CN113970875A - 一种光掩模及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种光掩模及其制作方法，光掩模包括主图形和至少一个散射条图形，由于所述散射条图形包括多个间隔设置的子散射条图形，且所述多个子散射条图形依次排列在所述主图形的一侧，因此，即便增大子散射条图形在垂直于其排列方向的方向上的宽度，散射条图形也不会随主图形一同被刻蚀出，从而可以通过增大子散射条图形在垂直于其排列方向的方向上的宽度，增大主图形的聚焦深度，提高其工艺窗口的质量。
Description
技术领域
本发明涉及光学修正技术领域，更具体地说，涉及一种光掩模及其制作方法。
背景技术
在先进节点的光刻领域中，在光掩模主图形附近添加光学散射条，是一种增强曝光工艺窗口的关键技术。其中，散射条的宽度决定了工艺窗口的质量。一般来说，散射条的宽度越宽，聚焦深度越大，对工艺窗口越有利。然而，过宽的散射条会随同主图形一起被刻蚀出，造成刻蚀图形上的坏点，使得刻蚀良率大幅下降。基于此，如何合理的设计散射条是本领域技术人员亟待解决的问题之一。
发明内容
有鉴于此，本发明提供了一种光掩模及其制作方法，以在主图形附近添加合适的散射条，提高工艺窗口的质量。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种光掩模，包括主图形和至少一个散射条图形；
所述散射条图形包括多个间隔设置的子散射条图形，所述多个子散射条图形依次排列在所述主图形的一侧。
可选地，所述至少一个散射条图形包括第一散射条图形和第二散射条图形；
所述第一散射条图形包括多个间隔设置的第一子散射条图形，所述多个第一子散射条图形依次排列在所述主图形的第一侧；
所述第二散射条图形包括多个间隔设置的第二子散射条图形，所述多个第二子散射条图形依次排列在所述主图形的第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对设置。
可选地，所述至少一个散射条图形包括第一散射条图形、第二散射条图形、第三散射条图形和第四散射条图形；
所述第一散射条图形包括多个间隔设置的第一子散射条图形，所述多个第一子散射条图形依次排列在所述主图形的第一侧；
所述第二散射条图形包括多个间隔设置的第二子散射条图形，所述多个第二子散射条图形依次排列在所述主图形的第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对设置；
所述第三散射条图形包括多个间隔设置的第三子散射条图形，所述多个第三子散射条图形依次排列在所述主图形的第三侧；
所述第四散射条图形包括多个间隔设置的第四子散射条图形，所述多个第四子散射条图形依次排列在所述主图形的第四侧，所述第四侧与所述第三侧相对设置。
可选地，所述子散射条图形的形状为矩形。
可选地，所述子散射条图形的宽度大于20nm。
可选地，同一散射条图形中，多个子散射条图形的大小相等。
可选地，同一散射条图形中，至少两个子散射条图形的大小不相等。
一种光掩膜的制作方法，包括：
提供主图形；
在所述主图形的至少一侧形成散射条图形，所述散射条图形包括多个间隔排列的子散射条图形，所述多个子散射条图形依次排列在所述主图形的一侧。
可选地，在所述主图形的至少一侧形成散射条图形包括：
在所述主图形的第一侧形成第一散射条图形，在所述主图形的第二侧形成第二散射条图形；
其中，所述第一散射条图形包括多个间隔设置的第一子散射条图形，所述多个第一子散射条图形依次排列在所述主图形的第一侧，所述第二散射条图形包括多个间隔设置的第二子散射条图形，所述多个第二子散射条图形依次排列在所述主图形的第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对设置。
可选地，在所述主图形的至少一侧形成散射条图形包括：
在所述主图形的第一侧形成第一散射条图形，在所述主图形的第二侧形成第二散射条图形，在所述主图形的第三侧形成第三散射条图形，在所述主图形的第四侧形成第四散射条图形；
