CN113862616B - 一种增透抗uv车载显示面板的一次镀膜成型方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法,属于显示面板表面处理技术领域。为了解决现有的紫外截止不好的问题,提供一种增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法,该方法包括将清洁后待镀膜的玻璃白片放入镀膜机的真空镀膜腔室内,进行离子源清洗,交替进行二氧化钛镀膜处理和二氧化硅镀膜处理若干次,镀膜过程中通过对每次的镀膜层厚度和总层数的控制,形成增透抗UV镀膜层;打开AF靶源进行蒸镀处理使在增透抗UV镀膜层表面形成AF膜层,得到车载显示面板。本发明对紫外光100nm~360nm的范围平均的截止率达到95%以上,兼具高抗UV和增透的双重功能效果。
Description
技术领域
本发明涉及一种增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法,属于显示面板表面处理技术领域。
背景技术
目前对于电子产品如触屏、车载屏幕、平板电脑等智能触控电子产品,往往通过在透明玻璃面板的表面进行镀膜处理,以形成不同功能的光学性能,如为了减少光反射的损失,增强光的透过率,通过在玻璃面板的表面镀设AR镀膜层,来提高光透过率,而现有的减反增透玻璃一般只具有对可见光范围内的高透性能,而不能同时实现对紫外线的隔绝或截止功能,而是需要通过另外增加抗UV膜层的镀设或通过涂覆UV树脂材料来起实现这一功能,但是,这样对膜系的整体功能会有影响,尤其是通过涂覆UV树脂等对工艺的操作也不易控制,且形成的涂层附着力也并不好,对于透光率和抗UV的功能也不能达到较佳的水平;也有通过整体膜系进行减反和抗UV的功能,但是具有的抗UV功能并不佳,又如中国专利文献(CN:111362588A)公开的一种防紫外和减反功能的玻璃,通过在玻璃基板的正面由内到外依次进行镀制氧化铌层和二氧化硅层、二氧化铌层和二氧化硅及氮化碳层,再进行步骤3中在玻璃基板反面由内至外依次镀氧化铌和二氧化硅层,再进行二氧化铌层和二氧化硅及氮化碳层的镀制,其通过两面镀制并不利于生产加工,且更重要是,整体的抗紫外的功能并不好,对长波紫外线的平均透过率≤24%,而200-400nm的紫外平均反射率也只能达到68%左右,截止效果并不好。
发明内容
本发明针对以上现有技术中存在的缺陷,提供一种增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法,解决的问题是如何一次镀膜系兼具高抗UV及增透的性能。
本发明的目的是通过以下技术方案得以实现的,一种增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
A、清洗:将清洁后待镀膜的玻璃白片放入镀膜机的真空镀膜腔室内,进行离子源清洗,结束后进入下一步;
B、镀增透抗UV镀膜层:保持真空镀膜腔室抽真空后,先打开二氧化钛靶源,在玻璃白片的正面进行二氧化钛镀膜处理形成相应的镀膜层,关闭二氧化钛靶源;对上述镀膜后的表面进行离子源清洗;然后,再打开二氧化硅靶源,使在二氧化钛镀膜形成的镀膜层表面进行二氧化硅镀膜处理形成相应的镀膜层,再对表面进行离子源清洗;重复交替进行上述二氧化钛镀膜处理和二氧化硅镀膜处理若干次,镀膜过程中通过对每次的镀膜层厚度和总层数的控制,一体成型以二氧化钛镀膜和二氧化硅镀膜交替镀设形成的增透抗UV镀膜层,且形成的增透抗UV镀膜层对可见光的反射率≤1%,对紫外光的透光率≤8%;
C、镀AF膜层:关闭二氧化硅的靶源,再打开AF靶源进行蒸镀处理使在增透抗UV镀膜层表面形成AF膜层,得到相应的镀膜后的车载显示面板。
通过在增透抗UV镀膜处理过程中,每次镀膜后进行离子源清洗处理,能够有效的去除镀膜层表面的残留物和基本除去真空镀膜腔室内的残留部分,再进行下一步镀膜,能够使形成的每层镀膜层均具有较纯的成分,保证每层的光学折射率,也能使每层之间的附着力更稳定,避免出现界面变化影响光学性质,且通过对每一镀膜层的厚度和总层数进行控制,达到具有对可见光的反射率≤1%,对紫外光的透光率(R%)≤8%;这里主要对于紫外光100~360nm的范围平均的截止率达到92%以上,具有整体对紫外的截止功能好的效果,实现一次镀膜的膜系结构镀设,达到兼具高抗UV和增透的双重功能效果,也更有利于镀膜处理。
