CN113097278B - 显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供了一种显示面板及显示装置，涉及显示技术领域，降低提取结构出现倒角或脱离的风险。显示面板包括：衬底基板；阳极；像素定义层，像素定义层具有第一开口，阳极与第一开口交叠；位于第一开口内的发光层；阴极；位于阴极背向衬底基板一侧的光提取层，光提取层包括同层设置的提取结构和多个外延结构；提取结构与像素定义层交叠，外延结构与提取结构连通设置，且沿着远离外延结构的方向延伸，外延结构朝向衬底基板的下表面与提取结构朝向衬底基板的下表面平齐，外延结构在衬底基板上的正投影与第一开口的部分区域交叠；外延结构在垂直于衬底基板所在平面方向上的膜厚小于提取结构在垂直于衬底基板所在平面方向上的膜厚。

Description

显示面板及显示装置

【技术领域】

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示装置。

【背景技术】

有机电致发光二极管(Organic Electroluminescence Display，OLED)显示面板基于其高亮度、高效率、宽视角、自主发光等优良特性，得到了广泛应用。

在现有技术中，面板内通常设有如图1所示的光提取结构1＇，光提取结构1＇用以更大限度地将发光元件2＇发出的光提取出去，提高面板的出光效率。而为了使光提取结构1＇具有更好的聚光效果，光提取结构1＇的侧壁3＇与底面4＇之间通常需要具有较大的夹角θ＇，例如，θ＇可以为70°。但对于这种较大夹角θ＇，在光提取结构1＇的工艺制程中，光提取结构1＇的底部一旦发生过刻蚀，就容易出现图2所示的倒角。或者，光提取结构1＇上方膜层的形成材料一旦从光提取结构1＇的底部渗入，光提取结构1＇就容易发生翘起，进而与下方膜层脱离。

上述情况均会对光提取结构1＇的光提取效果产生不良影响，进而影响面板的出光效率。

【发明内容】

有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示面板及显示装置，降低提取结构出现倒角或是脱离的风险，提高面板的出光效率。

一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板的阳极；

位于所述阳极背向所述衬底基板一侧的像素定义层，所述像素定义层具有第一开口，所述阳极在所述衬底基板上的正投影与所述第一开口交叠；

位于所述阳极背向所述衬底基板一侧、且位于所述第一开口内的发光层；

位于所述像素定义层和所述发光层背向所述衬底基板一侧的阴极；

位于所述阴极背向所述衬底基板一侧的光提取层，所述光提取层包括同层设置的提取结构和多个外延结构；

其中，所述提取结构在所述衬底基板上的正投影与所述像素定义层在所述衬底基板上的正投影交叠，所述外延结构与所述提取结构连通设置，且沿着远离所述外延结构的方向延伸，所述外延结构朝向所述衬底基板的下表面与所述提取结构朝向所述衬底基板的下表面平齐，所述外延结构在所述衬底基板上的正投影与所述第一开口的部分区域交叠；

并且，所述外延结构在垂直于所述衬底基板所在平面方向上的膜厚小于所述提取结构在垂直于所述衬底基板所在平面方向上的膜厚。

另一方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括上述显示面板。

上述技术方案中的一个技术方案具有如下有益效果：

在本申请实施例中，通过增设与提取结构连通的外延结构，在光提取层的工艺制程中，可以利用外延结构将提取结构与刻蚀区域间隔开，使提取结构与刻蚀区域之间间隔有一段距离，在这种情况下，即使发生过刻蚀现象，也仅会多刻蚀掉一部分外延结构，而不会对提取结构造成影响，避免提取结构出现倒角，提取结构的侧壁和下表面之间的夹角仍为预设夹角，从而使其保持良好的聚光效果。而且，光提取层形成之后，外延结构也会将提取结构与光提取层所具有的镂空区域间隔开，即使光提取层背向衬底基板一侧的膜层的形成材料从光提取层的底部渗入，也会首先渗入外延结构的底部，而外延结构可以起到过渡和对形成材料拦截的作用，避免形成材料进一步渗入到提取结构的底部，从而降低提取结构翘起甚至脱离的风险。