其中，所述第一散射条图形包括多个间隔设置的第一子散射条图形，所述多个第一子散射条图形依次排列在所述主图形的第一侧，所述第二散射条图形包括多个间隔设置的第二子散射条图形，所述多个第二子散射条图形依次排列在所述主图形的第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对设置，所述第三散射条图形包括多个间隔设置的第三子散射条图形，所述多个第三子散射条图形依次排列在所述主图形的第三侧，所述第四散射条图形包括多个间隔设置的第四子散射条图形，所述多个第四子散射条图形依次排列在所述主图形的第四侧，所述第四侧与所述第三侧相对设置。
与现有技术相比，本发明所提供的技术方案具有以下优点：
本发明所提供的光掩模及其制作方法，光掩模包括主图形和至少一个散射条图形，由于所述散射条图形包括多个间隔设置的子散射条图形，且所述多个子散射条图形依次排列在所述主图形的一侧，因此，即便增大子散射条图形在垂直于其排列方向的方向上的宽度，散射条图形也不会随主图形一同被刻蚀出，从而可以通过增大子散射条图形在垂直于其排列方向的方向上的宽度，增大主图形的聚焦深度，提高其工艺窗口的质量。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本发明一个实施例提供的光掩模的俯视结构示意图；
图2为本发明另一个实施例提供的光掩模的俯视结构示意图；
图3为本发明另一个实施例提供的光掩模的俯视结构示意图；
图4为本发明一个实施例提供的光掩模的制作方法的流程图。
具体实施方式
以上是本发明的核心思想，为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种光掩膜，如图1所示，包括基板1和位于基板1上的主图形10和至少一个散射条图形11。其中，主图形10和至少一个散射条图形11是基板1上的镂空图形。当然，基板1上可以包括多个主图形10，本发明实施例中仅以一个主图形10为例进行说明，并不仅限于此。
需要说明的是，主图形10是需要在被刻蚀物体上刻蚀出的图形，散射条图形11是不需要在被刻蚀物体上刻蚀出的图形，散射条图形11的作用是增大主图形10的聚焦深度，提高主图形10的工艺窗口以及刻蚀出的图形的质量。
本发明实施例中，散射条图形11包括多个间隔设置的子散射条图形110，多个子散射条图形110依次排列在主图形10的一侧，也就是说，本发明实施例中的散射条图形11为离散化的散射条图形，基于此，即便增大子散射条图形110在第一方向X上的宽度D，散射条图形11也不会随主图形10一同被刻蚀出，从而可以通过增大子散射条图形110在第一方向X上的宽度，增大主图形10的聚焦深度，提高其工艺窗口的质量。
可选地，子散射条图形110在第一方向X上的宽度大于20nm。当然，在实际应用中可以根据散射条图形11的参数设定子散射条图形110在第一方向X上的宽度以及子散射条图形110的形状等，在此不再赘述。
可选地，本发明实施例中的子散射条图形110的形状为矩形，当然，本发明并不仅限于此，在其他实施例中，子散射条图形110的形状还可以为菱形或平行四边形等。
本发明实施例中，可以根据实际需要在主图形10一侧设置散射条图形11，也可以在主图形10相对的两侧或相邻的两侧设置散射条图形11，本发明的一个实施例中，如图2所示，至少一个散射条图形11包括第一散射条图形11a和第二散射条图形11b。
其中，第一散射条图形11a包括多个间隔设置的第一子散射条图形11a0，多个第一子散射条图形11a0依次排列在主图形10的第一侧S1。第二散射条图形11b包括多个间隔设置的第二子散射条图形11b0，多个第二子散射条图形11b0依次排列在主图形10的第二侧S2，第二侧S2与第一侧S1相对设置。
当然，本发明并不仅限于此，在其他实施例中，散射条图形11也可以设置在主图形10的三侧或四侧，当然，本发明实施例中仅以主图形10的形状是矩形为例进行说明，本发明并不仅限于，在其他实施例中，主图形10的形状还可以是圆形或梯形等。
如图3所示，至少一个散射条图形11包括第一散射条图形11a、第二散射条图形11b、第三散射条图形11c和第四散射条图形11d。