在上述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法中,作为优选,步骤B中所述增透抗UV镀膜层从内到外依次为:厚度为19nm~20nm的二氧化钛镀膜层一、厚度为41nm~43nm的二氧化硅镀膜层一、厚度为39.0nm~39.5nm的二氧化钛镀膜层二、厚度为46nm~47nm的二氧化硅镀膜层二、厚度为28.0nm~28.5nm的二氧化钛镀膜层三、厚度为62nm~63nm的二氧化硅镀膜层三、厚度为33nm~34nm的二氧化钛镀膜层四、厚度为37nm~38nm的二氧化硅镀膜层四、厚度为34nm~35nm的二氧化钛镀膜层五和厚度为107nm~108nm的二氧化硅镀膜层五。通过这样的膜层结构和厚度控制,有效的实现兼具抗UV和增透的性能,对紫外光的波长在100nm~360nm的范围的平均截止率高及对可见光的高增透的效果。作为更进一步的优选方案,所述增透抗UV镀膜层从内到外依次为:厚度为19.56nm的二氧化钛镀膜层一、厚度为42.25nm的二氧化硅镀膜层一、厚度为39.31nm的二氧化钛镀膜层二、厚度为46.25nm的二氧化硅镀膜层二、厚度为28.2nm的二氧化钛镀膜层三、厚度为62.2nm的二氧化硅镀膜层三、厚度为33.41nm的二氧化钛镀膜层四、厚度为37.56nm的二氧化硅镀膜层四、厚度为34.41nm的二氧化钛镀膜层五和厚度为107nm的二氧化硅镀膜层五。
在上述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法中,作为优选,步骤B中所述二氧化钛靶源的二氧化钛中掺杂有Ce和Cu金属元素,且所述Ce金属元素的掺杂量为0.15%~0.25%,所述Cu金属元素的掺杂量为0.05%~0.10%。通过在二氧化钛中掺杂少量的Ce和Cu金属元素,能够改善该镀膜层对紫外的吸收能力,提高整体对紫外的截止功能,尤其是对200nm~360nm范围的紫外吸收能力,使整体对紫外光具有更好的截止功能,在保证整体对可见光的透光率的基础上,实现对100nm~360nm的范围平均的截止率达到99%以上,且可见光透光率仍能达到99%以上。作为更进一步的优选,所述Ce和Cu的掺杂量的质量比为0.15:0.06~0.08。
在上述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法中,作为优选,步骤C中所述AF膜层采用抗UV的AF材料制成。通过采用具有抗UV功能的AF材料形成,能够更好的保证抗UV的功能,且兼具高防指纹的效果。
在上述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法中,作为优选,步骤C中所述AF膜层蒸镀时在紫外光照射下进行。通过在进行AF膜蒸镀的过程中进行紫外光照射,能够使AF膜在加工过程中就在紫外照射环境下进行,能够提升AF膜更好的达到抗UV的功能,保持其使用的耐久性,使用过程中更好的附着在膜层表面。
在上述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法中,作为优选,步骤A中所述离子源清洗是通过将氩气通入真空镀膜腔室内转化成等离子体形成离子束,使离子束打到玻璃白片正面进行清洗5min~8min。提高玻璃白片表面的表面能和分布均匀性,更有利于提升增透抗UV镀膜层的粘结能力。
在上述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法中,作为优选,步骤B中所述二氧化钛镀膜处理时,通入氧气,使氧气转化成等离子体形成离子束,离子束打到表面进行辅助镀膜。通过相当于在打开二氧化钛靶源时,还同步通入氧气,使转化成等离子体形成离子束,打在玻璃白片的表面上。在离子束的打击下,能够使表面形成细微的凹凸不平微结构,改善表面的粗糙度,能够增加镀膜过程中膜层的附着力,提升膜层的致密性作用。
在上述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法中,作为优选,步骤B中二氧化硅镀膜处理时,同步通入氩气,使氩气转化成等离子体形成离子束,离子束打到表面进行辅助镀膜。通过相当于在打开二氧化钛靶源时,还同步通入氩气,使转化成等离子体形成离离子束,打在前一镀膜层的表面上。同样能够使表面形成细微的凹凸不平微结构,改善表面的粗糙度,能够增加镀膜过程中膜层的附着力,提升膜层的致密性作用。
