CN111584573B - Oled显示面板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请提供了一种OLED显示面板及其制备方法，本申请中OLED显示面板包括发光器件层、TFT器件层以及色阻层，其中，TFT器件层及色阻层均位于发光器件层的出光侧，色阻层用于对发光器件的出射光进行色彩过滤，以及用于隔离环境光，代替了底发射OLED器件中抗反射膜，提高了整个OLED器件的发光强度，改善OLED显示面板的工作环境，色阻层面向TFT器件层的一侧设置有用于隔绝色阻材料入侵发光器件层的间隔层，避免了色阻层中有机物质溢出，解决OLED器件的老化失效的问题，另外色阻层靠近发光器件层一侧设置有凹面，增大发光器件层的出射光的出射角度，提升OLED显示面板的显示品质。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种OLED显示面板及其制备方法。
背景技术
OLED器件因其较传统LCD相比具有重量轻巧，广视角，响应时间快，耐低温，发光效率高等优点，因此在显示行业一直被视其为下一代新型显示技术。
对于底发射的OLED显示面板而言，受OLED材料的发光水平限制，需要采用彩色滤光片进行了滤色，才能显示出适宜的光色，具备一定的视角，由于底发射的OLED器件结构使大部分TFT朝向实际观测者，导致外界光很大的反光，需在发光侧添加可使OLED光源发光强度减少近50％多的抗反射膜，对本身发光强度就不高的OLED材料是一个巨大的损失。具体现有OLED器件结构如图1和图2所示，OLED显示面板100包括抗反射膜101、设于抗反射膜101表面的阵列基板102，其中，阵列基板102包括TFT器件层和位于TFT器件层1021表面的平坦化层1022，TFT器件层1021和平坦化层1022之间设置有色阻层103，色阻层103包括红色色阻1031、绿色色阻1032以及蓝色色阻1033，平坦化层1022设置有发光层104，发光层104表面设置有封装层105，其中，发光层104包括像素定义层1041、位于像素定义层1041形成是的开口区中阳极层1042、发光单元1043以及阴极层1044，由于OLED显示面板100为底发射，发光层104出射光线S1要穿过阵列基板102时，部分外界光S2和部分外界光S3很大的反光也会散射到阵列基板102，这样一来就会出射光线S1会发生混色，需要添加抗反射膜101，抗反射膜101使发光层103出射光线强度减少近50％，对本身发光强度就不高的OLED材料是一个巨大的损失。
综上所述，需要设计出一种OLED显示面板及其制备方法，以解决现有技术中底发射的OLED器件结构使大部分TFT朝向实际观测者，导致外界光反光干扰，在发光侧添加抗反射膜后，导致OLED光源发光强度减少近50％多，对本身发光强度就不高的OLED材料是一个巨大的损失的技术问题。
申请内容
本申请提供一种显示面板及其制备方法，能够解决现有技术中底发射的OLED器件结构使大部分TFT朝向实际观测者，导致外界光反光干扰，在发光侧添加抗反射膜后，导致OLED光源发光强度减少近50％多，对本身发光强度就不高的OLED材料是一个巨大的损失的技术问题。
本申请提供一种OLED显示面板，包括：发光器件层；TFT器件层，位于所述发光器件层的出光侧；以及色阻层，所述色阻层位于所述TFT器件层的出光侧，用于对发光器件的出射光进行色彩过滤，以及隔离环境光。
根据本申请一优选实施例，所述色阻层面向所述TFT器件层的一侧设置有用于隔绝色阻材料入侵所述发光器件层的间隔层。
根据本申请一优选实施例，所述间隔层为玻璃基板。
根据本申请一优选实施例，所述色阻层形成在所述玻璃基板表面，所述玻璃基板表面设置有覆盖所述色阻层的封装层。
根据本申请一优选实施例，所述封装层包括第一无机层、第二无机层以及位于所述第一无机层和所述第二无机层之间的有机层，所述第一无机层靠近所述色阻层设置。
根据本申请一优选实施例，所述色阻层靠近所述发光器件层一侧设置有凹面，以增大所述发光器件层的出射光出射角度。
根据本申请一优选实施例，所述色阻层的材料为钙钛矿墨水。
根据本申请一优选实施例，发光器件层还包括若干呈阵列排布的三原色发光器件，所述色阻层包括与所述三原色发光器件相对应设置的三原色色阻。
根据本申请一优选实施例，所述TFT器件层包括衬底、设置于所述衬底上的缓冲层、设置于所述缓冲层上的多个薄膜晶体管、以及设置于多个所述薄膜晶体管上的平坦化层，所述平坦化层上设置有过孔；所述发光器件层包括位于所述平坦化层表面的阳极、位于所述阳极表面发光层、位于所述发光层表面的阴极，其中，所述阳极通过所述过孔与所述薄膜晶体管中漏极电性连接。
