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CN113227848B - 具有反射涂层的高耐磨性光学制品 - Google Patents

具有反射涂层的高耐磨性光学制品 Download PDF

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CN113227848B
CN113227848B CN201980084852.4A CN201980084852A CN113227848B CN 113227848 B CN113227848 B CN 113227848B CN 201980084852 A CN201980084852 A CN 201980084852A CN 113227848 B CN113227848 B CN 113227848B
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Abstract

本发明涉及一种光学制品，其包括具有至少一个主面的基材，该至少一个主面涂覆有反射涂层，该反射涂层包括至少一个具有大于1.55的折射率的高折射率层和至少一个具有1.55或更小的折射率的低折射率层的堆叠体，其中该反射涂层中的层的厚度根据特定的设计规则进行了优化，以便提高该光学制品的耐磨性。

Description

具有反射涂层的高耐磨性光学制品
本发明涉及：一种具有改善的耐磨性的光学制品，其包括涂覆有在可见光范围内反射的多层透明涂层的基材，特别是眼科镜片；以及一种制造此种光学制品的方法。
对光学基材的至少一个主表面涂覆几个涂层以便为成品制品赋予附加的或改善的光学特性或机械特性是本领域的惯常做法。这些涂层通常指定为功能涂层。
可以用于赋予多种机械特性和/或光学特性的各种涂层可以是耐冲击涂层、耐磨涂层和/或耐划伤涂层、减反射涂层和/或反射涂层、防污层和/或防雾层。
通常将反射涂层施加至光学制品的表面上，以便提高穿过所述光学制品看到的图像的对比度，并提供透射的可见光、紫外光或红外光的减少。它们还可以赋予光学制品有色外观，出于美学目的，这可能是希望的。
然而，这些涂层的耐磨性和/或耐划伤性通常是不足的，与经典的非太阳镜片或减反射镜片相比，这对于具有反射前面的太阳镜的太阳镜片而言是至关重要的。实际上，对于佩戴者或观察者而言，由于从划痕反射的光与从未损坏的涂层表面反射的光之间的颜色和亮度对比度，在太阳镜片的反射前面上存在的划痕特别容易察觉到。佩戴者可能经历视觉品质的降低，而观察者可能发现划伤的太阳镜片在美学上不那么吸引人。对于显示镜像效应的反射镜片来说尤其如此。反射镜涂层通常具有差的耐磨性，并且因此容易损坏。
在文献中可以找到改善对环境引起的划痕敏感的光学制品的耐磨性的不同方法。例如，如在JP 2003-195003和JP 2003-294906中已经提出了增加减反射涂层的总厚度，所述文献描述了一种镜片，该镜片涂覆有底漆涂层、硬涂层、以及7层包括交替的SiO2层和TiO2层的减反射涂层，后者在离子辅助下沉积并且已知对于光降解作用是敏感的。
US 8982466涉及一种光学镜片，其具有硬涂层和多层减反射涂层，其中，由TiO2制成的高折射率层总共具有小于40nm的厚度。
US 2008/002260披露了一种具有减反射特性和高耐热性的光学制品，其包括具有至少一个主面的基材，该至少一个主面涂覆有多层减反射涂层，其中，低折射率层/高折射率层的物理厚度之比总体上大于2.1。
US 2008/206470涉及一种用于制造具有减反射特性或反射特性的光学制品的方法，该光学制品包括子层、子层和多层堆叠体。为了增加光学制品的耐磨性，必须在沉积步骤期间在真空室中在供应附加气体的情况下沉积子层，并且必须使子层的外露表面经受离子轰击处理，然后沉积多层堆叠体。
EP 3392680提出控制干涉涂层中的层的厚度，以便增加光学制品的耐磨性，即，使用大于或等于2的外部低折射率层/外部高折射率层的物理厚度之比。
US 2004/191682披露了一种用于光学基材表面的反射涂层，其包括多个交替的高折射率和低折射率的介电材料层，选择层的厚度和/或数量以使反射涂层为划痕掩蔽的，这意味着从光学基材表面反射的光的强度和颜色不随涂层厚度的变化而发生显著变化，例如，当涂层被划伤时。因此，此反射涂层不能够避免或限制划痕的出现，这些划痕仅在视觉上被掩蔽。
WO 2018/033687涉及一种用于太阳镜的眼科镜片，该眼科镜片包括具有覆盖有可见光谱内的多层无机反射涂层的前主面的基材，该多层无机反射涂层由包括与至少一个特定厚度的高折射率层交替的至少两个低折射率层的堆叠体组成并通过特定工艺沉积，所述涂层具有小于或等于600nm的厚度和大于10的拜耳ISTM耐磨性值。当反射涂层是3层涂层时，其厚度相对薄(<300nm)，并且其最接近基材的层是具有120-170nm的厚度的低折射率层。当反射涂层具有4个层或更多个层时，其倒数第二个低折射率层具有范围从40至80nm的低厚度。
在EP 3282292(在近红外区域中具有高反射并且在可见光区域中大幅度减少反射的减反射涂层)、EP 3242150(反射的)和EP 3118658(反射的)中披露了其他干涉涂层。
本发明的目的是提供一种透明光学制品(包括带有反射涂层的有机或矿物玻璃基材)、优选地是镜片、并且更优选地是眼镜的眼科镜片，所述反射涂层相对于已知的反射的有涂层的光学制品具有改善的耐磨性和/或耐划伤性、对基材具有良好的粘附性、并且具有良好的耐热性和耐温度变化性。应该在不降低所述制品的光学性能和其他机械性能，如反射性能的情况下获得这些特性。
另一个目的是提供一种用于改善涂覆有反射涂层的光学制品的耐磨性的技术方案，其对于通过所述反射涂层所显示的每种残余颜色以及各种涂层厚度均应有效。
本发明的还另一个目的是提供一种制造以上限定的制品的工艺，所述工艺可以容易地集成到传统制造链中并且将避免加热基材。
诸位发明人确认了几种手段，其允许提高光学制品的耐磨性。他们发现，通过优化反射涂层中特定层的厚度可以获得耐磨性的增加。根据诸位发明人发现的设计规则，一些层的厚度需要被最大化，而一些层的厚度需要被最小化。
因此，本发明涉及一种光学制品，其包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面涂覆有反射涂层，所述反射涂层包括至少一个具有大于1.55的折射率的高折射率层和至少一个具有1.55或更小的折射率的低折射率层的堆叠体，其中：