综上所述,本发明与现有技术相比,具有以下优点:
1.通过对增透抗UV的膜系结构改进,使其具有对可见光的反射率≤1%,对紫外光的透光率(R%)≤8%的功能;实现对紫外光100nm~360nm的范围平均的截止率达到95%以上,具有整体截止功能好的效果,且实现一次镀膜的膜系结构镀设,达到兼具高抗UV和增透的双重功能效果,也更有利于镀膜处理。
2.通过在二氧化钛中掺杂少量的Ce和Cu金属元素,能够改善该镀膜层对紫外的吸收能力,提高整体对紫外的截止功能,尤其是对200nm~360nm范围的紫外吸收能力,使整体对紫外光具有更好的截止功能,在保证整体对可见光的透光率的基础上,实现对100nm~360nm整体的范围平均的截止率达到99%以上,且可见光透光率仍能达到99%以上。
具体实施方式
下面通过具体实施例,对本发明的技术方案作进一步具体的说明,但是本发明并不限于这些实施例。
实施例1
将待加工的透明的玻璃白片(有机玻璃)放入电子束蒸镀机(2050镀膜机)的真空镀膜腔室内,进行抽真空后,待真空值小于或等于2.0x10-5托,启动离子源进行等离子清洗,即打开电源,功率控制在5kw左右,打开用于清洗的氩气通道,通入氩气,离子源开启工作,使氩气通过离子源转化成等离子体形成离子束,离子束打到玻璃白片表面进行离子源清洗10分钟,离子源清洗结束后,关闭氩气通道,停止通入氩气,离子源同步停止工作,等待5分钟后,再保持抽真空,将真空镀膜腔室内抽真空到小于或等于2.0x10-5托,待稳定后,控制温度在60℃~65℃;再打开氧气通道,通入氧气,离子源同步开启工作,功率控制在6Kw左右,使氧气通过离子源转化成等离子体形成离子束,离子束打到表面进行辅助镀膜,增加膜层附着力,提升膜层的致密性作用,离子源工作后,打开二氧化钛(TiO2)靶源,使蒸发的二氧化钛以纳米级分子形式同步沉积在玻璃白片正面进行二氧化钛镀膜,过程中进行厚度控制形成厚度为19.56nm二氧化钛镀膜层一,关闭二氧化钛靶源以及关闭氧气通道,停止氧气通入,离子源同步停止工作;
再对二氧化钛镀膜层一的表面进行离子源清洗,具体为:打开用于清洗的氩气通道,通入氩气,离子源同步开启工作,功率控制在6kw左右,使氩气通过离子源转化成等离子体形成离子束,离子束打到表面进行离子源清洗8分钟,清洗结束后,关闭氩气通道,停止通入氩气,离子源同步停止工作,等待5分钟后,再保持抽真空,将真空镀膜腔室内抽真空到小于或等于2.0x10-5托,待稳定后,控制温度在60℃~65℃,然后,再打开另一氩气通道,通入氩气,离子源同步开启工作,功率控制在6kw左右,使氩气通过离子源转化成等离子体形成离子束,离子束打到表面进行辅助镀膜,此过程离子源开启辅助能够起到增加膜层附着力和提升膜层致密性作用,离子源工作后,打开二氧化硅靶源,蒸发的二氧化硅以纳米级分子形式同步沉积在二氧化钛镀膜层一的表面,控制镀膜厚度,形成厚度为42.25nm的二氧化硅镀膜层一,然后,关闭二氧化硅靶源和停止氩气通入,离子源同步停止工作;
再对形成的二氧化硅镀膜层一的表面进行离子源清洗,具体为:打开用于清洗的氩气通道,通入氩气,离子源同步开启工作,功率控制在6kw左右,使氩气通过离子源转化成等离子体形成离子束,离子束打到表面进行离子源清洗8分钟,清洗结束后,关闭氩气通道,停止通入氩气,离子源同步停止工作,等待5分钟后,再保持抽真空,将真空镀膜腔室内抽真空到小于或等于2.0x10-5托,待稳定后,控制温度在60℃~65℃;然后,重复交替进行上述二氧化钛镀膜处理和二氧化硅镀镀膜处理若干次,每次镀膜结束后,也进行相应的清洗操作,且镀膜过程中通过对每次的镀膜层厚度和总层数的控制,一体成型以二氧化钛镀膜和二氧化硅镀膜交替镀设形成的增透抗UV镀膜层,且形成的增透抗UV镀膜层对可见光的反射率≤1%,对紫外光的透光率≤7.5%;上述的增透抗UV镀膜层各镀膜层的厚度和总层数如下:
19.56nm的二氧化钛镀膜层一、厚度为42.25nm的二氧化硅镀膜层一、厚度为39.31nm的二氧化钛镀膜层二、厚度为46.25nm的二氧化硅镀膜层二、厚度为28.2nm的二氧化钛镀膜层三、厚度为62.2nm的二氧化硅镀膜层三、厚度为33.41nm的二氧化钛镀膜层四、厚度为37.56nm的二氧化硅镀膜层四、厚度为34.41nm的二氧化钛镀膜层五和厚度为107nm的二氧化硅镀膜层五;结束后,关闭二氧化硅的靶源,以及停止氩气通入,离子源同步停止工作,再保持抽真空状态,打开AF靶源进行蒸镀处理使在增透抗UV镀膜层最外层的二氧化硅镀膜层五的表面形成AF膜层,厚度控制在15nm,结束后,关闭靶源,降温,排空后,从镀膜机中取出产品,得到相应的镀膜后的车载显示面板。
将得到的镀膜后的车载显示面板进行性能测试,对可见光的透光率达到99%以上,对紫外光100-360nm范围的透光率≤7.5%,相当于对UV的阻绝率达到92.5%以上。
实施例2
将待加工的透明的玻璃白片(亚克力玻璃)放入电子束蒸镀机(2050镀膜机)的真空镀膜腔室内,进行抽真空后,待真空值小于或等于2.0x10-5托,启动离子源进行等离子清洗,即打开电源,功率控制在5kw左右,打开用于清洗的氩气通道,通入氩气,离子源同步开启工作,使氩气通过离子源转化成等离子体形成离子束,离子束打到玻璃白片的表面进行离子源清洗8分钟,离子源清洗结束后,关闭氩气通道,停止通入氩气,离子源同步停止工作,等待5分钟后,再保持抽真空,将真空镀膜腔室内抽真空到小于或等于2.0x10-5托,待稳定后,控制温度在60℃~65℃,再打开氧气通道,通入氧气,离子源同步开启工作,功率控制在6Kw左右,使氧气通过离子源转化成等离子体形成离子束,离子束打到表面进行辅助镀膜,打开二氧化钛(TiO2)靶源,使蒸发的二氧化钛以纳米级分子形式同步沉积在玻璃白片正面进行二氧化钛镀膜,过程中进行厚度控制形成厚度为19.12nm二氧化钛镀膜层一,关闭二氧化钛靶源以及关闭氧气通道,停止氧气通入,离子源同步停止工作;
对二氧化钛镀膜层一的表面进行离子源清洗,具体为:打开用于清洗的氩气通道,通入氩气,离子源同步开启工作,功率控制在6kw左右,使氩气通过离子源转化成等离五体形成离子束,离子束打到表面进行离子源清洗5分钟,清洗结束后,关闭氩气通道,停止通入氩气,离子源同步停止工作,等待5分钟后,再保持抽真空,将真空镀膜腔室内抽真空到小于或等于2.0x10-5托,待稳定后,控制温度在60℃~65℃,然后,再打开另一氩气通道,通入氩气,离子源同步开启工作,功率控制在6kw左右,使氩气通过离子源转化成等离子体形成离子束,离子束打到表面进行辅助镀膜,离子源工作后,打开二氧化硅靶源,蒸发的二氧化硅以纳米级分子形式同步沉积在二氧化钛镀膜层一的表面,控制镀膜厚度,形成厚度为42.96nm的二氧化硅镀膜层一,然后,关闭二氧化硅靶源和停止氩气通入,离子源同步停止工作;
再对形成的二氧化硅镀膜层一的表面进行离子源清洗,具体为:打开用于清洗的氩气通道,通入氩气,离子源同步开启工作,功率控制在6kw左右,使氩气通过离子源转化成等离子体形成离子束,离子束打到表面进行离子源清洗6分钟,清洗结束后,关闭氩气通道,停止通入氩气,离子源同步停止工作,等待4分钟后,再保持抽真空,将真空镀膜腔室内抽真空到小于或等于2.0x10-5托,待稳定后,控制温度在60℃~65℃;然后,重复交替进行上述二氧化钛镀膜处理和二氧化硅镀镀膜处理若干次,每次镀膜结束后,也进行相应的清洗操作,且镀膜过程中通过对每次的镀膜层厚度和总层数的控制,一体成型以二氧化钛镀膜和二氧化硅镀膜交替镀设形成的增透抗UV镀膜层,且形成的增透抗UV镀膜层对可见光的反射率≤1.0%,对紫外光的透光率≤6.5%;具体上述的增透抗UV镀膜层各镀膜层的厚度和总层数如下:
19.12nm的二氧化钛镀膜层一、厚度为42.96nm的二氧化硅镀膜层一、厚度为39.49nm的二氧化钛镀膜层二、厚度为46.04nm的二氧化硅镀膜层二、厚度为28.41nm的二氧化钛镀膜层三、厚度为62.14nm的二氧化硅镀膜层三、厚度为33.87nm的二氧化钛镀膜层四、厚度为37.15nm的二氧化硅镀膜层四、厚度为34.11nm的二氧化钛镀膜层五和厚度为108nm的二氧化硅镀膜层五;结束后,关闭二氧化硅的靶源以及停止氩气通入,离子源同步停止工作,再保持抽真空状态,再打开AF靶源进行蒸镀处理使在增透抗UV镀膜层最外层的二氧化硅镀膜层五的表面形成AF膜层,厚度控制在18nm,结束后,关闭靶源,降温,排空后,从镀膜机中取出产品,得到相应的镀膜后的车载显示面板。