此外，本发明实施例通过对外延结构的结构进行进一步改进，使外延结构在降低提取结构出现倒角、脱离风险的同时，还不会对正常显示产生较大影响。一方面，外延结构仅与第一开口的部分区域交叠，不会对第一开口进行全覆盖，通过覆盖面积的方式降低了外延结构对第一开口的出光的影响；另一方面，外延结构在垂直于衬底基板所在平面方向上的膜厚较小，光在外延结构中传输时的损耗较小；再一方面，基于外延结构与提取结构连通设置，且沿着远离外延结构的方向延伸的设置方式，当外延结构仅与第一开口的部分区域交叠时，外延结构仅会覆盖第一开口的边缘区域，而暴露第一开口的中间区域，由于边缘区域靠近第一开口与非开口区的交界，因此，即使由于外延结构覆盖边缘区域导致边缘区域亮度稍暗，该种亮度差异也难以被人眼识别。

【附图说明】

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为现有技术中光提取结构的结构示意图；

图2为现有技术中光提取结构的另一种结构示意图；

图3为现有技术中光提取结构的再一种结构示意图；

图4为本发明实施例所提供的显示面板的俯视图；

图5为图4沿A1-A2方向的剖视图；

图6为图4沿A1-A2方向的另一种剖视图；

图7为本发明实施例所提供的外延结构的一种结构示意图；

图8为本发明实施例所提供的外延结构的另一种结构示意图；

图9为本发明实施例所提供的外延结构的再一种结构示意图；

图10为本发明实施例所提供的外延结构的又一种结构示意图；

图11为图4沿A1-A2方向的再一种剖视图；

图12为本发明实施例所提供的外延结构的另一种结构示意图；

图13为本发明实施例所提供的外延结构的再一种结构示意图；

图14为本发明实施例所提供的外延结构的又一种结构示意图；

图15为本发明实施例所提供的外延结构的另一种结构示意图；

图16为本发明实施例所提供的外延结构的另一种结构示意图；

图17为本发明实施例所提供的外延结构的再一种结构示意图；

图18为本发明实施例所提供的减反射结构的结构示意图；

图19为本发明实施例所提供的显示装置的结构示意图。

【具体实施方式】

为了更好的理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。

应当明确，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。

应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

本发明实施例提供了一种显示面板，如图4和图5所示，图4为本发明实施例所提供的显示面板的俯视图，图5为图4沿A1-A2方向的剖视图，该显示面板包括：衬底基板1；位于衬底基板1的阳极2；位于阳极2背向衬底基板1一侧的像素定义层3，像素定义层3具有第一开口4，阳极2在衬底基板1上的正投影与第一开口4交叠；位于阳极2背向衬底基板1一侧、且位于第一开口4内的发光层5；位于像素定义层3和发光层5背向衬底基板1一侧的阴极6；位于阴极6背向衬底基板1一侧的光提取层7，光提取层7包括同层设置的提取结构8和多个外延结构9。

其中，提取结构8在衬底基板1上的正投影与像素定义层3在衬底基板1上的正投影交叠，外延结构9与提取结构8连通设置，且沿着远离外延结构9的方向延伸，外延结构9朝向衬底基板1的下表面与提取结构8朝向衬底基板1的下表面平齐，外延结构9在衬底基板1上的正投影与第一开口4的部分区域交叠。

并且，外延结构9在垂直于衬底基板1所在平面方向上的膜厚d1小于提取结构8在垂直于衬底基板1所在平面方向上的膜厚d2。

需要说明的是，请再次参见图5，光提取层7背向衬底基板1的一侧还设置高折射率层15，高折射率层15的折射率大于光提取层7的折射率。对于发光层5所发出的大角度的光，一部分大角度的光会透过提取结构8传输至提取结构8与高折射率层15之间的界面，在界面处发生折射，折射后的光趋于小角度传输，提高正视角下的出光亮度；而部分大角度的光则会直接透过高折射率层15传输至提取结构8与高折射率层15之间的界面，在界面处发生全反射，全反射后的光进一步透过高折射率层15射出面板，从而利用高折射率层15进一步提高显示面板的出光效率。