a)所述反射涂层包括至少四个层，并且
-所述反射涂层的最外侧低折射率层具有至少10nm的厚度Tho，
-所述反射涂层的最外侧高折射率层具有75nm或更小的厚度，
-所述反射涂层的倒数第二个低折射率层具有至少150nm的厚度Thp，
-所述反射涂层的倒数第二个高折射率层具有范围从5nm至90nm的厚度，
-Tho/4+Thp≥200nm，或者
b)所述反射涂层具有三个层，并且
-所述反射涂层的最外层是具有70nm或更小的厚度的低折射率层，
-所述反射涂层的倒数第二层是具有50nm或更小的厚度的高折射率层，
-所述反射涂层的第一层是具有至少200nm的厚度的低折射率层。
具体实施方式
术语“包括”(及其任何语法变化形式，如“包括(comprises)”和“包括(comprising)”)、“具有”(及其任何语法变化形式，如“具有(has)”和“具有(having)”)、“包含”(及其任何语法变化形式，如“包含(contains)”和“包含(containing)”)、以及“包括”(及其任何语法变化形式，如“包括(includes)”和“包括(including)”)都是开放式连系动词。它们用于指明其所述特征、整数、步骤或组分或群组的存在，但不排除其一种或多种其他特征、整数、步骤或组分或群组的存在或加入。因此，“包括(comprises)”、“具有(has)”、“包含(contains)”或“包括(includes)”一个或多个步骤或要素的方法或方法中的步骤具备那一个或多个步骤或要素，但不限于仅那一个或多个步骤或要素。
除非另外指明，否则本文使用的所有关于成分、范围、反应条件等的数量的数字或表述应被理解为在所有情况下均受术语“约”修饰。
当光学制品包括一个或多个表面涂层时，短语“将涂层或层沉积到光学制品上”意指将涂层或层沉积到光学制品的最外涂层(即最接近空气的涂层)上。
在镜片的一侧“上”的涂层被定义为(a)放置在那一侧上，(b)不需要与那一侧接触，即可以将一个或多个介于中间的涂层布置于那侧与所讨论的涂层之间(然而，它优选地与那一侧接触)，并且(c)不需要完全覆盖那一侧的涂层。
术语“涂层”理解为意指可以与基材和/或与另一个涂层(例如，溶胶-凝胶涂层或由有机树脂制成的涂层)接触的任何层、层堆叠体或膜。可以通过各种方法(包括湿法处理、气体处理和膜转移)沉积或形成涂层。
根据本发明制备的光学制品是透明光学制品，优选地是光学镜片或镜片毛坯，并且更优选地是眼科镜片或镜片毛坯，其理想地用于制造太阳镜的矫正或非矫正太阳镜片。光学制品可以在其凸主面(前侧)、凹主面(背/后侧)、或两个面上用根据本发明的多层反射涂层涂覆，但优选在凸(前)主面上。如本文所使用的，在镜片的情况下，基材的后面旨在意指当使用制品时离配戴者的眼睛最近的面。其通常是凹面。相反，基材的前面是当使用制品时离配戴者的眼睛最远的面。其通常是凸面。光学制品还可以是平光制品。
本文中，术语“镜片”意指有机或无机玻璃镜片，其包括镜片基材，该镜片基材可以涂覆有一个或多个具有不同性质的涂层。
术语“眼科镜片”用于意指适配于眼镜架例如以保护眼睛和/或矫正视力的镜片。所述镜片可以选自无焦点镜片、单焦点镜片、双焦点镜片、三焦点镜片以及渐进式镜片。尽管眼科光学是本发明优选的领域，但是应理解的是本发明可以应用于其他类型的光学制品，例如像在摄影或天文学中用于光学仪器的镜片、光学瞄准镜片、眼睛护目镜、照明系统的光学器件等。
在本说明书中，除非另外指明，否则当穿过所述光学制品观察图像没有感知到显著对比度损失时，即当获得穿过所述光学制品的图像形成，而没有不利地影响图像的品质时，光学制品/材料应理解为是透明的。除非另外指明，否则术语“透明的”的这一定义可以应用于本说明书中如此限定的所有物体。
在本发明的意义上，基材应理解为意指无涂层的基材并且通常具有两个主面。基材特别地可以是具有光学制品(例如注定安装在眼镜上的眼科镜片)的形状的光学透明材料。在此上下文中，术语“基材”应理解为意指光学镜片并且更特别地眼科镜片的基础构成材料。这种材料充当用于一个或多个涂层或层的堆叠体的支撑物。
基材可以由矿物玻璃或有机玻璃、优选有机玻璃制得。有机玻璃可以是热塑性材料(如聚碳酸酯和热塑性聚氨酯)，或热固性(交联的)材料，如二乙二醇双(碳酸烯丙酯)聚合物和共聚物(具体地来自PPG工业公司(PPG Industries)的
Figure BDA0003119599910000061
)、热固性聚氨酯、聚硫氨酯(优选折射率为1.60或1.67的聚硫氨酯树脂)、聚环氧化物、聚环硫化物(如折射率为1.74的那些)、聚(甲基)丙烯酸酯，以及基于共聚物的基材，如包含衍生自双酚A、聚硫代(甲基)丙烯酸酯、以及其共聚物和共混物的(甲基)丙烯酸聚合物和共聚物的基材。用于镜片基材的优选材料是聚碳酸酯(PC)和二乙二醇双(烯丙基碳酸酯)聚合物，特别是由聚碳酸酯制成的基材。
适用于本发明的基材的具体实例是由热固性聚硫胺甲酸酯树脂获得的基材，聚硫胺甲酸酯树脂由三井东压化学公司(Mitsui Toatsu Chemicals company)以MR系列销售，特别是
Figure BDA0003119599910000062
和
Figure BDA0003119599910000063
树脂。这些基材以及用于制备其的单体尤其描述于专利US 4,689,387、US 4,775,733、US 5,059,673、US 5,087,758和US 5,191,055中。
在沉积反射涂层或其他功能涂层之前，通常使制品表面经受物理或化学表面活化和清洁预处理，以便改善待沉积层的粘附性，如在WO 2013/013929中披露的。这种预处理通常在耐磨和/或耐划伤涂层(硬涂层)的表面上进行。
这种预处理通常在真空下进行。预处理可以是用高能物种、例如用离子束轰击(“离子预清洁”或“IPC”)或用电子束处理进行的轰击、电晕处理、离子散裂处理、紫外线处理或真空下等离子体处理(典型地使用氧或氩等离子体)。预处理还可以是酸或碱表面处理和/或在有或没有超声波处理的情况下的溶剂表面处理(使用水或有机溶剂)。许多处理可以组合。由于这些清洁处理，基材表面的清洁度得以优化。