将得到的镀膜后的车载显示面板进行性能测试,对可见光的透光率达到99%以上,对紫外光100-360nm范围的透光率≤6.5%,相当于对UV的阻绝率达到93.5%以上。
实施例3
本实施例的车载显示面板的具体加工方法同实施例1一致,区别仅在于其中的增透抗UV镀膜层中每层的二氧化钛镀膜处理过程中,靶源二氧化钛中掺杂有少量的Ce和Cu金属元素,且每层的二氧化钛镀膜层中Ce金属元素的掺杂量为0.15%,Cu金属元素的掺杂量为0.05%。具体来说,镀膜形成的增透抗UV镀膜层各镀膜层的厚度和总层数如下:
19.66nm的二氧化钛镀膜层一、厚度为42.28nm的二氧化硅镀膜层一、厚度为39.41nm的二氧化钛镀膜层二、厚度为46.55nm的二氧化硅镀膜层二、厚度为28.31nm的二氧化钛镀膜层三、厚度为62.5nm的二氧化硅镀膜层三、厚度为33.11nm的二氧化钛镀膜层四、厚度为37.86nm的二氧化硅镀膜层四、厚度为34.61nm的二氧化钛镀膜层五和厚度为106.3nm的二氧化硅镀膜层五;其中,二氧化钛镀膜层一、二氧化钛镀膜层二、二氧化钛镀膜层三、二氧化钛镀膜层四和二氧化钛镀膜层五的每层镀膜层中均掺杂有上述质量百分数的Ce和Cu金属元素(以每层的二氧化钛镀膜层的重量计),如二氧化钛镀膜层一中相当于是二氧化钛:Ce:Cu的质量比为99.8:0.15:0.05。
其它的具体镀膜工艺和操作同实施例1一致,这里不再赘述。
将得到的镀膜后的车载显示面板进行测试,结果表明对可见光的透光率达到99%以上,对紫外光100-360nm范围的透光率≤1.0%,相当于对UV的阻绝率达到99.0%以上。
实施例4
本实施例的车载显示面板的具体加工方法同实施例1一致,区别仅在于其中的增透抗UV镀膜层中每层的二氧化钛镀膜处理过程中,靶源二氧化钛中掺杂有少量的Ce和Cu金属元素,且每层的二氧化钛镀膜层中Ce金属元素的掺杂量为0.25%,Cu金属元素的掺杂量为0.10%。具体来说,镀膜形成的增透抗UV镀膜层各镀膜层的厚度和总层数如下:
19.10nm的二氧化钛镀膜层一、厚度为42.88nm的二氧化硅镀膜层一、厚度为39.11nm的二氧化钛镀膜层二、厚度为46.69nm的二氧化硅镀膜层二、厚度为28.42nm的二氧化钛镀膜层三、厚度为62.3nm的二氧化硅镀膜层三、厚度为33.71nm的二氧化钛镀膜层四、厚度为37.16nm的二氧化硅镀膜层四、厚度为34.21nm的二氧化钛镀膜层五和厚度为106.7nm的二氧化硅镀膜层五;且其中二氧化钛镀膜层一、二氧化钛镀膜层二、二氧化钛镀膜层三、二氧化钛镀膜层四和二氧化钛镀膜层五的每层中均掺杂有上述质量百分数的Ce和Cu金属元素(以每层的二氧化钛镀膜层的重量计),如二氧化钛镀膜层一中相当于是二氧化钛:Ce:Cu的质量比为99.75:0.25:0.10。其它的具体镀膜工艺和操作同实施例1一致,这里不再赘述。
将得到的镀膜后的车载显示面板进行测试,结果表明对可见光的透光率达到99%以上,对紫外光100-360nm范围的透光率≤0.8%,相当于对UV的阻绝率达到99.2%以上。
实施例5
本实施例的车载显示面板的具体加工方法同实施例1一致,区别仅在于其中的增透抗UV镀膜层中每层的二氧化钛镀膜处理过程中,靶源二氧化钛中掺杂有少量的Ce和Cu金属元素,且每层的二氧化钛镀膜层中Ce金属元素的掺杂量为0.25%,Cu金属元素的掺杂量为0.10%。具体来说,镀膜形成的增透抗UV镀膜层各镀膜层的厚度和总层数如下:
19.56nm的二氧化钛镀膜层一、厚度为42.36nm的二氧化硅镀膜层一、厚度为39.24nm的二氧化钛镀膜层二、厚度为46.39nm的二氧化硅镀膜层二、厚度为28.31nm的二氧化钛镀膜层三、厚度为62.23nm的二氧化硅镀膜层三、厚度为33.53nm的二氧化钛镀膜层四、厚度为37.42nm的二氧化硅镀膜层四、厚度为34.14nm的二氧化钛镀膜层五和厚度为106.2nm的二氧化硅镀膜层五;且其中二氧化钛镀膜层一、二氧化钛镀膜层二、二氧化钛镀膜层三、二氧化钛镀膜层四和二氧化钛镀膜层五的每层中均掺杂有上述质量百分数的Ce和Cu金属元素(以每层的二氧化钛镀膜层的重量计),如二氧化钛镀膜层一中相当于是二氧化钛:Ce:Cu的质量比为99.75:0.25:0.10。且其中二氧化钛镀膜层一、二氧化钛镀膜层二、二氧化钛镀膜层三、二氧化钛镀膜层四和二氧化钛镀膜层五的每层中均掺杂有上述质量百分数的Ce和Cu金属元素(以每层的二氧化钛镀膜层的重量计),如二氧化钛镀膜层一中相当于是二氧化钛:Ce:Cu的质量比为99.8:0.15:0.06。