在本申请实施例中，通过增设与提取结构8连通的外延结构9，在光提取层7的工艺制程中，可以利用外延结构9将提取结构8与刻蚀区域间隔开，使提取结构8与刻蚀区域之间间隔有一段距离，在这种情况下，即使发生过刻蚀现象，也仅会多刻蚀掉一部分外延结构9，而不会对提取结构8造成影响，避免提取结构8出现倒角，提取结构8的侧壁和下表面之间的夹角仍为预设夹角，从而使其保持良好的聚光效果。而且，光提取层7形成之后，外延结构9也会将提取结构8与光提取层7所具有的镂空区域间隔开，即使光提取层7背向衬底基板1一侧的膜层的形成材料从光提取层7的底部渗入，也会首先渗入外延结构9的底部，而外延结构9可以起到过渡和对形成材料拦截的作用，避免形成材料进一步渗入到提取结构8的底部，从而降低提取结构8翘起甚至脱离的风险。

此外，本发明实施例通过对外延结构9的结构进行进一步改进，使外延结构9在降低提取结构8出现倒角、脱离风险的同时，还不会对正常显示产生较大影响。一方面，外延结构9仅与第一开口4的部分区域交叠，不会对第一开口4进行全覆盖，通过减小覆盖面积的方式降低了外延结构9对第一开口4的出光的影响；另一方面，外延结构9在垂直于衬底基板1所在平面方向上的膜厚较小，光在外延结构9中传输时的损耗较小；再一方面，基于外延结构9与提取结构8连通设置，且沿着远离外延结构9的方向延伸的设置方式，当外延结构9仅与第一开口4的部分区域交叠时，外延结构9仅会覆盖第一开口4的边缘区域，而暴露第一开口4的中间区域，由于边缘区域靠近第一开口4与非开口区的交界，因此，即使由于外延结构9覆盖边缘区域导致边缘区域亮度稍暗，该种亮度差异也难以被人眼识别。

需要说明的是，基于目前的工艺能力，外延结构9远离提取结构8一侧的侧壁和外延结构9的下表面之间的角度可以小于90°，也可以等于90°，还可以大于90°。

在一种实施方式中，如图6所示，图6为图4沿A1-A2方向的另一种剖视图，显示面板还包括彩膜层22，彩膜层22位于阴极6与光提取层7之间。彩膜层22包括色阻23，色阻23在衬底基板1上的正投影与发光层5在衬底基板1上的正投影交叠，色阻23在衬底基板1上的正投影还与提取结构8和外延结构9在衬底基板1上的正投影交叠。

外界环境光射入面板后，被色阻22过滤掉与其色阻颜色不同的光后传输至阳极2并被阳极2反射，反射后的光发生周期性干涉，产生衍射条纹，进而导致在视觉上会呈现明显的彩虹纹，对用户的观影体验产生不良影响。而在本发明实施例中，光提取层7位于色阻22背向衬底基板1的一侧，由于外延结构9在垂直于衬底基板1所在平面方向上的膜厚小于提取结构8在垂直于衬底基板1所在平面方向上的膜厚，因此，外延结构9与提取结构8之间具有高度差，外延结构9与提取结构8会形成台阶状结构，这种台阶状结构会改变光的光程，从而改变到达色阻22的光的光程差，进而使反射后的光之间的光程差不再满足干涉条件，降低衍射，进而弱化显示面板的彩虹纹现象。或者，对于具有摄像功能的显示面板来说，当采用摄像组件等光学部件对外界环境光进行采集时，基于外延结构9的设置，也能有效弱化所成像中由衍射导致的星芒现象，优化成像效果。

进一步地，还可以调整不同出光颜色的第一开口4处的外延结构9的膜厚，使不同出光颜色的第一开口4处的外延结构9的膜厚不同，从而对不同颜色的光的光程进行不同程度的调整，更大程度地改善由衍射导致的色分离现象。

在一种实施方式中，如图7所示，图7为本发明实施例所提供的外延结构的一种结构示意图，外延结构9为沿第一开口4的边缘环绕一圈的封闭结构，此时，外延结构9可以对提取结构8进行全方位保护，将提取结构8的任意位置均与光提取层7的刻蚀区域(镂空区域)间隔开，更大程度地降低提取结构8出现倒角、翘起甚至脱离的风险。

