CN113299702A - 显示面板及显示面板的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种显示面板及显示面板的制备方法,显示面板包括阵列基板、像素定义层、发光功能层、阴极层、辅助电极层以及光取出层。其中,像素定义层具有至少一贴合平台,发光功能层覆盖贴合平台并形成一贴合部,光取出层具有凸起的支撑柱结构,通过形成的贴合部,有效的提高了膜层之间的贴合面积,并且通过光取出层的高低落差实现辅助电极层的无版转印,从而防止外界的水汽对显示面板的影响,提高了面板的封装性能,并改善面板的制备工艺。
Description
技术领域
本发明涉及显示面板制造领域,特别是涉及一种显示面板及显示面板的制备方法。
背景技术
随着显示面板制造技术的不断提高,人们对显示面板的性能以及质量也提出了更高的要求。
常用的有机电致发光(organic light-emitting diode,OLED)显示装置主要包括底发光型和顶发光型。其中,相比底发光型OLED型装置而言,顶发光型OLED在相同亮度下的工作电压更低,使用寿命更长,功耗更低等优点。因此,顶发光型OLED显示装置被广泛使用。对于顶发光型OLED器件的结构而言,为了提高器件的各项性能,顶发光OLED器件的阴极一般采用低功函金属或合金材料制成,同时为了避免阴极对出光率的影响,往往会将阴极层制备的较薄,并且省去封装层的结构。但是,现有的工艺技术中,由于制备材料本身特性以及膜层结构的限制,在省去了封装层后,各膜层结构不能有效的阻挡外界的水汽等物质进入到面板内部,进而造成面板的封装性能失效,降低了显示面板的使用寿命。
综上所述,现有的顶发光OLED显示面板中,显示面板内的器件不能有效的对外界的水汽等物质进行阻挡,显示面板容易被外界侵蚀而影响面板的使用寿命。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板及显示面板的制备方法,以有效地改善顶发光型OLED显示面板的封装性能,防止外界的水汽等物质进入面板内部对面板造成影响等问题。
为解决上述技术问题,本发明实施例提供的技术方法如下:
本发明实施例的第一方面,提供了一种显示面板,所述显示面板包括:
阵列基板;
像素定义层,所述像素定义层设置在所述阵列基板上,所述像素定义层包括开口区域和与所述开口区域相邻的非开口区域;
发光功能层,所述发光功能层设置在所述阵列基板上,并覆盖所述像素定义层;
阴极层,所述阴极层覆盖所述发光功能层;
辅助电极层,所述辅助电极层设置在所述阴极层上,且所述辅助电极层对应设置在所述非开口区域内;以及,
盖板,所述盖板设置在所述阴极层之上;
其中,所述非开口区域对应的所述像素定义层具有至少一贴合平台,所述贴合平台沿所述像素定义层的侧面向所述像素定义层的中心设置,且所述发光功能层覆盖所述贴合平台并形成一贴合部。
根据本发明一实施例,所述显示面板还包括光取出层,所述光取出层设置在所述辅助电极层上,所述光取出层包括支撑柱结构以及微透镜结构,所述支撑柱结构设置在所述非开口区域内并对应的与所述辅助电极层相连接,所述微透镜结构设置在所述开口区域对应的位置处,且所述微透镜结构的高度小于所述支撑柱的高度。
根据本发明一实施例,所述辅助电极层包括第一辅助电极层和第二辅助电极层,所述第二辅助电极层设置在所述第一辅助电极层上,且所述第一辅助电极层设置在所述阴极层上。
根据本发明一实施例,所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层的材料相同,且所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层的材料包括含有吸水粒子的导电墨水。
根据本发明一实施例,所述像素定义层具有一斜度,且所述贴合平台到所述像素定义层底部的距离与所述像素定义层顶部到所述贴合平台的距离之比在1~15之间。
根据本发明一实施例,所述像素定义层的厚度在1um~10um之间,且所述贴合平台的边缘与所述阵列基板之间形成的坡度大于30°且小于60°,所述贴合平台的边缘与所述像素定义层的顶部形成的坡度大于30°且小于60°。