依据上述显示面板，本申请还提供一种显示面板制备方法，所述方法包括：
S101，提供一玻璃基板，在该玻璃基板表面制备TFT器件层，倒置所述玻璃基板和所述TFT器件层，在所述玻璃基板远离所述TFT器件层一侧制备色阻层；
S102，再次倒置所述色阻层、所述玻璃基板和所述TFT器件层，在所述TFT器件层远离所述色阻层一侧制备发光器件层。
本申请提供了一种OLED显示面板及其制备方法，本申请中OLED显示面板包括发光器件层、TFT器件层以及色阻层，其中，TFT器件层及色阻层均位于发光器件层的出光侧，色阻层用于对发光器件的出射光进行色彩过滤，以及用于隔离环境光，代替了底发射OLED器件中抗反射膜，提高了整个OLED器件的发光强度，改善OLED显示面板的工作环境，色阻层面向TFT器件层的一侧设置有用于隔绝色阻材料入侵发光器件层的间隔层，避免了色阻层中有机物质溢出，解决OLED器件的老化失效的问题，另外色阻层靠近发光器件层一侧设置有凹面，增大发光器件层的出射光的出射角度，提升OLED显示面板的显示品质。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中一种OLED显示面板结构示意图。
图2为现有技术中一种OLED显示面板中色阻层位置示意图。
图3为本申请提供一种OLED显示面板结构示意图。
图4为本申请提供一种OLED显示面板中色阻层位置示意图。
图5为本申请提供一种OLED显示面板色阻层另一结构示意图。
图6为本申请提供一种OLED显示面板制备流程示意图。
图7至12为本申请提供一种OLED显示面板制备工艺过程中结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示，图中虚线表示在结构中并不存在的，仅仅说明结构的形状和位置。
针对现有技术中底发射的OLED器件结构使大部分TFT朝向实际观测者，导致外界光反光干扰，在发光侧添加抗反射膜后，导致OLED光源发光强度减少近50％多，对本身发光强度就不高的OLED材料是一个巨大的损失的技术问题，本实施例能解决该问题。
如图3所示，本申请提供一种OLED显示面板200，该OLED显示面板200包括：发光器件层205；TFT器件层204，位于发光器件层205的出光侧；以及色阻层202，位于发光器件层205的出光侧，用于对发光器件204的出射光进行色彩过滤，以及隔离环境光。
具体地，本实施例中色阻层202面向TFT器件层204的一侧设置有用于隔绝色阻材料入侵发光器件层205的间隔层203，TFT器件层204包括TFT层2041和平坦化层2042，TFT层2041位于间隔层203表面，平坦化层2042位于TFT层2041表面，平坦化层2042表面制备有阳极层2052，阳极层2052表面制备有发光层1043，参考图4。TFT层2041包括衬底、设置于衬底上的缓冲层、设置于缓冲层上的多个薄膜晶体管。多个薄膜晶体管表面设置有平坦化层2042，平坦化层2042上设置有过孔。间隔层203优选为玻璃基板，间隔层203还可以为透明的塑料基板，间隔层203的厚度大于或等于3μm，色阻层202形成在间隔层203表面，色阻层202具有红色色阻2021、绿色色阻2022以及蓝色色阻2023，红色色阻2021、绿色色阻2022以及蓝色色阻2023靠近发光器件层205一侧为平面。间隔层203表面设置有覆盖色阻层202的封装层201，封装层201和间隔层203形成隔绝水汽和氧气容纳腔，红色色阻2021、绿色色阻2022以及蓝色色阻2023通过喷墨打印的方式相邻且间隔设置在容纳腔中，红色色阻2021、绿色色阻2022以及蓝色色阻2023的材料优选为钙钛矿墨水，封装层201包括第一无机层、第二无机层以及位于第一无机层和第二无机层之间的有机层，第一无机层靠近色阻层设置，有利于红色色阻2021、绿色色阻2022以及蓝色色阻2023的排列，封装层201的材料为透明材料，有利于扩大从色阻层202出射光线的亮度和视角，避免了色阻层202中有机物质溢出，导致加速OLED器件的老化失效的问题。