高能物种意指具有范围从1至300eV、优选地从10至150eV、并且更优选地从10至150eV并且最优选地从40至150eV的能量的物种。高能物种可以是化学物种，如离子、自由基，或如光子或电子等物种。
优选的预处理是离子轰击，例如使用离子枪产生的氩离子束。在沉积多层反射涂层的后续层之前，还可以对所述多层反射涂层的一个或多个层的外露表面进行此种物理或化学活化处理(优选地离子轰击处理)。
反射涂层是沉积在制品表面上的涂层，其改善了最终制品在可见光范围(即它为在380-780nm区域内的至少一个波长范围)内的反射特性。它通常增加了制品/空气界面处在相对宽的可见光谱部分上的光的反射。此种涂层可以例如用于在太阳镜镜片中获得镜像效应。任选地，反射涂层可以增加紫外光和/或红外光的反射。
本发明的多层反射涂层包括至少一个具有大于1.55的折射率的高折射率层和至少两个具有1.55或更小的折射率的低折射率层的堆叠体。
在一个实施例中，反射涂层是3层堆叠体，其包括彼此交替的两个具有低折射率(LI)的层和一个具有高折射率(HI)的层。
在另一个实施例中，反射涂层是至少4个层的堆叠体，例如4个层、5个层或6个层的堆叠体，其包括彼此交替的至少两个具有低折射率(LI)的层和至少两个具有高折射率(HI)的层。
反射涂层中的总层数优选地小于或等于以下值中的任一个：10、8、7、6。
如本文所使用的，反射涂层的层被限定为具有大于或等于1nm的厚度。因此，当对反射涂层中的层数计数时，将不考虑具有小于1nm厚度的任何层。
在本申请中，当对反射堆叠体的层数计数时，当两个HI层(或更多个)沉积到彼此之上时，它们被认为是具有等于单独层的厚度之和的厚度的单个HI层。这同样适用于两个或更多个相邻的LI层的堆叠体。因此，在本发明的反射堆叠体中，HI层和LI层必须彼此交替。
在本申请中，当反射涂层的层的折射率大于1.55、优选地大于或等于1.6、甚至更优选地大于或等于1.8或1.9并且最优选地大于或等于2时，其被称为高折射率(HI)层。所述HI层优选地具有小于或等于2.2或2.1的折射率。当反射涂层的层的折射率小于或等于1.55、优选地小于或等于1.52、更优选小于或等于1.48或1.47时，其被称为低折射率(LI)层。所述LI层优选地具有大于或等于1.1、更优选地大于或等于1.3或1.35的折射率。
如熟知的，反射涂层传统上包括由介电材料(通常是一种或多种金属氧化物)和/或溶胶-凝胶材料和/或如WO 2013/098531中所披露的有机/无机层构成的多层堆叠体。
HI层通常包含一种或多种金属氧化物，如但不限于氧化锆(ZrO2)、二氧化钛(TiO2)、亚化学计量的氧化钛如Ti3O5、氧化铝(Al2O3)、五氧化钽(Ta2O5)、氧化钕(Nd2O5)、氧化镨(Pr2O3)、钛酸镨(PrTiO3)、La2O3、Nb2O5、Y2O3，优选地是ZrO2和Ta2O5。在本发明的一些方面，反射涂层的一个或多个最外侧高折射率层不包含氧化钛。在优选的实施例中，反射涂层不包括任何包含TiO2、或更一般地氧化钛的层。如本文所使用的，氧化钛旨在意指二氧化钛或亚化学计量的氧化钛(TiOx，其中x<2)。含氧化钛的层事实上对于光降解作用是敏感的。
任选地，HI层可以进一步包含具有低折射率的二氧化硅或其他材料，条件是它们具有上文所指示的大于1.55的折射率。优选的材料包括ZrO2、PrTiO3、Nb2O5、Ta2O5、Ti3O5、Y2O3及其混合物。
在一个实施例中，反射涂层具有至少一个包含Ti3O5的层。
LI层也是熟知的并且可以包含但不限于SiO2、MgF2、或二氧化硅和氧化铝的混合物(尤其是掺有氧化铝的二氧化硅)，氧化铝有助于提高反射涂层耐热性。LI层优选地是相对于层总重量包括按重量计至少80％的二氧化硅、更优选地按重量计至少90％的二氧化硅的层，并且甚至更优选地由二氧化硅层组成。
任选地，LI层可以进一步包含具有高折射率的材料，条件是产生的层的折射率小于或等于1.55。
当使用包含SiO2与Al2O3的混合物的LI层时，该层相对于此种层中的SiO2+Al2O3总重量优选地包含按重量计从1％至10％、更优选地从1％至8％并且甚至更优选地从1％至5％的Al2O3。
例如，可以采用掺有按重量计4％或者更少的Al2O3的SiO2或者掺有8％Al2O3的SiO2。可以使用市场上可获得的SiO2/Al2O3混合物，如由优美科材料AG公司(UmicoreMaterials AG company)销售的
Figure BDA0003119599910000091
(在550nm下，折射率n＝1.48-1.50)，或由德国默克公司(Merck KGaA company)销售的
Figure BDA0003119599910000092
(在500nm下，折射率n＝1.48)。
反射涂层外层(即，其距基材最远的层)通常是基于二氧化硅的层，其相对于层总重量优选地包含按重量计至少80％的二氧化硅、更优选地按重量计至少90％的二氧化硅(例如，掺有氧化铝的二氧化硅层)，并且甚至更优选地包括二氧化硅层。
总体上，HI层具有范围从4至100nm、优选地从5至70nm、更优选地从8至40nm的物理厚度。
总体上，LI层具有范围从5至500nm、优选地从10至350nm、更优选地从30至300nm的物理厚度。
诸位发明人已经发现，就厚度而言，通过在反射涂层中具有与高折射率层相比高比例的低折射率层可以改善光学制品的耐磨性和/或耐划伤性。因此，具有大于1.55的折射率的高折射率层优选地占反射涂层的厚度的小于20％、更优选地小于15％。在一个实施例中，高折射率层优选地占反射涂层的厚度的2％-40％、更优选地4％-30％或5％-20％、甚至更优选地5％-12％或5％-10％。在另一个实施例中，低折射率层优选地占反射涂层的厚度的60％-98％、更优选地70％-96％或80％-95％、甚至更优选地88％-95％或90％-95％。在此类的上下文中，反射涂层优选地不包括具有大于或等于105nm、100nm、90nm、80nm、75nm、70nm或50nm的厚度的任何高折射率层。
总体上，反射涂层的总厚度小于或等于1微米、优选地小于或等于800nm、更优选小于或等于750nm。反射涂层总厚度总体上大于或等于250nm、优选地大于或等于350nm。在一个实施例中，其厚度的范围为从300nm至1μm。
诸位发明人发现了用于优化光学制品的耐磨性和/或耐划伤性的设计规则。
