CN110620136B - 显示基板及包含其的显示面板 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种显示基板及包含其的显示面板。该显示基板包括显示结构层、位于显示结构层上的盖板、以及位于显示结构层和盖板之间的多个像素定义层以及防光窜扰层,多个像素定义层间隔设置于盖板的下表面,防光窜扰层环绕每一像素定义层设置,其中,防光窜扰层与显示结构层之间还设有反射部件,反射部件具有倾斜面,倾斜面用于反射显示结构层的光线入射到像素定义层。本申请通过设置反射部件具有倾斜面,能够将原先被防光窜扰层吸收的显示结构层发出的光线进行反射,将光线反射到显示结构层后,经显示结构层将光线再反射至像素定义层,从而可以大大提高显示结构层发出的光线的利用效率,从而大大提高整体电流效率。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板及包含其的显示面板。
背景技术
目前,大尺寸显示产品正在开发中的技术主要有QD-OLED、IJP OLED、 QDCF-LCD等技术,其中QD-OLED具有高分辨率、高色域、不具视角依赖性、可以应用到大型中型高色域高分辨率产品中。
在现有的QD-OLED的显示面板的设计中,由于QD(量子点)转换效率较低、蓝色发光层效率低,造成最终红色像素以及绿色像素的电流效率低,同时蓝色像素需经过散射粒子层和蓝色彩膜,蓝色像素最终电流效率也较低,像素电流效率低会造成最终像素电流高,从而导致显示面板的整体电流大,驱动电压增大、功耗增加。
因此,如何提高显示面板中电流效率是本领域有待解决的一个难题。
发明内容
本申请提供一种显示基板及包含其的显示面板,以提高像素电流效率,降低电流和功耗。
根据本申请实施例的第一方面,提供一种显示基板。所述显示基板包括显示结构层、位于所述显示结构层上的盖板、以及位于所述显示结构层和所述盖板之间的多个像素定义层以及防光窜扰层,多个所述像素定义层间隔设置于所述盖板的下表面,且与所述显示基板的子像素单元一一对应,所述防光窜扰层环绕每一所述像素定义层设置,其中,所述防光窜扰层与所述显示结构层之间还设有反射部件,所述反射部件具有倾斜面,所述倾斜面用于反射所述显示结构层的光线入射到所述像素定义层。
可选的,所述反射部件包括反射层,所述反射层靠近所述显示结构层的一侧形成有所述倾斜面,所述倾斜面的一端与所述像素定义层邻接,另一端向靠近所述显示结构层方向斜向延伸。
可选的,所述反射部件包括反射层和倾斜层,所述倾斜层位于所述防光窜扰层与所述反射层之间,所述倾斜层的厚度由靠近所述显示结构层的一端至远离所述显示结构层的一端逐渐增加,所述倾斜层的下表面与所述防光窜扰层所在的平面形成有一夹角θ,所述反射层覆设于所述倾斜层的下表面,以使所述反射层靠近所述显示结构层的一侧形成所述倾斜面。
可选的,所述夹角θ的取值范围为c/b*[1-(a+b)/(a+2b)]<tanθ<90°;其中,所述像素定义层的宽度为a,所述显示结构层的发光区域位于所述倾斜层上的正投影的宽度为b,所述像素定义层到所述显示结构层的距离为c。
可选的,所述倾斜层的材料为有机材料。
可选的,所述显示基板还包括光阻,所述光阻设于所述防光窜扰层下方,所述反射层覆设于所述光阻的表面。
可选的,所述反射层的材料为Al、Mo或ITO-Ag-ITO合金。
可选的,所述防光窜扰层为隔离墙。
可选的,所述显示基板的子像素单元包括绿色子像素单元、红色子像素单元、以及蓝色子像素单元,所述像素定义层相应包括绿色量子点层、红色量子点层、以及蓝色散射粒子层,所述绿色量子点层、红色量子点层、以及蓝色散射粒子层间隔设置于所述盖板的下表面,所述绿色量子点层与所述绿色子像素单元一一对应,所述红色量子点层与所述红色子像素单元一一对应,所述蓝色散射粒子层与所述蓝色子像素单元一一对应。
根据本申请实施例的第二方面,提供一种显示面板。所述显示面板包括如上所述的显示基板。
上述实施例的显示基板及包含其的显示面板,通过设置反射部件具有倾斜面,能够将原先被防光窜扰层吸收的显示结构层发出的光线进行反射,将光线反射到显示结构层后,经显示结构层将光线再反射至像素定义层,从而可以大大提高显示结构层发出的光线的利用效率,从而大大提高整体电流效率。
附图说明
图1是本申请的实施例1的显示基板的剖面结构示意图。
图2是本申请的实施例1的显示基板的俯视结构示意图。
图3是本申请的实施例2的显示基板的剖面结构示意图。
图4是本申请的实施例2的显示基板的局部剖面结构示意图。
图5(a)-图5(e)是实施例2的显示基板的倾斜层的制作方法的工艺流程图。
附图标记说明
显示基板 1
显示结构层 10
薄膜晶体管 11
缓冲层 111
有源层 112
层间绝缘层 113
栅极 114
钝化层 115
源极 116
漏极 117
发光器件 12
阳极 121
像素界定层 122
发光功能层 123
阴极 124
平坦化层 13
发光区域 14
盖板 20
像素定义层 30
绿色量子点层 31
红色量子点层 32
蓝色散射粒子层 33
防光窜扰层 40
