CN210312650U - 一种薄片类介质处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型具体公开了一种薄片类介质处理装置，薄片类介质处理装置上设有用于输送薄片类介质的输送通道；薄片类介质处理装置包括括用于检测薄片类介质是否发生歪斜的检测机构，检测机构设置于输送通道中，检测机构包括沿输送通道的宽度方向间隔设置的第一传感器和第二传感器，可通过两个传感器输出的信号是否相同判断薄片类介质是否发生歪斜，以便及时进行后续处理，第一传感器包括第一光发生器和第一光接收器，第二传感器包括第二光发生器和第二光接收器，沿输送通道的宽度方向，两个光发生器设置在输送通道的内侧，两个光接收器设置在输送通道的外侧，可拉大两个光接收器之间的距离，以使检测机构能够检测倾斜角度更小的薄片类介质。

Description

一种薄片类介质处理装置

技术领域

本实用新型涉及一种薄片类介质处理装置。

背景技术

相关技术的薄片类介质处理装置具有用于输送薄片类介质的输送通道，输送通道中设置有输送机构和处理机构，其中，输送机构用于驱动薄片类介质在输送通道中移动，以将薄片类介质输送至处理机构，处理机构通常包括打印头、扫描头或者磁头等，用于完成薄片类介质的打印、扫描或者读写磁等操作。

相关技术中，为了使薄片类介质处理装置能够处理不同宽度尺寸的介质(比如票据)，薄片类介质处理装置的输送通道的宽度往往与介质的最宽尺寸相适配，当输送通道内待处理的介质的宽度尺寸较小时，介质沿输送通道移动时容易发生歪斜，即介质的宽度方向与输送通道的宽度方向不平行，这就造成处理效果较差，例如，使打印头打印的内容偏离预定位置，或者使扫描头扫描的图像发生歪斜，或者使读写磁操作失败等，影响薄片类介质处理装置工作的可靠性。因此，薄片类介质在输送通道中移动时，有必要对其进行检测，从而在薄片类介质发生歪斜时可及早发现，以便进行后续处理。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：提供一种薄片类介质处理装置，薄片类介质在输送通道中移动时，如果发生歪斜，可及早发现。

本实用新型提供一种薄片类介质处理装置，所述薄片类介质处理装置上设有用于输送薄片类介质的输送通道，该薄片类介质处理装置包括用于检测所述薄片类介质是否发生歪斜的检测机构，所述检测机构设置于所述输送通道，所述检测机构包括沿所述输送通道的宽度方向隔设置的第一传感器和第二传感器，所述第一传感器包括第一光发生器和第一光接收器，所述第二传感器包括第二光发生器和第二光接收器，所述第一光接收器用于接收所述第一光发生器发出的光信号，所述第二光接收器用于接收所述第二光发生器发出的光信号；

沿所述输送通道的宽度方向，所述输送通道包括间隔设置的第一端和第二端，所述第一光接收器相对所述第一光发生器靠近所述第一端，所述第二光接收器相对所述第二光发生器靠近所述第二端。

作为薄片类介质处理装置的优选技术方案，沿所述输送通道的宽度方向，所述第一光接收器、所述第一光发生器、所述第二光发生器和所述第二光接收器依次间隔设置。

作为薄片类介质处理装置的优选技术方案，所述第一光接收器与所述第一光发生器之间的距离等于所述第二光发生器与所述第二光接收器之间的距离。

作为薄片类介质处理装置的优选技术方案，所述薄片类介质处理装置还包括相对设置的第一通道板和第二通道板，所述第一通道板和所述第二通道板形成所述输送通道，所述第一光接收器、所述第一光发生器、所述第二光发生器和所述第二光接收器均设置于所述第一通道板。

作为薄片类介质处理装置的优选技术方案，所述检测机构还包括沿所述输送通道的宽度方向间隔设置的第一导光体和第二导光体，所述第一导光体和所述第二导光体均设置于所述第二通道板，所述第一光发生器、所述第一导光体和所述第一光接收器之间形成第一光路，所述第二光发生器、所述第二导光体和所述第二光接收器之间形成第二光路。