当反射涂层具有三个层时(即，其层数等于三)，其最外层是具有70nm或更小的厚度的低折射率层，其倒数第二层是具有50nm或更小的厚度的高折射率层，并且其第一层(倒数第三层)是具有至少200nm的厚度的低折射率层。
对于3个层的反射涂层，反射涂层的倒数第二层的厚度(其应最小化)是非常敏感的参数，因为它比其他层的厚度对耐磨性的影响大得多。反射涂层的最外层的厚度(其应最小化)和反射涂层的第一层的厚度(其应最大化)也允许提高耐磨性，但程度较小。
在一个优选的实施例中，为了具有更好的耐磨性，反射涂层具有三个层，并且其最外层是具有50nm或更小的厚度的低折射率层，其倒数第二层是具有50nm或更小的厚度的高折射率层，并且其第一层是具有至少250nm的厚度的低折射率层。在另一个优选的实施例中，为了具有好得多的耐磨性，反射涂层具有三个层，并且其最外层是具有50nm或更小的厚度的低折射率层，其倒数第二层是具有40nm或更小(或者35nm或更小)的厚度的高折射率层，并且其第一层是具有至少250nm的厚度的低折射率层。
当反射涂层具有三个层时，其第一层优选地具有范围从200nm至400nm、更优选地从250nm至350nm的厚度；和/或其倒数第二层优选地具有范围从20至50nm、优选地从30至40nm的厚度；和/或其最外层优选地具有范围从20至50nm、优选地从30至40nm的厚度。
当反射涂层具有四个层或更多个层时，其最外侧低折射率层具有至少10nm的厚度Tho，其最外侧高折射率层具有75nm或更小的厚度，其倒数第二个低折射率层具有至少150nm的厚度Thp，其倒数第二个高折射率层具有范围从5nm至90nm的厚度，并且Tho/4+Thp≥200nm。
反射涂层的最外侧高折射率层或低折射率层意指反射涂层的距基材最远的层。反射涂层的倒数第二个高折射率层或低折射率层意指反射涂层的距基材最远的、但刚好位于反射涂层的如先前定义的最外侧高折射率层或低折射率层之前的层。
对于具有四个层或更多个层的反射涂层，已经发现可以通过调节最后四个层(即离基材最远的四个层)的厚度来控制耐磨性。反射涂层的倒数第二个低折射率层的厚度(其应最大化)是非常敏感的参数，对耐磨性有很大影响，而倒数第二个高折射率层的厚度(其应最小化)是敏感参数。反射涂层的最外侧低折射率层的厚度(其应最大化)和反射涂层的最外侧高折射率层的厚度(其应最小化)也允许提高耐磨性，但是程度较小。
在优选的实施例中，Tho/4+Thp的范围为优选地从210至500nm、更优选地从225至425nm、甚至更优选地从250至400nm。实际上，诸位发明人已经发现，倒数第二个低折射率层的厚度比最外侧低折射率层的厚度对光学制品的耐磨性的影响大得多。
在一个优选的实施例中，为了具有更好的耐磨性，反射涂层具有四个层或更多个层，并且其最外侧低折射率层具有至少200nm的厚度，其最外侧高折射率层具有40nm或更小的厚度，其倒数第二个低折射率层具有至少220nm的厚度，并且其倒数第二个高折射率层具有范围从5nm至40nm的厚度。在另一个优选的实施例中，为了具有好得多的耐磨性，反射涂层具有四个层或更多个层，并且其最外侧低折射率层具有至少230nm的厚度，其最外侧高折射率层具有25nm或更小的厚度，其倒数第二个低折射率层具有至少300nm的厚度，并且其倒数第二个高折射率层具有范围从5nm至20nm的厚度。
当反射涂层具有四个层或更多个层时，其最外侧低折射率层优选地具有范围从10至350nm，更优选地从10至300nm，甚至更优选地从130至300nm、150至300nm或200至300nm的厚度；和/或其最外侧高折射率层优选地具有范围从10至100nm、更优选地从10至75nm、甚至更优选地从12至40nm或12至30nm的厚度；和/或其倒数第二个低折射率层优选地具有范围从150至400nm或175至400nm、更优选地从175至350nm或180至325nm的厚度；和/或其倒数第二个高折射率层优选地具有范围从5至100nm，更优选地从5至75nm，甚至更优选地从5至55nm、10至50nm或10至40nm的厚度。
当反射涂层具有四个层或更多个层时，其最外侧低折射率层优选地具有至少70nm的厚度。其倒数第二个低折射率层优选地比其最外侧低折射率层厚。
以一般方式，反射涂层的最外层优选地是低折射率层。
可以在施加反射涂层，如基于铬或基于铌的层或本领域技术人员已知的任何其他层之前，在基材上施加至少一个薄(1nm到几nm厚，典型地1-6nm)的粘附层，以改善粘附性。
可以通过将至少一个导电层结合到存在于制品表面上、优选地反射涂层中的堆叠体中来使本发明的光学制品抗静电，即不保留和/或形成大量静电荷。
镜片将用一块布进行摩擦或使用任何其他产生静电荷(由电晕等施加的电荷……)的程序之后获得的静电荷排空的能力可以通过测量对于所述电荷消散所需要的时间来进行量化。因此，抗静电镜片具有约几百毫秒、优选地500ms或更少的放电时间，而对于静电镜片而言其为约几十秒。在本申请中，根据法国申请FR 2943798中披露的方法来测量放电时间。
如本文所使用的，“导电层”或“抗静电层”旨在意指由于其存在于基材表面上而降低了光学制品由于电荷积累而吸引灰尘/颗粒的能力的层。优选地，当施加到非抗静电基材(即，具有大于500ms的放电时间)上时，抗静电层在静电荷被施加到其表面上后使得镜片能够不保留和/或不形成大量静电荷而例如具有500ms或更少的放电时间，使得由于防止静电效应而防止小灰尘附着到光学制品上。
导电层可以位于堆叠体中的不同位置，通常在反射涂层中或与反射涂层接触，条件是其反射特性不受影响。导电层优选地位于反射涂层的两个层(典型地两个LI层)之间，和/或优选地与此种反射涂层的高折射率层相邻。在实施例中，导电层直接位于反射涂层的低折射率层下方，最优选地是反射涂层的倒数第二层(直接位于反射涂层的LI外层下方)。
导电层应该足够薄以不改变反射涂层的透明度。导电层优选地是由导电且高度透明的材料(通常是任选地掺杂的金属氧化物)制成。在这种情况下，导电层的厚度的范围优选地为从1至15nm、更优选地从1至10nm、理想地从2至8nm。优选地，导电层包含任选地掺杂的金属氧化物，该金属氧化物选自铟、锡、锌氧化物及其混合物。优选的是氧化铟锡(In2O3:Sn：掺杂锡的氧化铟)、掺杂铝的氧化锌(ZnO:Al)、氧化铟(In2O3)以及氧化锡(SnO2)。在最优选的实施例中，导电且光学透明的层是氧化铟锡层(被标记为ITO层)或氧化锡层。