反射部件 50
倾斜面 51
反射层 52
第一区域 521
第二区域 522
第三区域 523
倾斜部 526
竖直部 527
倾斜层 53
倾斜层的倾斜表面 531
光阻 60
基底 70
底板 71
遮光层 72
光刻胶 90
夹角 θ
像素定义层的宽度方向 W
具体实施方式
这里将详细地对示例性实施例进行说明,其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时,除非另有表示,不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反,它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置的例子。
在本申请使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的,而非旨在限制本申请。除非另作定义,本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请说明书以及权利要求书中使用的“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制,而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同,并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而且可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“多个”包括两个,相当于至少两个。在本申请说明书和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式,除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解,本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。
实施例1
请结合图1和图2以理解,本实施案例提供一种显示基板1及包含其的显示面板。
所述显示基板1包括显示结构层10、位于显示结构层10上的盖板20、以及位于显示结构层10和盖板20之间的多个像素定义层30以及防光窜扰层40,多个像素定义层30间隔设置于盖板20的下表面,且与显示基板1的子像素单元一一对应,防光窜扰层40环绕每一像素定义层30设置,其中,防光窜扰层 40与显示结构层10之间还设有反射部件50,反射部件50具有倾斜面51,倾斜面51用于反射显示结构层10的光线入射到像素定义层30。
这样,通过设置反射部件50具有倾斜面51,能够将原先被防光窜扰层40 吸收的显示结构层10发出的光线进行反射,将光线反射到显示结构层10后,经显示结构层10将光线再反射至像素定义层30,从而可以大大提高显示结构层 10发出的光线的利用效率,从而大大提高整体电流效率。在图1中,显示结构层10发出的光线的传递路径及反射路径均用箭头方向标示。
在本实施例中,反射部件50包括反射层52,反射层52直接设置于防光窜扰层40的下表面,反射层52靠近显示结构层10的一侧形成有倾斜面51,倾斜面51的一端与像素定义层30邻接,另一端向靠近显示结构层10方向斜向延伸。倾斜面51可以通过工艺对反射层52的厚度进行削减或者增厚而形成,但不限于此,也可以通过其他方式形成该倾斜面51。
较佳地,反射层52的材料为Al、Mo或ITO-Ag-ITO合金,而能够起到更好的反射作用。
显示基板1还包括光阻60,光阻60设于防光窜扰层40下方,反射层52覆设于光阻60的表面。这样,通过反射层52覆设于光阻60的表面,能够将原先被光阻60的侧面吸收的显示结构层10发出的光线进行反射,将光线反射到显示结构层10后,经显示结构层10将光线再反射至像素定义层30,从而可以大大提高显示结构层10发出的光线的利用效率,从而大大提高整体电流效率。
在本实施例中,显示面板应用于QD-OLED,防光窜扰层40为隔离墙。显示基板1的子像素单元包括红绿色子像素单元、红色子像素单元、以及蓝色子像素单元,像素定义层30相应包括绿色量子点层31、红色量子点层32、以及蓝色散射粒子层33,绿色量子点层31、红色量子点层32、以及蓝色散射粒子层 33间隔设置于盖板20的下表面,绿色量子点层31与所述绿色子像素单元一一对应,红色量子点层32与所述红色子像素单元一一对应,蓝色散射粒子层33 与所述蓝色子像素单元一一对应。显示结构层10发出的光线的颜色为蓝色,蓝色的光线通过绿色量子点层31发出绿色的光线;蓝色的光线通过红色量子点层 32发出红色的光线。
显示结构层10可以包括但不限于层叠的薄膜晶体管11以及发光器件12。其中,薄膜晶体管11包括有源层112、层间绝缘层113、栅极114、源极116、漏极117、以及钝化层115,漏极117和源极116均与有源层112连接。薄膜晶体管11还可以包括设置在基底70上的缓冲层111,薄膜晶体管11的其他膜层设置在缓冲层111上。其中,缓冲层111可以起到调节应力,中和电荷等作用。
发光器件12包括层叠设置的阳极121、像素界定层122、发光功能层123 以及阴极124。阴极124为透明阴极,阳极121为反射阳极。这样,通过设置反射阳极,能够在反射层52的倾斜面51将光线反射到反射阳极后,经反射阳极将光线再反射至像素定义层30,从而可以大大提高显示结构层10发出的光线的利用效率,从而大大提高整体电流效率。
薄膜晶体管11的漏极117与发光器件12的阳极121电连接。发光器件 12的发光功能层123包括发光层,还可以包括电子传输层、电子注入层、空穴传输层以及空穴注入层中的至少一层。
基于上述,显示结构层10还可以包括平坦化层13,平坦化层13设置在薄膜晶体管11和发光器件12之间,平坦化层13用于确保发光器件12发出的光均匀。
在本实施例中,显示基板1还包括位于显示结构层10下方的基底70。基底70包括底板71以及设置在底板71上的遮光层72。
在基底70上设置有走线(图中未显示),由于走线非常密集,因而易造成光干涉现象,直接影响成像效果的清晰与否。此处,对于走线的类型不进行限定,可以是栅线、数据线和控制线等。通过设置遮光层72,遮光层72可以对光进行遮挡,避免穿过走线,从而避免了走线密集引起的光干涉现象,在显示基板1应用于显示面板时,提高了显示面板的清晰度。在此基础上,对于遮光层 72的材料不进行限定,以能够遮光为准。遮光层72的材料可以是黑色树脂或金属等。由于基底70上设置的薄膜晶体管11和发光器件12在制备过程中需要经过高温处理,而金属可以耐高温,因而本申请的实施例优选遮光层72的材料为金属材料。
在工作时,发光功能层123发出的光线一部分直接经过像素定义层30转化成像素发光,一部分经过反射层52的倾斜面51反射至显示结构层10,再由显示结构层10中的反射阳极反射后经过像素定义层30转化成像素发光,另一部分由光阻60的表面的反射层52反射后经过像素定义层30转化成像素发光,通过本实施例的技术方案,原本被防光窜扰层40以及光阻60的侧面吸收的显示结构层10发出的光线均得到了有效利用,经过像素定义层30转化后出光量增加,提高了显示结构层10的光取出量,提高了最终的像素电流效率,降低了显示面板的电流及功耗。
如图2所示,通过在防光窜扰层40的下方设置反射层52,图2中原本被相邻两像素定义层30之间的防光窜扰层40吸收的显示结构层10发出的光线,通过反射层52的倾斜面51的反射能够反射至像素定义层30,从而像素定义层30 的有效出光量。
具体地,在图2中,沿像素定义层30的宽度方向W,像素定义层30的排列方式为:红色量子点层32、蓝色散射粒子层33、绿色量子点层31、蓝色散射粒子层33,并以此循环。沿像素定义层30的宽度方向W,位于相邻的红色量子点层32和绿色量子点层31之间的反射层52的第一区域521能够将其下方显示结构层10发出的光线反射后进入红色量子点层32;位于相邻的绿色量子点层31和蓝色散射粒子层33之间的反射层52的第二区域522能够将其下方显示结构层10发出的光线反射后进入绿色量子点层31;位于相邻的蓝色散射粒子层33和绿色量子点层31之间的反射层52的第三区域523能够将其下方显示结构层10发出的光线反射后进入蓝色散射粒子层33;以此类推,从而增加了像素定义层30出光量。同时,照射到光阻60的侧面上的显示结构层10发出的光线也会被反射层52反射后进入到相邻的像素定义层30,从而增加像素定义层 30出光量。
在本实施例中,通过设置反射部件50的倾斜面51,能够将原先被防光窜扰层40吸收的显示结构层10发出的光线进行反射,将光线反射到显示结构层10后,经显示结构层10将光线再反射至像素定义层30,从而可以大大提高显示结构层10发出的光线的利用效率,从而大大提高整体电流效率。
实施例2
请结合图3和图4以理解,本实施例的过滤装置的整体结构基本和实施例1中的结构相同,其不同的之处在于,反射部件50包括反射层52和倾斜层 53,倾斜层53位于防光窜扰层40与反射层52之间,倾斜层53的厚度由靠近显示结构层10的一端至远离显示结构层10的一端逐渐增加,倾斜层53的下表面与防光窜扰层40所在的平面形成有一夹角θ,反射层52覆设于倾斜层53的下表面,以使反射层52靠述显示结构层10的一侧形成倾斜面52。这样,通过将反射层52设置于倾斜层53的下表面,即倾斜层的倾斜表面,而使反射层52 形成倾斜面52,即倾斜面52的一端与像素定义层30邻接,另一端向靠近显示结构层10方向斜向延伸。通过反射层52的倾斜面52,能够到达更优的反射光线的效果,而且由于两次反射的反射率均在98%以上,因此,能够大大提高显示结构层10发出的光线的利用效率,从而大大提高整体电流效率。
具体地,倾斜层53的下表面包括倾斜表面以及竖直表面,相对于地,反射层52包括倾斜部526和竖直部527。倾斜部526的下表面为倾斜面51,通过反射层52的倾斜部526,能够将原先被防光窜扰层40吸收的显示结构层10发出的光线进行反射,将光线反射到显示结构层10后,经显示结构层10将光线再反射至像素定义层30,从而可以大大提高显示结构层10发出的光线的利用效率,从而大大提高整体电流效率;同样,反射层52的竖直部527也起到将原先被防光窜扰层40吸收的显示结构层10发出的光线进行反射的作用。
在本实施例中,倾斜层53的材料为有机材料。具体地,倾斜层53的材料为SiOx或者SiNx,但不限于此,其他有机材料均可以。
如图4所示,夹角θ的取值范围为c/b*[1-(a+b)/(a+2b)]<tanθ<90°,其中,像素定义层30的宽度为a,显示结构层10的发光区域14位于倾斜层53上的正投影的宽度为b,像素定义层30到显示结构层10的距离为c。
较佳的,夹角θ的最佳取值为tanθ=2c/b*[1-(a+b)/(a+2b)]。当夹角θ的取值为tanθ<c/b*[1-(a+b)/(a+2b)]时,光线仍能被反射层52的竖直部527反射,也可起到增加光利用率,但不是最佳角度。实际应用中,倾斜层53的夹角可根据实际情况调整,调整的原则是经过反射层52反射后的光能全部从像素定义层30 出光,以保证最大光取出。
本实施例中的显示基板1的基底70和显示结构层10的制作流程与现有技术中的相同。在盖板20上完成防光窜扰层40的制作后,先进行倾斜层53、以及光阻60的制作,然后通过沉积高反射型材料并进行图形化而形成反射层52,图形化后反射层52仅在倾斜层53及光阻60的表面保留,其他位置均被刻蚀掉。接续,在防光窜扰层40的开口位置形成像素定义层30。最后,在显示结构层 10上涂覆透明填充层,将盖板20盖合于显示结构层10上,由于透明填充层具体流动性,能够很好地填充光阻60支撑起的空间。
具体地,倾斜层53的制作方法的工艺流程图如图5(a)-图5(e)所示。在盖板20上形成防光窜扰层40,在防光窜扰层40上、以及防光窜扰层40的开口内沉积倾斜层53,并在倾斜层53上涂覆光刻胶90;接续,通过曝光和刻蚀将防光窜扰层40的开口内的倾斜层53去除掉,并在预留位置对倾斜层53分厚度刻蚀;然后,剥离光刻胶90;最后进行修整以最终形成带有倾斜表面531的倾斜层53。
以上所述仅为本申请的较佳实施例而已,并不用以限制本申请,凡在本申请的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请保护的范围之内。
Claims (7)
1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括显示结构层、位于所述显示结构层上的盖板、以及位于所述显示结构层和所述盖板之间的多个像素定义层以及防光窜扰层,多个所述像素定义层间隔设置于所述盖板的下表面,且与所述显示基板的子像素单元一一对应,所述防光窜扰层环绕每一所述像素定义层设置,其中,所述防光窜扰层与所述显示结构层之间还设有反射部件,所述反射部件具有倾斜面,所述倾斜面用于反射所述显示结构层的光线入射到所述像素定义层;
所述反射部件包括反射层和倾斜层,所述倾斜层位于所述防光窜扰层与所述反射层之间,所述倾斜层的厚度由靠近所述显示结构层的一端至远离所述显示结构层的一端逐渐增加,所述倾斜层的下表面与所述防光窜扰层所在的平面形成有一夹角θ,所述反射层覆设于所述倾斜层的下表面,以使所述反射层靠近所述显示结构层的一侧形成所述倾斜面;
所述倾斜层的下表面包括倾斜表面以及竖直表面,所述反射层包括倾斜部和竖直部;所述显示结构层的发光区域在所述盖板上的正投影与所述倾斜层在所述盖板上的正投影部分重合。
2.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述倾斜层的材料为有机材料。
3.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括光阻,所述光阻设于所述防光窜扰层下方,所述反射层覆设于所述光阻的表面。
4.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述反射层的材料为Al、Mo或ITO-Ag-ITO合金。
5.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述防光窜扰层为隔离墙。
6.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板的子像素单元包括绿色子像素单元、红色子像素单元、以及蓝色子像素单元,所述像素定义层相应包括绿色量子点层、红色量子点层、以及蓝色散射粒子层,所述绿色量子点层、红色量子点层、以及蓝色散射粒子层间隔设置于所述盖板的下表面,所述绿色量子点层与所述绿色子像素单元一一对应,所述红色量子点层与所述红色子像素单元一一对应,所述蓝色散射粒子层与所述蓝色子像素单元一一对应。
7.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括如权利要求1-6中任意一项所述的显示基板。
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