其它的具体镀膜工艺和操作同实施例1一致,这里不再赘述。
将得到的镀膜后的车载显示面板进行测试,结果表明对可见光的透光率达到99.2%以上,对紫外光100-360nm范围的透光率≤0.7%,相当于对UV的阻绝率达到99.3%以上。
实施例6
本实施例的车载显示面板的具体加工方法同实施例1一致,区别仅在于其中的AF膜层具体采用以下方法得到:
在前步增透抗UV镀膜层镀膜结束后,关闭二氧化硅的靶源,保持抽真空状态,再打开抗UV的AF靶源进行蒸镀处理使在增透抗UV镀膜层最外层的二氧化硅镀膜层五的表面形成AF膜层,镀膜过程中采用UV进行照射,厚度控制在18nm,结束后,关闭靶源和紫外灯,降温,排空后,从镀膜机中取出产品,得到相应的镀膜后的车载显示面板。
其它的具体镀膜工艺和操作同实施例1一致,这里不再赘述。
将得到的镀膜后的车载显示面板进行测试,结果表明对可见光的透光率达到99.1%以上,对紫外光100-360nm范围的透光率≤7.5%,相当于对UV的阻绝率达到92.5%以上,经过UV光长时间照射1000小时后,仍能保持具有防指纹的效果。
本发明中所描述的具体实施例仅是对本发明精神作举例说明。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,但并不会偏离本发明的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
尽管对本发明已作出了详细的说明并引证了一些具体实施例,但是对本领域熟练技术人员来说,只要不离开本发明的精神和范围可作各种变化或修正是显然的。
Claims (8)
1.一种增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
A、清洗:将清洁后待镀膜的玻璃白片放入镀膜机的真空镀膜腔室内,进行离子源清洗,结束后进入下一步;
B、镀增透抗UV镀膜层:保持真空镀膜腔室抽真空后,先打开二氧化钛靶源,在玻璃白片的正面进行二氧化钛镀膜处理形成相应的镀膜层,关闭二氧化钛靶源;对上述镀膜后的表面进行离子源清洗;然后,再打开二氧化硅靶源,使在二氧化钛镀膜形成的镀膜层表面进行二氧化硅镀膜处理形成相应的镀膜层,再对表面进行离子源清洗;重复交替进行上述二氧化钛镀膜处理和二氧化硅镀膜处理若干次,镀膜过程中通过对每次的镀膜层厚度和总层数的控制,一体成型以二氧化钛镀膜和二氧化硅镀膜交替镀设形成的增透抗UV镀膜层,且形成的增透抗UV镀膜层对可见光的反射率≤1%,对紫外光的透光率≤8%;所述增透抗UV镀膜层从内到外依次为:厚度为19nm~20nm的二氧化钛镀膜层一、厚度为41nm~43nm的二氧化硅镀膜层一、厚度为39.0 nm~39.5nm的二氧化钛镀膜层二、厚度为46nm~47nm的二氧化硅镀膜层二、厚度为28.0 nm~28.5nm的二氧化钛镀膜层三、厚度为62nm~63nm的二氧化硅镀膜层三、厚度为33 nm~34nm的二氧化钛镀膜层四、厚度为37nm~38nm的二氧化硅镀膜层四、厚度为34 nm~35nm的二氧化钛镀膜层五和厚度为107nm~108nm的二氧化硅镀膜层五;且所述二氧化钛靶源的二氧化钛中掺杂有Ce和Cu金属元素,且所述Ce金属元素的掺杂量为0.15%~0.25%,所述Cu金属元素的掺杂量为0.05%~0.10%;
C、镀AF 膜层:关闭二氧化硅的靶源,再打开AF靶源进行蒸镀处理使在增透抗UV镀膜层表面形成AF膜层,得到相应的镀膜后的车载显示面板。
2.根据权利要求1所述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法,其特征在于,所述增透抗UV镀膜层从内到外依次为:厚度为19.56nm的二氧化钛镀膜层一、厚度为42.25nm的二氧化硅镀膜层一、厚度为39.31nm的二氧化钛镀膜层二、厚度为46.25nm的二氧化硅镀膜层二、厚度为28.2nm的二氧化钛镀膜层三、厚度为62.2nm的二氧化硅镀膜层三、厚度为33.41nm的二氧化钛镀膜层四、厚度为37.56nm的二氧化硅镀膜层四、厚度为34.41nm的二氧化钛镀膜层五和厚度为107nm的二氧化硅镀膜层五。