通常，导电层由于其厚度小而在堆叠体内帮助(但以有限方式)获得反射特性并且在所述涂层中典型地表示高折射率层。由导电且高度透明的材料制成的那些层(如ITO层或SnO2层)是这种情况。因此，当存在时，导电层优选地是反射涂层的最外侧高折射率层，或者当与一个或多个高折射率层相邻时，是反射涂层的最外侧高折射率层的成员。
可以根据任何合适的方法来沉积导电层，例如通过优选地离子束辅助(下述IAD)真空蒸镀沉积以提高其透明度，或者借助于阴极溅镀。
导电层还可以是非常薄的贵金属(Ag、Au、Pt等)层，典型地厚度小于1nm并且优选地厚度小于0.5nm。
反射涂层的不同层优选地根据以下方法中的任何一种在真空沉积室中在真空下通过气相沉积来沉积：i)通过任选地在离子束辅助下蒸镀；ii)通过离子束喷涂；iii)通过阴极溅射；iv)通过等离子辅助化学气相沉积。在以下的参考文件“Thin Film Processes[薄膜工艺]”和“Thin Film Processes II[薄膜工艺II]”,Vossen&Kern编著,AcademicPress[学术出版社],1978和1991中分别描述了这些不同的方法。特别推荐的方法是在真空下蒸镀。优选地，通过在真空下蒸镀来沉积上述层中的每一层。此种工艺确实有利地避免加热基材，这对于涂覆热敏基材(如有机玻璃)特别有意义。
还可以用如先前定义的高能物种进行处理步骤，同时沉积反射涂层的不同层中的一个或多个。具体地，在离子辅助下工作使得能够在所述层形成的同时压紧所述层，并增加它们的压缩和折射率。在层的沉积期间使用离子辅助产生的层与在没有离子辅助的情况下沉积的层在结构上不同。
在美国专利申请2006/017011和美国专利5,268,781中特别描述了离子辅助沉积方法或IAD。在离子辅助下的气相沉积包括通过在所述层形成时同时通过离子束轰击所述层而在基材上沉积材料层，并且优选地在通过离子枪实现的离子轰击下，其中离子是由从中提取一个或多个电子的气体原子构成的颗粒。离子轰击使得在正形成的涂层中的原子重排，这增大了其密度。IAD不仅允许改善沉积层的粘附性，而且还允许增大其折射率。其优选地包括用氧离子轰击要处理的表面。可以要么结合氧气、要么不结合氧气使用其他电离气体，例如氩气、氮气、特别是O2和氩气的混合物(根据范围从2:1至1:2的体积比)。
根据本发明的实施例，已经在离子辅助下进行了反射涂层的、折射率大于1.55的所有高折射率层的沉积，即，在那些层的形成期间，那些层已经在离子源的辅助下被沉积。
反射涂层的最外侧低折射率层优选地在没有离子辅助的情况下、优选地在没有用高能物种的伴随处理的情况下沉积。在另一个实施例中，反射涂层的低折射率层在没有离子辅助的情况下、优选地在没有用高能物种的伴随处理的情况下沉积。
在一个实施例中，除了一个或多个导电层(如果反射涂层中存在的话)之外，没有反射涂层的层在离子辅助下沉积(优选地没有反射涂层的层在用高能物种的伴随处理下沉积)。
任选地，通过在层的沉积步骤期间向真空室中供应(补充)气体来进行所述层中的一个或多个层的沉积，如US 2008/206470中所披露的。具体地说，在正沉积层的同时将附加气体如稀有气体(例如，氩气、氪气、氙气、氖气)，气体如氧气、氮气，或这些当中的两种或更多种气体的混合物引入真空沉积室中。在此沉积步骤期间采用的气体不是电离气体、更优选地不是活化气体。
这种气体供应使得能够调节压力，并且不同于离子轰击处理(如离子辅助)。它通常能够限制反射涂层中的应力并增强层的粘附性。当使用此种被称为在气压调节下的沉积的沉积方法时，优选的是在氧气气氛(所谓的“钝态氧气”)下工作。在层的沉积期间使用附加气体供应产生的层与在没有附加气体供应情况下沉积的层在结构上不同。
在本发明的实施例中，子层的沉积是在真空室中在低于以下值中的任一个的压力下进行的：1.6×10-4毫巴、1.5×10-4毫巴、1.4×10-4毫巴、1.3×10-4毫巴、1.2×10-4毫巴、1.1×10-4毫巴，优选地低于10-4毫巴，更优选地低于8.10-5毫巴，并且甚至更好地低于以下值7.10-5毫巴、6.10-5毫巴、5.10-5毫巴、4.10-5毫巴、3.10-5毫巴中的任一个。典型地，在此优选的实施例中，压力是约1.6×10-5毫巴。
反射涂层可以直接沉积到裸基材上。在一些应用中，优选的是基材的主表面在沉积本发明的反射涂层之前用一个或多个功能涂层涂覆，以改善其光学特性和/或机械特性。传统用于光学器件中的这些功能涂层可以是但并不限于耐冲击底漆层、耐磨涂层和/或耐划伤涂层(硬涂层)、偏振涂层、抗静电涂层、光致变色涂层、着色涂层、或由此类涂层中的两个或更多个涂层制成的堆叠体。
可以在本发明中使用的耐冲击底漆涂层可以是典型地用于改善成品光学制品的耐冲击性的任何涂层。按其定义，耐冲击底漆涂层是与相同的但是没有耐冲击底漆涂层的光学制品相比改善了成品光学制品的耐冲击性的涂层。
典型的耐冲击底漆涂层是基于(甲基)丙烯酸的涂层和基于聚氨酯的涂层。具体地，根据本发明的耐冲击底漆涂层可以由胶乳组合物如聚(甲基)丙烯酸胶乳、聚氨酯胶乳或聚酯胶乳制得。
优选的底漆组合物包括：基于热塑性聚氨酯的组合物，如在专利JP 63-141001和JP 63-87223中描述的那些；聚(甲基)丙烯酸底漆组合物，如在专利US 5,015,523和US 6,503,631中描述的那些；基于热固性聚氨酯的组合物，如在专利EP 0404111中描述的那些；以及基于聚(甲基)丙烯酸胶乳或聚氨酯胶乳的组合物，如在专利US 5,316,791和EP0680492中描述的那些。优选的底漆组合物是基于聚氨酯的组合物和基于胶乳的组合物，特别是聚氨酯胶乳、聚(甲基)丙烯酸胶乳、和聚酯胶乳，以及它们的组合。在一个实施例中，耐冲击底漆包括胶体填料。
聚(甲基)丙烯酸胶乳是基于主要由(甲基)丙烯酸酯(如(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、或(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯)与典型较低的量的至少一种其他共聚单体(例如像苯乙烯)制成的共聚物的胶乳。
适用于本发明中的商业可获得的底漆组合物包括
Figure BDA0003119599910000161
232、
Figure BDA0003119599910000162
234、