根据本发明的第二方面,还提供一种显示面板的制备方法,包括如下步骤:
S100:提供阵列基板,并在所述阵列基板上制备像素定义层;
S101:对所述像素定义层进行图案化蚀刻处理,在所述像素定义层上形成开口区域和非开口区域,并在所述非开口区域内对应的像素定义层上形成至少一贴合平台,所述贴合平台沿所述像素定义层的侧面向所述像素定义层的中心设置;
S102:在所述像素定义层上制备发光功能层,使所述发光功能层覆盖所述贴合平台并形成一贴合部,并在所述发光功能层上制备阴极层;
S103:在所述阴极层上制备第一辅助电极层,所述第一辅助电极层设置在所述非开口区域对应位置处;
S104:提供一盖板,并在所述盖板上制备光取出层,其中,所述光取出层包括支撑柱结构,所述支撑柱结构设置在所述非开口区域对应位置处;
S105:在所述支撑柱上制备第二辅助电极层;
S106:将所述第一辅助电极层与所述第二辅助电极层粘合并固化。
根据本发明一实施例,所述步骤S104和所述步骤S106中,通过无版转印工艺制备所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层,具体为:
S200:提供一转印辊,并在所述转印辊上制备含有吸水粒子的导电墨水,使所述导电墨水在所述转印辊上形成一转印膜层;
S201:将所述转印膜层转印至所述阴极层上和所述支撑柱结构上,并形成所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层。
根据本发明一实施例,在所述无版转印工艺过程中,在转印形成所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层时,控制所述转印辊的转印压力,使所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层在转印过程中的变形量小于10%。
根据本发明一实施例,还包括如下步骤:在所述盖板的四周边缘区域内设置阻水框胶,并将所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层压合,使所述阻水框胶、所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层固化。
综上所述,本发明实施例的有益效果为:
本发明实施例提供一种显示面板及显示面板的制备方法,通过在显示面板的像素定义层形成具有至少一贴合平台,发光功能层覆盖贴合平台并形成一贴合部,光取出层具有凸起的支撑柱结构,通过形成的贴合部,有效的提高了膜层之间的贴合面积,并且通过光取出层的高低落差实现辅助电极层的无版转印,从而防止外界的水汽对显示面板的影响,提高了面板的封装性能。
附图说明
下面结合附图,通过对本发明的具体实施方式详细描述,将使本发明的技术方案及其它有益效果更显而易见。
图1为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的显示面板的制备工艺流程图;
图3为发明实施例中提供的显示面板的制备方法;
图4为本发明实施例提供的显示面板的膜层结构示意图;
图5为本发明实施例提供的显示面板的膜层结构示意图;
图6为本发明实施例提供的显示面板的俯视示意图;
图7为本发明实施例提供的显示面板的外围结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
随着显示面板制备技术的不断发展,人们对显示装置的显示性能、质量以及可靠性都提出了更高的要求,本发明提供一种显示面板及显示面板的制备方法,显示面板不仅具有良好的密封性能,同时制备工艺简单,面板内部的阴极的电阻较小、显示面板具有较好的综合性能较。
如图1所示,图1为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图。在显示面板的显示区域内包括发光区域116和非发光区域115,发光区域116好非发光区域115可相邻设置,当显示面板进行发光时,光线从发光区域116内发出并实现显示功能。
显示面板包括阵列基板100、阳极113以及像素定义层10。阳极113设置在阵列基板100上,像素定义层10图案化的设置在阵列基板100上。
