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CN1595284A - 传输屏幕的屏幕件及其制造方法、传输屏幕以及后投影 - Google Patents

传输屏幕的屏幕件及其制造方法、传输屏幕以及后投影 Download PDF

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CN1595284A
CN1595284A CNA2004100768031A CN200410076803A CN1595284A CN 1595284 A CN1595284 A CN 1595284A CN A2004100768031 A CNA2004100768031 A CN A2004100768031A CN 200410076803 A CN200410076803 A CN 200410076803A CN 1595284 A CN1595284 A CN 1595284A
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CN
China
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light
screen
substrate
microlens
lens
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CNA2004100768031A
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清水信雄
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Abstract

一种制造用于传输屏幕的屏幕件(1)的方法，包括步骤：制备显微透镜基片(3)，其光线入射面形成有多个显微透镜(32)的；通过将包括正光敏聚合物的材料施加到显微透镜基片(3)的光线发射面上制作的第一层形成黑色矩阵(4)，将黑色矩阵形成在显微透镜基片(3)的光线发射面上，以便黑色矩阵(4)在通过显微透镜基片(3)的显微透镜(32)传递光线的光线路径上具有多个开口(41)；以及形成用于漫射通过由第二层制作的显微透镜基片(3)的每个显微透镜(32)传递的光线的多个光线漫射部分(5)，其中所述第二层由将包括负光敏聚合物的材料施加到黑色矩阵(4)上进行制造。

Description

传输屏幕的屏幕件及其制造方法、传输屏幕以及后投影
技术领域
本发明涉及一种制造用于传输屏幕的屏幕件的方法、用于传输屏幕的屏幕件、传输屏幕以及后投影。
背景技术
最近几年，对后投影作为用于家庭影院、大屏幕电视等的监视器的适合显示器的需求逐渐增大。
在用于后投影的传输屏幕中，通常使用双凸透镜基片。然而，此种类型屏幕的问题在于，虽然其横向视角较大，但其垂直视角较小(即，具有视角偏向)。
为了解决此问题，已经提出了一种传输屏幕，其利用显微透镜阵列板(显微透镜基片)代替双凸透镜基片，并包括设置在显微透镜阵列板的发射面侧面的黑色矩阵以及设置在发射面侧面(参见例如，日本的公开专利申请号No：2003-177476)处显微透镜阵列板整个面积上的光线漫射层。在此传输屏幕中，其水平视角和垂直视角通过设置在矩阵中的显微透镜进行控制，且入射光线通过光线漫射层漫射。这样可以增大传输屏幕的视角。
然而，在此传输屏幕中，由于进入光线漫射层的光线(光子)与漫射介质频繁碰撞，进入光线漫射层的光线(光子)通过光线漫射层反射并很容易返回到其背面侧(即，入射面侧)。此外，由于与漫射介质等碰撞增大，这就构成消光度。因此，具有的问题在于，传输屏幕的光线使用效率降低。此外，在此传输屏幕中，即使在光线漫射层设置在黑色矩阵(在黑色矩阵的光线发射面)上的部分，也出现高频率的光线漫射。因此，尽管存在黑色矩阵，但在显示的图像中仍有不能获得充分对比度的情况。
发明内容
本发明的目的之一在于提供一种具有优良视角特性和光线使用效率的传输屏幕。
此外，本发明的另一目的在于提供一种制造用于容易和可靠地构成上述传输屏幕的传输屏幕的屏幕件的方法。
此外，本发明的另一目的在于提供一种具有上述传输屏幕的后投影屏幕。
为了达到上述目的，在本发明的一个方面，本发明提供一种制造用于传输屏幕的屏幕件的方法，所述方法包括步骤：
制备具有光线入射面和相对光线入射面的光线发射面的透镜基片，透镜基片的光线入射面形成有多个用于聚集入射光线的透镜部分；
由透镜基片的光线发射面上的第一层形成光线遮蔽层，以便在通过透镜基片的透镜部分传递光线的光线路径上，光线遮蔽层具有多个开口；以及
形成用于漫射已通过透镜基片的每个透镜部分传递的光线的多个光线漫射部分；
其中光线漫射部分形成步骤包括：
通过施加包括负光敏聚合物的材料到光线遮蔽层以在光线遮蔽层上形成第二层；
通过使光线从透镜基片的光线入射面进入透镜基片以曝光第二层，以便通过每个透镜部分聚集光线，然后通过聚集的光线照射第二层；以及
显影第二层，以便已通过聚集的光线曝光的第二层的部分保持原样不变。
这样可以通过本发明的方法，利用用于传输屏幕的屏幕件提供容易和可靠地具有优良视角特性以及光线使用效率的传输屏幕。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选光线遮蔽层形成步骤包括：
通过将包括正光敏聚合物的材料施加到透镜基片的光线发射面，在透镜基片的光线发射面上形成第一层；
通过使光线从透镜基片的光线入射面进入透镜基片曝光第一层，以便通过每个透镜部分聚集光线，然后通过聚集的光线照射第一层；以及
显影第一层，以便去除已通过聚集的光线曝光的第一层的部分，从而形成多个开口。
这样可以通过本发明方法制造的利用用于传输屏幕的屏幕件，容易和可靠地提供具有优良视角特性以及光线使用效率的传输屏幕。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选透镜基片的每个透镜部分都设计成以便进入每个透镜部分的光线都聚焦在超出光线遮蔽层的透镜基片的光线发射面的侧面上。
这样可以进一步改进设置有通过采用本发明方法制造的用于传输屏幕的屏幕件的传输屏幕的光线使用效率。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选每个光线漫射部分都形成为凸出部分，所述凸出部分从位于对应光线遮蔽层开口位置处的光线遮蔽层的表面凸出。
这样可以进一步改进设置有通过采用本发明方法制造的用于传输屏幕的屏幕件的传输屏幕的光线使用效率。此外，还可以通过传输屏幕显著改进投影图像的对比度。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选当从透镜基片的光线入射面的顶部观看时，由凸出部分所占的总面积与透镜部分所占的总面积之比在5到99％的范围内。
这样可以进一步改进设置有通过采用本发明方法制造的用于传输屏幕的屏幕件的传输屏幕的光线使用效率。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选呈凸出形式的多个光线漫射部分彼此独立地形成。
这样可以进一步改进设置有通过采用本发明方法制造的用于传输屏幕的屏幕件的传输屏幕的光线使用效率。此外，还可以通过传输屏幕显著改进投影图像的对比度。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选当从透镜基片的光线入射面的顶部观看时，光线漫射部分所占的总面积与透镜部分所占的总面积之比在5到99％的范围内。
这样可以进一步改进设置有通过采用本发明方法制造的用于传输屏幕的屏幕件的传输屏幕的视角特性和光线使用效率。此外，还可以通过传输屏幕显著改进投影图像的对比度。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选用于传输屏幕的屏幕件具有主表面，而在垂直于用于传输屏幕的屏幕件的主表面方向，每个光线漫射部分长度为2到450μm。
这样可以进一步改进设置有通过采用本发明方法制造的用于传输屏幕的屏幕件的传输屏幕的光线使用效率。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选用于传输屏幕的屏幕件具有主表面，而每个透镜部分的焦点在垂直于用于传输屏幕的屏幕件的主表面方向基本位于对应的光线漫射部分的中心部分。
这样可以进一步改进设置有通过采用本发明方法制造的用于传输屏幕的屏幕件的传输屏幕的光线使用效率。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选透镜基片采用设置有对应透镜基片的多个透镜部分的凹面部分的基片进行制造。
这样可以容易和可靠地获得设置每个都具有所需尺寸和形状的多个透镜部分的透镜基片。结果，可以改进设置有通过本发明方法制造的用于传输屏幕的屏幕件的生产率，而获得的传输屏幕具有稳定的特性和高可靠性。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选透镜基片的光线入射面具有形成多个透镜部分的可用面积，其中当从透镜基片的光线入射面顶部观看时，透镜部分所占的总面积与透镜基片的可用面积之比在90％或更多。
这样可以进一步改进设置有通过采用本发明方法制造的用于传输屏幕的屏幕件的传输屏幕的光线使用效率。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选每个透镜部分都形成显微透镜。
这样可以进一步改进设置有用于传输屏幕的屏幕件的传输屏幕的视角特性。即，除了其水平视角外，还可以增加传输屏幕的垂直视角。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选形成多个显微透镜，以便当从透镜基片的光线入射面顶部观看时，以无规则方式设置。
这样可以有效地防止波纹出现在投影图像中。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选多个显微透镜的曲率半径彼此基本相同。