而且，外延结构9环绕第一开口4一圈设置，外延结构9对第一开口4的边缘区域各个位置的遮挡程度一致，边缘区域不同位置的出光亮度均一，优化了显示效果。

或者，在另一种实施方式中，为如图8所示，图8为本发明实施例所提供的外延结构9的另一种结构示意图，各外延结构9包括多个子外延结构30，多个子外延结构30沿着第一开口4的边缘排列。在该种设置方式中，多个子外延结构30之间相互独立，底部互不连通，即使高折射率层15的形成材料渗入到某个子外延结构30的底部导致该子外延结构30翘起，该子外延结构30翘起后也不会带动其它的子外延结构30翘起，此时，仍能利用其它未翘起的子外延结构30对高折射率层15的形成材料进行有效拦截，避免其进一步渗入提取结构8底部。

进一步地，多个子外延结构30等间距排列，即，相邻两个子外延结构30之间的间距相同，以提高边缘区域的出光亮度的均一性。

在一种实施方式中，如图9所示，图9为本发明实施例所提供的外延结构9的再一种结构示意图，外延结构9在外延方向(图中以箭头x进行示意)上的长度和与其交叠的第一开口4在该外延方向上的长度正相关，外延方向为外延结构9背向提取结构8的延伸方向。

以图9所示的第一开口4的形状为矩形为例，第一开口4包括沿第一方向延伸的第一边缘16和沿第二方向延伸的第二边缘17，第一边缘16的长度大于第二边缘17的长度。外延结构9包括第一外延部18和第二外延部19，第一外延部18的延伸方向为第一方向，第二外延部19的延伸方向为第二方向，第一外延部18在其外延方向上的长度大于第二外延部19在其外延方向上的长度。

若外延结构9在其外延方向上的长度过小，外延结构9对提取结构8脱离等问题的改善效果不明显，提取结构8仍存在较大的出现倒角或脱离的风险，而若外延结构9在其外延方向上的长度过大，外延结构9又会对第一开口4造成较大程度地遮挡。因此，通过令外延结构9在其外延方向上的长度和第一开口4在该外延方向上的长度正相关，当第一开口4在外延方向上的长度较大时，即使适当增大外延结构9的长度以更大程度地避免提取结构8出现倒角或脱离，也仍能保证第一开口4在该外延方向上具有较长的未被外延结构9遮挡的区域。而当第一开口4在该外延方向上的长度较小时，相应地，可以适当减小外延结构9的长度，避免第一开口4在该外延方向上被遮挡过多。

在一种实施方式中，如图10所示，图10为本发明实施例所提供的外延结构9的又一种结构示意图，外延结构9在外延方向上的长度和与其交叠的第一开口4的面积正相关，外延方向为外延结构9背向提取结构8的延伸方向。

在显示面板中，不同颜色的子像素对应的第一开口4的面积可能有所不同。以显示面板包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素为例，受发光层5发光材料的特性的影响，蓝色子像素的寿命衰减较快。因此，可以增大蓝色子像素的第一开口4的面积，以减小电流密度，从而使蓝色子像素的寿命衰减速率和红色子像素、绿色子像素的寿命衰减速率趋于一致。

此时，可以根据第一开口4的面积大小，对不同位置的外延结构9在外延方向上的长度进行差异化设计。当第一开口4的面积较大时，可以适当增大与该第一开口4交叠的外延结构9的长度，以更大程度地避免提取结构8出现倒角或脱离，此时，第一开口4仍具有较大的未被外延结构9遮挡的区域。而当第一开口4的面积较小时，相应地，可以适当减小与该第一开口4交叠的外延结构9的长度，避免第一开口4被遮挡过多。

在一种实施例中，如图11所示，图11为图4沿A1-A2方向的再一种剖视图，显示面板还包括第一绝缘层20，第一绝缘层20位于光提取层7朝向衬底基板1的一侧，第一绝缘层20具有多个第二开口21，外延结构9的部分凹陷在第二开口21内。其中，第一绝缘层20可以为封装层、缓冲层、或是触控电极之间的绝缘层等膜层。

通过令外延结构9凹陷在第二开口21内，一方面，第二开口21的侧壁和这部分外延结构9紧密贴合，高折射率层15的形成材料不易渗入这部分外延结构9的底部，而且，这部分外延结构9也不易发生翘起。另一方面，即使高折射率层15的形成材料渗入到了第二开口21内，由于第二开口21呈凹陷状，因此，这部分形成材料仅会积聚在第二开口21的底部，难以进一步漫延至提取结构8底部。因此，上述设置方式能够对高折射率层15的形成材料进行更有效地拦截，更大程度地降低提取结构8翘起甚至脱离的风险。

