CN212422619U - 一种具有全息防伪效果的复合层结构 - Google Patents
一种具有全息防伪效果的复合层结构 Download PDFInfo
- Publication number
- CN212422619U CN212422619U CN201922305503.0U CN201922305503U CN212422619U CN 212422619 U CN212422619 U CN 212422619U CN 201922305503 U CN201922305503 U CN 201922305503U CN 212422619 U CN212422619 U CN 212422619U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- holographic
- coating
- micro
- transparent medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
- Credit Cards Or The Like (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种具有全息防伪效果的复合层结构,所述复合层结构包括全息层、介质镀层、保护层;所述全息层包括有支撑层,和形成于所述支撑层表面的全息防伪微纳结构;所述透明介质镀层形成于所述全息层上并覆盖所述全息防伪微纳结构;所述保护层形成于透明介质镀层上,所述保护层由UV光固化涂料涂层和/或热固性涂料涂层固化而成。本实用新型克服现有技术存在的不足,解决现有技术中存在的问题,提供了一种物理强度更高的具有全息防伪效果的复合层结构,此复合层结构耐磨和耐弯折性能强,防伪技术含量等级较高,光学效果显著,易于快速辨别真伪,长期使用中产品品质稳定,同时此具有全息防伪效果的复合层结构不易于仿制、不易被篡改信息。
Description
技术领域
本实用新型涉及复合材料领域,尤其涉及一种具有全息防伪效果的复合层结构。
背景技术
随着商品经济的日益发展,商品的防伪技术及表面装饰引起了人们普遍的重视。能够产生光学防伪效果的材料因此获得了迅速发展,在防伪材料和装饰材料领域得到了广泛应用。
目前,广泛使用的防伪材料一般包括激光全息、荧光油墨、温变油墨等几种,这些防伪材料均存在技术含量低,光学效果差、易复制,短时间内被造假者仿冒等的缺陷,同时材料表面耐磨性和耐弯折性都不理想。
实用新型内容
本实用新型目的是:克服现有技术存在的不足,解决现有技术中存在的问题,提供一种具有全息防伪效果的复合层结构,此复合层结构耐磨和耐弯折性能强,防伪技术含量等级较高,光学效果显著,易于快速辨别真伪,长期使用中产品品质稳定,同时此具有全息防伪效果的复合层结构不易于仿制、不易被篡改信息。
本实用新型的技术方案为:一种具有全息防伪效果的复合层结构,其包括全息层、透明介质镀层、保护层;所述全息层包括有支撑层,和形成于所述支撑层表面的全息防伪微纳结构;所述透明介质镀层形成于所述全息层上并覆盖所述全息防伪微纳结构;所述保护层形成于透明介质镀层上,所述保护层由UV 光固化涂料涂层和/或热固性涂料涂层固化而成。
优选的,所述透明介质镀层与保护层之间还设置有黏结层,所述黏结层形成于所述透明介质镀层上,所述保护层形成于所述黏结层上。
优选的,所述黏结层是由偶联剂固化而成,所述黏结层的厚度在0.1-15微米之间。
优选的,所述偶联剂为改性硅氧烷和改性丙烯酸酯,所述黏结层的厚度在0.1-10微米之间。
优选的,所述全息层的支撑层为PC薄膜层;所述全息防伪微纳结构由PC 薄膜层表面直接压印形成;
或者所述PC薄膜层的表面涂有热固性涂料涂层,在热固性涂料涂层上压印形成所述全息防伪微纳结构;或者所述PC薄膜层的表面涂有UV光固化涂料涂层,在UV光固化涂料涂层上压印形成所述全息防伪微纳结构。
优选的,所述全息层的全息防伪微纳结构覆盖了所述复合层结构一面的整个表面或两面的整个表面。