3.根据权利要求1或2所述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法,其特征在于,步骤C中所述AF膜层采用抗UV的AF材料制成。
4.根据权利要求3所述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法,其特征在于,步骤C中所述AF膜层蒸镀时在紫外光照射下进行。
5.根据权利要求1或2所述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法,其特征在于,步骤A中所述离子源清洗是通过将氩气通入真空镀膜腔室内转化成等离子体形成离子束,使离子束打到玻璃白片正面进行清洗5min~8min。
6.根据权利要求1或2所述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法,其特征在于,所述玻璃白片的材料为有机玻璃。
7.根据权利要求1或2所述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法,其特征在于,所述玻璃白片的材料为亚克力。
8.根据权利要求1或2所述增透抗UV车载显示面板的一次镀膜成型方法,其特征在于,所述玻璃白片的材料为PMMA。
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN115061226B (zh) * | 2022-04-19 | 2023-05-12 | 深圳菲比特光电科技有限公司 | 一种减反增透膜的成膜方法 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02291501A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-12-03 | Hoya Corp | 反射防止膜 |
CN101236264A (zh) * | 2007-02-01 | 2008-08-06 | 甘国工 | 高透光率透明树脂的显示器保护屏及使用该屏的液晶显示器 |
CN101236263A (zh) * | 2007-02-01 | 2008-08-06 | 甘国工 | 高透光率玻璃的显示器保护屏及使用该屏的液晶显示器 |
CN101236261A (zh) * | 2007-02-01 | 2008-08-06 | 甘国工 | 有防雾涂层的显示器玻璃保护屏及使用该屏的液晶显示器 |
CN101493534A (zh) * | 2008-12-16 | 2009-07-29 | 芜湖长信科技股份有限公司 | 一种显示器减反射屏及其制备方法 |
CN202730001U (zh) * | 2012-05-02 | 2013-02-13 | 普发玻璃(深圳)有限公司 | 一种抗紫外并具有隔热作用的减反射镀膜层 |
CN205152070U (zh) * | 2015-11-25 | 2016-04-13 | 吴江金刚玻璃科技有限公司 | 一种减反射多层玻璃 |
CN106086791A (zh) * | 2016-06-04 | 2016-11-09 | 浙江星星科技股份有限公司 | 一种具有ag+ar+af镀膜的视窗保护面板的制造方法 |
CN109557604A (zh) * | 2017-09-25 | 2019-04-02 | 四川南玻节能玻璃有限公司 | 一种抗紫外线减反射膜层及其应用 |
CN111897039A (zh) * | 2020-08-19 | 2020-11-06 | 重庆大学 | 紫外光平面反射镜及其应用以及制备方法 |
CN113862611A (zh) * | 2021-09-30 | 2021-12-31 | 台州星星光电科技有限公司 | 一种抗强碱的蓝宝石玻璃面板表面的镀膜方法 |
CN113862615A (zh) * | 2021-09-30 | 2021-12-31 | 台州星星光电科技有限公司 | 一种抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107430211B (zh) * | 2015-03-25 | 2020-04-28 | 依视路国际公司 | 具有低Rv和低Ruv的减反射溅射叠层 |