Figure BDA0003119599910000163
240、
Figure BDA0003119599910000164
242组合物(由巴辛顿化学有限公司(BAXENDENCHEMICALS)销售)、
Figure BDA0003119599910000165
R-962、
Figure BDA0003119599910000169
R-972、
Figure BDA0003119599910000166
R-986和
Figure BDA0003119599910000167
R-9603(由泽尼卡树脂公司(ZENECA RESINS)销售)、以及
Figure BDA0003119599910000168
A-639(由帝斯曼涂层树脂公司(DSM coating resins)销售)。
在固化之后，耐冲击底漆涂层的厚度的范围典型地为从0.05至30μm、优选地0.2至20μm、更特别地从0.5至10μm、并且甚至更好地0.6至5μm或0.6至3μm、并且最优选地0.8至1.5μm。
耐冲击底漆涂层优选地与耐磨涂层和/或耐划伤涂层直接接触。
耐磨涂层和/或耐划伤涂层可以是光学镜片领域中传统用作耐磨涂层和/或耐划伤涂层的任何层。
耐磨涂层和/或耐划伤涂层优选地是基于聚(甲基)丙烯酸酯或硅烷的硬涂层，这些硬涂层通常包括一种或多种矿物填料，这些矿物填料旨在增加涂层一旦固化后的硬度和/或折射率。
耐磨涂层和/或耐划伤涂层优选地是由包含至少一种烷氧基硅烷和/或其水解产物的组合物制备的，该水解产物例如通过用盐酸溶液和任选地冷凝和/或固化催化剂水解获得。
针对本发明推荐的合适的涂层包括基于环氧硅烷水解产物的涂层，如在专利EP0614957、US 4211823和US 5015523中描述的那些。
优选的耐磨涂层和/或耐划伤涂层组合物是以本申请人的名义在专利EP 0614957中披露的。它包含环氧三烷氧基硅烷和二烷基二烷氧基硅烷的水解产物、硅胶和催化量的铝基固化催化剂(如乙酰丙酮化铝)，剩余部分基本上由传统用于配制此类组合物的溶剂组成。优选地，所使用的水解产物是γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷(GLYMO)和二甲基二乙氧基硅烷(DMDES)的水解产物。
耐磨涂层和/或耐划伤涂层组合物可以通过已知方法沉积，然后优选地使用热或紫外辐射固化。(固化后的)耐磨涂层和/或耐划伤涂层的厚度通常从2至10μm、优选地从3至5μm变化。
根据本发明的光学制品还可以包括形成在反射涂层上并能够改变其表面特性的涂层，如疏水性涂层和/或疏油性涂层(防污表涂层)。这些涂层优选地沉积到反射涂层的外层上。总体上，其厚度小于或等于10nm，优选地范围为从1至10nm、更优选地从1至5nm。防污表涂层通常是氟硅烷或氟硅氮烷类型的涂层，优选包含氟聚醚部分并且更优选全氟聚醚部分。WO 2012076714中披露了关于这些涂层的更详细的信息。
代替疏水性涂层，可以使用提供防雾特性的亲水性涂层(防雾涂层)，或当与表面活化剂关联时提供防雾特性的防雾前体涂层。此类防雾前体涂层的实例在专利申请WO2011/080472中进行了描述。
可以使用在本领域中已知的方法(包括旋涂、浸涂、喷涂、蒸镀、溅镀、化学气相沉积和层压)将附加涂层，如底漆、硬涂层和防污表涂层沉积到基材的主面上。
典型地，根据本发明的光学制品包括基材，该基材上依次涂覆有耐冲击底漆层、耐磨层和/或耐划伤层、根据本发明的反射涂层、以及疏水性和/或疏油性涂层或者提供防雾特性的亲水性涂层或防雾前体涂层。
由于根据本发明的反射涂层的特定设计，本发明的光学制品展现出根据下文描述的Bayer ASTM(拜耳砂)操作方案、即根据ASTM F735-81标准测量的高耐磨性值。
根据本发明，在一个实施例中，光学制品(其主面、优选地前面被本发明的反射堆叠体覆盖)展现出根据ASTM F735-81标准测量的大于或等于5.5、优选地大于或等于以下值中的任一个的拜耳值(砂拜耳值)：6、6.5、7、7.5、8。因此，本发明提供了具有高耐磨性的光学制品，因为光学制品的典型砂拜耳值小于5、甚至小于3。
在一个实施例中，根据本发明的光学制品不吸收可见光或吸收不多，这在本申请的上下文中意味着其在可见光谱内的相对光透射因数Tv大于或等于以下值中的任一个：87％、88％、89％、90％、92％、95％、96％、97％。所述Tv因数的范围优选地为从75％至95％或97％、更优选地从80％至94％、甚至更好地从85％至93％。在另一个实施例中，Tv的范围为从87％至92％。
Tv因数，也称为系统的“光透射率”，是如在ISO标准13666:1998中定义的并且根据标准ISO 8980-3进行测量。它被定义为380-780nm波长范围内的平均值，该平均值根据眼睛在该范围的每个波长处的敏感性进行了加权、并且是在D65照明条件(日光)下测量的。
“平均光反射因数”，又称为“光反射”，记为Rv，是如在ISO 13666:1998标准中定义的，并且根据ISO 8980-4标准测量(针对小于17°、通常为15°的入射角)，即，这是在380nm与780nm之间的整个可见光谱内的加权光谱反射平均值。
根据本发明的被反射涂层涂覆的制品的面的平均光反射因数Rv在制品的所述面上优选地大于2.5％，优选地大于或等于4％、5％或8％，更优选地大于或等于10％，甚至更优选大于或等于15％或20％。
将标准光源D65和观察者考虑在内(入射角：15°)，在380nm与780nm之间计算本发明光学制品在国际比色CIE L*a*b*中的比色系数C*和h。观察者是如在国际色度系统CIEL*a*b*中定义的“标准观察者”(10°)。
本发明的镜片的比色系数具有良好的鲁棒性。在WO 2015/000534中定义的光学制品的坚固性σh是令人满意的，并且对于对应于绿色的色调角h，其优选地小于或等于8°，更优选地小于或等于7.5°。
可以将反射涂层制备成没有关于其色调角h(0°至360°)的限制，所述色调角与由所述反射涂层显示的残余颜色有关，并且优选地在从40°至300°、更优选地从50°至290°的范围内。在一些实施例中，光学制品具有范围从240°至300°、优选地从250°至290°、更优选地从260°至280°的色调角(h)，因此使得感觉到的残余反射颜色为蓝色至紫色、优选地接近紫色。在另一个实施例中，光学制品具有大于或等于135°、更优选地大于或等于140°并且更好地范围从140°至160°的色调角(h)，因此产生具有绿色反射的反射涂层。在另一个实施例中，光学制品具有范围从40°至90°、优选地50°至90°、更好地50°至70°的色调角(h)，因此产生具有金色反射的反射涂层。可以通过调整反射涂层的层数和这些层的折射率，特别是通过增加高折射率层的层数和/或折射率，获得所有残余颜色。
