CN214588594U - 一种真空灭弧室 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于真空断路器技术领域，具体为一种真空灭弧室，其特征在于，包括灭弧室壳体，所述灭弧室壳体的两端设置有上导电杆与下导电杆，所述上导电杆移动方向上的一端设置有上触头，相对于上触头所述下导电杆上设置有下触头，所述上触头与所述下触头相对设置，所述上触头与下触头的接触面为弧形接触面。本实用新型中上触头和下触头之间的接触面采用弧形面的方式，增加了上触头和下触头之间的接触面，以及增加了上触头和下触头之间的紧密程度，降低了接触电阻。

Description

一种真空灭弧室

技术领域

本实用新型属于真空断路器技术领域，具体为一种真空灭弧室。

背景技术

真空断路器(英文名：Vacuum circuit breaker)，因其灭弧介质和灭弧后触头间隙的绝缘介质都是高真空而得名；其具有体积小、重量轻、适用于频繁操作、灭弧不用检修的优点，在配电网中应用较为普及。真空断路器是3～10kV，50Hz三相交流系统中的户内配电装置，可供工矿企业、发电厂、变电站中作为电器设备的保护和控制之用，特别适用于要求无油化、少检修及频繁操作的使用场所，断路器可配置在中置柜、双层柜、固定柜中作为控制和保护高压电气设备用。

其中真空灭弧室作为真空断路器的必要组件，在使用时现有的上触头和下触头一般都是圆柱状的，其接触面都是平面式，平面式的接触面在接触时不够紧密，接触电阻较大。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空灭弧室，提高触头之间的紧密程度，降低接触电阻。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空灭弧室，其特征在于，包括灭弧室壳体，所述灭弧室壳体的两端设置有上导电杆与下导电杆，所述上导电杆移动方向上的一端设置有上触头，相对于上触头所述下导电杆上设置有下触头，所述上触头与所述下触头相对设置，所述上触头与下触头的接触面为弧形接触面。

本实用新型进一步设置，所述上导电杆的外部设置有波纹管，所述波纹管外部设置有导向套。

本实用新型进一步设置，所述下导电杆的两侧设置有支撑柱，所述支撑柱的一端与所述灭弧室壳体的内壁连接，另外一端与下触头连接。

本实用新型进一步设置，所述支撑柱的两端设置有垫块。

本实用新型进一步设置，所述下触头具有一突出部，突出部的突出方向朝向上触头一侧，相对应的所述上触头形成一凹陷部。

本实用新型进一步设置，所述下触头与所述上触头的接触面为波形面，所述下触头的波形面与所述上触头的波形面互相配合。

本实用新型进一步设置，所述下触头与所述上触头的波形面至少具有2个波峰与2个波谷。

本实用新型的有益效果，上触头和下触头之间的接触面采用弧形面的方式，增加了上触头和下触头之间的接触面，以及增加了上触头和下触头之间的紧密程度，降低了接触电阻。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：