作为薄片类介质处理装置的优选技术方案，所述第一导光体包括第一光线入射端和第一光线出射端，所述第二导光体包括第二光线入射端和第二光线出射端，所述第一光发生器与所述第一光线入射端相对设置，所述第一光接收器与所述第一光线出射端相对设置，所述第二光发生器与所述第二光线入射端相对设置，所述第二光接收器与所述第二光线出射端相对设置。

作为薄片类介质处理装置的优选技术方案，所述第一光发生器和所述第二光发生器之间的距离小于所述薄片类介质的宽度。

作为薄片类介质处理装置的优选技术方案，所述第一光发生器具有第一出光面，所述第一光接收器具有第一入光面，所述第二光发生器具有第二出光面，所述第二光接收器具有第二入光面，所述第一入光面的面积小于所述第一出光面的面积，所述第二入光面的面积小于所述第二出光面的面积。

作为薄片类介质处理装置的优选技术方案，所述薄片类介质处理设备还包括打印头，沿所述薄片类介质在所述输送通道中的输送方向，所述打印头位于所述检测机构的下游。

作为薄片类介质处理装置的优选技术方案，所述薄片类介质处理设备还包括纠偏机构，沿所述薄片类介质在所述输送通道中的输送方向，所述纠偏机构位于所述检测机构的上游，且所述纠偏机构与所述检测机构之间的距离小于或等于所述薄片类介质的长度。

本实用新型的有益效果为：

本实用新型提供一种薄片类介质处理装置，该薄片类介质处理装置通过沿输送通道宽度方向上间隔设置的第一传感器和第二传感器对输送通道内的薄片类介质进行检测，第一传感器包括第一光发生器和用于接收第一光发生器发出的光信号的第一光接收器，第二传感器包括第二光发生器和用于接收第二光发生器发出的信号的第二光接收器，沿输送通道的宽度方向，第一光接收器相对第一光发生器靠近输送通道的第一端，第二光接收器相对第二光发生器靠近输送通道的第二端，可通过第一传感器和第二传感器输出的信号是否相同判断薄片类介质是否发生歪斜，以便进行后续处理，避免了薄片类介质因歪斜导致的处理效果差的问题，同时，通过使两个光接收器靠近输送通道的外侧，可拉大第一光接收器和第二光接收器之间的距离，可以使检测机构能够检测倾斜角度更小的薄片类介质，提高了检测机构检测的准确性。

附图说明

图1为本实用新型实施例中薄片类介质处理装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例中薄片类介质处理装置的部分结构示意图一；

图3为本实用新型实施例中薄片类介质处理装置的部分结构示意图二；

图4为本实用新型实施例中薄片类介质处理装置的部分结构示意图三；

图5为本实用新型实施例中薄片类介质处理装置的部分结构的放大示图。

图中：

1、壳体；11、输送通道；12、第一通道板；13、第二通道板；

2、第一传感器；21、第一光发生器；22、第一光接收器；

3、第二传感器；31、第二光发生器；32、第二光接收器；

4、第一导光体；41、第一光线入射端；42、第一光线出射端；43、第一入光反射面；44、第一出光反射面；

5、第二导光体；51、第二光线入射端；52、第二光线出射端；53、第二入光反射面；54、第二出光反射面；

6、打印头；

7、纠偏机构；71、第一纠偏板；72、第二纠偏板。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。其中，术语“第一位置”和“第二位置”为两个不同的位置，而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

图1为本实用新型实施例中薄片类介质处理装置的结构示意图；图2为本实用新型实施例中薄片类介质处理装置的部分结构示意图一；图3为本实用新型实施例中薄片类介质处理装置的部分结构示意图二；图4为本实用新型实施例中薄片类介质处理装置的部分结构示意图三；图5为本实用新型实施例中薄片类介质处理装置的部分结构的放大示图。请参照图1至图5，本实施例提供一种薄片类介质处理装置，该薄片类介质处理装置上设有用于输送薄片类介质的输送通道11，该薄片类介质处理装置包括用于检测薄片类介质是否发生歪斜的检测机构，检测机构设置于输送通道11中，检测机构包括沿输送通道11的宽度方向间隔设置的第一传感器2和第二传感器3，第一传感器2包括第一光发生器21和第一光接收器22，第二传感器3包括第二光发生器31和第二光接收器32，第一光接收器22用于接收第一光发生器21发出的光信号，第二光接收器32用于接收第二光发生器31发出的光信号；沿输送通道11的宽度方向，输送通道11包括相对设置的第一端和第二端，第一光接收器22相对第一光发生器21靠近输送通道11的第一端，第二光接收器32相对第二光发生器31靠近输送通道11的第二端。

本实施例中，输送通道11的宽度方向为图2中ab所示的方向，薄片类介质的输送方向为图2中cd所示的方向，输送通道11的高度方向为图2中ef所示的方向。

具体地，第一传感器2在输送通道11中具有第一检测位置，第一检测位置对应第一光发生器21和第一光接收器22的安装位置，第二传感器3在输送通道11中形成第二检测位置，第二检测位置对应第二光发生器31和第二光接收器32的安装位置，其中，沿薄片类介质的输送方向，第一检测位置和第二检测位置的位置相同。在第一检测位置有薄片类介质和第一检测位置没有薄片类介质的情况下，第一光接收器22接收第一光发生器21发出的光的强度不同，第一光接收器22输出不同的信号，例如，在第一检测位置有薄片类介质的情况下，第一光接收器22输出第一信号，在第一检测位置没有薄片类介质的情况下，第一光接收器22输出第二信号，因此，通过第一光接收器22输出的信号即可检测第一检测位置是否有薄片类介质。同样，在第二检测位置有薄片类介质和第二检测位置没有薄片类介质的情况下，第二光接收器32接收第二光发生器31发出的光的强度不同，第二光接收器32输出不同的信号，例如，在第二检测位置有薄片类介质的情况下，第二光接收器32输出第一信号，在第二检测位置没有薄片类介质的情况下，第二光接收器32输出第二信号，因此，通过第二光接收器32输出的信号即可检测第二检测位置是否有薄片类介质。

当薄片类介质在输送通道11中进行输送时，薄片类介质具有未歪斜的第一状态和歪斜的第二状态，当薄片类介质处于第一状态时，第一传感器2和第二传感器3能够同时输出对应的检测位置有薄片类介质的信号，比如，同时输出第一信号；当薄片类介质处于第二状态时，第一传感器2和第二传感器3输出对应的检测位置有薄片类介质的信号的时刻存在时间间隔。因此，当薄片类介质处于未歪斜状态时，第一传感器2和第二传感器3输出的信号将同时进行切换，例如，由第二信号切换为第一信号，当薄片类介质处于歪斜状态时，第一传感器2和第二传感器3输出的信号间隔地进行切换，从而可以通过第一传感器2和第二传感器3输出的信号是否同时进行切换来对输送通道11内的薄片类介质是否歪斜进行检测，以便及时进行后续处理，可避免由于薄片类介质发生歪斜造成薄片介质处理设备对薄片类介质的处理效果变差的问题。可以理解的是，当薄片类介质在输送通道11中处于未歪斜状态时，薄片类介质的宽度方向与输送通道11的宽度方向相同，当薄片类介质在输送通道11中处于歪斜状态时，薄片类介质的宽度方向与输送通道11的宽度方向呈大于0°的夹角。

本实施例通过使第一光接收器22相对第一光发生器21靠近第一端，第二光接收器32相对第二光发生器31靠近第二端，从而两个光接收器靠近输送通道11的外侧，可拉大第一光接收器22和第二光接收器32之间的距离，可以使检测机构能够检测倾斜角度更小的薄片类介质，提高了检测机构检测的准确性，同时，也可以使检测机构适用于沿输送通道11的宽度方向的宽度较宽的薄片类介质。

请参照图2，可选地，沿输送通道11的宽度方向，第一光接收器22、第一光发生器21、第二光发生器31和第二光接收器32依次间隔设置，第一光接收器22与第一光发生器21之间的第一连线沿输送通道的宽度方向延伸，第二光接收器32和第二光发生器31之间的第二连线沿输送通道的宽度方向延伸。在其他实施例中，也可以使第一光接收器22与第一光发生器21的第一连线的方向以及第二光接收器32和第二光发生器31之间的第二连线的方向均与输送通道11的宽度方向呈夹角设置，且第一连线和第二连线与输送通道11的宽度方向所呈的夹角相同。

可选地，第一光接收器22与第一光发生器21之间的距离等于第二光发生器31与第二光接收器32之间的距离。进一步优选地，沿输送通道11的宽度方向，第一光接收器22与输送通道11的第一端之间的距离等于第二光接收器32与输送通道11的第二端之间的距离。

请参照图2至图5，本实施例中，薄片类介质处理装置还包括相对设置的第一通道板12和第二通道板13，第一通道板12和第二通道板13形成输送通道11，第一光接收器22、第一光发生器21、第二光发生器31和第二光接收器32均设置于第一通道板12。本实施例中，第一通道板12和第二通道板13沿输送通道11的高度方向间隔设置。

可选地，检测机构还包括沿输送通道11的宽度方向间隔设置的第一导光体4和第二导光体5，第一导光体4和第二导光体5均设置于第二通道板13，第一光发生器21、第一导光体4和第一光接收器22之间形成第一光路，第二光发生器31、第二导光体5和第二光接收器32之间形成第二光路。当没有薄片类介质位于第一检测位置时，第一光发生器21发出的光经过第一导光体4传播之后能够被第一光接收器22接收，第一光接收器22输出第二信号，当有薄片类介质位于第一检测位置时，薄片类介质将第一光发生器21与第一导光体4之间的光路隔断，导致第一光接收器22无法接收到第一光发生器21发出的光信号，第一光接收器22输出第一信号。同理，当没有薄片类介质位于第二检测位置时，第二光发生器31发出的光经过第二导光体5传播之后能够被第二光接收器32接收，第二光接收器32输出第二信号，当有薄片类介质位于第二检测位置时，薄片类介质将第二光发生器31与第二导光体5之间的光路隔断，导致第二光接收器32无法接收到第二光发生器31发出的光信号，第二光接收器32输出第一信号。

作为第一个可替代方案，第一光接收器22和第一光发生器21均设置于第一通道板12上，第一导光体4设置于第二通道板13上，第一光发生器21、第一导光体4和第一光接收器22之间形成第一光路；第二光发生器31和第二光接收器32均设置于第二通道板13上，第二导光体5设置于第一通道板12上，第二光发生器31、第二导光体5和第二光接收器32之间形成第二光路。

作为第二个可替代方案，检测机构也可以不包括导光体，第一传感器2和第二传感器3均为反射型传感器，第一光发生器21和第一光接收器22之间形成第一光路，第二光发生器31和第二光接收器32之间形成第二光路，通道板和薄片类介质具有不同的反光率。当没有薄片类介质位于第一检测位置时，第一光接收器22接收经由第一光发生器21发出的、并由对面的通道板(例如，第二通道板13)反射的光，第一光接收器22输出第二信号，当有薄片类介质位于第一检测位置时，第一光接收器22接收经由第一光发生器21发出的、并由薄片类介质反射的光，第一光接收器22输出第一信号。同理，当没有薄片类介质位于第二检测位置时，第二光接收器32接收经由第二光发生器31发出的、并由对面的通道板(例如，第二通道板13)反射的光，第二光接收器32输出第二信号，当有薄片类介质位于第二检测位置时，第二光接收器32接收经由第二光发生器31发出的、并由薄片类介质反射的光，第二光接收器32输出第一信号。

请参照图4和图5，具体地，本实施例中，第一导光体4包括第一光线入射端41和第一光线出射端42，第二导光体5包括第二光线入射端51和第二光线出射端52，第一光发生器21与第一光线入射端41相对设置，第一光接收器22与第一光线出射端42相对设置，第二光发生器31与第二光线入射端51相对设置，第二光接收器32与第二光线出射端52相对设置。第一导光体4和第二导光体5均呈大致的U形结构，第一光发生器21发出的光线通过输送通道11后从第一光线入射端41射入，并经第一导光体4内部从第一光线出射端42射出，并经输送通道11后进入到第一光接收器22。具体地，第一导光体4还包括相对设置的第一入光反射面43和第一出光反射面44，光线垂直地从第一光线入射端41射入后，经第一入光反射面43反射至第一出光反射面44，并经第一出光反射面44反射，垂直地从第一光线出射端42射出，第一入光反射面43和第一出光反射面44均同时与第一光线入射端41的入光面以及第一光线出射端42的出光面呈45°角设置。第二光发生器31发出的光线通过输送通道11后从第二光线入射端51射入，并经第二导光体5内部从第二光线出射端52射出，并经输送通道11后进入到第二光接收器32。具体地，第二导光体5还包括相对设置的第二入光反射面53和第二出光反射面54，光线垂直地从第二光线入射端51射入后，经第二入光反射面53反射至第二出光反射面54，并经第二出光反射面54反射，垂直地从第二光线出射端52射出，第二入光反射面53和第二出光反射面54均同时与第二光线入射端51的入光面以及第二光线出射端52的出光面呈45°角设置。

可选地，第一光发生器21和第二光发生器31之间的距离小于薄片类介质的宽度，可以理解的是，该限定对于能够适用于该薄片类介质处理装置的任意尺寸的薄片类介质。

可选地，第一光发生器21具有第一出光面，第一光接收器22具有第一入光面，第二光发生器31具有第二出光面，第二光接收器32具有第二入光面，第一入光面的面积小于第一出光面的面积，第二入光面的面积小于第二出光面的面积。具体地，每个光发生器和每个光接收器上均设置有遮光罩，光发生器的遮光罩上设置有出光孔，光接收器的遮光罩上设置有入光孔，出光孔的面积可作为光发生器出光面的面积，入光孔的面积可作为光接收器入光面的面积。通过使光接收器具有较小面积的入光面，可以提高传感器检测的灵敏度，提高检测机构检测的准确性，通过使光发生器具有较大面积的出光面，可以使光发生器发出具有足够强度的光线，从而保证光发生器发出的光能够到达光接收器。

可选地，检测机构还包括第三传感器，第三传感器包括第三光发生器和第三光接收器，沿输送通道11的宽度方向，第一传感器2、第三传感器和第二传感器3依次间隔设置，第一光接收器22、第一光发生器21、第三光发生器、第三光接收器、第二光发生器31和第二光接收器32沿输送通道11的宽度方向依次间隔设置，且第三光发生器和第三光接收器位于第一光发生器21和第二光发生器31之间。通过增加传感器的数量，能够检测具有更小宽度的薄片类介质的歪斜情况，当具有更小宽度的薄片类介质在输送通道11中发生偏斜时，通过检测机构的任意相邻的两个传感器能够检测到薄片类介质的歪斜状态，提高检测机构检测的准确性和适用性。

请参照图1，本实施例中，薄片类介质处理设备还包括打印头6，沿薄片类介质的输送方向，打印头6位于检测机构的下游。进一步地，薄片类介质处理设备还包括纠偏机构7，沿薄片类介质的输送方向，纠偏机构7位于检测机构的上游，且沿薄片类介质的输送方向，纠偏机构7与检测机构之间的距离小于或等于薄片类介质的长度。沿输送通道11的宽度方向，纠偏机构7包括相对设置的第一纠偏板71和第二纠偏板72，薄片类介质在第一纠偏板71和第二纠偏板72之间进行输送。