这样可以容易形成设置有多个开口的光线漫射部分和光线遮蔽层。结果，可以显著改进用于传输屏幕的屏幕件的生产率。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选每个显微透镜的直径在10到500μm的范围内。
这样可以获得充分分辨率的投影图像，同时保持用于传输屏幕的屏幕件的高生产率。
在根据本发明制造用于传输屏幕的屏幕件的方法中，优选每个开口的直径在9到500μm的范围内。
这样可以获得充分的光线渗透性(光线使用效率)，同时进一步改进投影图像的对比度。
在本发明的另一方面，本发明旨在提供一种用于传输屏幕的屏幕件。本发明用于传输屏幕的屏幕件采用上述限定的制造本发明用于传输屏幕的屏幕件的方法制造。
在本发明的另一方面，本发明旨在提供一种传输屏幕。传输屏幕包括上述限定的本发明用于传输屏幕的屏幕件。
这样可以提供具有优良视角特性和光线使用效率的传输屏幕。
优选本发明的传输屏幕还包括具有菲涅耳(Fresnel)透镜的菲涅耳透镜部分，所述菲涅耳透镜部分具有发射面并且所述菲涅耳透镜形成于菲涅耳透镜部分的发射面中，其中用于传输屏幕的屏幕件设置在菲涅耳透镜部分的发射面的侧面上。
这样可以提供具有优良视角特性和光线使用效率的传输屏幕。
本发明的再一方面，本发明旨在提供一种后投影。在一个实施方式中，本发明的后投影包括上述限定的本发明用于传输屏幕的屏幕件。
这样可以提供设置有具有优良视角特性和光线使用效率的用于传输屏幕的屏幕件的后投影。
在另一实施方式中，本发明的后投影包括上述限定的本发明的传输屏幕。
这样可以提供设置有具有优良视角特性和光线使用效率的传输屏幕的后投影。
优选本发明的后投影还包括：
投影光学单元；以及
光线导向镜。
这样可以提供设置有具有优良视角特性和光线使用效率的后投影。
附图说明
参照相应的附图对下面优选实施方式进行具体说明，将使本发明的上述和其它目的、特征和优点变得更加清晰和容易理解。
图1是显示在根据本发明优选实施方式中用于传输屏幕的屏幕件的纵向截面视图。
图2是显示具有图1所示传输屏幕的显微透镜基片的平面视图。
图3是显示在根据本发明优选实施方式中，设置有图1所示用于传输屏幕的屏幕件的传输屏幕的纵向截面视图。
图4是显示具有用于利用制造显微透镜基片的显微透镜的凹面部分的基片的纵向截面视图。
图5A-5D是显示制造具有用于图4所示的显微透镜的凹面部分的基片的方法的纵向截面视图。
图6A-6I是显示制造图1所示用于传输屏幕的屏幕件的方法的一个实施例的纵向截面视图。
图7是显示施用本发明的传输屏幕的后投影简图。
图8是显示在根据本发明另一实施方式中，用于本发明的传输屏幕的屏幕件和传输屏幕的截面简图。
具体实施方式
在下文中，将参照相应的附图对本发明优选实施方式用于制造用于传输屏幕的屏幕件的方法、用于传输屏幕的屏幕件、传输屏幕以及后投影的屏幕件进行详细说明。
首先，将具体说明本发明用于传输屏幕的屏幕件和传输屏幕的构成。
图1是显示在根据本发明优选实施方式中用于传输屏幕的屏幕件的纵向截面视图。图2是显示具有设置有图1所示传输屏幕的显微透镜基片的平面视图。图3是显示在根据本发明优选实施方式中，设置有图1所示用于传输屏幕的屏幕件的传输屏幕的纵向截面视图。在这点上，在下述说明中，图1和图3中左侧和右侧分别称为“光线入射侧面(或光线入射面)”以及“光线发射侧面(或光线发射面)”。
用于传输屏幕的屏幕件1为构成将在后面说明的传输屏幕10的部件。如图1所示，用于传输屏幕的屏幕件1包括：具有聚集入射光线作用的显微透镜基片(透镜基片)3；由具有光线遮蔽(阻塞)作用的材料制作的黑色矩阵(光线遮蔽层)4；以及每个都具有通过漫反射作用漫射入射光线作用的光线漫射部分5。
显微透镜基片3具有光线入射面和相对光线入射面的光线发射面。此外，显微透镜基片3具有树脂层31，以及大量形成于显微透镜基片3的光线入射面(也就是说，树脂层31的入射侧的表面)上的显微透镜(透镜部分)32。
树脂层31主要由为具有预定折射率的透明树脂材料构成。
每个显微透镜32都形成为凸起部分凸向显微透镜基片3的光线入射面的凸透镜。此外，每个显微透镜32都设计为，以便传输显微透镜32的光线聚焦在超出黑色矩阵(光线遮蔽层)4的显微透镜基片3的光线发射面侧面上(即，显微透镜基片3设计为以便每个显微透镜32的焦点f位于超出黑色矩阵(光线遮蔽层)4的显微透镜基片3的光线发射面侧面上)。换言之，从垂直于显微透镜基片3的主表面方向进入显微透镜基片3的平行光线La(从后面说明的菲涅耳透镜部分2入射的平行光线La)通过显微透镜基片3的每个显微透镜32聚集，并聚焦在超出黑色矩阵(光线遮蔽层)4的显微透镜基片3的光线发射面侧面上(即，图1中的焦点f)。由于每个显微透镜32都以此方式将光线聚集在超出黑色矩阵(光线遮蔽层)4的显微透镜基片3的光线发射面侧面上，所以可以使光线具有特别优良的使用效率。为了更具体地说明，将在下面说明在光线漫射部分5聚集从显微透镜32发射的光线，用于传输屏幕的屏幕件1起到好像光线源位于超出黑色矩阵4的显微透镜基片3的光线发射面上的每个光线漫射部分5上的作用。这样可以有效地将进入光线漫射部分5的光线漫射到显微透镜基片3的光线发射面侧面上，同时有效地防止通过显微透镜32聚集的光线(光子)再次返回到显微透镜基片3的光线入射面侧面上。结果，可以使用于传输屏幕的屏幕件1的光线使用效率特别优良，从而可以使设置有用于传输屏幕的屏幕件1的传输屏幕10特别优良。
在优选方式中，每个显微透镜32的焦点f离开黑色矩阵(即，在黑色矩阵4的光线发射侧面的表面)1到250μm的范围，更优选离开黑色矩阵4为2到50μm的范围。在每个显微透镜32的焦点f位于上述范围的显微透镜基片3的光线入射面侧面上时，根据包含在光线漫射部分5中的漫射介质51的类型，从光线漫射部分5返回的光线量变大，从而有不能获得足够光线使用效率的可能性。另一方面，在每个显微透镜32的焦点f位于上述范围的显微透镜基片3的光线发射面侧面上时，根据将在后面说明的光线漫射部分5的高度等，由光线漫射部分5产生的光线漫射变得不充分，从而有不能充分获得改进光线使用效率效果的可能性。
在优选方式中，每个显微透镜32的直径都在10到500μm的范围，更优选在30到300μm的范围，而更加优选在50到100μm的范围。通过限制每个显微透镜32的直径在上述范围，可以进一步增加用于传输屏幕(传输屏幕10)的屏幕件1的生产率，同时保持投影在屏幕上的图像的充分分辨率。在这点上，优选显微透镜基片3中相邻显微透镜32之间的间距在10到500μm的范围，更优选的距离在30到300μm的范围，而更加优选的距离在50到100μm的范围。
此外，在优选方式中，构成用于传输屏幕的屏幕件1的多个显微透镜32的曲率半径为彼此基本相同，而更优选构成用于传输屏幕的屏幕件1的几乎所有显微透镜32的曲率半径彼此基本相同。这样，可以采用后面说明的方法(即，制造用于传输屏幕的屏幕件的方法)更容易、确定地形成黑色矩阵4和光线漫射部分5。
此外，不特别限制显微透镜32的设置形式。设置形式既可以是显微透镜32以规则形式设置的设置形式，也可以是显微透镜32以光学无规则形式设置的设置形式(当从显微透镜基片3的光线入射面顶上观看时(当从用于传输屏幕的屏幕件1的主表面观看时)显微透镜32无规则地设置)。然而，在优选方式中，显微透镜32如图2无规则设置。通过以无规则方式设置显微透镜32，可以有效地防止液晶等和菲涅耳透镜的光线值的干涉，因此，几乎可以完全防止出现波纹。这样就可以获得具有高显示质量的优良传输屏幕10。
此外，在优选方式中，当从显微透镜基片3的光线入射面顶上观看时(即，图2所示的方向)，在形成显微透镜32的可用区域中所有显微透镜32所占面积(投影面积)相对整个可用面积的比为90％或更多。更优选的比为96％或更多。在可用区域中所有显微透镜32所占面积相对整个可用面积的比为90％或更多的情况下，可以减少直接光线穿过不是显微透镜32所占的面积的面积，这样可以进一步增加屏幕件1的光线使用效率。
如上所述，黑色矩阵4和光线漫射部分5形成于显微透镜基片3的光线发射面上。
黑色矩阵4由具有光线遮蔽(阻塞)作用的材料制作，并以层的形式形成。通过将此黑色矩阵4施加到显微透镜基片3，可以吸收外部光线(即，在形成投影图像中不合要求的外部光线)，这样可以使投影到屏幕上的图像具有优良的对比度。
黑色矩阵4在通过显微透镜基片3的显微透镜32传递光线的光线通道上具有多个开口41。这样可以使显微透镜32聚集的光线通过黑色矩阵4的开口41进入光线漫射部分5。
每个开口41的尺寸没有特别限制。然而，在优选方式中，开口41的直径在9到500μm的范围，更优选在9到450μm的范围，而更加优选在20到90μm的范围。通过限制每个开口41的直径在上述范围，可以使已通过显微透镜32传递的光线有效地进入后面说明的光线漫射部分5，并可以使投影到屏幕上的图像具有优良的对比度。
光线漫射部分5具有通过漫反射作用漫射入射光线的作用。通过设置有此光线漫射部分5，可以改进视角特性。此外，每个光线漫射部分5都具有形成于超出黑色矩阵4的显微透镜基片3的光线发射面上的区域。由于光线漫射部分5具有此构造，可以有效地指引入射光线进入光线漫射部分5到达显微透镜基片3的光线发射面的侧面(即，相对光线入射面侧面的方向)。这样可以显著改进设置有用于传输屏幕的屏幕件1的传输屏幕10的视角特性(即，可以适当地增大能观看投射到屏幕上的图像的视角)。在此实施方式中，光线漫射部分5构成为以便漫射介质51分散进具有优良光线渗透性的基本透明的材料(例如，丙烯酸类树脂、聚碳酸酯树脂等)中。二氧化硅、玻璃、树脂等微粒(珠粒)形式都可以用于漫射介质51。例如，虽然没有特别限制漫射介质51的平均颗粒直径。但在优选方式中，漫射介质51的平均颗粒直径在1.0到50μm的范围，更优选在2.0到10μm的范围。此外，如果需要，例如，可以在施加光敏聚合物52后进行热处理如预焙处理。