具体的,像素定义层10在阵列基板100上包括开口区域111和非开口区域112,开口区域111和非开口区域112相邻设置,本发明实施例中,开口区域111与显示面板的发光区域116相对应,非开口区域112与显示面板的非开口区域112相对应,像素定义层10在非开口区域112内形成一种挡墙结构。同时,阳极113设置在开口区域111内。
显示面板还包括发光功能层103、阴极层104。其中,发光功能层103设置在像素定义层10上,阴极层104设置在发光功能层103上,阴极层104覆盖像素定义层10。
本发明实施例中,发光功能层103通过第一发光功能层114与阳极113相连接,同时发光功能层103还与阴极层104相连接,从而实现显示面板的驱动发光,本申请实施例中的阴极层104为面阴极。当发光功能层103发光时,光线从像素定义层10的开口区域111内发出,并从显示面板的发光区域116对应位置处射出,从而实现了显示面板的发光显示。
本发明实施例中,在设置像素定义层10时,像素定义层10设置为具有至少一贴合平台1121,贴合平台1121沿像素定义层10的侧面边缘开始设置,并向至像素定义层10的中心延伸,这样,就在像素定义层10的中部形成一与像素定义层10底部或者顶部平面相平行的贴合平台结构。具体的,本申请中的贴合平台1121的贴合面还可与像素定义层10的顶部或者底部面呈一定的角度。由于本申请实施例中的像素定义层10设置有贴合平台1121,因此,当在该像素定义层10上设置其他膜层时,膜层紧密与该贴合平台1121相贴合,进而增加了膜层之间的贴合面积,从而有效的提高了显示面板的封装性能,提高了面板的使用寿命。
本申请实施例中,以一层贴合平台1121为例进行说明。还可在像素定义层10的侧面处设置多层贴合平台,这里不再详细赘述。当设置为一层贴合平台1121时,贴合平台1121使像素定义层10形成台阶层叠加的结构。如第一台阶层101和第二台阶层102。
其中,第二台阶层102设置在第一台阶层101上,在制备第一台阶层101和第二台阶层102时,可通过多次蚀刻工艺进行制备。并且第一台阶层101的顶部的截面积大于第二台阶层102的顶部的截面积。
其中,第一台阶层101和第二台阶层102的截面形状可为梯形或其他形状,本发明实施例中,以梯形形状为例进行说明。为了保证发光功能层103以及其他膜层的贴附效果,像素定义层10的厚度设置为1um~10um之间,具体的,在设置第一台阶层101和第二台阶层102时,第一台阶层101的高度为h1,第二台阶层102的高度为h2,保证h2/h1的高度之比在0~15之间。当h2/h1=0时,此时相当于只设置第一台阶层101。本发明实施例中,优选h2/h1=1或h2/h1=5,这样设置,可保证第一台阶层101与第二台阶层102的高度比更合理,进而更容易在第二台阶层102上其他膜层结构,并可有效地防止其他膜层在转印时发生断裂以及转印至发光区内的问题。
进一步的,在设置第一台阶层101和第二台阶层102时,第一台阶层101与阵列基板100表面之间形成的坡度为α,第二台阶层102与第一台阶层101的表面之间形成的坡度为β,保证β>α,并且,α设置在30°~60°之间,β设置在30°~60°之间。并且使得第二台阶层102的底面的截面积小于第一台阶层101的顶部的截面积。
进一步的,本申请实施例中的在像素定义层10时,可一次成型,成型完成后,再在像素定义层10的侧边进行蚀刻并最终形成本申请中的贴合平面的结构。或将像素定义层10分层设置,使两个像素定义层10之间形成本申请实施例中的贴合平面的结构。
当设置为多台阶层结构的像素定义层10时,台阶层可提供一缓冲地带,从而防止在无版转印工艺制备其他膜层时,转印墨水容易溢流入阵列基板内,进而对显示面板的质量及可靠性造成一定的影响。从而有效的提高显示面板的可靠性,同时,由于在第一台阶层101和第二台阶层102之间设置有贴合平台1121,在贴合平台1121上形成贴合部。因此,发光功能层103可紧密的与贴合平台1121相贴合,发光功能层103在贴合平台1121上形成一折叠结构的贴合部,从而提高了像素定义层10与发光功能层103之间的接触面积,当外界的水汽等物质沿膜层界面进入到显示面板内时,侵入路径变长。因此,本申请实施例中的膜层贴合结构有效的起到了封装层的作用,并且具有较好的封装效果。
