FOR PRODUCING FLAT ELECTRONIC DISPLAY FIELDS | |
DE1414559C (en) | ion getter pump | |
DE1286605B (en) | Process for manufacturing a switch tube with a spark gap | |
DE1765609C (en) | High frequency spray device | |
DE1090815B (en) | Method and pump for continuously generating high vacuums | |
EP3133634B1 (en) | Device for igniting a vacuum arc discharge and method for use thereof | |
DE60204165T2 (en) | PROCESS FOR EVAPORATING CALCIUM IN SYSTEMS OPERATING UNDER VACUUM | |
DE19959210C2 (en) | Ion getter pump and method for its activation |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ENJ | Ceased due to non-payment of renewal fee |