优选的,所述透明介质镀层为二氧化钛或五氧化二铌或二氧化锆层,或者由其它折射率大于1.8的陶瓷材料构成。
优选的,所述保护层远离所述全息层的表面上压印形成有微透镜阵列,所述微透镜阵列由同尺寸/不同尺寸的透镜阵列规则/随机排列。
优选的,所述全息层的厚度在100-130微米之间;所述透明介质镀层的厚度在10-100纳米之间;所述保护层为UV胶经光固化而成,厚度在1-30微米之间。
优选的,所述透明介质镀层的厚度在10-200纳米之间,折射率大于1.8;所述保护层为UV胶经光固化而成,厚度在0.5-50微米之间。
采用本实用新型所述技术方案,至少具有如下有益技术效果:
一、本专利提供一种具有全息防伪效果的复合层结构,其全息层的全息防伪微纳结构可以覆盖此复合层结构的整个表面,具有更高层级的防伪力度和更优异的视觉效果,易于快速辨别真伪,且由于这些全息防伪微纳机构内含的纳米光栅形成的变色效果,只可在反射光方向上观察,不能用复印机复印出来,同时这些全息防伪微纳结构的科技含量高,制作难度大,而且对制作设备的要求更高,因此产品很难被仿制;透明介质镀层的设置,使微纳结构的衍射效率提高、光学变色和衍射防伪效果更加明显;保护层的设置,使产品具有高强度的耐磨和耐弯折性能,长期使用中产品品质稳定,保护层还可以保护全息防伪微纳结构,防止复合层结构被盗版。
二、本专利的全息层,可以有三种技术方案:第一是在PC材料上直接压印全息防伪微纳结构;第二是在PC材料上涂布热固性涂料涂层,在热固性涂料涂层上压印全息防伪微纳结构;第三是在PC材料上涂布UV光固化涂料涂层,在UV光固化涂料涂层上压印全息防伪微纳结构。其中最优选第三种技术方案,此方法在UV光固化涂料还是液体状态时就进行压印全息防伪微纳结构,这样微纳结构的槽型可以很深且不会回弹,而且UV光固化涂料涂层固化之后强度很高且耐高温。更重要的是,第三种技术方案相对于第一种技术方案,其耐弯折性提高了一倍左右,经实验室测试第一、第二种技术方案耐弯折3-7 万次左右,与普通的复合材料相比,已经能有效提高本专利复合层结构的耐弯折性;但第三种技术方案经实验室测试耐弯折高达12-15万次,进一步的提高了复合层结构的耐弯折性。这种耐弯折性能的大大提升,其原因之一在于UV 涂层,例如UV材质可以是改性丙烯酸酯体系或改性聚氨酯体系或改性环氧树脂体系,其与PC薄膜层形成复合层结构层,从而大大提高产品性能。
三、本专利在全息防伪微纳结构上通过镀或涂布设置有透明介质镀层,透明介质镀层是为了保护全息层的全息防伪微纳结构,防止其微纳米光栅结构被折射率相近的材料覆盖从而导致全息防伪微纳结构不能出现理想的动态光学效果,透明介质镀层不会填平微纳结构中的各种凹槽。透明介质镀层可以是二氧化钛或五氧化二铌或二氧化锆层、或者由其它折射率大于1.8的陶瓷材料构成,优选二氧化钛层,二氧化钛层在折射率满足要求的情况下,同时具有良好的耐磨性。另外,透明介质镀层还可以使微纳结构的衍射效率提高、光学变色和衍射防伪效果更加明显。本专利优选采用磁控溅射的方法进行透明介质镀层,这种透明介质镀层的加工方法安全环保,与全息层结合牢度极好。此外,透明介质镀层相对于全息防伪微纳结构的材料而言属于光密介质,光吸收少,折射出来的光比较多,能够使复合层结构的全息效果更好。
四、本专利设置有保护层,主要是保护全息层的全息防伪微纳结构在复合层结构使用过程中不发生形变或破损,优选保护层作为复合层结构的最外层,保护层的强度很高,具有良好的耐磨、耐酸碱和抗氧化性能。保护层可以是 UV光固化涂料固化而成,也可以是热固性材料固化而成,也可以是UV光固化涂料、热固性材料混合固化而成,由于UV光固化和/或热固性保护层的柔性特性,可以有效提升复合层结构的抗弯曲性能。进一步的,保护层远离全息层的一侧表面上压印微透镜阵列(这种结构可以由同尺寸或不同尺寸的透镜规则或随机排列组成),可以提高复合层结构的耐磨、耐弯折、防指纹、防反光性等,并且由于微透镜阵列的微纳结构,可以使复合层结构具有良好的疏水性。另外微透镜阵列还具有可记录光束方向的特性,可制作浮动图像、变视角图像等具有动态光学效果的图像。