其中，第一散射条图形11a包括多个间隔设置的第一子散射条图形11a0，多个第一子散射条图形11a0依次排列在主图形10的第一侧S1；第二散射条图形11b包括多个间隔设置的第二子散射条图形11b0，多个第二子散射条图形11b0依次排列在主图形10的第二侧S2，第二侧S2与第一侧S1相对设置；第三散射条图形11c包括多个间隔设置的第三子散射条图形11c0，多个第三子散射条图形11c0依次排列在主图形10的第三侧S3；第四散射条图形11d包括多个间隔设置的第四子散射条图形11d0，多个第四子散射条图形11d0依次排列在主图形10的第四侧S4，第四侧S4与第三侧S3相对设置。
可选地，本发明实施例中，同一散射条图形11中，多个子散射条图形110的大小相等，当然，本发明并不仅限于此，在其他实施例中，可以根据实际需要或根据主图形10的形状对每个子散射条图形110进行放大或缩小，即同一散射条图形11中，至少两个子散射条图形110的大小不相等。
此外，本发明实施例中，并不对同一散射条图形11中子散射条图形110的个数进行限定，其可以与其他主图形10周围的散射条图形11中的子散射条图形110合并或拆分，即本发明实施例中，相邻两个主图形10可以共用一个散射条图形11。
需要说明的是，本发明实施例中的光掩膜的作用是将主图形10转移到待刻蚀物体表面的光刻胶层上，然后光刻胶层再将主图形转移到待刻蚀物体上，刻蚀出所需的结构。
本发明实施例还提供了一种光掩膜的制作方法，应用于如上任一实施例提供的光掩模的制作，如图4所示，该方法包括：
S101：提供主图形；
参考图1，提供基板1，该基板1上具有主图形10。
S102：在主图形的至少一侧形成散射条图形，散射条图形包括多个间隔排列的子散射条图形，多个子散射条图形依次排列在主图形的一侧。
提供主图形10之后，根据主图形10设计需要形成的散射条图形11的形状和尺寸等，然后，在主图形10的至少一侧形成散射条图形11，散射条图形11包括多个间隔排列的子散射条图形110，多个子散射条图形110依次排列在主图形10的一侧。
本发明的一个实施例中，参考图2，在主图形10的至少一侧形成散射条图形11包括：
在主图形10的第一侧S1形成第一散射条图形11a，在主图形10的第二侧S2形成第二散射条图形11b；
其中，第一散射条图形11a包括多个间隔设置的第一子散射条图形11a0，多个第一子散射条图形11a0依次排列在主图形10的第一侧S1，第二散射条图形11b包括多个间隔设置的第二子散射条图形11b0，多个第二子散射条图形11b0依次排列在主图形10的第二侧S2，第二侧S2与第一侧S1相对设置。
本发明的一个实施例中，参考图3，在主图形10的至少一侧形成散射条图形11包括：
在主图形10的第一侧S1形成第一散射条图形11a，在主图形10的第二侧S2形成第二散射条图形11b，在主图形10的第三侧S3形成第三散射条图形11c，在主图形10的第四侧S4形成第四散射条图形11d；
其中，第一散射条图形11a包括多个间隔设置的第一子散射条图形11a0，多个第一子散射条图形11a0依次排列在主图形10的第一侧S1，第二散射条图形11b包括多个间隔设置的第二子散射条图形11b0，多个第二子散射条图形11b0依次排列在主图形10的第二侧S2，第二侧S2与第一侧S1相对设置，第三散射条图形11c包括多个间隔设置的第三子散射条图形11c0，多个第三子散射条图形11c0依次排列在主图形10的第三侧S3，第四散射条图形11d0包括多个间隔设置的第四子散射条图形11d0，多个第四子散射条图形11d0依次排列在主图形10的第四侧S4，第四侧S4与第三侧S3相对设置。
本发明实施例所提供的光掩模及其制作方法，由于散射条图形包括多个间隔设置的子散射条图形，且多个子散射条图形依次排列在主图形的一侧，因此，即便增大子散射条图形在垂直于其排列方向的方向上的宽度，散射条图形也不会随主图形一同被刻蚀出，从而可以通过增大子散射条图形在垂直于其排列方向的方向上的宽度，增大主图形的聚焦深度，提高其工艺窗口的质量。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (10)
1.一种光掩模，其特征在于，包括主图形和至少一个散射条图形；
所述散射条图形包括多个间隔设置的子散射条图形，所述多个子散射条图形依次排列在所述主图形的一侧。
2.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，所述至少一个散射条图形包括第一散射条图形和第二散射条图形；