此外，光线漫射部分5设置在至少相对应黑色矩阵4的开口41的部分上，每个光线漫射部分5都形成从黑色矩阵4表面凸出的凸出部分。如果光线漫射部分5具有此方式的凸出部分，可以改进设置有用于传输屏幕的屏幕件1的传输屏幕10的光线使用效率。更详细地说明，在光线漫射部分(光线漫射层)以具有均匀厚度的层的形式形成于黑色矩阵上的显微透镜基片3的光线发射面的侧面上的情况下，光线(光子)与漫射介质碰撞的概率(频率)增加，进入光线漫射部分内的光线(光子)具有再次返回到显微透镜基片的光线发射面的侧面的可能性。这样可能出现消光，因此光线使用效率降低。另一方面，在光线漫射部分5在相对应开口41的部分具有凸出部分的情况下，可以有效地将进入光线漫射部分5的光线漫射到显微透镜基片3的光线发射面的侧面，同时有效地防止由于进入光线漫射部分5和漫射介质51内部的光线(光子)的过度碰撞使消光变得明显，并防止通过显微透镜32聚集的光线(光子)再次返回到显微透镜基片的光线入射面的侧面。结果，可以改进传输屏幕10(即，用于传输屏幕的屏幕件1)的视角特性。此外，在光线漫射部分5具有此凸出部分的情况下，用于传输屏幕的屏幕件1可以构成为，以便具有光线漫射部分5为相对低的高度的区域，或光线漫射部分5不形成于相邻凸出部分之间的区域(在图1所示的结构中，用于传输屏幕的屏幕件1具有光线漫射部分5不形成于相邻凸出部分之间的区域)。这样可以更有效地起到黑色矩阵(光线遮蔽层)4的作用，因此，可以显著地改进投影到屏幕的图像的对比度。在这点上，即使在用于传输屏幕的屏幕件1具有每个都在显微透镜基片的光线发射面处的黑色矩阵4上具有均匀厚度的光线漫射部分，也可以通过降低(减少)光线漫射部分的高度(厚度)(例如，1μm)，以防止出现上述问题。然而，在此情况下，很难有效地漫射进入到光线漫射部分内部的光线。
在优选方式中，当从显微透镜基片3的光线入射面顶部(即，用于传输屏幕的屏幕件1的顶部)观看时，凸出部分所占总面积(投影面积)相对显微透镜32所占总面积的比在5到99％的范围内。更优选比在5到95％的范围内，更加优选比在30到70％的范围内。通过限制凸出部分所占总面积的比在上述范围，可以进一步改进设置有用于传输屏幕的屏幕件1的传输屏幕10的光线使用效率。此外，可以进一步改进投影图像的对比度。如果凸出部分所占总面积的比低于上述给定值的下限，则很难有效地传播进入光线漫射部分5的光线，从而具有很难获得设置有用于传输屏幕的屏幕件1的传输屏幕10的足够视角特性的可能性。另一方面，如果凸出部分所占总面积的比高于上述给定值的上限，则倾向于在光线漫射部分5(凸出部分)内出现消光，从而使其光线使用效率下降(降低)。此外，在此情况下，当从用于传输屏幕的屏幕件1的光线发射面顶部观看时，由于覆盖有光线漫射部分5(凸出部分)的面积相对黑色矩阵4表面(除了开口41之外的黑色矩阵4的区域)的比变大，所以，投射到屏幕的图像对比度倾向于变低。因此，在优选方式中，开口41的面积基本与形成的凸出部分的投影面积相同，以便凸出部分分别相对应开口41(即，覆盖黑色矩阵4部分的面积较小)。更具体地说，当从用于传输屏幕的屏幕件1的光线入射面顶部观看时(即，当从图2所示的方向观看时)，在开口41和凸出部分分别所占的总面积相对显微透镜32所占总面积的比分别为A％和B％，优选满足关系0.2≤A/B≤1.55。更优选满足关系0.5≤A/B≤1.2。这样使上述效果变得更明显。此外，根据后面说明的方法(制造用于本发明的传输屏幕的屏幕件的方法)，可以相对容易地获得满足上述条件的用于传输屏幕的屏幕件1。
在图1所示的结构中，用于传输屏幕的屏幕件1设置有多个光线漫射部分5。具体地说，凸出部分形式的多个光线漫射部分5彼此独立和可选择地形成，以便每个光线漫射部分5相对应每个黑色矩阵4的开口41。在多个光线漫射部分5以彼此独立的方式设置的情况下，可以改进用于传输屏幕的屏幕件1的光线使用效率，并改进投射到屏幕上的图像的对比度。更具体地说，在多个光线漫射部分5彼此独立设置的情况下，可以将进入光线漫射部分5的光线漫射到用于传输屏幕的屏幕件1的光线发射面侧面，同时更有效地防止由于进入光线漫射部分5和漫射介质51内部的光线(光子)的过度碰撞使消光变得明显，并防止通过显微透镜32聚集的光线(光子)再次返回到显微透镜基片的光线入射面的侧面。结果，可以显著改进传输屏幕10(即，用于传输屏幕的屏幕件1)的视角特性。此外，在多个光线漫射部分5彼此独立设置的情况下，用于传输屏幕的屏幕件1不具有黑色矩阵4不被相邻光线漫射部分5之间的光线漫射部分5覆盖的区域。这样可以更有效地起到黑色矩阵(光线遮蔽层)4的作用，因此，可以显著地改进投影到屏幕的图像的对比度。
在优选方式中，当从显微透镜基片3的光线入射面顶部(即，用于传输屏幕的屏幕件1的顶部)观看时，光线漫射部分5所占总面积(投影面积)相对显微透镜32所占总面积的比在5到99％的范围内。更优选比在5到95％的范围内，更加优选比在30到70％的范围内。通过限制光线漫射部分5所占总面积(投影面积)的比在上述范围，可以进一步改进设置有用于传输屏幕的屏幕件1的传输屏幕10的视角特性和光线使用效率。此外，可以进一步改进投影到屏幕的图像的对比度。如果光线漫射部分5所占总面积的比低于上述给定值的下限，则很难有效地漫射进入光线漫射部分5的光线，从而具有很难获得设置有用于传输屏幕的屏幕件1的传输屏幕10的足够视角特性的可能性。另一方面，如果光线漫射部分5所占总面积的比高于上述给定值的上限，则倾向于在光线漫射部分5内出现消光，从而使其光线使用效率下降(降低)。此外，在此情况下，当从用于传输屏幕的屏幕件1的光线发射面顶部观看时，由于覆盖有光线漫射部分5的面积相对黑色矩阵4表面的比变大，所以，投射到屏幕的图像对比度倾向于变低。因此，在优选方式中，开口41的面积基本与形成的光线漫射部分5的投影面积相同，以便凸出部分分别相对应开口41(即，覆盖黑色矩阵4的部分的面积较小)。更具体地说，当从用于传输屏幕的屏幕件1的光线入射面顶部观看时(即，当从图2所示的方向观看时)，在开口41和光线漫射部分5分别所占的总面积相对显微透镜32所占总面积的比分别为A％和C％，优选满足关系0.2≤A/C≤1.5。更优选满足关系0.5≤A/C≤1.2。这样使上述效果变得更明显。此外，根据后面说明的方法(制造用于本发明传输屏幕的屏幕件的方法)，可以相对容易地获得满足上述条件的用于传输屏幕的屏幕件1。
如上所述，在本实施方式中，用于传输屏幕的屏幕件1设计为，以便每个显微透镜32的焦点f位于黑色矩阵4上用于传输屏幕的屏幕件1的光线发射面侧面上。此外，在优选方式中，每个显微透镜32的焦点f基本位于在垂直于用于传输屏幕的屏幕件1的主表面方向相对应光线漫射部分5的中心部分。因此，进入光线漫射部分5内部的光线以适当的频率与漫射介质51碰撞。因此，可以有效地漫射进入光线漫射部分5内部的光线(光子)，同时有效地防止光线的消光。因此，可以进一步改进用于传输屏幕的屏幕件1(即，传输屏幕10)的光线使用效率。此外，由于光线漫射部分5反射的光线漫射到光线漫射部分5的周围，因此，可以获得更宽的传输屏幕10(用于传输屏幕的屏幕件1)的视角。
在优选方式中，每个光线漫射部分5(凸出部分)的顶端(顶点)对应每个显微透镜32的光学轴L(换言之，每个凸出部分的顶点位于对应得显微透镜32的光学轴L上)。因此，由于显微透镜32聚集的光线与相应的光线漫射部分5基本各向同性地漫射，因此，可以获得设置有用于传输屏幕的屏幕件1的传输屏幕10的良好视角特性。
此外，在优选方式中，光线漫射部分5的高度h(即，光线漫射部分5在垂直于用于传输屏幕的屏幕件1的主表面的方向的长度)在2到450μm的范围，更优选在2到250μm的范围。更加优选在5到50μm的范围。这样可以更可靠地防止由于光线漫射部分5反射的光线返回到显微透镜基片3的光线入射面造成的消光，因此，可以获得传输屏幕10(用于传输屏幕的屏幕件1)的高光线使用效率。
其次，将说明设置有用于传输屏幕的屏幕件1的传输屏幕10。
如图3所示，传输屏幕10设置有菲涅耳透镜部分2和上述用于传输屏幕的屏幕件1。菲涅耳透镜部分2设置在用于传输屏幕的屏幕件1的光线入射面的侧面上(即，在用于图像的光线入射侧面上)，而已通过菲涅耳透镜部分2传递的光线进入用于传输屏幕的屏幕件1。
菲涅耳透镜部分2设置有多个以基本同心的方式形成于菲涅耳透镜部分2的光线发射面上的棱镜的菲涅耳透镜21。菲涅耳透镜部分2偏转用于从投影透镜(在图中未示出)投影图像的光线，并将平行于用于传输屏幕的屏幕件1的主表面方向的垂直方向的平行光线La输出到用于传输屏幕的屏幕件1的光线入射面的侧面。
在以上述结构构成的传输屏幕10中，来自投影透镜的光线通过菲涅耳透镜部分2反射变成平行光线La。然后，平行光线La通过显微透镜基片3的每个显微透镜32聚集，聚集的光线穿过黑色矩阵4的每个开口41进入光线漫射部分5。进入每个光线漫射部分5的光线聚焦在相应光线漫射部分5的基本中心部分的焦点f上并漫射，从而使传输屏幕10的观测者(观看者)观测到(看到)作为平面图像的光线。
其次，将说明上述用于传输屏幕的屏幕件1的制造方法。
图4是显示具有用于利用制造显微透镜基片的显微透镜的凹面部分的基片的纵向截面视图。图5是显示制造具有用于图4所示的显微透镜的凹面部分的基片的方法的纵向截面视图。图6是显示制造图1所示用于传输屏幕的屏幕件的方法的一个实施例的纵向截面视图。这样，在下列说明中，图6中的下侧和上侧分别称为“光线入射侧(或光线入射面)”和“光线发射侧(或光线发射面)”。
在说明制造本发明用于传输屏幕的屏幕件的方法之前，将首先说明具有可以用于制造显微透镜基片的显微透镜的凹面部分的基片的结构和及其制造方法。
如图4所示，具有用于显微透镜的凹面部分的基片6具有多个无规则设置在基片5上的凹面部分(用于显微透镜)61。
通过采用此具有用于显微透镜的凹面部分的基片6，可以获得多个显微透镜32以上述光学无规则顺序设置的显微透镜基片3。
在详述中，术语“光学无规则顺序”意思是多个显微透镜32无规律或随机设置，以便可以充分防止和抑制光学干涉如波纹的出现。
下面，将参照图5说明制造具有用于显微透镜的凹面部分的基片的方法。这样，虽然实际在基片上有大量用于显微透镜的凹面部分形成，但为简化其说明，只有其一部分放大显示。
首先，在制造具有用于显微透镜的凹面部分的基片6中制备基片7。
在优选方式中，具有均匀厚度而没有弯曲和瑕疵的基片用于基片7。此外，在优选方式中，具有通过清洗等清洁的表面的基片用于基片7。
虽然碱石灰玻璃、结晶体玻璃(crystalline glass)、石英玻璃、铅玻璃、钾玻璃、硼钛酸盐玻璃、无碱玻璃等都可以提出作为用于基片7的材料，但碱石灰玻璃和结晶体玻璃(例如，新陶瓷等)为其中之优选。通过使用碱石灰玻璃、结晶体玻璃或无碱玻璃，可以容易地加工用于基片7的材料，因为用碱石灰玻璃或石英玻璃相对便宜，因此从制造成本的观点考虑比较有利。
<A1>如图5A所示，在制备的基片7的表面上形成掩膜8(掩膜形成过程)。然后，在基片7的后面上形成后面保护膜89(即，相对形成掩膜8的面的侧面)。不必说，掩膜8和后面保护膜89可以同时形成。
在优选方式中，掩膜8允许后面说明的初始孔81通过利用激光束等的照射在其中形成，并具有蚀刻加工的抵抗力(后面说明)，换言之，在优选方式中，掩膜8构成为以便其具有的蚀刻速度接近等于或小于基片7的蚀刻速度。
从此观点看，例如金属如Cr、Au、Ni、Ti、Pt等、含有从这些金属中选择的两种或更多种金属的合金、这些金属的氧化物(金属氧化物)、硅、树脂等都可以提出作为上述掩膜8的材料。另外，掩膜8有可以由通过不同材料如Cr/Au或铬氧化物/Cr薄板形成的多层的层结构。
形成掩膜8的方法没有特别的限制。在掩膜8由金属材料(包括合金)如Cr和Au或金属氧化物如铬氧化物构成的情况下，掩膜8可以通过例如蒸发方法、喷镀法等适当地形成。另一方面，在掩膜8由硅形成的情况下，掩膜8可以通过例如喷镀法、CVD法等适当地形成。
在掩膜8由铬氧化物或铬作为其主要成分形成的情况下，初始孔81可以通过初始孔形成过程(后面说明)方便地形成，并可以在蚀刻加工中更安全地保护基片7。此外，当掩膜8已经由铬氧化物或铬作为其主要成分形成时，在初始孔形成过程中(后面说明)，可以用例如二氟化氢铵(NH4HF2)溶液作为蚀刻剂。由于包含二氟化氢铵的溶液没有毒，因此可以更安全地防止其在工作期间对人和环境的影响。
虽然掩膜8的厚度可以根据构成掩膜8的材料改变，但优选范围在0.01到2.0μm，更优选范围在0.03到0.2μm。如果厚度在上述给定范围的下限以下，则在后面说明的初始孔形成过程中具有形成的初始孔81变形的可能性。此外，也具有在蚀刻步骤中(后面说明)湿蚀刻加工期间基片7的掩膜部分不能获得充分保护的可能性。另一方面，如果厚度在上述给定范围的上限以上，除了在初始孔形成过程(后面说明)中的穿透初始孔81形成困难外，根据掩膜8的构成材料等，还具有由于掩膜8的内应力掩膜8倾向于很容易去除的情况。
后面保护膜89设置为用于在接下来的操作中保护基片7的后面。通过后面保护膜89可以适当地防止基片7后面的侵蚀、消耗等。由于后面保护膜89利用与掩膜8同样的材料形成，因此可以以与形成掩膜8同样的方式，在掩膜8形成的同时形成。
<A2>接着，如图5B所示，将在蚀刻(后面说明)中作为掩膜开口使用的多个初始孔81通过物理方法或利用激光束照射无规则形成于掩膜8中(初始孔形成过程)。
可以用任意方法形成初始孔81，但在优选方式中，初始孔81通过物理方法或激光束照射形成。这样，可以以高生产率制造具有用于显微透镜的凹面部分的基片。更具体地说，凹面部分可以容易地形成在具有用于显微透镜的凹面部分的相对大尺寸的基片上。
形成初始孔81的物理方法包括例如冲击加工如喷丸法、喷砂设备等、蚀刻、挤压、点打印、轻叩法、研磨法等。在初始孔81通过冲击加工形成的情况下，即使基片7具有相对大的面积(即，用于形成显微透镜32的区域面积)可以在短时间高效率地形成初始孔81。
此外，在初始孔81通过利用激光束照射形成的情况下，没有特别限制使用的激光束种类，但可以提出红宝石激光器、半导体激光器、YAG激光器、毫微微秒激光器、玻璃激光YVO4激光器、Ne-He激光器、Ar激光器、二氧化碳激光器、受激准分子激光器等。此外，激光的波形可以利用如SHG(第二谐波发生)、THG(第三谐波发生)、FHG(第四谐波发生)等。在初始孔81通过利用激光束照射形成的情况下，可以方便和精确地控制初始孔81的尺寸，相邻初始孔81之间的距离等。此外，在初始孔81通过利用激光束照射形成的情况下，通过控制照射条件，不仅可以形成没有形成后面说明的初始凹面部分71的初始孔81，而且可以形成具有很小形状、尺寸或深度变化的初始凹面部分71，并可以方便和安全地形成初始孔81的这些尺寸。
在优选方式中，初始孔81在掩膜8的整个表面上均匀地形成。此外，在优选方式中，初始孔81以小孔设置有预定间隔的方式形成，以便在基片7的表面上没有平面部分，而当在步骤<A3>中进行湿蚀刻加工时，所述表面覆盖有几乎没有空间的凹面部分61(后面说明)。
更具体地说，例如，在优选方式中，当从基片5的顶部观看时，形成的初始孔81的形状接近为圆形，且每个初始孔81具有2到10μm的平均直径。此外，在优选方式中，初始孔81以每平方厘米(cm2)1千到100万个孔的比率形成于掩膜8上，更优选为每平方厘米(cm2)1万到50万个孔。此外，不必说，初始孔81的形状不局限于为圆形。
如图5B所示，当初始孔81形成于掩膜8上时，除初始孔81外，初始凹面部分71可以通过去除基片7的部分表面形成。这样可以增加当进行蚀刻加工(后面说明)时与蚀刻剂的接触面积，从而可以开始适宜的腐蚀。此外，通过调节初始凹面部分71的深度，可以调节凹面部分61的深度(即，透镜的最大厚度)。虽然没有特别限制初始凹面部分71的深度，但在优选方式中，为5.0μm或更少，更优选的范围在0.1到0.5μm。在初始孔81的形成通过利用激光束照射进行的情况下，可以保证减少与初始孔81一起形成的初始凹面部分71的深度变化。这样可以减少构成具有用于显微透镜的凹面部分的基片6的凹面部分61深度的变化，因此可以减少最终获得的显微透镜基片3中的显微透镜32的尺寸和形状的变化。结果，可以减少每个显微透镜32的透镜直径、聚焦距离和厚度。更具体地说，也可以在下面的步骤中适当地形成黑色矩阵4的开口1和光线漫射部分5。
此外，初始孔81不仅可以通过物理方法或利用激光束照射，而且可以通过例如当掩膜8形成于基片7上时，事先将具有预定形状的外部物体设置在基片7上，然后在具有外部物体的基片5上形成掩膜8以通过设计在掩膜8中形成缺陷，以便缺陷作为初始孔81使用。
这样，在本发明中，与通过传统的照相印刷术方法在掩膜8中形成开口相比，通过物理方法或利用激光束的照射在掩膜8中形成初始孔81，可以方便和廉价地无规则在掩膜8中形成开口(初始孔81)。此外，物理方法或利用激光束可以方便地制作大基片。
<A3>其次，如图5C所示，通过将蚀刻加工施加到利用形成初始孔81的掩膜8的基片7，在基片7上无规则形成大量的凹面部分61(蚀刻加工)。
蚀刻方法没有特别的限制，可以提出湿蚀刻加工、干蚀刻加工等作为实施例。在下面的说明中，将说明使用湿蚀刻加工作为实施例的情况。
如图5C所示，通过将湿蚀刻加工施加到覆盖有形成初始孔81的掩膜8的基片7，从没有掩膜8存在的部分腐蚀基片7，从而使大量的凹面部分61形成于基片7上。如上所述，由于形成于掩膜8的初始孔81无规则设置，所以形成的凹面部分61无规则地置在基片7的表面上。
此外，在本实施方式中，当于步骤<A2>中在掩膜8中形成初始孔81时，初始凹面部分71形成于基片7的表面上。这样，当在蚀刻加工基片期间，可以使与蚀刻剂的接触面积增加，从而可以开始适当地进行腐蚀。
此外，通过利用湿蚀刻加工可以适当地进行凹面部分61的形成。在包含氢氟酸(氟化氢)(即，氢氟酸基蚀刻剂)的蚀刻剂用作蚀刻剂的情况下，例如，可以更有选择性地蚀刻基片7，这样可以形成适合的凹面部分61。
在掩膜8主要由铬构成的情况下(即，掩膜8由包含Cr的材料作为其主要成分组成)，二氟化氢铵的溶液特别适合于作为氢氟酸基的蚀刻剂。由于包含二氟化氢铵的溶液(4wt％或更少的其水溶液)没有毒，因此可以更安全地防止其在工作期间对人和环境的影响。这样，在使用二氟化氢铵的溶液作为蚀刻剂的情况下，例如，过氧化氢可以包含在蚀刻剂中。这样可以加速蚀刻速度。
此外，湿蚀刻加工使加工采用比干蚀刻加工更简单的设备，并可以每次加工大量的基片。这样可以增加基片的生产率，并可以以低成本提供具有用于显微透镜的凹面部分的基片6。
<A4>其次，如图5D所示去除掩膜8(掩膜去除加工)，此时，后面保护膜随着掩膜8的去除一起被去除。
在掩膜8主要由铬构成的情况下，掩膜8的去除可以通过利用例如硝酸铵铈和高氯酸的混合溶液进行。
上述加工的结果，如图5D和4所示，可以获得具有用于大量凹面部分61无规则形成于基片7上的显微透镜的凹面部分的基片6。
在优选方式中，凹面部分61相对密集地形成于基片5上。更具体地说，在优选方式中，当从基片7的顶部观看时，所有在可用面积中的凹面部分61所占面积相对整个可用面积的比为90％或更多。即，具有用于显微透镜的凹面部分的基片6具有形成所有凹面部分61的通常面积。这样可以获得上述适合的显微透镜基片3。
在基片7上无规则形成凹面部分61的方法没有特别限制。在凹面部分61通过上述方法形成的情况下，即，通过物理方法或采用激光束照射，在掩膜8中形成初始孔81的基片7上形成凹面部分61的方法，然后，利用掩膜8进行蚀刻加工，可以获得以下效果。
即，与通过传统的印刷照相法在掩膜8中形成开口的情况相比，通过物理方法或采用激光束照射，在掩膜8中形成初始孔81，可以方便和便宜地在掩膜8中形成预定图形的开口(初始孔81)。这样可以增加具有用于显微透镜的凹面部分的基片6的生产率，从而可以以低成本提供具有用于显微透镜的凹面部分的基片6。
此外，根据上述方法，可以方便地进行大尺寸基片的加工。此外，根据此方法，在制造此大尺寸基片的情况下，不需要如同传统方法一样连接多个基片，从而可以消除连接缝隙的外观。这样可以通过简单的方法以低成本制造具有用于显微透镜的凹面部分的高质量的大尺寸基片(即，显微透镜基片)。
此外，当在步骤<A4>中去除掩膜8后，新的掩膜形成于基片7上，然后，重复进行包括掩膜形成加工、初始孔形成加工、湿蚀刻加工以及掩膜去除加工的一系列加工。在下文中，将说明具体的实施例。
下面，将说明作为本发明用于制造传输屏幕的屏幕件方法的一个实施例的上述利用具有用于显微透镜的凹面部分的基片6，制造用于传输屏幕的屏幕件1的方法。
<B1>首先，如图6A所示，将未聚合(未固化)的树脂33施加到形成具有用于显微透镜的凹面部分的基片6的凹面部分61的表面上。在本实施方式中，在此步骤，间隔装置9设置在没有形成具有用于显微透镜的凹面部分的基片6凹面部分66的区域上，然后，用平板11推(挤压)树脂33。因此，可以更稳定地控制形成显微透镜基片3的厚度，因此，可以更稳定地控制最终获得的用于传输屏幕的屏幕件1中的各个显微透镜32的焦点。