在本发明的一些方面，反射涂层具有的色度(C*)小于15(针对15°的入射角)、更优选地小于13。在镜片的情况下，考虑到佩戴者的舒适度，获得低残余颜色强度(色度)制品是优选的，并且在反射中获得令人愉悦的美学的金属样中性外观是优选的。
本发明进一步涉及一种制造如上文描述的光学制品的方法，所述方法包括：
-提供光学制品，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，
-在该基材的主表面上沉积如先前所述的反射涂层，所述反射涂层包括至少一个具有大于1.55的折射率的高折射率层和至少一个具有1.55或更小的折射率的低折射率层的堆叠体。
在一些实施例中，在沉积所述反射涂层之前对基材的外露表面进行了离子轰击处理，和/或在沉积所述多层反射涂层的后续层之前对多层反射涂层的至少一个层的外露表面进行了离子轰击处理。
在一个实施例中，通过在第一制造场所中在基材上形成底漆涂层和/或耐磨涂层和/或耐划伤涂层而在第二制造场所中形成其他涂层来制备本发明的光学制品。
以下实例以更详细但非限制方式说明本发明。除非另外说明，否则本申请中披露的所有厚度涉及物理厚度。表格中给出的百分比是重量百分比。除非另外指明，否则本发明中提及的折射率是在20℃-25℃、550nm波长下表示的。
实例
1.一般程序
在实例中采用的制品包括65mm直径的聚硫胺甲酸酯
Figure BDA0003119599910000202
镜片基材(来自三井东压化学株式会社(Mitsui Toatsu Chemicals Inc.)，折射率＝1.59)，其中焦度为-2.00屈光度并且厚度为1.2mm，在其凸面上涂覆有在WO 2010/109154的实验部分披露的基于W234TM聚氨酯材料的耐冲击底漆涂层(通过添加高折射率胶体而被改变为具有1.6的折射率)、EP 0614957的实例3中披露的耐磨和耐划伤涂层(硬涂层)(通过添加高折射率胶体而被改变为具有1.6而不是1.5的折射率)、反射涂层、以及在专利申请WO 2010/109154的实验部分披露的防污涂层(通过大金工业株式会社(Daikin Industries)销售的Optool
Figure BDA0003119599910000201
化合物在真空下的蒸镀获得的)(厚度：从2至5nm)。
在不加热基材的情况下，通过真空蒸镀、任选地在沉积期间通过氧气束和可能的氩离子辅助(IAD)(当指定时(蒸镀源：电子枪)，并且任选地在通过向指定的室中供应(钝态)O2气体的压力调节下)沉积不同层。
使得能够沉积不同反射层的真空蒸镀装置是Leybold LAB1100+真空镀膜机，其具有两个用于蒸镀材料的系统(电子枪蒸镀系统和热蒸镀器(焦耳效应蒸镀系统))，以及KRIEH 1000 F离子枪(来自考夫曼公司(Kaufman&Robinson Inc.))，用于通过氩离子轰击(IPC)制备基材表面的预备阶段以及层的离子辅助沉积(IAD)中。
2.光学制品的制备
将镜片放在设置有圆形开口的回转台上，这些圆形开口旨在容纳要处理的镜片，凹面是面向蒸镀源和离子枪。
用于生产光学制品的方法包括：将设置有底漆涂层和耐磨涂层的镜片基材引入真空沉积室中；进行抽吸步骤直至形成高真空；然后是离子枪调节步骤(IGC，如FR 2957454中披露的，3.5×10-5毫巴作为起始压力，140V，3.5A，氩气，60秒)；使用具有1.8×10-4毫巴的平均压力的氩离子束轰击(IPC)的基材表面活化步骤(离子枪被设定为1.7A的阳极电流放电，110V，60秒，气流量：10sccm的氩气)，停止离子照射，并且然后以范围从2至3nm/s(对于防污涂层0.4nm/s)的速率相继蒸镀所需数量的层(反射涂层和防污涂层)；以及最后的通风步骤。高折射率层通过蒸镀在没有O2压力下的ZrO2粒料或由默克公司(Merck)供应的亚化学计量的二氧化钛(“稳定化的Ti3O5”)来获得。
代表性光学制品(实例4)的沉积条件如下：在6.10-5毫巴的压力下HI层(ZrO2)的沉积步骤，在2.4×10-5毫巴的压力下LI层(SiO2)的沉积步骤，在6.1×10-5毫巴的压力下HI层(ZrO2)的沉积步骤，使用氩离子束的此ZrO2层的表面活化步骤(与已在基材上直接进行的IPC相同的处理，除了处理时间：30秒，平均压力：1.6×10-4毫巴，以及阳极电压：125V之外)，在1.8×10-5毫巴的压力下LI层(SiO2)的沉积步骤，以及最后Optool
Figure BDA0003119599910000211
层的沉积步骤。在沉积期间，在真空室中不添加气体的情况下沉积所有层。
3.测试方法
使用以下测试程序来评估根据本发明制备的光学制品。每个系统制备了几个样品用于测量并且报告的数据是以不同样品的平均值计算的。
将标准光源D65和标准观察者10°考虑在内，用Zeiss分光光度计进行涂覆有本发明堆叠体的面的比色测量(反射中测量的反射因数Rv)。它们是针对15°的入射角提供的。
如在WO 2012/173596中所披露的确定耐磨性。具体地，在制品生产后1周，根据ASTM F735-81标准，通过砂拜耳测试测量耐磨性。
诸位发明人注意到，制品的拜耳值在其制造后不断减小。优选在稳定化之后，例如在其制造后至少1周，测量该值。在本申请中，实例的拜耳值是在制品制造后1周测量的。
4.结果
下文中详述了在实例中获得的眼科镜片的结构特征、光学性能和机械性能。提及的厚度是反射堆叠体的总厚度。
Figure BDA0003119599910000221
Figure BDA0003119599910000231
Figure BDA0003119599910000241
(a)在沉积下一层之前对层表面进行离子轰击处理。
(b)沉积期间的氧气供应。
具有根据本发明的厚度的反射堆叠体的光学制品展现出比对比制品更好的耐磨性，同时保持类似水平的反射性能。例如，对于相同的反射光颜色(银色)，实例11的制品展现出比实例16的制品更好的耐磨性。不符合本申请中提及的设计规则的对比制品展现出相当低的拜耳值。