TFT层2041包括衬底，设置于衬底上的缓冲层；设置于缓冲层上的多个TFT，该TFT包括制备于缓冲层上的有源层、制备于有源层上的栅绝缘层、以及制备于栅绝缘层上的栅极；制备于缓冲层上的层间绝缘层，制备于层间绝缘层上源极和漏极，制备于层间绝缘层上平坦化层2042。层间绝缘层覆盖遮光层、缓冲层、有源层、栅绝缘层和栅极。遮光层在衬底上的正投影覆盖沟道在衬底上的正投影，从而使遮光层能够对沟道进行完全遮盖，防止有源层受到光线照射，避免了薄膜晶体管阈值电压产生负漂，提升薄膜晶体管的工作稳定性。发光器件层205位于TFT器件层204远离色阻层202一侧，包括阳极层2052以及位于阳极2052上方的像素定义层2051，像素定义层2051分离设置形成像素开口，在像素开口中，发光层2053平铺在阳极层2052上，阴极层2054平铺在发光层2053上。阳极2052通过过孔与薄膜晶体管中漏极电性接触，该薄膜晶体管中源极与外接电源的正极相连，外接电源的负极通过绑定区，将相应电性号传递到电源走线层，最后电源走线层将相应电性号传递到显示区中阴极层2054，当外接电源正负两极为2V至10V的直流电压时，阳极层2052产生空穴，阴极层2054产生电子，在发光层2053相遇，电子和空穴分别带负电和正电，它们相互吸引，激发发光层2053中有机材料发光，以实现OLED显示面板200的正常工作，本实施例中阳极2052与发光层2053之间还设置空穴传输层，发光层2053与阴极层2054之间还设置电子传输层，空穴传输层和电子传输层提高发光层2053的发光效率，通过控制外接电源电压的大小，可调整发光层2053发光亮度，电压越大，亮度越高，反之越暗。当输入电压时，空穴传输层与阴极层电荷就会在发光层中结合而发光，依其不同的配方，可产生红、绿、蓝(R、G、B)三原色，构成基本色彩。本实施例中发光器件层205还包括若干呈阵列排布的三原色发光器件，色阻层包括与三原色发光器件相对应设置的三原色色阻，三原色发光器件为红光OLED、绿光OLED、及蓝光OLED，三原色色阻包括红色色阻2021、绿色色阻2022以及蓝色色阻2023，其中，红光OLED与红色色阻2021对位设置，绿光OLED与绿色色阻2022对位设置，蓝光OLED与蓝色色阻2023对位设置。保护盖板206包括黑色矩阵2062以及位于黑色矩阵2062表面的硬涂层2061。
发光层2053出射光线S4要穿过TFT器件层204后，色阻层202对光线S4进行色彩过滤，形成纯净光线，外界光S5和外界光S6入射到色阻层202时，很少一部分外界光S5和外界光S6被色阻层202吸收，大部分外界光S5和外界光S6在色阻层202上发生全反射，达到隔离环境光的效果，避免出射光线S4发生混色，提高了整个OLED显示面板200的发光强度，色阻层202代替了抗反射膜，改善OLED显示面板200的工作环境。
如图5所示，本申请提供一种OLED显示面板200中色阻层202另一结构示意图，本实施中色阻层202具有红色色阻2021、绿色色阻2022以及蓝色色阻2023，红色色阻2021、绿色色阻2022以及蓝色色阻2023靠近发光器件层205一侧设置有凹面，以使发光器件层205的出射光透凹面后，增大出射光的出射角度，增加OLED显示面板200出光的强度和视角，提升OLED显示面板200的显示品质，其他的结构跟图2相同，此处不再赘述。
依据上述OLED显示面板，本申请还提供一种OLED显示面板制备方法，如图6所示，OLED显示面板制备方法包括：
S101，提供一玻璃基板，在该玻璃基板表面制备TFT器件层，倒置所述玻璃基板和所述TFT器件层，在所述玻璃基板远离所述TFT器件层一侧制备色阻层。
S102，再次倒置所述色阻层、所述玻璃基板和所述TFT器件层，在所述TFT器件层远离所述色阻层一侧制备发光器件层。
具体地，如图7所示，在间隔层203表面制备TFT器件层204，本实施例中间隔层203优选为玻璃基板，TFT器件层204包括包括衬底，设置于衬底上的缓冲层；设置于缓冲层上的多个薄膜晶体管；设置于多个薄膜晶体管上的平坦化层，且平坦化层上设置有过孔，该TFT包括制备于缓冲层上的有源层、制备于有源层上的栅绝缘层、以及制备于栅绝缘层上的栅极；制备于缓冲层上的层间绝缘层，制备于层间绝缘层上源极和漏极，制备于层间绝缘层上平坦化层2031。层间绝缘层覆盖遮光层、缓冲层、有源层、栅绝缘层和栅极。如图8所示，倒置间隔层203和TFT器件层204，间隔层203位于TFT器件层204上方。如图9所示，在间隔层203远离TFT器件层204一侧制备色阻层202，色阻层202具有红色色阻2021、绿色色阻2022以及蓝色色阻2023，红色色阻2021、绿色色阻2022以及蓝色色阻2023靠近发光器件层205一侧为平面，在另一实施例中红色色阻2021、绿色色阻2022以及蓝色色阻2023靠近发光器件层205一侧为凹面。