五、本专利的保护层强度高,具有耐高温的特性,能有效防止微透镜结构在产品使用过程中发生形变或破损。优选此保护层的材料为高强度且折射率高的UV光固化涂料和/或热固性涂料。UV光固化涂料可以是改性环氧树脂、丙烯酸酯、磷酸酯,热固性涂料可以是改性聚氨酯与溶剂乙酸乙酯。
六、本专利可以在透明介质镀层与保护层之间设置有黏结层,来加强由二氧化钛等材料构成的透明介质镀层与UV光固化涂料和/或热固性涂料等有机材料构成的保护层之间的结合力。优选黏结层由偶联剂固化而成,通过偶联剂的分子键合作用,增强透明介质镀层与保护层之间的结合牢度。偶联剂可以是改性硅氧烷和改性丙烯酸酯,更具体的,偶联剂可以是磷酸酯改性丙烯酸酯和环氧基改性硅氧烷的混合物。另外,黏结层还具有防盗版的功能:透明介质镀层不会填平全息防伪微纳结构中的各种微纳米光栅结构,因此透明介质镀层也具有与全息防伪微纳结构相对应的微纳米光栅结构,但是这种结构会被黏结层填平,黏结层与透明介质镀层之间紧密连接,因此盗版者在去除黏结层时就势必会破坏全息防伪微结,这样盗版者就很难得到完整的全息防伪微纳结构。
七、本专利的保护层可以在UV光固化涂料的基础上,增加了偶联剂,从而保护层直接设置在透明介质镀层上时,两层之间的结合力得到增强,具体的,保护层的成分包括低聚物、稀释剂、光引发剂、偶联剂,所述低聚物为脲改性多异氰酸酯或氟改性丙烯酸酯,所述稀释剂为TMPTA、HDDA、TPGDA、IBOA 或2-EHA,所述光引发剂为651光引发剂、1173光引发剂或184光引发剂,所述偶联剂为硅烷偶联剂或钛酸酯偶联剂。这种保护层具有如下优点:第一,由于增加偶联剂,使得透明介质镀层与保护层之间可以紧密连接,从而可以不用增加黏结层,可以是减少复合层结构的厚度;第二,具有防盗版的功能:透明介质镀层不会填平全息防伪微纳结构中的各种微纳米光栅结构,因此透明介质镀层也具有与全息防伪微纳结构相对应的微纳米光栅结构,但是这种结构会被保护层填平,保护层与透明介质镀层之间紧密连接,因此盗版者在去除保护层时就势必会破坏全息防伪微结,这样盗版者就很难得到完整的全息防伪微纳结构;第三,保护层强度高且折射率高,具有很好耐磨、耐弯折、耐酸、耐碱、耐汗液等性能。
附图说明
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
图1是本实用新型复合层结构的层结构图一;
图2是本实用新型复合层结构的层结构图二。
具体实施方式
下面结合附图1-2及优选实施方式对本实用新型技术方案进行详细说明。
如图1-2,其中附图标记为:
1、全息层;2、透明介质镀层;3、保护层;4、黏结层。
如图1-2所示,本实施例公开了一种具有全息防伪效果的复合层结构,包括全息层、透明介质镀层、保护层;所述全息层包括有支撑层,和形成于所述支撑层表面的全息防伪微纳结构;所述透明介质镀层形成于所述全息层上并覆盖所述全息防伪微纳结构;所述保护层形成于透明介质镀层上,所述保护层由UV 光固化涂料涂层和/或热固性涂料涂层固化而成。
本实施例的具有全息防伪效果的复合层结构,可以实现复合层结构的整版全息防伪设置。现有局部全息技术,通常通过在复合层结构上嵌入局部全息块来实现,全息块与相邻层之间结合牢度差,易发生层间分离,全息区域易发生断裂,耐弯折次数低。本实施例将全息结构做到复合层结构的外表面,然后通过透明介质镀层、以及UV光固化涂料和/或热固性涂料固化形成的保护层18 的组合运用,具有以下优点:一是由于全息防伪微纳结构不设置在两个融合层之间,不易发生层间分离,不易发生断裂等问题,耐弯折性大幅度提升,耐弯折次数高达12-15万次,为普通复合层结构的二倍以上;二是全息防伪微纳结构可以全部覆盖复合层结构的全部表面,可以做到整版设置全息防伪信息,而不再局限于复合层结构的局部部分设置全息防伪信息,打破了现有技术只能实现局部全息的局限,具有更高层级的防伪力度和更优异的视觉效果。可适应于多种复杂使用环境,大幅延长复合层结构的使用寿命。