JP6715849B2 (ja) * | 2015-09-25 | 2020-07-01 | 帝人株式会社 | ハードコート層付高分子基板およびその製造方法 |
-
2021
- 2021-09-30 CN CN202111165390.4A patent/CN113862616B/zh active Active
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02291501A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-12-03 | Hoya Corp | 反射防止膜 |
CN101236264A (zh) * | 2007-02-01 | 2008-08-06 | 甘国工 | 高透光率透明树脂的显示器保护屏及使用该屏的液晶显示器 |
CN101236263A (zh) * | 2007-02-01 | 2008-08-06 | 甘国工 | 高透光率玻璃的显示器保护屏及使用该屏的液晶显示器 |
CN101236261A (zh) * | 2007-02-01 | 2008-08-06 | 甘国工 | 有防雾涂层的显示器玻璃保护屏及使用该屏的液晶显示器 |
CN101493534A (zh) * | 2008-12-16 | 2009-07-29 | 芜湖长信科技股份有限公司 | 一种显示器减反射屏及其制备方法 |
CN202730001U (zh) * | 2012-05-02 | 2013-02-13 | 普发玻璃(深圳)有限公司 | 一种抗紫外并具有隔热作用的减反射镀膜层 |
CN205152070U (zh) * | 2015-11-25 | 2016-04-13 | 吴江金刚玻璃科技有限公司 | 一种减反射多层玻璃 |
CN106086791A (zh) * | 2016-06-04 | 2016-11-09 | 浙江星星科技股份有限公司 | 一种具有ag+ar+af镀膜的视窗保护面板的制造方法 |
CN109557604A (zh) * | 2017-09-25 | 2019-04-02 | 四川南玻节能玻璃有限公司 | 一种抗紫外线减反射膜层及其应用 |
CN111897039A (zh) * | 2020-08-19 | 2020-11-06 | 重庆大学 | 紫外光平面反射镜及其应用以及制备方法 |
CN113862611A (zh) * | 2021-09-30 | 2021-12-31 | 台州星星光电科技有限公司 | 一种抗强碱的蓝宝石玻璃面板表面的镀膜方法 |
CN113862615A (zh) * | 2021-09-30 | 2021-12-31 | 台州星星光电科技有限公司 | 一种抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法 |
Non-Patent Citations (8)
Title |
---|
于武刚,史志铭.铈离子掺杂的氧化钛纳米薄膜的结构及性能研究.内蒙古工业大学学报(自然科学版).2004,(第04期),全文. * |
刘金声.《离子束沉积薄膜技术及应用》.国防工业出版社,2003,第65-69页. * |
可见与近红外增透膜的设计和制备;张家斌;付秀华;贺才美;;激光与红外(第05期);全文 * |
红外增透与保护膜技术的研究;付秀华;董连和;付新华;王崇娥;;激光与红外(第12期);全文 * |
谢灵珠 ; 刘凡新 ; 王继武 ; .金属掺杂纳米TiO_2多孔薄膜光催化性能的正交试验法研究.菏泽学院学报.2006,(第05期),全文. * |
金属掺杂纳米TiO_2多孔薄膜光催化性能的正交试验法研究;谢灵珠;刘凡新;王继武;;菏泽学院学报(第05期);全文 * |
金属掺杂纳米TiO_2薄膜的制备和抗菌性能研究;何树杭;朱磊;丁泉军;;环境科技(第06期);全文 * |
铈离子掺杂的氧化钛纳米薄膜的结构及性能研究;于武刚, 史志铭;内蒙古工业大学学报(自然科学版)(第04期);全文 * |
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