CN209032010U - 煎烤机及其烤盘组件 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种煎烤机及其烤盘组件，该烤盘组件包括壳体、发热管以及烤盘，壳体包括环台和位于环台中间区域的凹腔，凹腔用于设置发热管，烤盘搭扣在环台上并伸入凹腔与发热管接触，环台的内周的高度高于环台的外周的高度。通过将环台的内周的高度设为高于环台的外周的高度的结构，进而使清洗或烹饪产生的水油等液体顺着环台流出壳体而不会进入凹腔，避免凹腔内的发热管受到水油等液体的影响。

Description

煎烤机及其烤盘组件

技术领域

本实用新型涉及厨房电器技术领域，具体涉及一种煎烤机及其烤盘组件。

背景技术

煎烤机、电饼铛是人们日常生活中常用的烹饪电厨具。煎烤机和电饼铛的结构大致相同，主要包括两个烹饪组件以及把手等，两个烹饪组件铰接连接，处于盖合状态时两者之间具有预定的烹饪空间以便进行煎烤烹饪作业，把手或与上盖一体成型，或呈U型状固定于上部的烹饪组件上，握住把手抬起即可开启上部的烹饪组件。

现有的煎烤机产品中，下壳体的环台通常由外侧向内侧倾斜，导致清洗或烹饪产生的水油等液体会顺着下壳体的环台流入用于放置加热组件的凹腔内，导致加热组件易受潮而影响使用寿命。

实用新型内容

本实用新型提供一种煎烤机及其烤盘组件，以解决现有技术中壳体的环台的设置导致水油等液体流入凹腔影响而加热组件寿命的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种烤盘组件，所述烤盘组件包括壳体、发热管以及烤盘，所述壳体包括环台和位于所述环台中间区域的凹腔，所述凹腔用于设置所述发热管，所述烤盘搭扣在所述环台上并伸入所述凹腔与所述发热管接触，所述环台的内周的高度高于所述环台的外周的高度。

根据本实用新型一具体实施例，所述环台的内周设有挡水环圈。

根据本实用新型一具体实施例，所述环台呈斜面或圆弧面设置。

根据本实用新型一具体实施例，所述环台的斜面的倾角小于等于20 度。

根据本实用新型一具体实施例，所述烤盘包括依次连接的底板、侧板以及搭扣板，所述搭扣板用于搭扣在所述环台上，所述侧板和所述搭扣板的连接处设有导流槽。

根据本实用新型一具体实施例，所述侧板的高度小于等于30毫米。

根据本实用新型一具体实施例，所述挡水环的高度小于等于10毫米。

根据本实用新型一具体实施例，所述挡水环圈与所述壳体一体成型或者所述挡水环圈与所述壳体通过密封装置连接。

根据本实用新型一具体实施例，所述壳体为电木壳或塑胶壳。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种煎烤机，所述煎烤机包括前述的烤盘组件。

本实用新型的有益效果是：区别于现有技术的情况，本实用新型提供的煎烤机及其烤盘组件中，煎烤机的壳体包括环台和位于环台中间区域的凹腔，凹腔内用于设置发热管，烤盘搭扣在环台上并伸入凹腔与发热管接触，环台的内周高度高于环台的外周高度，进而使清洗或烹饪产生的水油等液体顺着环台流出壳体而不会进入凹腔，避免凹腔内的发热管受到水油等液体的影响。

附图说明

为了更清楚地说明实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的情况下，还可以根据这些附图获得其他的附图，其中：

图1是本实用新型一实施例提供的煎烤机的立体结构示意图；

图2是图1中所示的煎烤机的下烤盘组件的爆炸结构示意图；

图3a至图3c是图2中所示的下烤盘组件中壳体的环台的结构示意图；

图4a至图4c是图2中所示的下烤盘组件中挡水环圈的结构示意图；

图5是本实用新型一实施例提供的下烤盘的简化截面结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动情况下所获得的所有其他实施例，均属于本实用新型保护的范围。

需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

请一并参阅图1至图3c，本实施例提供一种煎烤机10及其烤盘组件。其中，烤盘组件包括上烤盘组件100和下烤盘组件200。本文中提及的烤盘组件所涉及到的具体结构可以是上烤盘组件100中的结构，也可以是下烤盘组件200中的结构。

如图2所示，本实用新型提供一种烤盘组件，本实施例以下烤盘组件200为例进行说明，其中，下烤盘组件200包括下壳体220、发热管 230以及下烤盘210，下壳体220包括环台224和位于环台224中间区域的凹腔222，其中，凹腔222用于设置发热管230，下烤盘210则搭扣在环台224上且伸入凹腔222与发热管230接触。下烤盘210与发热管230接触的一面为吸热表面，另一面则为发热表面，用于吸收发热管 230的热量并将热量传递至整个下烤盘210，发热表面用于将热量传递给食物。下壳体220的环台224的内周的高度高于环台224的外周的高度，即环台224的靠近凹腔222的部分的高度高于环台224的远离凹腔 222的部分的高度。

本实用新型一实施例中，环台224可以呈斜面设置，环台224的斜面的倾角可以小于等于20度，例如，环台224的斜面的倾角为3度或5 度。

如图3a至3c所示，呈斜面的环台224可以为一个整体的倾斜平面 (见图3a)，也可以为连续相接的两个或两个以上斜面(见图3b)，此时，两个或两个以上斜面具有不同的倾角，且靠近环台224的外周的斜面的倾角大于靠近环台224的内周的斜面的倾角。此外，环台224还可以设置为内周的高度高于外周的高度的圆弧面(见图3c)，此外，环台 224还可以设置为斜面与圆弧面的组合。环台224设置为圆弧面时，圆弧面的弧度可以根据煎烤机10的壳体、烤盘等部件的尺寸进行设置，根据需求进行调节，本实用新型实施例不做具体限制。

本实用新型通过将煎烤机10的环台224设置为内周的高度高于外周的高度的结构，令清洗或烹饪过程中产生的水或油等液体能够顺着环台224流至煎烤机10外，而不会流入用于放置发热管230的凹槽内，避免了凹槽内的发热管230收到水、油等液体的影响而缩短使用寿命。

在本实用新型另一实施例中，可以在环台224的内周设置挡水环圈 226；挡水环圈226的高度可以设置在2毫米至5毫米之间，本实施例以3毫米为例。

如图4a至图4c所示，本一实施方式中，挡水环圈226可以设置在环台224的内周相对靠近凹腔222的位置处，即挡水环圈226位于下烤盘210的搭扣板214的下方，下烤盘210可搭扣在环台224上设置的挡水环圈226上(见图4a)，可选的，挡水环圈226可以设置在环台224 与凹腔222相接处。在其他实施方式中，挡水环圈226还可以设置在环台224的内周相对远离凹腔222的位置处(见图4b)，即挡水环圈226 不位于下烤盘210的搭扣板214的垂直阴影范围内，此时下烤盘210搭扣在环台224上。当环台224上设置有挡水环圈226时，环台224可以设置为以平面结构(见图4c)，通过在环台224的内周上设置挡水环圈 226，进而对清洗或烹饪时产生的油或水等液体进行阻挡。

通过在环台224的内周上设挡水环圈226，进而对清洗或烹饪时产生的油或水等液体进行阻挡，避免水油等液体例如放置有发热管230的凹腔222内，对发热管230造成损坏。

本实用新型实施例中，挡水环圈226可以独立制备成型，之后将制备好的挡水环圈通过密封装置与壳体的环台224连接，在其他实施方式中，也可以令挡水环圈226与下壳体220一体成型。

本实用新型实施例中，下壳体220的底部设有支撑结构270，用于支撑整个煎烤机10，支撑结构270具有一定高度以使下壳体220的底面与放置煎烤机10的台面之间具有一定的空隙，便于下烤盘组件200的散热。

下壳体220的凹腔222内设有第一拱起部223，第一拱起部223上设有至少两个第一开口2231，第一拱起部223的下方用于容置加热电路等组件，发热管230的两端分别通过第一拱起部223上的两个不同的第一开口2231与加热电路连接。进一步，凹腔222内还可以设置第二拱起部225，第二拱起部225的高度小于第一拱起部223的高度，用于对放置的发热管230进行支撑，以使发热管230与凹腔222的底部之间具有一定间隙，避免第一壳体251因为受到发热管230的热量过高而损坏，进一步，第二拱起部225的高度可以设置在4至10毫米之间，本实施例中以4毫米为例。进一步，第一壳体251的凹腔222的底面可以设置合适数量的第二开口(图中未标出)，以便于发热管230的散热，开口的数量可以根据实际需求进行设置，本实施例中，以2个开口为例，其中一个开口设置在凹腔222底面，另一个开口设置在第二拱起部上。

如图2所示，在本实用新型实施例中，下壳体220上还设置有控制面板227，控制面板227上设置有显示屏、控制按键以及控制旋钮(图中未标出)。进一步，下壳体220可以由电木、塑胶或金属等具有一定硬度和耐热度的材质制成。

本实用新型实施例对下烤盘210的形状不做具体限定，具体可以为圆形、椭圆形、矩形或正多边形，相应的，发热管230可绕设为圆形、椭圆形、矩形或正多边形。

本实用新型实施例中，下烤盘210包括依次连接的底板212、侧板 215以及搭扣板214，其中，搭扣板214用于搭扣在下壳体220的环台224上。底板212朝向下壳体220的一面即为下烤盘210的吸热表面，当下烤盘210搭扣在环台224上时，吸热表面与下壳体220的凹腔222 内设置的发热管230接触。

本实用新型实施例中，下烤盘210的侧板215高度可以小于等于30 毫米。

如图5所示，本实用新型实施例中，下烤盘210的侧板215和搭扣板214的连接处设有导流槽217，以用于在对下烤盘110清洗后，进行清洗液的导出。

导流槽217可以呈“V”形或“U”形设置；在其他实施例中，导流槽217也可以设置为两端尺寸可两同矩形。

本实用新型实施例提供的导流槽217的个数可以设置为一个或两个，下烤盘210上还设有导油嘴216，其中在两个的情况下，两个导流槽217相对导油嘴216对称分布。

本实用新型还提供一种煎烤机10，该煎烤机10包括上述实施例中的烤盘组件。

以上仅为本实用新型的实施方式，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种烤盘组件，其特征在于，所述烤盘组件包括壳体、发热管以及烤盘，所述壳体包括环台和位于所述环台中间区域的凹腔，所述凹腔用于设置所述发热管，所述烤盘搭扣在所述环台上并伸入所述凹腔与所述发热管接触，所述环台的内周的高度高于所述环台的外周的高度。

2.根据权利要求1所述的烤盘组件，其特征在于，所述环台的内周设有挡水环圈。

3.根据权利要求1所述的烤盘组件，其特征在于，所述环台呈斜面或圆弧面设置。

4.根据权利要求3所述的烤盘组件，其特征在于，所述环台的斜面的倾角小于等于20度。

5.根据权利要求1所述的烤盘组件，其特征在于，所述烤盘包括依次连接的底板、侧板以及搭扣板，所述搭扣板用于搭扣在所述环台上，所述侧板和所述搭扣板的连接处设有导流槽。

6.根据权利要求5所述的烤盘组件，其特征在于，所述侧板的高度小于等于30毫米。

7.根据权利要求2所述的烤盘组件，其特征在于，所述挡水环的高度小于等于10毫米。

8.根据权利要求2所述的烤盘组件，其特征在于，所述挡水环圈与所述壳体一体成型或者所述挡水环圈与所述壳体通过密封装置连接。

9.根据权利要求1所述的烤盘组件，其特征在于，所述壳体为电木壳或塑胶壳。

10.一种煎烤机，其特征在于，所述煎烤机包括权利要求1至9中任一项所述的烤盘组件。