如图10所示，间隔层203表面设置有覆盖色阻层202的封装层201，封装层201包括第一无机层、第二无机层以及位于第一无机层和第二无机层之间的有机层，第一无机层靠近色阻层202设置。如图11所示，再次倒置封装层201、色阻层202、间隔层203和TFT器件层204，TFT器件层204位于最上方，封装层201位于最下方。如图12所示，在TFT器件层远离色阻层一侧制备发光器件层205。发光器件层205包括位于平坦化层表面的阳极2052和像素定义层2051、像素定义层2051分离设置形成像素开口，在像素开口中，发光层2053平铺在阳极层2052上，阴极层2054平铺在发光层2053上。阳极2052通过过孔与薄膜晶体管中漏极电性接触。发光器件层204表面还设置保护盖板206包括黑色矩阵2052以及位于黑色矩阵2052表面的硬涂层2051。
本申请提供了一种OLED显示面板及其制备方法，本申请中OLED显示面板包括发光器件层、TFT器件层以及色阻层，其中，TFT器件层及色阻层均位于发光器件层的出光侧，色阻层用于对发光器件的出射光进行色彩过滤，以及用于隔离环境光，代替了底发射OLED器件中抗反射膜，提高了整个OLED器件的发光强度，改善OLED显示面板的工作环境，色阻层面向TFT器件层的一侧设置有用于隔绝色阻材料入侵发光器件层的间隔层，避免了色阻层中有机物质溢出，解决OLED器件的老化失效的问题，另外色阻层靠近发光器件层一侧设置有凹面，增大发光器件层的出射光的出射角度，提升OLED显示面板的显示品质。
综上，虽然本申请已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (6)
1.OLED显示面板，其特征在于，包括：
发光器件层；
TFT器件层，位于所述发光器件层的出光侧；以及，
色阻层，位于所述TFT器件层的出光侧，用于对发光器件的出射光进行色彩过滤，以及隔离环境光；
其中，所述色阻层面向所述TFT器件层的一侧设置有用于隔绝色阻材料入侵所述发光器件层的间隔层，所述色阻层形成在所述间隔层表面，所述间隔层表面设置有覆盖所述色阻层的封装层，所述封装层的材料为透明材料，所述封装层包括第一无机层、第二无机层以及位于所述第一无机层和所述第二无机层之间的有机层，所述第一无机层靠近所述色阻层设置；
以及，所述色阻层靠近所述发光器件层一侧设置有凹面，以增大所述发光器件层的出射光出射角度；
所述色阻层与所述封装层之间形成有用于反射外界光的全反射界面。
2.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述间隔层为玻璃基板。
3.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述色阻层的材料为钙钛矿墨水。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，发光器件层还包括若干呈阵列排布的三原色发光器件，所述色阻层包括与所述三原色发光器件相对应设置的三原色色阻。
5.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述TFT器件层包括衬底、设置于所述衬底上的缓冲层、设置于所述缓冲层上的多个薄膜晶体管、以及设置于多个所述薄膜晶体管上的平坦化层，所述平坦化层上设置有过孔；所述发光器件层包括位于所述平坦化层表面的阳极、位于所述阳极表面发光层、位于所述发光层表面的阴极，其中，所述阳极通过所述过孔与所述薄膜晶体管中漏极电性连接。
6.一种显示面板制备方法，其特征在于，包括：
S101，提供一玻璃基板，在所述玻璃基板表面制备TFT器件层，倒置所述玻璃基板和所述TFT器件层，在所述玻璃基板远离所述TFT器件层一侧制备色阻层和覆盖所述色阻层的封装层；所述色阻层与所述封装层之间形成有用于反射外界光的全反射界面；
S102，再次倒置所述色阻层、所述玻璃基板和所述TFT器件层，在所述TFT器件层远离所述色阻层一侧制备发光器件层；
其中，所述封装层的材料为透明材料，所述封装层包括第一无机层、第二无机层以及位于所述第一无机层和所述第二无机层之间的有机层，所述第一无机层靠近所述色阻层设置；所述色阻层靠近所述发光器件层一侧设置有凹面，以增大所述发光器件层的出射光出射角度。
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