本发明实施例中,显示面板还包括辅助电极层11,辅助电极层11设置在阴极层104上,并且辅助电极层11设置在非开口区域112内。具体的,辅助电极层11包括第一辅助电极层105和第二辅助电极层106,所述第二辅助电极层106设置在所述第一辅助电极层105上。并且,第一辅助电极层105和第二辅助电极层106的电极材料可相同或者不同,本发明实施例中,两辅助电极层的材料为相同的材料,具体的,第一辅助电极层105和第二辅助电极层106可通过无版转印法,由含有吸水粒子的导电墨水固化形成。
本发明实施例中以纳米银粒子墨水为例进行说明,辅助电极层材料还可以是其他导电墨水,如纳米金墨水、纳米铜墨水、碳纳米管墨水等,为增强在辅助层的防水氧侵入能力,还可在这些导电墨水中添加金属氧化物纳米颗粒(ⅡA族金属氧化物,如氧化钙、氧化钡等),从而使辅助层具有吸水能力。当外界的水汽等物质进入到显示面板内部时,辅助电极层内部的纳米粒子等材料可对水汽进行吸附,进而保证了提高了显示面板的封装性能,保证显示面板的显示质量。
优选的,本发明实施例中的第一辅助电极层105和第二辅助电极层106分开进行制备的,然后再使第一辅助电极层105和第二辅助电极层106之间发生固化,最终形成本发明实施例中的辅助电极层11的结构。本发明实施例中的辅助电极层11不仅能减小显示面板内的阴极层的电阻的大小,降低显示面板的压降问题,同时,辅助电极层11还能在一定程度上对外界的水汽等物质进行吸附,从而有效的提高显示面板的综合性能。
进一步的,显示面板还包括光取出层107和盖板层108,光取出层107设置在辅助电极层11上,盖板层108设置在光取出层107上。
为了提高显示面板的出光效率,本发明实施例中,在设置光取出层107时,光取出层107包括支撑柱结构109和第一凸起110,本发明实施例中的第一凸起110为阵列设置的微透镜结构。其中,支撑柱结构109设置在非开口区域112对应的区域内,微透镜结构设置在开口区域111对应的位置处。并且,第一凸起110内设置为多个微凸起结构,当光线穿过该透镜结构时,多个微透镜凸起可对光线再次作用,以扩大光线的出射角度,最终有效的提高显示面板的光线的出射率。
具体的,在设置光取出层107时,支撑柱结构109的高度大于非开口区域112内设置的第一凸起110的高度,从而保证了在支撑柱结构上转印辅助电极层时,更容易转印,并且避免将辅助电极层转印至开口区域111内,保证了显示面板的性能。
优选的,光取出层107采用聚硅氧烷等材料制备,其开口区域111内对应的微第一凸起110可采用压印法或反应离子刻蚀法等方法制作,并且支撑柱结构109的截面形状呈现梯形,支撑柱结构109的厚度与发光区第一凸起110的厚度之差为1um~10um。
进一步的,本发明实施例还提供一种显示面板的制备方法。如图2所示,图2为本发明实施例提供的显示面板的制备工艺流程图。显示面板的制备方法包括如下步骤:
S100:提供阵列基板,并在所述阵列基板上制备像素定义层;
S101:对所述像素定义层进行图案化蚀刻处理,在所述像素定义层上形成开口区域和非开口区域,并在所述非开口区域内对应的像素定义层上形成至少一贴合平台,所述贴合平台沿所述像素定义层的侧面向所述像素定义层的中心设置;
如图3所示,图3为发明实施例中提供的显示面板的制备方法。在制备本发明实施例中的显示面板时,首先提供一阵列基板100,本发明实施例中的阵列基板100可为薄膜晶体管阵列基板,阵列基板100内具体的器件设计与现有的阵列基板100的结构相同,这里不在详细描述。
进一步的,再在阵列基板100上制备像素定义层10和阳极113,其中,像素定义层10覆盖阳极113,然后对像素定义层10进行图案化蚀刻处理,在显示面板内形成开口区域111和与开口区域相邻的非开口区域112,具体的,像素定义层10在阳极113对应的区域内形成开口区域111,在非开口区域112内,像素定义层10形成一挡墙结构,并使阳极113暴露出,以便阳极113与其他膜层相连接。