进一步地，请再次参见图11，第二开口21为不贯穿第一绝缘层20的凹槽。相较于将第二开口21设置为通孔结构，第二开口21为凹槽时，沉积在第二开口21内的外延结构9厚度较小，不会对第一开口4的出光造成较大的损耗。

在一种实施方式中，请再次参见图5，外延结构9在垂直于衬底基板1所在平面方向上的膜厚为d1，提取结构8在垂直于衬底基板1所在平面方向上的膜厚为d2，可以令d1和d2满足：

此时，外延结构9的膜厚远小于提取结构8的膜厚，不仅更大程度地减小了光在外延结构9内部传输时的损耗，而且，外延结构9与提取结构8之间具有更大的高度差，外延结构9与提取结构8之间这种更大的膜厚突变会更大程度地改变到达色阻22的光的光程差，进而更大程度的降低衍射。

或者，在另一种实施方式中，外延结构9在垂直于衬底基板1所在平面方向上的膜厚为d1，可以令d1满足：d1≤1μm。此时，外延结构9的膜厚在可见光的波长以下，外延结构9具有纳米薄膜的光学特性，外延结构9的透光率大幅提升，更大程度地弱化了外延结构9对第一开口4的出光的影响。

在一种实施方式中，如图12所示，图12为本发明实施例所提供的外延结构9的另一种结构示意图，沿外延方向(图中以箭头x进行示意)，外延结构9在垂直于衬底基板1所在平面方向上的膜厚逐渐减小。

基于上述设置方式，外延结构9在远离提取结构8的位置处具有较小膜厚，而靠近提取结构8的位置处具有较大膜厚。随着外延结构9的延伸，外延结构9中远离提取结构8的位置就更趋于对第一开口4的中间区域进行遮挡，而通过令外延结构9在远离提取结构8的位置处膜厚较小，可以降低外延结构9对第一开口4的中间区域射出的光的损耗，弱化对第一开口4中间区域的出光的影响。而通过令外延结构9在靠近提取结构8的位置处具有较大膜厚，一方面，该位置处的外延结构9的自身重力较大，能够对渗入的高折射率层15的形成材料起到更显著的拦截作用，避免形成材料进一步向内渗入；另一方面，该位置处的外延结构9仅对第一开口4的边缘区域进行遮挡，而由于边缘区域靠近第一开口4与非开口区的交界，即使此处外延结构9膜厚较大，对光的作用程度稍大一些，边缘区域所具有的亮度差异也难以被人眼识别。

进一步地，请再次参见图12，沿外延方向，外延结构9在垂直于衬底基板1所在平面方向上的膜厚呈线性减小，此时，外延结构9对光的作用程度也是呈线性减小的，第一开口4的中间区域朝向边缘区域的出光亮度在外延结构9的作用下进行均匀、柔和的渐变，更不易被人眼识别。

在一种实施方式中，如图13所示，图13为本发明实施例所提供的外延结构9的再一种结构示意图，外延结构9远离衬底基板1一侧的表面为不平整表面，也即外延结构9远离衬底基板1一侧的表面为粗糙表面。其中，该不平整表面的表面起伏可在纳米级别。

外界环境光射入面板后，即使部分环境光会被外延结构9反射回去，也会在外延结构9的不平整表面的作用下发生漫反射，反射后的光沿不同方向进行无规则传输，降低外界环境光被人眼可见的风险。而且，当外延结构9仅与第一开口4的部分区域交叠时，外延结构9位于第一开口4的边缘区域，这时，发光层5所发出的部分大角度的光可能会透过外延结构9射出去，将外延结构9的上表面设置为不平整表面后，不平整表面可以对部分大角度的光的光路进行一定程度的调整，使其转换为小角度的光，从而实现聚光作用，进一步提高面板的出光效率。

在一种实施例中，如图14和图15所示，图14为本发明实施例所提供的外延结构9的又一种结构示意图，图15为本发明实施例所提供的外延结构9的另一种结构示意图，外延结构9包括朝向显示面板的出光方向凸出的多个凸起部24。其中，凸起部24可以为半球体、椎体或立方体等结构，多个凸起部24远离衬底基板1一侧的表面构成了外延结构9远离衬底基板1一侧的表面，该表面为不平整表面。