所述第一散射条图形包括多个间隔设置的第一子散射条图形，所述多个第一子散射条图形依次排列在所述主图形的第一侧；
所述第二散射条图形包括多个间隔设置的第二子散射条图形，所述多个第二子散射条图形依次排列在所述主图形的第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对设置。
3.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，所述至少一个散射条图形包括第一散射条图形、第二散射条图形、第三散射条图形和第四散射条图形；
所述第一散射条图形包括多个间隔设置的第一子散射条图形，所述多个第一子散射条图形依次排列在所述主图形的第一侧；
所述第二散射条图形包括多个间隔设置的第二子散射条图形，所述多个第二子散射条图形依次排列在所述主图形的第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对设置；
所述第三散射条图形包括多个间隔设置的第三子散射条图形，所述多个第三子散射条图形依次排列在所述主图形的第三侧；
所述第四散射条图形包括多个间隔设置的第四子散射条图形，所述多个第四子散射条图形依次排列在所述主图形的第四侧，所述第四侧与所述第三侧相对设置。
4.根据权利要求1～3任一项所述的光掩膜，其特征在于，所述子散射条图形的形状为矩形。
5.根据权利要求4所述的光掩膜，其特征在于，所述子散射条图形的宽度大于20nm。
6.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，同一散射条图形中，多个子散射条图形的大小相等。
7.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，同一散射条图形中，至少两个子散射条图形的大小不相等。
8.一种光掩膜的制作方法，其特征在于，包括：
提供主图形；
在所述主图形的至少一侧形成散射条图形，所述散射条图形包括多个间隔排列的子散射条图形，所述多个子散射条图形依次排列在所述主图形的一侧。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在所述主图形的至少一侧形成散射条图形包括：
在所述主图形的第一侧形成第一散射条图形，在所述主图形的第二侧形成第二散射条图形；
其中，所述第一散射条图形包括多个间隔设置的第一子散射条图形，所述多个第一子散射条图形依次排列在所述主图形的第一侧，所述第二散射条图形包括多个间隔设置的第二子散射条图形，所述多个第二子散射条图形依次排列在所述主图形的第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对设置。
10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在所述主图形的至少一侧形成散射条图形包括：
在所述主图形的第一侧形成第一散射条图形，在所述主图形的第二侧形成第二散射条图形，在所述主图形的第三侧形成第三散射条图形，在所述主图形的第四侧形成第四散射条图形；
其中，所述第一散射条图形包括多个间隔设置的第一子散射条图形，所述多个第一子散射条图形依次排列在所述主图形的第一侧，所述第二散射条图形包括多个间隔设置的第二子散射条图形，所述多个第二子散射条图形依次排列在所述主图形的第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对设置，所述第三散射条图形包括多个间隔设置的第三子散射条图形，所述多个第三子散射条图形依次排列在所述主图形的第三侧，所述第四散射条图形包括多个间隔设置的第四子散射条图形，所述多个第四子散射条图形依次排列在所述主图形的第四侧，所述第四侧与所述第三侧相对设置。
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Legal Events
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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