本实施例的全息层15,可以有三种制作方法:第一是在支撑层即PC薄膜层上直接压印全息防伪微纳结构;第二是在PC薄膜层上涂布热固性涂料涂层,在热固性涂料涂层上压印全息防伪微纳结构;第三是在PC薄膜层涂布UV光固化涂料涂层,在UV光固化涂料涂层上压印全息防伪微纳结构。优选第三种制作方法,此方法在UV光固化涂料还是液体状态时就进行压印全息防伪微纳结构,这样微纳结构的槽型可以很深且不会回弹,而且UV光固化涂料涂层固化之后强度很高且耐高温,最重要的一点,第三种制作方法相对于第一种制作方法,其耐弯折性提高了一倍左右,经实验室测试第一、第二种制作方法耐弯折3-7万次左右,与普通复合材料相比,有效提高本专利复合层结构的耐弯折性;第三种方法经实验室测试耐弯折高达12-15万次,进一步的提高了复合层结构的耐弯折性。这种耐弯折性能的大大提升,其原因之一在于UV涂层,例如UV材质可以是改性丙烯酸酯体系或改性聚氨酯体系或改性环氧树脂体系,其与PC层形成复合层结构层,从而大大提高产品性能。
本实施例全息层上的全息防伪微纳结构,为各种微纳米级的光栅结构,形成有各种光学衍射图案,且这些纳米光栅可以形成的各种动态立体效果和光学衍射效果,只可在反射光方向上观察,不能用复印机复印出来,同时这些全息防伪微纳结构的科技含量高,制作难度大,而且对制作设备的要求更高,因此产品很难被仿制。
为了保护全息层的全息防伪微纳结构,防止其微纳米光栅结构被折射率相近的材料覆盖从而导致全息防伪微纳结构不能出现理想的动态光学效果,因此需要在微纳结构上镀或涂布上透明介质镀层,透明介质镀层是一层覆盖在微纳结构表面的薄膜,主要是保护微纳结构,并不会填平微纳结构中的各种凹槽。优选采用磁控溅射的方法镀上透明介质镀层,这种透明介质镀层的加工方法安全环保,透明介质镀层相对于全息防伪微纳结构的材料而言属于光密介质,光吸收少,折射出来的光比较多,能够使复合层结构的全息效果更好。进一步的,本实施例的透明介质镀层可以是二氧化钛或五氧化二铌或二氧化锆层,或者由其它折射率大于1.8的陶瓷材料构成,本实施例优选采用二氧化钛层,二氧化钛层在折射率满足要求的情况下,同时具有良好的耐磨性。
本实施例的复合层结构设置有保护层,主要是保护全息层的全息防伪微纳结构在复合层结构使用过程中不发生形变或破损,优选保护层作为复合层结构的最外层,保护层的强度很高,具有良好的耐磨、耐弯折、耐酸碱和抗氧化性能。保护层可以是UV光固化涂料固化而成,也可以是热固性材料固化而成,也可以是UV光固化涂料、热固性材料混合固化而成。进一步的,保护层远离全息层的一侧表面上压印微透镜阵列(这种结构可以由同尺寸或不同尺寸的透镜规则或随机排列组成),可以提高复合层结构的耐磨、耐弯折、防指纹、防反光性等,并且由于微透镜阵列的微纳结构,可以使复合层结构具有良好的疏水性。另外微透镜阵列还具有可纪录光束方向的特性,可制作浮动图像、变视角图像等具有动态光学效果的图像。
由于保护层强度高,具有耐高温的特性,能有效防止微透镜结构在产品使用过程中发生形变或破损。优选此保护层的材料为高强度且折射率高的UV光固化涂料和/或热固性涂料。UV光固化涂料可以是改性环氧树脂、丙烯酸酯、磷酸酯,热固性涂料可以是改性聚氨酯与溶剂乙酸乙酯。
如图2所示,本实施例可以在透明介质镀层与保护层之间设置有黏结层,来加强由二氧化钛等材料构成的透明介质镀层与UV光固化涂料和/或热固性涂料等有机材料构成的保护层之间的连接。优选黏结层由偶联剂固化而成,通过偶联剂的分子键合作用,增强透明介质镀层与保护层之间的结合牢度。偶联剂可以是改性硅氧烷和改性丙烯酸酯,更具体的,偶联剂可以是磷酸酯改性丙烯酸酯和环氧基改性硅氧烷的混合物。另外,黏结层还具有防盗版的功能:透明介质镀层不会填平全息防伪微纳结构中的各种微纳米光栅结构,因此透明介质镀层也具有与全息防伪微纳结构相对应的微纳米光栅结构,但是这种结构会被黏结层填平,黏结层与透明介质镀层之间紧密连接,因此盗版者在去除黏结层时就势必会破坏全息防伪微结,这样盗版者就很难得到完整的全息防伪微纳结构。