显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种薄片类介质处理装置，所述薄片类介质处理装置上设有用于输送薄片类介质的输送通道(11)，其特征在于，所述薄片类介质处理装置包括用于检测所述薄片类介质是否发生歪斜的检测机构，所述检测机构设置于所述输送通道(11)，所述检测机构包括沿所述输送通道(11)的宽度方向隔设置的第一传感器(2)和第二传感器(3)，所述第一传感器(2)包括第一光发生器(21)和第一光接收器(22)，所述第二传感器(3)包括第二光发生器(31)和第二光接收器(32)，所述第一光接收器(22)用于接收所述第一光发生器(21)发出的光信号，所述第二光接收器(32)用于接收所述第二光发生器(31)发出的光信号；

沿所述输送通道(11)的宽度方向，所述输送通道(11)包括间隔设置的第一端和第二端，所述第一光接收器(22)相对所述第一光发生器(21)靠近所述第一端，所述第二光接收器(32)相对所述第二光发生器(31)靠近所述第二端。

2.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，沿所述输送通道(11)的宽度方向，所述第一光接收器(22)、所述第一光发生器(21)、所述第二光发生器(31)和所述第二光接收器(32)依次间隔设置。

3.根据权利要求2所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述第一光接收器(22)与所述第一光发生器(21)之间的距离等于所述第二光发生器(31)与所述第二光接收器(32)之间的距离。

4.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述薄片类介质处理装置还包括相对设置的第一通道板(12)和第二通道板(13)，所述第一通道板(12)和所述第二通道板(13)形成所述输送通道(11)，所述第一光接收器(22)、所述第一光发生器(21)、所述第二光发生器(31)和所述第二光接收器(32)均设置于所述第一通道板(12)。

5.根据权利要求4所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述检测机构还包括沿所述输送通道(11)的宽度方向间隔设置的第一导光体(4)和第二导光体(5)，所述第一导光体(4)和所述第二导光体(5)均设置于所述第二通道板(13)，所述第一光发生器(21)、所述第一导光体(4)和所述第一光接收器(22)之间形成第一光路，所述第二光发生器(31)、所述第二导光体(5)和所述第二光接收器(32)之间形成第二光路。

6.根据权利要求5所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述第一导光体(4)包括第一光线入射端(41)和第一光线出射端(42)，所述第二导光体(5)包括第二光线入射端(51)和第二光线出射端(52)，所述第一光发生器(21)与所述第一光线入射端(41)相对设置，所述第一光接收器(22)与所述第一光线出射端(42)相对设置，所述第二光发生器(31)与所述第二光线入射端(51)相对设置，所述第二光接收器(32)与所述第二光线出射端(52)相对设置。

7.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述第一光发生器(21)和所述第二光发生器(31)之间的距离小于所述薄片类介质的宽度。

8.根据权利要求1-7任一项所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述第一光发生器(21)具有第一出光面，所述第一光接收器(22)具有第一入光面，所述第二光发生器(31)具有第二出光面，所述第二光接收器(32)具有第二入光面，所述第一入光面的面积小于所述第一出光面的面积，所述第二入光面的面积小于所述第二出光面的面积。

9.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述薄片类介质处理设备还包括打印头(6)，沿所述薄片类介质在所述输送通道(11)中的输送方向，所述打印头(6)位于所述检测机构的下游。

10.根据权利要求9所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述薄片类介质处理设备还包括纠偏机构(7)，沿所述薄片类介质在所述输送通道(11)中的输送方向，所述纠偏机构(7)位于所述检测机构的上游，且所述纠偏机构(7)与所述检测机构之间的距离小于或等于所述薄片类介质的长度。

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