图1为现有技术中真空灭弧室的结构示意图。

图2为本实用新型实施例1的结构示意图。

图3为本实用新型实施例2的结构示意图。

附图标记，

10、灭弧室壳体；

20、上导电杆；

30、下导电杆；

40、上触头；

50、下触头；

60、波纹管；

70、导向套；

80、支撑柱；

90、垫块；

100、突出部；

110、凹陷部；

120、波形面；

具体实施方式

以下将配合附图及实施例来详细说明本申请的实施方式，借此对本申请如何应用技术手段来解决技术问题并达成技术功效的实现过程能充分理解并据以实施。

如图1所示，为现有技术中采用的一种真空灭弧室，具有一上触头40和一下触头50，上触头40和下触头50都是圆柱式的触头，其接触面为平面式的结构。

本实用新型采用如下技术方案，其中实施例1如下：

如图2所示，为一种真空灭弧室，包括灭弧室壳体10，所述灭弧室壳体10的两端设置有上导电杆20与下导电杆30，所述上导电杆20移动方向上的一端设置有上触头40，相对于上触头40所述下导电杆30上设置有下触头50，所述上触头40与所述下触头50相对设置，所述上触头40与下触头50的接触面为弧形接触面，所述上导电杆20的外部设置有波纹管60，所述波纹管60外部设置有导向套70，导向套70的作用在于实现对上导电杆20和的导向作用，此外所述下导电杆30的两侧设置有支撑柱80，所述支撑柱80的一端与所述灭弧室壳体10的内壁连接，另外一端与下触头50连接，所述支撑柱80的两端设置有垫块90，采用支撑柱80对下触头50进行支撑，其理由如下，上触头40在与下触头50接触的时候，会产生一定的冲击力，采用支撑柱80能够保证下触头50的强度，另外采用垫块90，降低支撑柱80和接触端的磨损，所述下触头50具有一突出部100，突出部100的突出方向朝向上触头40一侧，相对应的所述上触头40形成一凹陷部110。

实施例2：如图3所示，为一种真空灭弧室，包括灭弧室壳体10，所述灭弧室壳体10的两端设置有上导电杆20与下导电杆30，所述上导电杆20移动方向上的一端设置有上触头40，相对于上触头40所述下导电杆30上设置有下触头50，所述上触头40与所述下触头50相对设置，所述上触头40与下触头50的接触面为弧形接触面，所述上导电杆20的外部设置有波纹管60，所述波纹管60外部设置有导向套70，所述下导电杆30的两侧设置有支撑柱80，所述支撑柱80的一端与所述灭弧室壳体10的内壁连接，另外一端与下触头50连接，所述支撑柱80的两端设置有垫块90，其中所述下触头50与所述上触头40的接触面为波形面120，所述下触头50的波形面120与所述上触头40的波形面120互相配合，所述下触头50与所述上触头40的波形面120至少具有2个波峰与2个波谷。

本实用新型中，上触头40和下触头50之间的接触面采用弧形面的方式，增加了上触头40和下触头50之间的接触面，以及增加了上触头40和下触头50之间的紧密程度，降低了接触电阻。

如在说明书及权利要求当中使用了某些词汇来指称特定组件。本领域技术人员应可理解，硬件制造商可能会用不同名词来称呼同一个组件。本说明书及权利要求并不以名称的差异来作为区分组件的方式，而是以组件在功能上的差异来作为区分的准则。如在通篇说明书及权利要求当中所提及的“包含”为一开放式用语，故应解释成“包含但不限定于”。“大致”是指在可接收的误差范围内，本领域技术人员能够在一定误差范围内解决所述技术问题，基本达到所述技术效果。

较多了使用诸如10、灭弧室壳体；20、上导电杆；30、下导电杆；40、上触头；50、下触头；60、波纹管；70、导向套；80、支撑柱；90、垫块；100、突出部；110、凹陷部；120、波形面等术语，需要说明的是，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的商品或者系统不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种商品或者系统所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的商品或者系统中还存在另外的相同要素。

上述说明示出并描述了本实用新型的若干优选实施例，但如前所述，应当理解本实用新型并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述实用新型构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本实用新型的精神和范围，则都应在本实用新型所附权利要求的保护范围内。

Claims (7)

1.一种真空灭弧室，其特征在于，包括灭弧室壳体，所述灭弧室壳体的两端设置有上导电杆与下导电杆，所述上导电杆移动方向上的一端设置有上触头，相对于上触头所述下导电杆上设置有下触头，所述上触头与所述下触头相对设置，所述上触头与下触头的接触面为弧形接触面。

2.如权利要求1所述的一种真空灭弧室，其特征在于，所述上导电杆的外部设置有波纹管，所述波纹管外部设置有导向套。

3.如权利要求2所述的一种真空灭弧室，其特征在于，所述下导电杆的两侧设置有支撑柱，所述支撑柱的一端与所述灭弧室壳体的内壁连接，另外一端与下触头连接。

4.如权利要求3所述的一种真空灭弧室，其特征在于，所述支撑柱的两端设置有垫块。

5.如权利要求4所述的一种真空灭弧室，其特征在于，所述下触头具有一突出部，突出部的突出方向朝向上触头一侧，相对应的所述上触头形成一凹陷部。

6.如权利要求4所述的一种真空灭弧室，其特征在于，所述下触头与所述上触头的接触面为波形面，所述下触头的波形面与所述上触头的波形面互相配合。

7.如权利要求6所述的一种真空灭弧室，其特征在于，所述下触头与所述上触头的波形面至少具有2个波峰与2个波谷。

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