需要说明的是,本专利的保护层可以在UV光固化涂料的基础上,增加了偶联剂,从而保护层直接设置在透明介质镀层上时,两层之间的结合力得到增强,具体的,保护层的成分包括低聚物、稀释剂、光引发剂、偶联剂,所述低聚物为脲改性多异氰酸酯或氟改性丙烯酸酯,所述稀释剂为TMPTA、HDDA、 TPGDA、IBOA或2-EHA,所述光引发剂为651光引发剂、1173光引发剂或184 光引发剂,所述偶联剂为硅烷偶联剂或钛酸酯偶联剂。这种保护层具有如下优点:第一,由于增加偶联剂,使得透明介质镀层与保护层之间可以紧密连接,从而可以不用增加黏结层,可以是减少复合层结构的厚度;第二,具有防盗版的功能:透明介质镀层不会填平全息防伪微纳结构中的各种微纳米光栅结构,因此透明介质镀层也具有与全息防伪微纳结构相对应的微纳米光栅结构,但是这种结构会被保护层填平,保护层与透明介质镀层之间紧密连接,因此盗版者在去除保护层时就势必会破坏全息防伪微结,这样盗版者就很难得到完整的全息防伪微纳结构;第三,保护层强度高且折射率高,具有很好耐磨、耐弯折、耐酸、耐碱、耐汗液等性能。
优选的,本实施例的全息层厚度为100-130微米,透明介质镀层的厚度为 10-200nm,黏结层厚度为0.1-15微米,保护层的厚度在0.5-50微米。进一步的,优选透明介质镀层的厚度为20-40nm,黏结层厚度为3-7微米,保护层的厚度在 0.5-10微米,这些参数时制卡的工艺更加简单,制作的产品的物化性能更好。
本实施例的具有全息防伪效果的复合层结构,可以用作包装材料、手机等电子产品的装饰薄膜和证件卡片等。
本实施例还提供了如图1所示的复合层结构的制作方法,具体如下:
S1:提供全息层,其中全息层的一表面上压印有全息防伪微纳结构;
S2:在全息层的全息防伪微纳结构上镀或涂布上透明介质镀层;
S3:在透明介质镀层表面涂布UV光固化涂料涂层并固化,形成保护层;或者黏结层的表面涂布UV光固化涂料涂层,压印微透镜结构并固化,形成保护层;至此得到所述复合层结构。
其中,所述全息层为一面压印有全息防伪微纳结构的PC薄膜层;或者,所述全息层为复合层结构,该复合层结构包括支撑层以及形成于所述支撑层上的涂层,所述涂层上压印形成所述全息防伪微纳结构,所述涂层可以是UV光固化涂料涂层,也可以是热固性涂料涂层。
首先,提供全息层,优选全息层制备方法为:
(1)在软件上设计好全息防伪微纳结构的图案;
(2)在载体(比如玻璃)上涂布光刻胶,用激光刻出所需图案,经显影制成光刻版;
(3)把光刻版置入电铸槽电铸,制成金属镍版,金属镍版可以是工作版,也可以将金属镍版作为母版,再翻版制成很多工作版;
(4)在PC上涂一层UV胶,在UV胶上压印全息防伪微纳结构的图案并固化,得到全息层。
然后,在全息层的全息防伪微纳结构上镀或涂布上透明介质镀层,可以采用磁控溅射方法镀二氧化钛层(透明介质镀层材料也可以是二氧化钛或五氧化二铌或二氧化锆等折射率在1.8以上的陶瓷材料),其中磁控溅射的加工方法,过程中靶料利用率高,使安全环保透明介质镀层具有如下作用:保护全息层结构;透明介质镀层相对于全息防伪微纳结构的材料而言属于光密介质,光吸收少,折射出来的光比较多,能够使复合层结构的全息效果更好。
最后,在透明介质镀层的表面涂布UV胶/热固性涂料并固化,或者透明介质镀层的表面涂布UV胶,压印微透镜结构并固化,形成保护层,保护层具有耐磨、耐弯折、防指纹、防反光的效果。其中,透镜阵列可为相同/不同尺寸透镜阵列规则排列或随机排列。至此得到所述复合层结构。需要说明的是,本实施例提供的制作方法,保护层可以是在UV光固化涂料的基础上,增加了偶联剂,从而保护层直接设置在透明介质镀层上时,两层之间的结合力得到增强,因此不需要设置黏结层。
本实施例还提供了如图2所示的复合层结构的制作方法,即在上述制作方法的基础上,增加黏结层,如下:
S1:提供全息层,其中全息层的一表面上压印有全息防伪微纳结构;
S2:在全息层的全息防伪微纳结构上镀或涂布上透明介质镀层;
S3:在透明介质镀层表面涂布偶联剂经固化而形成黏结层;
S4:在黏结层的表面涂布UV光固化涂料涂层和/或热固性涂料涂层并固化,形成保护层;或者黏结层的表面涂布UV光固化涂料涂层,压印微透镜结构并固化,形成保护层;至此得到所述复合层结构。
在透明介质镀层表面涂布偶联剂,经固化而形成黏结层。通过偶联剂的分子键合作用,增强透明介质镀层与保护层之间的结合牢度。