在将间隔装置9用于此实施方式的情况下，没有特别限制间隔装置9的形状，但在优选方式中，为基本球形或基本圆柱形。此外，在间隔装置9具有此形状的情况下，在优选方式中，间隔装置9的直径在10到300μm，更优选在30到200μm。更加优选在30到170μm。
这样，在施加树脂33和用平板11进行的推步骤之前，可以将脱模剂等施加到形成凹面部分61的具有用于显微透镜的凹面部分的基片6表面或当推树脂33时树脂33接触的平板11的表面。这样可以在下列步骤中方便和可靠地从具有用于显微透镜的凹面部分的基片6和平板11分离出显微透镜基片3。
<B2>接着，硬化(聚合)树脂33，然后去除平板11(参见图6)。这样，获得设置有树脂层31的显微透镜基片3和多个由填充在每个都作为凸透镜的多个凹面部分61构成的显微透镜32。
加工树脂33的方法没有特别限制，并且根据树脂的种类选择合适树脂的方法。例如，可以提出光线照射如紫外线、加热、电子束照射等。
<B3>接着，黑色矩阵4形成于如上述制造的显微透镜基片3的光线发射面上。
首先，如图6C所示，将包括具有光线遮蔽(阻塞)作用的正光敏聚合物的第一材料施加到显微透镜基片3的光线发射面上以形成第一层42。作为将第一材料施加到显微透镜基片3表面上的方法，可以使用例如，浸渍涂层法、印刷刮墨刀法、旋转涂层法、光处理涂层法、以及各种涂层法如喷溅涂层、静电涂层、电镀涂层、滚子涂层等。第一材料可以由具有光线遮蔽(阻塞)作用的树脂(聚合物)构成，或可以为具有光线遮蔽(阻塞)作用的材料分散或溶解到具有低光线遮蔽(阻塞)作用的树脂材料中的材料。如果需要，例如，当施加第一材料后(即，形成第一层42后)，可以进行如预焙加工的热处理。
<B4>接着，如图6D所示，用于曝光的光线Lb在垂直于显微透镜基片3的光线照射面方向照射到显微透镜基片3。用于曝光的照射光线Lb通过穿过每个显微透镜32进行聚集。每个显微透镜32的焦点f附近中的第一层42曝光，而与第一层42中不是焦点f附近的部分不曝光或稍微曝光(即，曝光度很小)。这样，只有各个焦点f附近中的第一层42(正光敏聚合物)曝光。
然后进行显影。在此情况下，由于第一层42包括正光敏聚合物，所以，各个焦点f附近中的第一层42融化并通过显影去除。结果，如图6E所示，其中在对应显微透镜32的光学轴L的部分上形成的开口41的黑色矩阵4形成，显影方法根据第一材料的组成(第一层的构成材料)等任意选择。例如，在此实施方式中正光敏聚合物的显影可以利用碱性水溶液如氢氧化钾等的溶液进行。
此外，如果需要，当曝光正光敏聚合物42后，可以进行如预焙加工的热处理。
<B5>接着，光线漫射部分5形成于对应以此方式形成的黑色矩阵4的开口41的部分上。
首先，如图6F所示，将第二材料施加到显微透镜基片3的光线发射面上(即，形成黑色矩阵4的面上)以形成第二层53。第二材料至少包括负光敏聚合物，在此实施方式中，第二材料为漫射介质51分散进负光敏聚合物52中的材料。例如，作为施加第二材料的方法，可以使用例如浸渍涂层法、印刷刮墨刀法、旋转涂层法、光处理涂层法、以及各种涂层法如喷溅涂层、静电涂层、电镀涂层、滚子涂层等。
例如CSP-SO25(主要由富士胶卷ARCH制造，made by FUJI FILMARCH)等可以作为漫射介质51使用。
此外，例如，二氧化硅、玻璃树脂等颗粒(珠粒)形式都可以作为负光敏聚合物52使用。虽然没有特别限制漫射介质5 1的平均颗粒直径，但优选漫射介质51的平均颗粒直径在1.0到50μm的范围，更优选在2.0到10μm的范围。此外，如果需要，例如，可以在施加第二材料后(即，形成第二层53后)进行热处理如预焙处理。
<B6>接着，如图6G所示，用于曝光的光线Lc在垂直于显微透镜基片3的光线入射面方向照射。用于曝光的照射光线Lc通过穿过每个显微透镜32聚集，并聚焦在对应各个显微透镜32的光学轴L的焦点(即，焦点f)。每个显微透镜32的焦点f附近中的第二层53曝光，而第二层53中对应于中不是焦点f附近的部分不曝光或稍微曝光(即，曝光度很小)。这样，只有各个焦点f附近中的第二层53(负光敏聚合物)曝光。
然后进行显影。在此情况下，由于光敏聚合物42为负光敏聚合物，所以，曝光的光敏聚合物52中对应于不是各个焦点f附近的部分融化并通过显影去除。结果，如图6H所示，光线漫射部分5形成于相对应的显微透镜32的光学轴L的部分上，即，对应黑色矩阵4的开口41的部分。
这样，在本发明中，通过透镜部分(显微透镜)聚集的光线照射到由包括负光敏聚合物的第二材料制作的第二层，然后第二层被显影，以便已通过聚集的光线曝光的第二层部分保持原样，从而形成光线漫射部分。这样可以很容易和可靠地获得具有优良视角特性和光线使用效率的传输屏幕(用于传输屏幕的屏幕件)。更具体地说明，通过利用透镜部分聚集的光线进行曝光，可以在对应光线遮蔽层(黑色矩阵)的开口的部分上有选择地形成光线漫射层(光线漫射部分)。结果，在获得的传输屏幕(用于传输屏幕的屏幕件)中，可以将透镜部分聚集的光线(光子)有效地漫射到透镜基片的光线发射面，同时有效地防止光线的消光，从而可以改进设置有本发明方法制造的用于传输屏幕的屏幕件的传输屏幕的有效使用效率和视角特性。此外，根据本发明，如同图中所示的结构一样，可以很容易和可靠地形成光线漫射部分，以便对应开口41的部分变为从黑色矩阵4凸出的凸出部分。此外，根据本发明，如同图中所示的结构一样，可以在对应开口41的部分上很容易和可靠地形成多个光线漫射部分5，以便光线漫射部分彼此单独地形成。
这样，如果需要，可以在曝光正光敏聚合物后进行热处理如预焙处理。
此外，当用于曝光的光线照射到显微透镜基片3上时，例如，用于曝光的光线的光源和显微透镜基片3之间的位置关系可以随着时间改变。即，当光线照射到显微透镜基片3上时，光源和显微透镜基片3可以相对移动。因此，例如，即使在形成相对大的光线漫射部分5的情况下，也可以有效地形成光线漫射部分5。
<B7>然后，通过从用于传输屏幕的屏幕件1去除具有用于显微透镜的凹面部分的基片6来获得用于传输屏幕的屏幕件1(参见图6I)。由于具有用于显微透镜的凹面部分的基片6可以重复使用，以通过此方式去除具有用于显微透镜的凹面部分的基片6来制造用于传输屏幕的屏幕件1，所以，基于用于传输屏幕的屏幕件1的制造成本和制造的用于传输屏幕的屏幕件1的质量稳定性，优选采用此方法。
这样，不必从用于传输屏幕的屏幕件1去除具有用于显微透镜的凹面部分的基片6。换言之，传输屏幕10可以设置有具有用于显微透镜的凹面部分的基片6。
如上所述，在本发明的制造方法中，由于黑色矩阵4和光线漫射部分5通过由显微透镜32聚集的用于曝光的光线照射光敏聚合物形成，所以，可以形成具有开口41的光线漫射部分5和黑色矩阵4，且可以有选择地形成具有微细位置精度的开口41和光线漫射部分5。因此，获得的用于传输屏幕的屏幕件1(传输屏幕10)具有优良的视角特性和有效使用效率。此外，根据本发明，用于传输屏幕的屏幕件1可以构成为，以便设置有光线漫射部分5的高度相对低的区域，或光线漫射部分5不在相邻凸出部分之间形成的区域。这样可以更有效地起到黑色矩阵(光线遮蔽层)4的作用，因此，可以显著改进投影到屏幕的图像对比度。
此外，在显微透镜基片3中的多个显微透镜32具有彼此基本同样的曲率半径的情况下，每个显微透镜32聚集的光线聚焦在基本同样的平面上。因此，通过将用于曝光的光线均匀地照射到显微透镜基片3的光线入射面上，可以形成黑色矩阵(光线遮蔽层)4的开口41和具有彼此基本同样尺寸的光线漫射部分5。
在下文中，将对上述使用传输屏幕的后投影做出说明。
图7是显示根据本发明后投影结构的简图。
如图7所示，后投影300具有设置在外壳340中的投影光学单元310、光线导向镜320和传输屏幕10的结构。
由于后投影300使用上述具有优良视角特性和光线使用效率的传输屏幕10作为其传输屏幕10，所以，其形成具有高显示质量的优良后投影。
此外，由于显微透镜32特别无规则地设置在上述用于传输屏幕的屏幕件1中，所以，后投影300很难产生如波纹的问题。
如上所述，应该注意，即使根据本发明制作用于传输屏幕的屏幕件的方法、用于传输屏幕的屏幕件、传输屏幕和后投影已经参照相应的附图对优选实施方式进行了说明，但本发明也不局限于这些实施方式。
例如，每个构成用于传输屏幕的屏幕件、传输屏幕和后投影部件(元件)都可以用具有同样或相似作用的元件代替。
此外，在上述实施方式中，虽然已经说明了每个显微透镜(透镜部分)32都具有在超出黑色矩阵4的显微透镜基片3的光线发射面的侧面上的焦点，但透镜部分的焦点也可以位于超出黑色矩阵4的显微透镜基片3中(参见图8)。
此外，在上述实施方式中，虽然已经说明了利用具有用于显微透镜的凹面部分的基片6制造的基片作为显微透镜基片(透镜基片)3使用，但任何透镜基片(通过任何方法制造的透镜基片)都可以作为显微透镜基片3使用。
此外，在上述实施方式中，虽然已经说明了除了制造具有用于显微透镜的凹面部分的基片的方法的初始孔形成加工中的初始孔81外，初始凹面部分71形成于基片7上，但也可以不需要形成此初始凹面部分71。通过选择初始孔81的形成条件(例如，激光的能量强度、光束直径、照射时间等)，除初始孔81外，可以有选择地形成每个都具有所需形状的初始凹面部分71，或只有初始孔81，以便不形成初始凹面部分71。
此外，在上述实施方式中，虽然已经说明了形成黑色矩阵(光线遮蔽层)4和光线漫射部分5，同时具有用于显微透镜的凹面部分的基片6制作为粘贴(靠近)到显微透镜基片3，但也可以形成黑色矩阵(光线遮蔽层)4和光线漫射部分5，例如，同时从显微透镜基片3去除具有用于显微透镜的凹面部分的基片6。
此外，已经说明了当从显微透镜基片3的顶部观看时，每个都具有基本圆形的显微透镜32无规则地设置，但显微透镜32的形状和设置不局限于上述方式。例如，显微透镜32可以以格子图形设置，或可以形成蜂窝图形。
此外，已经说明了传输屏幕10设置有用于上述实施方式中的传输屏幕的屏幕件和菲涅耳透镜21，本发明的传输屏幕10不是必需设置有菲涅耳透镜21。例如，在实际情况中，传输屏幕10也可以只由本发明用于传输屏幕的屏幕件1构成。