实例7和8的比较示出，将附加的150-nm厚的二氧化硅层作为贴地层添加到4层堆叠体中对砂拜耳性能没有影响。这可以通过以下事实解释：反射涂层已经足够厚(差不多600nm厚)。
获得的一些拜耳值大于或等于7，这指示非常高的耐磨性水平。应当注意，拜耳值中1-2个点的差异是非常显著的。

Claims (18)

1.一种光学制品，其包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面涂覆有在可见光范围内的反射涂层，所述反射涂层包括至少一个具有大于1.55的折射率的高折射率层和至少一个具有1.55或更小的折射率的低折射率层的堆叠体，其中：
-当两个或更多个高折射率层沉积到彼此之上时，它们被认为是具有等于单独层的厚度之和的厚度的单个高折射率层，
-当两个或更多个低折射率层沉积到彼此之上时，它们被认为是具有等于单独层的厚度之和的厚度的单个低折射率层，其中：
a)所述反射涂层包括至少四个层，并且
-所述反射涂层的最外侧低折射率层具有至少10nm的厚度Tho，
-所述反射涂层的最外侧高折射率层具有75nm或更小的厚度，
-所述反射涂层的倒数第二个低折射率层具有至少150nm的厚度Thp，
-所述反射涂层的倒数第二个高折射率层具有范围从5nm至90nm的厚度，
-Tho/4+Thp≥200nm，
或者
b)所述反射涂层具有三个层，并且
-所述反射涂层的最外层是具有70nm或更小的厚度的低折射率层，
-所述反射涂层的倒数第二层是具有50nm或更小的厚度的高折射率层，
-所述反射涂层的第一层是具有至少200nm的厚度的低折射率层。
2.根据权利要求1所述的光学制品，其具有根据ASTM F735-81标准确定的大于或等于5.5的拜耳值。
3.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述反射涂层具有大于或等于四的层数，并且其最外侧低折射率层具有至少70nm的厚度。
4.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述反射涂层具有大于或等于四的层数，并且其最外侧低折射率层具有范围从130nm至300nm的厚度。
5.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述反射涂层具有大于或等于四的层数，并且其倒数第二个低折射率层具有范围从175nm至400nm的厚度。
6.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述反射涂层具有大于或等于四的层数，并且其倒数第二个高折射率层具有范围从10nm至40nm的厚度。
7.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述反射涂层具有大于或等于四的层数，并且其倒数第二个低折射率层比其最外侧低折射率层厚。
8.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述反射涂层具有三个层，并且其第一层具有范围从200nm至400nm的厚度。
9.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，
a)所述反射涂层包括至少四个层，并且
-所述反射涂层的最外侧低折射率层具有至少200nm的厚度，
-所述反射涂层的最外侧高折射率层具有40nm或更小的厚度，
-所述反射涂层的倒数第二个低折射率层具有至少220nm的厚度，
-所述反射涂层的倒数第二个高折射率层具有范围从5nm至40nm的厚度，
或者
b)所述反射涂层具有三个层，并且
-所述反射涂层的最外层是具有50nm或更小的厚度的低折射率层，
-所述反射涂层的倒数第二层是具有50nm或更小的厚度的高折射率层，
-所述反射涂层的第一层是具有至少250nm的厚度的低折射率层。
10.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，
a)所述反射涂层包括至少四个层，并且
-所述反射涂层的最外侧低折射率层具有至少230nm的厚度，
-所述反射涂层的最外侧高折射率层具有25nm或更小的厚度，
-所述反射涂层的倒数第二个低折射率层具有至少300nm的厚度，
-所述反射涂层的倒数第二个高折射率层具有范围从5nm至20nm的厚度，
或者
b)所述反射涂层具有三个层，并且
-所述反射涂层的最外层是具有50nm或更小的厚度的低折射率层，
-所述反射涂层的倒数第二层是具有35nm或更小的厚度的高折射率层，
-所述反射涂层的第一层是具有至少250nm的厚度的低折射率层。
11.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，在可见光区域中所述至少一个主面上的平均光反射因数Rv大于或等于8％。
12.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述反射涂层具有小于或等于10的层数。
13.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述反射涂层具有范围从300nm至1μm的厚度。
14.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述具有大于1.55的折射率的高折射率层占所述反射涂层的厚度的小于20％。
15.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述具有大于1.55的折射率的高折射率层占所述反射涂层的厚度的小于15％。
16.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述反射涂层不包括任何具有大于或等于105nm的厚度的高折射率层。
17.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述光学制品是眼科镜片。
18.根据权利要求1或2所述的光学制品，其中，所述反射涂层具有至少一个包含Ti3O5的层。
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