具体的,为了改善制备工艺,像素定义层10可为多膜层的叠加膜层结构。本发明实施例中,以像素定义层10包括两层叠层结构为例进行说明。像素定义层10包括一贴合平台1121,贴合平台1121使像素定义层10形成第一台阶层101和第二台阶层102,第一台阶层101和第二台阶层102可由同一像素定义层10经过多次蚀刻而形成,还可由不同的像素定义层10分别而形成。其中,第二台阶层102设置在第一台阶层101上,第二台阶层102的底部的截面积小于第一台阶层101顶部的截面积,这样,在第一台阶层101的顶面的边缘区域内会形成一平面,当在像素定义层10上制备其他膜层时,该平面可有效地增加膜层与像素定义层10之间的接触面积,从而提高膜层的粘贴以及密封效果,以提升显示面板的质量。
本发明实施例中,第一台阶层101和第二台阶层102的截面形状以梯形形状为例进行说明。为了保证发光功能层103以及其他膜层的贴附效果,像素定义层10的厚度设置为1um~10um之间,具体的,在设置第一台阶层101和第二台阶层102时,第一台阶层101的高度为h1,第二台阶层102的高度为h2,保证h2/h1的高度之比在1~15之间。优选h2/h1=1或h2/h1=2.5,这样设置,可保证第一台阶层101与第二台阶层102的高度比更合理,进而更容易在第二台阶层102上其他膜层结构,并可有效地防止其他膜层在转印时发生断裂以及转印至发光区内。
进一步的,在设置第一台阶层101和第二台阶层102时,第一台阶层101与阵列基板100表面之间形成的坡度为α,第二台阶层102与第一台阶层101的表面之间形成的坡度为β,保证β>α,并且,α设置在30°~60°之间,β设置在30°~60°之间,从而有效的提高显示面板的可靠性。
S102:在所述像素定义层上制备发光功能层,使所述发光功能层覆盖所述贴合平台并形成一贴合部,并在所述发光功能层上制备阴极层;
S103:在所述阴极层上制备第一辅助电极层,所述第一辅助电极层设置在所述非开口区域对应位置处;
如图4所示,图4为本发明实施例提供的显示面板的膜层结构示意图。像素定义层10制备完成后,继续在像素定义层10上制备发光功能层103,同时在发光功能层103上制备阴极层104,其中,发光功能层103通过第一发光功能层114与阳极113相连接。
为了有效地降低显示面板内阴极层104的电阻大小,并改善显示面板驱动电压较大,并提高面板的性能。本发明实施例中,还在阴极层104上制备第一辅助电极层105,第一辅助电极层105设置在非开口区域112对应的阴极层104上。
在设置第一辅助电极层105时,第一辅助电极层105通过无版转印工艺进行制备,由于像素定义层10在阵列基板100上图案化设置,并在非开口区域112内形成挡墙结构,因此,在无版转印时,利用多个凸起的挡墙,可直接将第一辅助电极层105设置在阴极层104上,从而有效地简化生产工艺,提高生产效率。
具体的,在转印过程中,包括如下步骤:
S200:提供一转印辊,并在所述转印辊上制备含有吸水粒子的导电墨水,使所述导电墨水在所述转印辊上形成一转印膜层;
S201:将所述转印膜层转印至所述阴极层上和所述支撑柱结构上,并形成所述第一辅助电极层。
具体的,提供一转印辊,并将制备好的辅助电极层材料涂覆在转印辊上,在涂覆时,可匀速的旋转该转印辊,以保证涂覆的均匀一致性。涂覆完成后,静置一段时间,最终在转印辊的四周形成了待转印膜层。本发明实施例中,转印膜层的材料可包括含有吸水粒子的导电墨水,具体的,导电墨水可为导电金墨水、导电铜墨水、碳纳米管墨水等。当这些吸水粒子与水汽等接触时,可对水汽等物质进行吸附,从而有效的提高了显示面板的密封效果。
转印膜层制备完成后,将转印辊放置在阴极层104上方对应位置处,然后向前转动该转印辊,在转动的过程中,保证转印辊与阴极层104相接触并压合。在转印的过程中,由于转印膜层具有黏性,因此,在与阴极层104接触过程中,转印膜层会转移至阴极层104的表面,并在阴极层104的表面形成一图案化的第一辅助电极层105。而未与阴极层104相接触的转印膜层仍会残留在转印辊上,同时,转印辊的压力要大于转印膜层与转印辊的表面之间的结合能,且保证转印膜层在转印时其变形量小于10%,控制转印辊的转印压力,使得转印膜层既能脱离该转印辊,又能黏附在阴极层104上,并且在转印的过程中,保证转印膜层的变形量小于10%。这样,可有效地的保证转印膜层在转印时既不会被压塌,也不会转印至显示面板的开口区域内,从而保证了制备形成的显示面板的可靠性。
S104:提供一盖板,并在所述盖板上制备光取出层,其中,所述光取出层包括支撑柱结构,所述支撑柱结构设置在所述非开口区域对应位置处;
S105:在所述支撑柱上制备第二辅助电极层;
S106:将所述第一辅助电极层与所述第二辅助电极层粘合并固化。
上述步骤制备完成后,如图5所示,图5为本发明实施例提供的显示面板的膜层结构示意图。提供一盖板层108,并在盖板层108上制备光取出层107。本发明实施例中,在制备光取出层107时,光取出层107包括支撑柱结构109和第一凸起110。具体的,支撑柱结构109设置在显示面板的非开口区域对应的位置处,第一凸起110设置在显示面板的开口区域对应的位置处,第一凸起110可阵列的设置在光取出层107上,各个第一凸起110的高度可相同或者不同,具体的可根据实际产品进行设定。
同时,在光取出层107上,非开口区域处对应的光取出层107的厚度大于开口区域处对应的光取出层107的厚度,这样,光取出层107就形成了凸凹相间的结构。
光取出层107设置完成后,还可在光取出层107对应的开口区域内设置色阻层,以实现出射光线的不同显示颜色的目的,在设置色阻层时,色阻层的高度小于支撑柱的高度。
进一步的,在光取出层107上制备第二辅助电极层106。第二辅助电极层106的材料可与第一辅助电极层105的材料相同或者不同,本发明实施例中,以第一辅助电极层105和第二辅助电极层106为相同的电极材料为例进行说明。同时,在制备第二辅助电极层106时,仍采用无版转印工艺进行制备,该无版转印制备工艺与步骤S104中的第一辅助电极层105的制备工艺相同,并且在制备第二辅助电极层106时的制备注意事项也与第一辅助电极层105时相同,因此,这里不在详细表述。
优选的,第二辅助电极层106的厚度可与第一辅助电极层105的厚度相同。
第二辅助电极层106制备完成后,将第一辅助电极层105与第二辅助电极层106相粘合。具体的,由于转印完成后,第一辅助电极层105和第二辅助电极层106均具有一定的粘接性,因此,可将第一辅助电极层105与第二辅助电极层106相贴合,贴合并对齐后,将第一辅助电极层105与第二辅助电极层106紧密压合。同时,在第一辅助电极层105与第二辅助电极层106连接时,还可在两电极层之间设置固化胶,在固化过程中,通过紫外线固化胶以使两辅助电极层更容易进行粘接,最终保证两辅助电极层能紧密连接在一起,第一辅助电极层105与第二辅助电极层106压合在一起后,进一步提高阴极层104的面电阻。
如图6、图7所示,图6、图7为本发明实施例提供的显示面板的俯视示意图以及显示面板的外围结构示意图。同时结合图1中的显示面板的结构示意图。本发明实施例中,还在盖板层108的四周边缘区域内设置至少一圈框胶600和阻水层601,框胶600可将盖板层108和阵列基板100进行连接,同时,阻水层601可有效地对外界的水汽进行阻挡。因此,本发明实施例提供的显示面板,制备工艺更加简单,不仅阻水层601可对外界的水汽等进行阻挡,设置在显示面板内的第一辅助电极层105和第二辅助电极层106也可对水汽进行阻挡和吸附,从而有效的提高了显示面板的密封性能,并提高显示面板的可靠性。
以上对本发明实施例所提供的一种显示面板及显示面板的制备方法进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
阵列基板;
像素定义层,所述像素定义层设置在所述阵列基板上,所述像素定义层包括开口区域和与所述开口区域相邻的非开口区域;
发光功能层,所述发光功能层设置在所述阵列基板上,并覆盖所述像素定义层;
阴极层,所述阴极层覆盖所述发光功能层;
辅助电极层,所述辅助电极层设置在所述阴极层上,且所述辅助电极层对应设置在所述非开口区域内;以及,
盖板,所述盖板设置在所述阴极层之上;