此外，已经说明了显微透镜基片3(透镜基片)设置有显微透镜32作为上述实施方式中的透镜部分的结构，透镜部分也不局限于显微透镜32。例如，透镜部分可以为双凸透镜。通过利用双凸透镜，可以简化透镜部分的制造步骤，因此，可以改进传输屏幕10的生产率。在双凸透镜作为透镜部分的情况下，带状光线遮蔽层(黑条)代替黑色矩阵4形成于透镜基片的光线发射面。在这种情况下，光线漫射部分5设置在至少对应构成黑条的相邻带之间的空间部分。即使在此结构中，也可以获得与上述方式同样的作用和效果。即，根据本发明，可以有效地指引进入光线漫射部分5的光线(入射光线)到透镜基片的光线发射面，同时充分地漫射入射光线。因此，即使在透镜基片设置有双凸透镜作为透镜部分的情况下，也可以获得优良的视角特性(即，除其水平视角外，还可以增加传输屏幕的垂直视角)。
此外，已经说明了整个光线漫射部分5作为凸出部分形成，即，每个光线漫射部分5都基本只由上述实施方式中的凸出部分构成，但光线漫射部分也可以具有除了凸出部分之外的区域(参见图8)。
此外，已经说明了当在上述实施方式中形成光线漫射部分5后，具有用于显微透镜的凹面部分的基片6从显微透镜基片3去除，具有用于显微透镜的凹面部分的基片6也可以在形成黑色矩阵4或光线漫射部分5之前形成，或可以容纳(结合)在传输屏幕10中，而不从显微透镜基片3去除。
                      实施例
(实施例1)
制造具有配备有用于显微透镜的凹面部分的用于显微透镜的凹面部分的基片，然后，以下列方式利用具有用于显微透镜的凹面部分的基片制造显微透镜基片。
首先，制备具有1.2m×0.7m和4.8m厚的矩形碱石灰玻璃基片。
碱石灰玻璃基片浸泡在包含4wt％二氟化氢铵和8wt％过氧化氢的清洗液体中以进行6μm的蚀刻加工，然后清洗其表面。
然后，用纯水清洗并用氮(N2)气(用于去除纯水)进行干燥。
接着，每个都具有0.03μm厚的铬膜(掩膜和后面保护膜)通过喷镀方法形成于碱石灰玻璃基片上。即，每个都由铬膜制作的掩膜和后面保护膜形成于碱石灰玻璃基片的两个表面上。
接着，对掩膜进行激光加工以在掩膜的中心部分113cm×65cm的区域内形成大量的初始孔。
这样，利用YAG激光器在1mW的能量强度、3μm的光束直径、以及60×10-9秒的条件下进行激光加工。
这样，初始孔在上述掩膜的整个区域形成无规则的图形。初始孔的平均直径为5μm，初始孔的形成密度为40,000孔/cm2。
此外，此时，每个都具有大约0.1μm深度和受损坏层(或受影响层)的凹面部分形成于碱石灰玻璃基片的表面。
接着，碱石灰玻璃基片经过湿蚀刻加工，从而在碱石灰玻璃基片上形成大量的凹面部分。大量形成的凹面部分基本具有彼此同样的曲率(35μm)。
这样，包含4wt％二氟化氢铵和8wt％过氧化氢的水溶液作为蚀刻剂用于湿蚀刻，而基片的浸泡时间为5小时。
接着，通过利用硝酸铵铈和高氯酸的混合溶液进行蚀刻加工以去除氧化铬膜(掩膜和后面保护膜)。
然后，用纯水清洗并用N2气(用于去除纯水)进行干燥。
结果，可以获得大量用于显微透镜的凹面部分无规则形成于碱石灰玻璃基片上的具有用于显微透镜的凹面部分的薄片状基片。当从获得的具有凹面部分的基片的顶部观看时，所有凹面部分在形成凹面部分的可用面积中所占面积与整个可用面积的比为97％。可以获得任意相邻两个点之间的许多距离(即，在凹面部分和相邻凹面部分之间)，并可以计算这些距离的标准偏差。通过此计算获得的标准偏差为许多距离的平均直径的35％。
其次，将脱模剂(GF-6110)施加到上述获得的形成凹面部分的具有用于显微透镜的凹面部分的基片，将未聚合(未固化)的紫外线(UV)固化树脂(UV-固化树脂)(V-2403(由日本钢化学有限公司生产))施加到同样面的侧面。此时，基本球形的间隔装置(每个都具有150μm的直径)设置在上述未形成具有用于显微透镜的凹面部分的基片的区域(即，不可用的透镜区)。
接着，用由无碱玻璃组成的平板挤压(推)UV-固化树脂。此时，进行此加工以便空气不会进入到平板和UV-固化树脂之间。在此情况下，当推UV-固化树脂时，将脱模剂(GF-6110)事先施加到UV-固化树脂已经接触的平板的面上。
然后，通过照射10,000mJ/cm2的紫外线通过平板，UV-固化树脂被固化以获得显微透镜基片。获得的显微透镜基片的折射率为1.5。此外，获得的显微透镜基片的树脂层厚度为40μm，而多个显微透镜的每个的曲率半径和直径分别为35μm和70μm。此外，当从显微透镜基片的光线入射面的顶部观看时，显微透镜所占总面积(投影面积)与显微透镜基片的可用面积比为97％。
接着，去除平板。
接下来，将包括正光敏聚合物(PC405G(JSR公司制造))和光线遮蔽材料(炭黑)的第一材料施加到具有滚子涂机的显微透镜基片的光线发射面(即，相对形成显微透镜的面的面)以形成第一层。第一材料的光线遮蔽材料含量为20wt％。
接着，对显微透镜基片施用90℃的预焙处理30分钟。
接着，将作为80mJ/cm2平行光线的紫外线从相对形成凹面部分的面的面照射到具有用于显微透镜的凹面部分的基片。在此情况下，照射的紫外线通过各个显微透镜聚集，并选择性地在显微透镜焦点f附近曝光第一层(光敏聚合物)。
接着，采用0.5wt％的氢氧化钾水溶液作为显影流体，将显影过程施加到用于传输屏幕的屏幕件40秒钟。
接着，用纯水清洗并用氮(N2)气(用于去除纯水)进行干燥。此外，将200℃、30分钟的后烘干施用到显微透镜基片。这样，形成具有多个对应各个显微透镜开口的黑色矩阵。黑色矩阵的厚度为2μm，开口的直径为45μm。
接着，包括负光敏聚合物(CSP-SO25(由富士胶卷ARCH制造))、光线漫射介质(每个都具有5μm直径的石英珠粒)的第二材料施用到黑色矩阵已经利用滚子涂机形成于其上的面上以形成第二层。此外，第二层的光线漫射介质含量为25wt％。
接下来，对显微透镜基片施用90℃的预焙处理30分钟。
接着，将作为100mJ/cm2平行光线的紫外线从相对形成凹面部分的面的面照射到具有用于显微透镜的凹面部分的基片。在此情况下，照射的紫外线通过各个显微透镜聚集，并选择地在显微透镜焦点f附近曝光第二层(光敏聚合物)。
接着，采用CD-2000(由富士胶卷ARCH制造)作为显影流体，将显影过程施加到用于传输屏幕的屏幕件40秒钟。
接着，用纯水清洗并用氮(N2)气(用于去除纯水)进行干燥。此外，将200℃、30分钟的后烘干加工施用到显微透镜基片。这样，在对应多个开口的部分上形成凸形光线漫射部分(凸出部分)。形成的光线漫射部分的高度为5μm。这样，形成的光线漫射部分形成为凸出部分，而不形成于短于每个凸出部分的顶点的高度的部分(不形成凸出部分)的平面部分(其表面平行于显微透镜基片的光线发射表面)不形成于黑色矩阵上。
接着，通过从屏幕件上去除具有用于显微透镜的凹面部分的基片，获得用于传输屏幕的屏幕件。
在以此方式获得的用于传输屏幕的屏幕件中，当平行光线从形成显微透镜的面进入到用于传输屏幕的屏幕件中时，每个显微透镜的焦点f位于在光线发射方向离开黑色矩阵的光线发射面3μm的部分。此外，当从用于传输屏幕的屏幕件顶部观看时，作为凸出部分的光线漫射部分所占总面积(投影面积)相对显微透镜所占总面积的比为70％。此外，当从用于传输屏幕的屏幕件顶部观看时，开口所占总面积(投影面积)相对显微透镜所占总面积的比为50％。
通过组装上述制造的用于传输屏幕的屏幕件和通过挤压模塑成形制造的菲涅耳透镜部分，可以获得如图3所示的传输屏幕。
(实施例2)
除了每个掩模和后面保护膜形成为氧化铬膜外，以与实施例1同样的方式制造传输屏幕。在此情况下，掩模和后面保护膜利用喷镀法形成。氧化铬膜的厚度为0.03μm。
(实施例3)
除了每个掩模和后面保护膜形成为铬/氧化铬膜的层压件(氧化铬层压在铬的外表面的层压件)外，以与实施例1同样的方式制造传输屏幕。在此情况下，掩模和后面保护膜利用喷镀法形成。铬膜的厚度为0.02μm，氧化铬膜的厚度为0.02μm。
(实施例4)
除了每个掩模和后面保护膜形成为氧化铬/铬膜的层压件(铬层压在氧化铬的外表面的层压件)外，以与实施例1同样的方式制造传输屏幕。在此情况下，掩模和后面保护膜利用喷镀法形成。氧化铬膜的厚度为0.02μm，铬膜的厚度为0.02μm。
(比较实施例1)
以上述利用上述实施例1制造的具有用于显微透镜的凹面部分的基片同样的方法制造显微透镜基片。
接着，去除用于挤压UV-固化树脂的平板，作为光线遮蔽材料的碳黑分散进PC-403(由JSR公司制造)的合成物中，利用滚子涂机施加到显微透镜基片的光线发射面(即，曝光的显微透镜表面)。然后，将90℃、30分钟的热处理施用到显微透镜基片，从而固化合成物并形成光线遮蔽涂层。
接着，将利用照相平版法(即，通过将具有预定图形的光线照射到已经形成光线遮蔽涂层的显微透镜基片的面上)形成的掩膜和蚀刻加工施用到显微透镜基片。然后，将200℃、60分钟的热处理施加到显微透镜基片以固化合成物，从而形成在对应光线遮蔽涂层上的各个显微透镜的部分上具有开口的黑色矩阵。形成的黑色矩阵的厚度为2μm，开口的直径为45μm。
接着，将光线漫射介质(直径为5um的二氧化硅珠粒)分散进负光敏聚合物(CSPSO25(JSR公司制造))的合成物施加到利用滚子涂机已经形成的黑色矩阵的整个面上。然后，将200℃、60分钟的热处理施用到显微透镜基片，从而固化合成物并形成层状的光线漫射部分。形成的光线漫射部分(光线漫射层)的厚度为6μm。
接着，通过从屏幕件上去除具有用于显微透镜的凹面部分的基片，获得用于传输屏幕的屏幕件。
通过组装上述制造的用于传输屏幕的屏幕件和通过挤压模塑成形制造的菲涅耳透镜部分，获得传输屏幕。
(比较实施例2)
首先，制备具有1.2m×0.7m和4.8m厚的矩形碱石灰玻璃基片。
碱石灰玻璃基片浸泡在包含4wt％二氟化氢铵和8wt％过氧化氢的清洗液体中以进行6μm的蚀刻加工，从而清洗其表面。
然后，用纯水清洗并用氮(N2)气(用于去除纯水)进行干燥。
接着，每个都具有0.03μm厚的铬膜(掩膜和后面保护膜)通过喷镀方法形成于碱石灰玻璃基片上。即，每个都由铬膜制作的掩膜和后面保护膜形成于碱石灰玻璃基片的表面上。
接着，对掩膜进行激光加工以在掩膜中心部分113cm×65cm的区域内彼此平行地形成大量的直线槽(孔)。相邻直线槽之间的间距为70μm。
这样，利用YAG激光器在1mW的能量强度、3μm的光束直径、以及60×10-9秒的条件下进行激光加工。接着，碱石灰玻璃基片经过湿蚀刻加工，从而在碱石灰玻璃基片上形成槽状凹面部分。形成的槽状凹面部分具有彼此基本同样的曲率(35μm)
此时，包含4wt％二氟化氢铵和8wt％过氧化氢的水溶液作为蚀刻剂用于湿蚀刻，而基片的浸泡时间为5小时。
接着，通过利用硝酸铵铈和高氯酸的混合溶液进行蚀刻加工以去除氧化铬膜(掩膜和后面保护膜)。
然后，用纯水清洗并用N2气(用于去除纯水)进行干燥。
结果，可以获得大量用于双凸透镜的凹面部分(槽)形成于碱石灰玻璃基片上的具有用于双凸透镜的凹面部分的薄片状基片。
接着，将脱模剂(GF-6110)施加到上述获得的形成凹面部分的具有用于双凸透镜的凹面部分的基片，并将未聚合(未固化)的紫外线(UV)固化树脂(UV-固化树脂)(V-2403(由日本钢化学株式会社生产))施加到同样面的侧面。此时，基本球形的间隔装置(每个都具有30μm的直径)设置在上述未形成的具有用于双凸透镜的凹面部分的基片的凹面部分的上面区域。
接着，用由无碱玻璃组成的平板挤压(推)UV-固化树脂。此时，进行此加工以便空气不会进入到平板和UV-固化树脂之间。在此情况下，当推UV-固化树脂时，将脱模剂(GF-6110)事先施加到UV-固化树脂已经接触的平板的面上。
然后，通过照射10,000mJ/cm2的紫外线通过平板，固化UV-固化树脂以获得双凸透镜基片。获得的双凸透镜基片的折射率为1.5。此外，获得的双凸透镜基片的树脂层厚度为150μm，而多个双凸透镜的每个曲率半径分别为35μm。
接着，去除用于挤压UV-固化树脂的平板，作为光线遮蔽材料的碳黑分散进PC-403(由JSR公司制造)的合成物利用滚子涂机施加到双凸透镜基片的光线入射面(曝光的双凸透镜基片的表面，即，形成双凸透镜的面)。然后，将200℃、60分钟的热处理施加到双凸透镜基片，从而固化合成物并形成光线遮蔽涂层。
接着，将利用照相平版法(即，通过将具有预定图形的光线照射到已经形成光线遮蔽涂层的双凸透镜基片的面上)形成的掩膜和蚀刻加工施用到双凸透镜基片，从而形成在对应光线遮蔽涂层上的各个双凸透镜的部分上具有开口的黑带(光线遮蔽层)。形成的黑带的厚度为2μm，开口的宽度为35μm。
接着，将光线漫射介质(每个都具有5μm直径的石英珠)分散进负光敏聚合物(CSPSO25(富士胶卷ARCH制造))的合成物施加到利用滚子涂机已经形成的黑带的整个面上。然后，将200℃、60分钟的热处理施用到显微透镜基片，从而固化合成物并形成层状的光线漫射部分。形成的光线漫射部分(光线漫射层)的厚度为40μm。
接着，通过从屏幕件上去除具有用于双凸透镜的凹面部分的基片，获得用于传输屏幕的屏幕件。
通过组装上述制造的用于传输屏幕的屏幕件和通过挤压模塑成形制造的菲涅耳透镜部分，获得传输屏幕。
(传输屏幕的评价)
测量实施例1到4和比较实施例1和2每个制造的传输屏幕的光线使用效率。用于光线使用效率的测量在传输这些实施例每个的传输屏幕的光线量相对没有任何传输屏幕的光线量的比利用具有累计球的分光光度计予以测量的条件下进行。
结果，在实施例1到4每个制造的传输屏幕中，可以获得70％的优良光线使用效率。另一方面，在比较实施例1和2制造的传输屏幕中，仅仅分别可以获得55％和52％的光线使用效率。
(后投影的制造及其评价)
如图7所示的后投影利用实施例1到4和比较实施例1和2中每个制造的传输屏幕进行制造(装配)。
当样品图像显示在获得的后投影的每个中的传输屏幕上时，对在水平和垂直两个方向的视角进行测量。
视角的测量在用测角光度计以5度的间隔进行测量的条件下进行。
结果，可以确定，设置有实施例1中获得的传输屏幕的后投影具有水平方向(光线量变为一半的角度)的视角为22°和垂直方向的视角为22°的优良视角特性。此外，在此后投影中，图像为明亮显示且不会出现波纹。此外，在设置有实施例2中获得的各自传输屏幕的后投影中，也可以获得同样的效果。
另一方面，在设置有比较实施例1和2中获得的各自传输屏幕的后投影中，不能获得充分的特性。
即，在设置有比较实施例1中获得的各自传输屏幕的后投影中，垂直和水平方向的视角分别为18°、18°。此外，在设置有比较实施例2中获得的各自传输屏幕的后投影中，垂直和水平方向的视角分别为8°、23°。在比较实施例1和2中获得的具有传输屏幕的后投影分别具有较差的视角特性。此外，在比较实施例1和2每个的后投影中，与本发明(即，实施例1到4的后投影)的每个后投影相比，投影到传输屏幕的图像较黑。

Claims (22)

1.一种制造用于传输屏幕的屏幕件方法，所述方法包括步骤：
制备具有光线入射面和相对光线入射面的光线发射面的透镜基片，透镜基片的光线入射面形成有多个用于聚集入射光线的透镜部分；
由透镜基片的光线发射面上的第一层形成光线遮蔽层，以便在通过透镜基片的透镜部分传递光线的光线路径上，光线遮蔽层具有多个开口；以及
形成用于漫射已通过透镜基片的每个透镜部分传递的光线的多个光线漫射部分；
其中光线漫射部分形成步骤包括：
通过施加包含负光敏聚合物的材料到光线遮蔽层以在光线遮蔽层上形成第二层；
通过使光线从透镜基片的光线入射面进入透镜基片以曝光第二层，以便通过每个透镜部分聚集光线，然后通过聚集的光线照射第二层；以及
显影第二层，以便已通过聚集的光线曝光的第二层的部分保持原样不变。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于光线遮蔽层形成步骤包括：
通过将包括正光敏聚合物的材料施加到透镜基片的光线发射面，在透镜基片的光线发射面上形成第一层；
通过使光线从透镜基片的光线入射面进入透镜基片以曝光第一层，以便通过每个透镜部分聚集光线，然后通过聚集的光线照射第一层；以及
显影第一层，以便去除已通过聚集的光线曝光的第一层的部分，从而形成多个开口。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
透镜基片的每个透镜部分都设计成以便进入每个透镜部分的光线都聚焦在超出光线遮蔽层的透镜基片的光线发射面的侧面上。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
每个光线漫射部分都形成为凸出部分，所述凸出部分从位于对应光线遮蔽层开口位置处的光线遮蔽层的表面凸出。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于：
当从透镜基片的光线入射面顶部观看时，由凸出部分所占的总面积与透镜部分所占的总面积之比在5到99％的范围内。
6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，呈凸出形式的多个光线漫射部分彼此独立地形成。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
当从透镜基片的光线入射面顶部观看时，光线漫射部分所占的总面积与透镜部分所占的总面积之比在5到99％的范围内。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
用于传输屏幕的屏幕件具有主表面，每个光线漫射部分的长度在垂直于用于传输屏幕的屏幕件的主表面方向为2到450μm的范围内。
9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
用于传输屏幕的屏幕件具有主表面，而每个透镜部分的焦点在垂直于用于传输屏幕的屏幕件的主表面方向基本位于相应光线漫射部分的中心部分。
10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
透镜基片采用设置有对应透镜基片的多个透镜部分的凹面部分的基片制造。
11.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
透镜基片的光线入射面具有形成多个透镜部分的可用面积，其中当从透镜基片的光线入射面顶部观看时，透镜部分所占的总面积与透镜基片的可用面积之比为90％或更多。
12.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，每个透镜部分都形成显微透镜。
13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于：
多个显微透镜形成为以便当从透镜基片的光线入射面顶部观看时，以无规则方式设置。
14.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，多个显微透镜的曲率半径彼此基本相同。
15.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，每个显微透镜的直径在10到500μm的范围内。
16.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，每个开口的直径在9到500μm的范围内。
17.一种根据权利要求1所述方法制造的用于传输屏幕的屏幕件。
18.一种包括权利要求17所述用于传输屏幕的屏幕件的传输屏幕。
19.根据权利要求18所述的传输屏幕，还包括具有多个菲涅耳透镜的菲涅耳透镜部分，所述菲涅耳透镜部分具有发射面并且所述多个菲涅耳透镜形成于发射面上，其中传输屏幕设置在菲涅耳透镜部分的发射面的侧面上。
20.一种包括权利要求17所述的用于传输屏幕的屏幕件的后投影。
21.一种具有传输屏幕的后投影，所述传输屏幕包括权利要求18所述的用于传输屏幕的屏幕件。
22.根据权利要求20所述的后投影，还包括：
投影光学单元；以及
光线导向镜。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102778710A (zh) * 2011-05-13 2012-11-14 夏普株式会社 光扩散部件及其制造方法、显示装置
CN113785157A (zh) * 2019-03-22 2021-12-10 Lg伊诺特有限公司 照明模块及包括其的照明装置

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5011676B2 (ja) * 2005-08-12 2012-08-29 株式会社日立製作所 表示装置を備える機器
JP2007121336A (ja) * 2005-10-24 2007-05-17 Seiko Epson Corp レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ
JP2007152703A (ja) * 2005-12-02 2007-06-21 Seiko Epson Corp レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ
US7994021B2 (en) * 2006-07-28 2011-08-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of manufacturing semiconductor device
TWI412079B (zh) 2006-07-28 2013-10-11 Semiconductor Energy Lab 製造顯示裝置的方法
JP5075595B2 (ja) * 2007-11-26 2012-11-21 株式会社東芝 表示装置及びそれを用いた移動体
KR20130073004A (ko) * 2011-12-22 2013-07-02 제일모직주식회사 광학 필름, 이를 포함하는 백라이트 유닛 및 이를 포함하는 액정표시장치
GB2501936B (en) * 2012-05-11 2016-11-30 Canon Kk Micro lens array and imaging apparatus
JP6340554B2 (ja) * 2012-12-26 2018-06-13 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 画像表示装置
TWI684048B (zh) * 2014-10-07 2020-02-01 美商康寧公司 直視型顯示裝置及用於直視型顯示裝置的發光單元
CN114995043B (zh) * 2022-06-27 2024-07-05 三海威(深圳)新材料科技有限公司 基于圆形阵列和蓝光吸收技术的复合膜材及其制备方法

Family Cites Families (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58190935A (ja) 1982-04-30 1983-11-08 Dainippon Printing Co Ltd レンチキユラ−シ−ト
JPS58205140A (ja) 1982-05-25 1983-11-30 Dainippon Printing Co Ltd 透過型スクリ−ン
JPS63163329A (ja) 1986-12-25 1988-07-06 Dainippon Printing Co Ltd 透過型スクリ−ン用レンズ板
JP2670540B2 (ja) 1987-02-28 1997-10-29 大日本印刷株式会社 レンチキユラーレンズスクリーン
JPS63265235A (ja) 1987-04-22 1988-11-01 Dainippon Printing Co Ltd 透過型投影スクリ−ン
JP2695422B2 (ja) 1988-01-14 1997-12-24 三菱レイヨン株式会社 透過型スクリーン
KR920008057B1 (ko) * 1989-01-28 1992-09-22 주식회사 금성사 광역의 흡수율을 갖는 리어프로젝션 스크린
JPH0776826B2 (ja) * 1989-03-13 1995-08-16 凸版印刷株式会社 レンチキュラースクリーンおよびその製造方法
JPH0392634A (ja) 1989-09-01 1991-04-17 Honda Motor Co Ltd 自動二輪車のフロントフォーク
JPH0392634U (zh) * 1989-10-28 1991-09-20
JPH0721612A (ja) 1993-07-07 1995-01-24 Hitachi Ltd 光磁気記録の記録方法
JPH07281180A (ja) 1994-04-06 1995-10-27 Toshiba Corp 液晶表示装置およびその製造方法
JP3224331B2 (ja) 1994-10-17 2001-10-29 富士写真フイルム株式会社 カメラ用遮光室の製造方法
JP3456474B2 (ja) 1995-08-18 2003-10-14 凸版印刷株式会社 遮光ストライプパターンを有するレンチキュラーシート
JPH1020404A (ja) 1996-07-08 1998-01-23 Dainippon Printing Co Ltd 透過型投影スクリーン及びその作製方法
JPH10104752A (ja) 1996-08-05 1998-04-24 Victor Co Of Japan Ltd プリンタ装置
JPH10123623A (ja) 1996-10-16 1998-05-15 Casio Comput Co Ltd 透過型投影スクリーン
US6937393B2 (en) * 1997-06-30 2005-08-30 Lg Chemical Ltd. Projection television screen
JP3549176B2 (ja) 1997-07-28 2004-08-04 株式会社東芝 液晶表示装置、およびカラーフィルタ基板の製造方法
JPH11344602A (ja) 1998-03-30 1999-12-14 Seiko Epson Corp ブラックマトリクス付マイクロレンズ基板の製造方法、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置
JP2000019607A (ja) 1998-07-03 2000-01-21 Konica Corp 薄型カメラ、薄型カメラの包装体、薄型カメラの製造方法及び薄型カメラの現像処理装置
JP4386989B2 (ja) 1999-05-11 2009-12-16 パナソニック株式会社 液晶表示装置
JP2000122228A (ja) 1998-10-14 2000-04-28 Konica Corp フィルムの潜像焼き込み装置および潜像焼き込み方法、フィルム内蔵カートリッジとその製造方法、およびレンズ付フィルムユニットとその製造方法
JP2000171906A (ja) 1998-12-09 2000-06-23 Toshiba Corp 透過型投写スクリーンおよびその製造方法
JP3939458B2 (ja) * 1999-03-23 2007-07-04 株式会社クラレ 背面投写型スクリーン
JP2000292862A (ja) 1999-04-09 2000-10-20 Dainippon Printing Co Ltd レンチキュラーレンズシートの製造方法およびその装置
JP2001074918A (ja) 1999-09-02 2001-03-23 Fuji Photo Film Co Ltd 光拡散体およびその製造方法
JP2001092026A (ja) 1999-09-21 2001-04-06 Noritsu Koki Co Ltd 写真焼付装置、写真処理装置および写真焼付方法
JP2001201611A (ja) 2000-01-21 2001-07-27 Hitachi Ltd 光学的機能性シート及びこれを用いた面状光源並びに画像表示装置
JP2001339103A (ja) 2000-05-29 2001-12-07 Ricoh Co Ltd Ｌｅｄアレイ、プリントヘッド及び電子写真プリンタ
JP4043701B2 (ja) 2000-08-01 2008-02-06 株式会社リコー 光書き込み装置および画像形成装置
JP2002139406A (ja) 2000-11-06 2002-05-17 Nikon Corp 光学特性計測用マスク、光学特性計測方法、及び露光装置の製造方法
JP2002278079A (ja) 2001-03-21 2002-09-27 Ricoh Co Ltd レジストパターン形成方法とそれを用いた露光装置およびそれにより作製したレジストパターンとマイクロレンズ
JP2003080598A (ja) 2001-09-14 2003-03-19 Ricoh Co Ltd マイクロレンズシートの形成方法及びこの形成方法によるマイクロレンズシート
JP2003177476A (ja) 2001-12-12 2003-06-27 Toppan Printing Co Ltd 透過型スクリーン
US6807020B2 (en) * 2002-08-01 2004-10-19 Jenmar Visual Systems Lens optimization and color correction for image projection systems
TW586322B (en) * 2002-12-18 2004-05-01 Prodisc Technology Inc Rear projection screen, optical component of a rear projection screen and method for manufacturing thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102778710A (zh) * 2011-05-13 2012-11-14 夏普株式会社 光扩散部件及其制造方法、显示装置
CN113785157A (zh) * 2019-03-22 2021-12-10 Lg伊诺特有限公司 照明模块及包括其的照明装置
US11841525B2 (en) 2019-03-22 2023-12-12 Lg Innotek Co., Ltd. Lighting module and lighting device comprising same

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Publication number Publication date
KR100704081B1 (ko) 2007-04-09
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