以上仅为本实用新型的优选实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种具有全息防伪效果的复合层结构,其特征在于:其包括全息层、透明介质镀层、保护层;
所述全息层包括有支撑层,和形成于所述支撑层表面的全息防伪微纳结构;
所述透明介质镀层形成于所述全息层上并覆盖所述全息防伪微纳结构;
所述保护层形成于透明介质镀层上,所述保护层由UV光固化涂料涂层和/或热固性涂料涂层固化而成。
2.如权利要求1所述的具有全息防伪效果的复合层结构,其特征在于;所述透明介质镀层与保护层之间还设置有黏结层,所述黏结层形成于所述透明介质镀层上,所述保护层形成于所述黏结层上。
3.如权利要求2所述的具有全息防伪效果的复合层结构,其特征在于:所述黏结层是由偶联剂固化而成,所述黏结层的厚度在0.1-15微米之间。
4.如权利要求3所述的具有全息防伪效果的复合层结构,其特征在于:所述偶联剂为改性硅氧烷和改性丙烯酸酯,所述黏结层的厚度在0.1-10微米之间。
5.如权利要求1所述的具有全息防伪效果的复合层结构,其特征在于:
所述全息层的支撑层为PC薄膜层;
所述全息防伪微纳结构由PC薄膜层表面直接压印形成;
或者所述PC薄膜层的表面涂有热固性涂料涂层,在热固性涂料涂层上压印形成所述全息防伪微纳结构;
或者所述PC薄膜层的表面涂有UV光固化涂料涂层,在UV光固化涂料涂层上压印形成所述全息防伪微纳结构。
6.如权利要求1所述的具有全息防伪效果的复合层结构,其特征在于:所述全息层的全息防伪微纳结构覆盖了所述复合层结构一面的整个表面或两面的整个表面。
7.如权利要求1所述的具有全息防伪效果的复合层结构,其特征在于:所述透明介质镀层为二氧化钛或五氧化二铌或二氧化锆层,或者由其它折射率大于1.8的陶瓷材料构成。
8.如权利要求1所述的具有全息防伪效果的复合层结构,其特征在于:所述保护层远离所述全息层的表面上压印形成有微透镜阵列,所述微透镜阵列由同尺寸/不同尺寸的透镜阵列规则/随机排列。
9.如权利要求1所述的具有全息防伪效果的复合层结构,其特征在于:所述全息层的厚度在100-130微米之间;所述透明介质镀层的厚度在10-100纳米之间;所述保护层为UV胶经光固化而成,厚度在1-30微米之间。
10.如权利要求1所述的具有全息防伪效果的复合层结构,其特征在于:所述透明介质镀层的厚度在10-200纳米之间,折射率大于1.8;所述保护层为UV胶经光固化而成,厚度在0.5-50微米之间。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201922305503.0U CN212422619U (zh) | 2019-12-20 | 2019-12-20 | 一种具有全息防伪效果的复合层结构 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201922305503.0U CN212422619U (zh) | 2019-12-20 | 2019-12-20 | 一种具有全息防伪效果的复合层结构 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN212422619U true CN212422619U (zh) | 2021-01-29 |
Family
ID=74275712
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201922305503.0U Active CN212422619U (zh) | 2019-12-20 | 2019-12-20 | 一种具有全息防伪效果的复合层结构 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN212422619U (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113002212A (zh) * | 2019-12-20 | 2021-06-22 | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 | 一种具有全息防伪效果的复合材料及其制作方法 |