其中,所述非开口区域对应的所述像素定义层具有至少一贴合平台,所述贴合平台沿所述像素定义层的侧面向所述像素定义层的中心设置,且所述发光功能层覆盖所述贴合平台并形成一贴合部。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括光取出层,所述光取出层设置在所述辅助电极层上,所述光取出层包括支撑柱结构以及微透镜结构,所述支撑柱结构设置在所述非开口区域内并对应的与所述辅助电极层相连接,所述微透镜结构设置在所述开口区域对应的位置处,且所述微透镜结构的高度小于所述支撑柱的高度。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述辅助电极层包括第一辅助电极层和第二辅助电极层,所述第二辅助电极层设置在所述第一辅助电极层上,且所述第一辅助电极层设置在所述阴极层上。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层的材料相同,且所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层的材料包括含有吸水粒子的导电墨水。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素定义层具有一斜度,且所述贴合平台到所述像素定义层底部的距离与所述像素定义层顶部到所述贴合平台的距离之比在1~15之间。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述像素定义层的厚度在1um~10um之间,且所述贴合平台的边缘与所述阵列基板之间形成的坡度大于30°且小于60°,所述贴合平台的边缘与所述像素定义层的顶部形成的坡度大于30°且小于60°。
7.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S100:提供阵列基板,并在所述阵列基板上制备像素定义层;
S101:对所述像素定义层进行图案化蚀刻处理,在所述像素定义层上形成开口区域和非开口区域,并在所述非开口区域内对应的像素定义层上形成至少一贴合平台,所述贴合平台沿所述像素定义层的侧面向所述像素定义层的中心设置;
S102:在所述像素定义层上制备发光功能层,使所述发光功能层覆盖所述贴合平台并形成一贴合部,并在所述发光功能层上制备阴极层;
S103:在所述阴极层上制备第一辅助电极层,所述第一辅助电极层设置在所述非开口区域对应位置处;
S104:提供一盖板,并在所述盖板上制备光取出层,其中,所述光取出层包括支撑柱结构,所述支撑柱结构设置在所述非开口区域对应位置处;
S105:在所述支撑柱上制备第二辅助电极层;
S106:将所述第一辅助电极层与所述第二辅助电极层粘合并固化。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述步骤S103和所述步骤S105中,通过无版转印工艺制备所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层,具体为:
S200:提供一转印辊,并在所述转印辊上制备含有吸水粒子的导电墨水,使所述导电墨水在所述转印辊上形成一转印膜层;
S201:将所述转印膜层转印至所述阴极层上和所述支撑柱结构上,并形成所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述无版转印工艺过程中,在转印形成所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层时,控制所述转印辊的转印压力,使所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层在转印过程中的变形量小于10%。
10.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法,其特征在于,还包括如下步骤:
在所述盖板的四周边缘区域内设置阻水框胶,将所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层压合,并使所述阻水框胶、所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层固化。
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