此外，请再次参见图14和图15，当外延结构9位于色阻23背向衬底基板1的一侧时，外延结构9除了与提取结构8之间具有高度差以外，外延结构9自身结构也具有一定的厚度差，该种厚度差也可以改变到达色阻22的光的光程差，打破反射光的干涉，从而进一步弱化显示面板的彩虹纹现象。

尤其地，当凸起部24呈图14所示的这种台阶状结构时，不同凸起部24之间的膜厚突变，对光程差的改变程度更大，因而对彩虹纹现象的改善效果也更显著。

需要说明的是，外延结构9中的多个凸起部24可以利用半透掩膜板实现，也可以利用多个膜层的叠加实现。

进一步地，请再次参见图14和图15，在任意两个凸起部24中，一个凸起部24为第一凸起部25，另一个凸起部24为第二凸起部26，第一凸起部25位于第二凸起部26远离提取结构8的一侧，第一凸起部25在垂直于衬底基板1所在平面方向上的最大膜厚小于第二凸起部26在垂直于衬底基板1所在平面方向上的最大膜厚。

第一凸起部25位于第二凸起部26远离提取结构8的一侧，因而第一凸起部25更趋向于与第一开口4的中间区域交叠，而第二凸起部26更趋向于与第一开口4的边缘区域交叠。通过令第一开口4的膜厚较小，可以降低外延结构9对第一开口4的中间区域射出的光的作用程度，弱化对第一开口4中间区域的出光的影响。而令第二凸起部26的膜厚较大，一方面，第二凸起部26自身重力较大，能够对渗入的高折射率层15的形成材料起到更显著的拦截作用，更大程度地避免形成材料进一步向提取结构8的底部渗入；另一方面，第二凸起部26趋于对第一开口4的边缘区域进行遮挡，而由于边缘区域靠近第一开口4与非开口区的交界，即使第二凸起部26膜厚较大，对光的作用程度稍大一些，边缘区域所具有的亮度差异也难以被人眼识别。因此，采用该种设置方式，在利用外延结构9有效降低提取结构8出现倒角、翘起或脱离风险的同时，还避免外延结构9对正常显示造成大的影响。

进一步地，为更大程度地改变到达色阻23的光的光程差，进而更大程度地弱化衍射现象，多个凸起部24可呈不规则排布。具体地，如图16所示，图16为本发明实施例所提供的外延结构9的另一种结构示意图，多个凸起部24非等间距排列。或者，如图17所示，图17为本发明实施例所提供的外延结构9的再一种结构示意图，至少存在两个凸起部24的尺寸不同。其中，凸起部24的尺寸可以理解为凸起部24在与衬底基板1所在平面平行的任一方向上的长度。

在一种实施例中，如图18所示，图18为本发明实施例所提供的减反射结构的结构示意图，光提取层7还包括与提取结构8、外延结构9同层设置的减反射结构27，减反射结构27可以与外延结构9连通设置，减反射结构27远离衬底基板1一侧的表面为不平整表面；减反射结构27在衬底基板1上的正投影与第一开口4交叠，并且，减反射结构27在垂直于衬底基板1所在平面方向上的膜厚小于提取结构8在垂直于衬底基板1所在平面方向上的膜厚。

如此设置，一方面，进一步利用了减反射结构27粗糙表面的漫反射效应，更大程度地降低外界环境光被人眼可见的风险；另一方面，当提取结构8、外延结构9和减反射结构27设置在色阻23远离衬底基板1的一侧时，减反射结构27自身结构所具有的厚度差可以对更多数量的射入色阻23的外界环境光的光程进行调整，进而更大程度地降低衍射现象。

进一步地，为了对更大区域射入的外界环境光起到减反射效果，请再次参见图18，减反射结构27和外延结构9在衬底基板1上的正投影覆盖第一开口4，并且，减反射结构27和外延结构9在衬底基板1上的正投影互不交叠。

需要说明的是，为简化面板的工艺流程，减反射结构27可与外延结构9、提取结构8采用同一构图工艺形成。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，如图19所示，图19为本发明实施例所提供的显示装置的结构示意图，该显示装置包括上述显示面板100。其中，显示面板100的具体结构已经在上述实施例中进行了详细说明，此处不再赘述。当然，图19所示的显示装置仅仅为示意说明，该显示装置可以是例如手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书或电视机等任何具有显示功能的电子设备。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明保护的范围之内。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (20)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板的阳极；

位于所述阳极背向所述衬底基板一侧的像素定义层，所述像素定义层具有第一开口，所述阳极在所述衬底基板上的正投影与所述第一开口交叠；

位于所述阳极背向所述衬底基板一侧、且位于所述第一开口内的发光层；

位于所述像素定义层和所述发光层背向所述衬底基板一侧的阴极；

位于所述阴极背向所述衬底基板一侧的光提取层，所述光提取层包括同层设置的提取结构和多个外延结构；

其中，所述提取结构在所述衬底基板上的正投影与所述像素定义层在所述衬底基板上的正投影交叠，所述外延结构与所述提取结构连通设置，且所述外延结构沿着远离所述提取结构的方向延伸，所述外延结构朝向所述衬底基板的下表面与所述提取结构朝向所述衬底基板的下表面平齐，所述外延结构在所述衬底基板上的正投影与所述第一开口的部分区域交叠，所述外延结构覆盖所述第一开口的边缘区域，暴露所述第一开口的中间区域；

并且，所述外延结构在垂直于所述衬底基板所在平面方向上的膜厚小于所述提取结构在垂直于所述衬底基板所在平面方向上的膜厚；

所述显示面板还包括第一绝缘层，所述第一绝缘层位于所述光提取层朝向所述衬底基板的一侧，所述第一绝缘层具有多个第二开口，所述外延结构的部分凹陷在所述第二开口内。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：

彩膜层，所述彩膜层位于所述阴极与所述光提取层之间，所述彩膜层包括色阻，所述色阻在所述衬底基板上的正投影与所述发光层在所述衬底基板上的正投影交叠，所述色阻在所述衬底基板上的正投影还与所述提取结构和所述外延结构在所述衬底基板上的正投影交叠。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述外延结构为沿所述第一开口的边缘环绕一圈的封闭结构。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

各所述外延结构包括多个子外延结构，多个所述子外延结构沿着所述第一开口的边缘排列。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，

多个所述子外延结构等间距排列。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述外延结构在外延方向上的长度和与其交叠的所述第一开口在该外延方向上的长度正相关，所述外延方向为所述外延结构背向所述提取结构的延伸方向。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述外延结构在外延方向上的长度和与其交叠的所述第一开口的面积正相关，所述外延方向为所述外延结构背向所述提取结构的延伸方向。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述第二开口为不贯穿所述第一绝缘层的凹槽。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述外延结构在垂直于所述衬底基板所在平面方向上的膜厚为d1，所述提取结构在垂直于所述衬底基板所在平面方向上的膜厚为d2，

10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述外延结构在垂直于所述衬底基板所在平面方向上的膜厚为d1，d1≤1μm。

11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

沿外延方向，所述外延结构在垂直于所述衬底基板所在平面方向上的膜厚逐渐减小，所述外延方向为所述外延结构远离所述提取结构的延伸方向。

12.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，

沿所述外延方向，所述外延结构在垂直于所述衬底基板所在平面方向上的膜厚呈线性减小。

13.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述外延结构远离所述衬底基板一侧的表面为不平整表面。

14.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述外延结构包括朝向显示面板的出光方向凸出的多个凸起部。

15.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，

在任意两个所述凸起部中，一个所述凸起部为第一凸起部，另一个所述凸起部为第二凸起部，所述第一凸起部位于所述第二凸起部远离所述提取结构的一侧，所述第一凸起部在垂直于所述衬底基板所在平面方向上的最大膜厚小于所述第二凸起部在垂直于所述衬底基板所在平面方向上的最大膜厚。

16.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，

多个所述凸起部非等间距排列。

17.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，

至少存在两个所述凸起部的尺寸不同。

18.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述光提取层还包括与所述提取结构、所述外延结构同层设置的减反射结构，所述减反射结构远离所述衬底基板一侧的表面为不平整表面；

所述减反射结构在所述衬底基板上的正投影与所述第一开口交叠，并且，所述减反射结构在垂直于所述衬底基板所在平面方向上的膜厚小于所述提取结构在垂直于所述衬底基板所在平面方向上的膜厚。

19.根据权利要求18所述的显示面板，其特征在于，

所述减反射结构和所述外延结构在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一开口，并且，所述减反射结构和所述外延结构在所述衬底基板上的正投影互不交叠。

20.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～19任一项所述的显示面板。

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