CN113087952A (zh) * | 2019-12-20 | 2021-07-09 | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 | 一种全息膜材料及其制作方法 |
-
2019
- 2019-12-20 CN CN201922305503.0U patent/CN212422619U/zh active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113002212A (zh) * | 2019-12-20 | 2021-06-22 | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 | 一种具有全息防伪效果的复合材料及其制作方法 |
CN113087952A (zh) * | 2019-12-20 | 2021-07-09 | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 | 一种全息膜材料及其制作方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN212025235U (zh) | 一种全息膜材料 | |
KR102642776B1 (ko) | 위조 방지용 광학 소자 및 정보 기록 매체 | |
JP5954458B2 (ja) | 表示体及び表示体付き物品 | |
CN106574997B (zh) | 防伪结构体及防伪物品 | |
US10654308B2 (en) | Unisometric reflection display, information holder using unisometric reflection display | |
JP5477046B2 (ja) | 表示体及びその製造方法 | |
KR102399058B1 (ko) | 위조 방지용 광학 소자 | |
CN1423598A (zh) | 光学可变防伪图样 | |
CN113002212A (zh) | 一种具有全息防伪效果的复合材料及其制作方法 | |
CN212422619U (zh) | 一种具有全息防伪效果的复合层结构 | |
KR102345076B1 (ko) | 정보 기록체, 및 개인 증명체 | |
JP2011033935A (ja) | 光学物品およびその製造方法 | |
KR101077314B1 (ko) | 위조 및 변조 방지용 적층 필름 및 그의 제조 방법 | |
JP2014117810A (ja) | スクラッチシール | |
US11555952B2 (en) | Display and method of producing display | |
JP5717324B2 (ja) | 偽造防止構造体及びその製造方法 | |
US10921500B2 (en) | Optical element, and optical element-equipped article | |
CN113087952A (zh) | 一种全息膜材料及其制作方法 | |
JP2013166334A (ja) | セキュリティ用光学物品とその製造方法ならびに印刷物 | |
JP2020184036A (ja) | ホログラム一体型印刷物 | |
JP2007108206A (ja) | 磁気転写シート及び磁気記録媒体 | |
WO2023106240A1 (ja) | 光学構造体およびその製造方法、ならびにコード形成方法 | |
JP2017083686A (ja) | 表示体、それを具備した転写箔、および表示体付き物品 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |