CN110361887A - 彩膜基板及其制作方法、显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种彩膜基板及其制作方法、显示面板，彩膜基板包括基板、以及设置在基板一侧的彩膜层和黑矩阵，彩膜层包括多个阵列排布的色阻单元，色阻单元包括第一颜色色阻单元、第二颜色色阻单元和第三颜色色阻单元，第一颜色色阻单元、第二颜色色阻单元和第三颜色色阻单元依次交替设置，至少部分相邻的色阻单元之间设有第一颜色色阻子单元，第一颜色色阻子单元的颜色与第一颜色色阻单元的颜色相同；黑矩阵位于第一颜色色阻子单元远离基板的一侧；第一颜色色阻子单元在基板所在平面的正投影位于黑矩阵在基板所在平面的正投影内；第一颜色色阻子单元的反射率小于所述黑矩阵的反射率。本发明的彩膜基板在降低反射率的同时提高了遮光性。

Description

彩膜基板及其制作方法、显示面板

技术领域

本发明涉及显示技术领域，更具体地，涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示面板。

背景技术

液晶显示装置具有轻薄、功耗低和低辐射等优点，被广泛应用于各种领域。车载显示装置是液晶显示装置的一类应用，车载显示装置对反射率要求极高，反射率高时，在显示装置的出光侧会形成反光，在强光下看不清显示装置显示的内容，所以一般此类液晶显示装置的反射率要求在1％以下。

现有技术中为了降低反射率，通常采用低反射率黑矩阵的方法来降低反射率，低反射率黑矩阵是在其中添加低反射剂实现的，但是使用低反射剂会存在黑矩阵光学密度降低、阻抗降低、工程性不良毛边等问题，影响显示装置产品性能的暗态、对比度和抗静电性，造成产品良率降低。

因此，在不影响产品性能的前提下，如何降低显示装置的反射率是亟需解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种彩膜基板及其制作方法、显示面板，用以在不影响产品性能的前提下降低反射率。

一方面，本发明提供了一种彩膜基板，包括基板、以及设置在所述基板一侧的彩膜层和黑矩阵，其中，

所述彩膜层包括多个阵列排布的色阻单元，所述色阻单元包括第一颜色色阻单元、第二颜色色阻单元和第三颜色色阻单元，所述第一颜色色阻单元、所述第二颜色色阻单元和所述第三颜色色阻单元依次交替设置，至少部分相邻的所述色阻单元之间设有第一颜色色阻子单元，所述第一颜色色阻子单元的颜色与所述第一颜色色阻单元的颜色相同；

所述黑矩阵位于所述第一颜色色阻子单元远离所述基板的一侧；

所述第一颜色色阻子单元在所述基板所在平面的正投影位于所述黑矩阵在所述基板所在平面的正投影内；

所述第一颜色色阻子单元的反射率小于所述黑矩阵的反射率。

另一方面，本发明还提供了一种彩膜基板的制作方法，应用于所述的彩膜基板，包括步骤：

提供基板；

在所述基板上形成第一颜色色阻单元，以及与所述第一颜色色阻单元颜色相同的第一颜色色阻子单元；

在所述第一颜色色阻子单元远离所述基板的一侧形成黑矩阵，所述第一颜色色阻子单元在所述基板所在平面的正投影位于所述黑矩阵在所述基板所在平面的正投影内，且所述第一颜色色阻子单元的反射率小于所述黑矩阵的反射率；

在形成所述黑矩阵之前，在所述基板上形成所述第二颜色色阻单元和/或所述第三颜色色阻单元。

另一方面，本发明还提供了一种彩膜基板的制作方法，应用于所述的彩膜基板，包括步骤：

提供基板；

在所述基板上形成第一颜色色阻单元，以及与所述第一颜色色阻单元颜色相同的第一颜色色阻子单元；

在所述第一颜色色阻子单元远离所述基板的一侧形成黑矩阵，所述第一颜色色阻子单元在所述基板所在平面的正投影位于所述黑矩阵在所述基板所在平面的正投影内，且所述第一颜色色阻子单元的反射率小于所述黑矩阵的反射率；

在所述基板上形成所述第二颜色色阻单元和所述第三颜色色阻单元。

另一方面，本发明还提供了一种显示面板，包括上述任一所述的彩膜基板，以及与所述彩膜基板相对设置的阵列基板。

与现有技术相比，本发明提供的彩膜基板及其制作方法、显示面板，至少实现了如下的有益效果：

本发明在至少部分相邻的色阻单元之间设有第一颜色色阻子单元，黑矩阵位于第一颜色色阻子单元远离基板的一侧；第一颜色色阻子单元在基板所在平面的正投影位于黑矩阵在基板所在平面的正投影内，第一颜色色阻子单元的反射率小于黑矩阵的反射率。由于第一颜色色阻子单元的反射率小于黑矩阵的反射率，环境光在第一颜色色阻子单元和基板接触的界面发生反射，所以可以降低彩膜基板的反射率，最终即可降低显示装置的反射率；

本发明中黑矩阵与第一颜色色阻子单元叠合后，相较于只有黑矩阵的情况，本发明的黑矩阵与第一颜色色阻子单元叠合后光学密度更大，遮光效果更好，暗态和对比度均较高，同时由于黑矩阵中未添加低反射剂，所以未影响抗静电性；

本发明中第一颜色色阻子单元的颜色与第一颜色色阻单元的颜色相同，所以在制作彩膜基板时可以同一制程制作，在制作第一颜色色阻单元的同时制作第一颜色色阻子单元，可实现在不增加制程的前提下可降低反射率，而且能够保证充分的遮光性。

当然，实施本发明的任一产品必不特定需要同时达到以上所述的所有技术效果。

通过以下参照附图对本发明的示例性实施例的详细描述，本发明的其它特征及其优点将会变得清楚。

附图说明

被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施例，并且连同其说明一起用于解释本发明的原理。

图1是现有技术提供的彩膜基板的一种结构示意图；

图2是本发明提供的彩膜基板的一种平面结构示意图；

图3是图2中A-A向的一种剖面图；

图4是图2中A-A向的又一种剖面图；

图5是图2中A-A向的又一种剖面图；

图6是图2中A-A向的又一种剖面图；

图7是图2中A-A向的又一种剖面图；

图8是本发明提供的彩膜基板的一种制作方法流程图；

图9是本发明提供的彩膜基板的又一种制作方法流程图；

图10是本发明提供的显示面板的一种结构示意图。

具体实施方式

现在将参照附图来详细描述本发明的各种示例性实施例。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。

以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。

对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。

在这里示出和讨论的所有例子中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

发明人对现有技术中的显示面板进行了如下的研究。

请参考图1，图1是现有技术提供的彩膜基板的一种结构示意图。如图1所示，现有技术中的彩膜基板00包括玻璃基板01，形成在玻璃基板01上的黑矩阵02和彩膜层03，彩膜层03包括色阻单元04，色阻单元包括红色色阻R、绿色色阻G和蓝色色阻B，红色色阻R、绿色色阻G和蓝色色阻B依次交替设置，在红色色阻R、绿色色阻G和蓝色色阻B之间为黑矩阵02，黑矩阵02在玻璃基板01所在平面的正投影与红色色阻R、绿色色阻G和蓝色色阻B在玻璃基板01所在平面的正投影有交叠。

可以理解的是玻璃基板01是位于显示装置出光侧的，也就是玻璃基板01位于靠近环境光的一侧，环境光经过玻璃基板01在黑矩阵02的表面发生反射，玻璃基板01是透明物质M，黑矩阵02是非透明物质n，考察透明物质M和非无色透明物质N相接的位置，从透明物质M侧垂直入射到相接的截面的光的反射率为R，

则R＝[(m-n)²+k²]/[(m+n)²+k²]，

其中m表示透明物质M的折射率，n表示非透明物质N的折射率实数部，k表示非透明物质N的消光系数，消光系数越大，折射率越大。

经试验证实黑矩阵02的反射率在6.5-7.0％之间，所以黑矩阵02的反射率较高，不利于降低显示装置产品的反射率，但是黑矩阵02是起到遮光作用，是彩膜基板00不可缺少的一部分。

现有技术中通常采用在黑矩阵02中添加低反射剂以降低其反射率，黑矩阵02的材料一般是Cr金属/丙烯树脂加上黑色颜料，黑色颜料一般为炭黑，用以遮光提高显示面板的对比度，而低反射剂具有难溶性，添加低反射剂的同时会降低黑矩阵02中本来炭黑的溶解性，从而影响产品性能的暗态、对比度，甚至会影响产品的抗静电性，造成产品良率降低。

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种彩膜基板及其制作方法、显示面板，关于本发明提供的彩膜基板的实施例，下文将详述。

参照图2和图3，图2是本发明提供的彩膜基板的一种平面结构示意图，图3是图2中A-A向的一种剖面图。图3中彩膜基板100包括基板1、以及设置在所述基板一侧的彩膜层2和黑矩阵3。彩膜层2包括多个阵列排布的色阻单元4，色阻单元4包括第一颜色色阻单元41、第二颜色色阻单元42和第三颜色色阻单元43，第一颜色色阻单元41、第二颜色色阻单元42和第三颜色色阻单元43依次交替设置，至少部分相邻的色阻单元4之间设有第一颜色色阻子单元5，第一颜色色阻子单元5的颜色与第一颜色色阻单元41的颜色相同；黑矩阵3位于第一颜色色阻子单元5远离基板1的一侧；第一颜色色阻子单元5在基板1所在平面的正投影位于黑矩阵3在基板1所在平面的正投影内；第一颜色色阻子单元5的反射率小于黑矩阵3的反射率。

图3中剖面的位置仅示出了间隔两个色阻单元4之间设有第一颜色色阻子单元5，当然也可以间隔三个色阻单元4设置第一颜色色阻单元5，这里不做具体限定。图3中仅示出了第一颜色色阻子单元5的厚度(垂直于基板1的方向上)与第一颜色色阻单元41的厚度相同，当然也可以不同，可选的第一颜色色阻子单元5的厚度小于第一颜色色阻单元41的厚度。

图3中仅示出了黑矩阵3在基板1所在平面的正投影面积大于第一颜色色阻子单元5在基板1所在平面的正投影面积的情况，当然只要第一颜色色阻子单元5在基板1所在平面的正投影位于黑矩阵3在基板1所在平面的正投影内即可。

可选的，用来制备第一颜色色阻单元41、第二颜色色阻单元42、第三颜色色阻单元43和第一颜色色阻子单元5的原料组分均包括粘合树脂、单体、光引发剂、溶剂、所对应颜色的颜料、或者可选的其他添加剂等。

参照图3，当色阻单元4之间设有第一颜色色阻子单元5时，经过基板1的环境光首先到达第一颜色色阻子单元5，环境光在第一颜色色阻子单元5和基板1接触的界面发生反射，由于第一颜色色阻子单元5的反射率小于黑矩阵3的反射率，所以可以降低彩膜基板100的反射率，最终即可降低显示装置的反射率。

可以理解的是本发明的黑矩阵3与第一颜色色阻子单元5叠合后，相较于只有黑矩阵3的情况本，本发明的黑矩阵3与第一颜色色阻子单元5叠合后光学密度OD更大，遮光效果更好，暗态和对比度均较高，同时由于黑矩阵3中未添加低反射剂，所以未影响抗静电性。

此外，本发明中第一颜色色阻子单元5的颜色与第一颜色色阻单元41的颜色相同，所以在制作彩膜基板时可以同一制程制作，在制作第一颜色色阻单元41的同时制作第一颜色色阻子单元5，可实现在不增加制程的前提下可降低反射率，而且能够保证充分的遮光性。

本实施例的彩膜基板，至少具有以下技术效果：

本实施例在至少部分相邻的色阻单元4之间设有第一颜色色阻子单元5，黑矩阵3位于第一颜色色阻子单元5远离基板1的一侧；第一颜色色阻子单元5在基板1所在平面的正投影位于黑矩阵3在基板1所在平面的正投影内，第一颜色色阻子单元5的反射率小于黑矩阵3的反射率。由于第一颜色色阻子单元5的反射率小于黑矩阵3的反射率，环境光在第一颜色色阻子单元5和基板1接触的界面发生反射，所以可以降低彩膜基板100的反射率，最终即可降低显示装置的反射率；

本实施例中黑矩阵3与第一颜色色阻子单元5叠合后，相较于只有黑矩阵3的情况本，本发明的黑矩阵3与第一颜色色阻子单元5叠合后光学密度OD更大，遮光效果更好，暗态和对比度均较高，同时由于黑矩阵3中未添加低反射剂，所以未影响抗静电性；

本实施例中第一颜色色阻子单元5的颜色与第一颜色色阻单元41的颜色相同，所以在制作彩膜基板时可以同一制程制作，在制作第一颜色色阻单元41的同时制作第一颜色色阻子单元5，可实现在不增加制程的前提下可降低反射率，而且能够保证充分的遮光性。

继续参照图3，黑矩阵3在基板1所在平面的正投影与色阻单元4在基板所在平面的正投影有交叠。

图3中当第一颜色色阻子单元5在基板1所在平面的正投影位于黑矩阵3在基板1所在平面的正投影内的情况时，黑矩阵3在基板1所在平面的正投影与第二颜色色阻单元42和第三颜色色阻单元43在基板1所在平面的正投影有交叠。黑矩阵需要与色阻单元4有交叠以防漏光，而本实施例中第一颜色色阻子单元5与第一颜色色阻单元41的颜色相同，即相当于黑矩阵与第一颜色色阻单元41颜色相同的色阻单元相交叠，不会发生漏光的情况，所以黑矩阵3在基板1所在平面的正投影仅与第二颜色色阻单元42和第三颜色色阻单元43在基板1所在平面的正投影有交叠。当然本申请中黑矩阵3在基板1所在平面的正投影可以与第一颜色色阻单元41、第二颜色色阻单元42和第三颜色色阻单元43在基板1所在平面的正投影均有交叠，以防漏光。

参照图4，图4是图2中A-A向的又一种剖面图。图4中任意相邻的色阻单元4之间设有第一颜色色阻子单元5。

图4中彩膜基板100包括基板1、以及设置在所述基板一侧的彩膜层2和黑矩阵3。彩膜层2包括多个阵列排布的色阻单元4，色阻单元4包括第一颜色色阻单元41、第二颜色色阻单元42和第三颜色色阻单元43，第一颜色色阻单元41、第二颜色色阻单元42和第三颜色色阻单元43依次交替设置，任意相邻的色阻单元4之间设有第一颜色色阻子单元5，同时第一颜色色阻子单元5的颜色与第一颜色色阻单元41的颜色相同；黑矩阵3位于第一颜色色阻子单元5远离基板1的一侧；第一颜色色阻子单元5在基板1所在平面的正投影位于黑矩阵3在基板1所在平面的正投影内；第一颜色色阻子单元5的反射率小于黑矩阵3的反射率。

本实施例在任意相邻的色阻单元4之间设有第一颜色色阻子单元5，黑矩阵3位于第一颜色色阻子单元5远离基板1的一侧；第一颜色色阻子单元5在基板1所在平面的正投影位于黑矩阵3在基板1所在平面的正投影内，第一颜色色阻子单元5的反射率小于黑矩阵3的反射率。由于第一颜色色阻子单元5的反射率小于黑矩阵3的反射率，环境光在第一颜色色阻子单元5和基板1接触的界面发生反射，所以可以降低彩膜基板100的反射率，最终即可降低显示装置的反射率；

可以理解的是由于任意相邻的色阻单元4之间设有第一颜色色阻子单元5，那么黑矩阵3与第一颜色色阻子单元5叠合后，相较于只有黑矩阵3的情况，本发明的黑矩阵3与第一颜色色阻子单元5叠合后光学密度OD更大，遮光效果更好，暗态和对比度均较高，同时由于黑矩阵3中未添加低反射剂，所以未影响抗静电性；

本实施例中第一颜色色阻子单元5的颜色与第一颜色色阻单元41的颜色相同，所以在制作彩膜基板时可以同一制程制作，在制作第一颜色色阻单元41的同时制作第一颜色色阻子单元5，可实现在不增加制程的前提下可降低反射率，而且能够保证充分的遮光性。

参照图5，图5是图2中A-A向的又一种剖面图；至少部分相邻的色阻单元4之间还包括第二颜色色阻子单元6，第二颜色色阻子单元6位于第一颜色色阻子单元5远离基板1的一侧，第二颜色色阻子单元6在基板1所在平面的正投影位于黑矩阵3在基板1所在平面的正投影内，第二颜色色阻子单元6的颜色与第二颜色色阻单元42的颜色相同。

图5中彩膜基板100包括基板1、以及设置在所述基板一侧的彩膜层2和黑矩阵3。彩膜层2包括多个阵列排布的色阻单元4，色阻单元4包括第一颜色色阻单元41、第二颜色色阻单元42和第三颜色色阻单元43，第一颜色色阻单元41、第二颜色色阻单元42和第三颜色色阻单元43依次交替设置，任意相邻的色阻单元4之间设有第一颜色色阻子单元5和第二颜色色阻子单元6，同时第一颜色色阻子单元5的颜色与第一颜色色阻单元41的颜色相同，第二颜色色阻子单元6的颜色与第二颜色色阻单元42的颜色相同；黑矩阵3位于第一颜色色阻子单元5远离基板1的一侧，第二颜色色阻子单元6位于第一颜色色阻子单元5远离基板1的一侧；第一颜色色阻子单元5在基板1所在平面的正投影位于黑矩阵3在基板1所在平面的正投影内，第二颜色色阻子单元6在基板1所在平面的正投影位于黑矩阵3在基板1所在平面的正投影内；第一颜色色阻子单元5的反射率小于黑矩阵3的反射率。

可以理解的是，第二颜色色阻子单元6在基板1所在平面的正投影面积与第一颜色色阻子单元5在基板1所在平面的正投影面积可以相同也可以不同。

由于第二颜色色阻子单元6位于第一颜色色阻子单元5远离基板1的一侧，所以第二颜色色阻子单元6和第一颜色色阻子单元5在叠合后会混色，如图5所示，黑矩阵3与第一颜色色阻单元41、第二颜色色阻单元42和第三颜色色阻单元43在基板1所在平面的正投影均有交叠，以防止漏光。

本实施例由于第一颜色色阻子单元5的反射率小于黑矩阵3的反射率，环境光在第一颜色色阻子单元5和基板1接触的界面发生反射，所以可以降低彩膜基板100的反射率，最终即可降低显示装置的反射率；

可以理解的是由于任意相邻的色阻单元4之间设有第一颜色色阻子单元5和第二颜色色阻子单元6，那么黑矩阵3与第一颜色色阻子单元5、第二颜色色阻子单元6叠合后，相较于只有黑矩阵3的情况本，本发明的黑矩阵3与第一颜色色阻子单元5、第二颜色色阻子单元6叠合后光学密度OD更大，遮光效果更好，暗态和对比度均更高，同时由于黑矩阵3中未添加低反射剂，所以未影响抗静电性；

本实施例中第一颜色色阻子单元5的颜色与第一颜色色阻单元41的颜色相同，第二颜色色阻子单元6的颜色与第二颜色色阻单元42的颜色相同，所以在制作彩膜基板时可以同一制程制作，在制作第一颜色色阻单元41的同时制作第一颜色色阻子单元5，在制作第二颜色色阻单元42的同时制作第二颜色色阻子单元6，可实现在不增加制程的前提下可降低反射率，而且能够保证充分的遮光性。

参照图6，图6是图2中A-A向的又一种剖面图，至少部分相邻的色阻单元4之间还包括第三颜色色阻子单元7，第三颜色色阻子单元7位于第二颜色色阻子单元6远离基板1的一侧，第三颜色色阻子单元7在基板1所在平面的正投影位于黑矩阵3在基板1所在平面的正投影内，第三颜色色阻子单元7的颜色与第三颜色色阻单元43的颜色相同。

图6中彩膜基板100包括基板1、以及设置在所述基板一侧的彩膜层2和黑矩阵3。彩膜层2包括多个阵列排布的色阻单元4，色阻单元4包括第一颜色色阻单元41、第二颜色色阻单元42和第三颜色色阻单元43，第一颜色色阻单元41、第二颜色色阻单元42和第三颜色色阻单元43依次交替设置，任意相邻的色阻单元4之间设有第一颜色色阻子单元5、第二颜色色阻子单元6和第三颜色色阻子单元7，第一颜色色阻子单元5的颜色与第一颜色色阻单元41的颜色相同，第二颜色色阻子单元6的颜色与第二颜色色阻单元42的颜色相同，第三颜色色阻子单元7的颜色与第三颜色色阻单元43的颜色相同；黑矩阵3位于第一颜色色阻子单元5远离基板1的一侧；第二颜色色阻子单元6位于第一颜色色阻子单元5远离基板1的一侧，第三颜色色阻子单元7位于第二颜色色阻子单元6远离基板1的一侧；第一颜色色阻子单元5在基板1所在平面的正投影位于黑矩阵3在基板1所在平面的正投影内，第二颜色色阻子单元6在基板1所在平面的正投影位于黑矩阵3在基板1所在平面的正投影内，第三颜色色阻子单元7在基板1所在平面的正投影位于黑矩阵3在基板1所在平面的正投影内；第一颜色色阻子单元5的反射率小于黑矩阵3的反射率。

可以理解的是，第二颜色色阻子单元6在基板1所在平面的正投影面积与第一颜色色阻子单元5在基板1所在平面的正投影面积可以相同也可以不同，第三颜色色阻子单元7在基板1所在平面的正投影面积与第一颜色色阻子单元5在基板1所在平面的正投影面积可以相同也可以不同。

由于第二颜色色阻子单元6位于第一颜色色阻子单元5远离基板1的一侧，第三颜色色阻子单元7位于第二颜色色阻子单元6远离基板1的一侧，所以第三颜色色阻子单元7、第二颜色色阻子单元6和第一颜色色阻子单元5在叠合后会混色，如图5所示，黑矩阵3与第一颜色色阻单元41、第二颜色色阻单元42和第三颜色色阻单元43在基板1所在平面的正投影均有交叠，以防止漏光。

需要说明的是，图5所示是其中一种实现方式，即依次制作第一颜色色阻单元41/第一颜色色阻子单元5，第二颜色色阻单元42/第二颜色色阻子单元6，第三颜色色阻单元，黑矩阵。制作顺序也可以是第一颜色色阻单元41/第一颜色色阻子单元5，第二颜色色阻单元42/第二颜色色阻子单元6，黑矩阵3，第三颜色色阻单元。此处不再具体说明。

本实施例由于第一颜色色阻子单元5的反射率小于黑矩阵3的反射率，环境光在第一颜色色阻子单元5和基板1接触的界面发生反射，所以可以降低彩膜基板100的反射率，最终即可降低显示装置的反射率；

可以理解的是由于任意相邻的色阻单元4之间设有第一颜色色阻子单元5、第二颜色色阻子单元6和第三颜色色阻子单元7，那么黑矩阵3与第一颜色色阻子单元5、第二颜色色阻子单元6和第三颜色色阻子单元7叠合后，相较于只有黑矩阵3的情况本，本发明的黑矩阵3与第一颜色色阻子单元5、第二颜色色阻子单元6和第三颜色色阻子单元7叠合后光学密度OD更大，遮光效果更好，暗态和对比度均更高，同时由于黑矩阵3中未添加低反射剂，所以未影响抗静电性；

本实施例中第一颜色色阻子单元5的颜色与第一颜色色阻单元41的颜色相同，第二颜色色阻子单元6的颜色与第二颜色色阻单元42的颜色相同，第三颜色色阻子单元7的颜色与第三颜色色阻单元43的颜色相同，所以在制作彩膜基板时可以同一制程制作，在制作第一颜色色阻单元41的同时制作第一颜色色阻子单元5，在制作第二颜色色阻单元42的同时制作第二颜色色阻子单元6，在制作第三颜色色阻单元43的同时制作第三颜色色阻子单元7，可实现在不增加制程的前提下可降低反射率，而且能够保证充分的遮光性。

继续参照图3，第一颜色色阻单元41、第二颜色色阻单元42、和第三颜色色阻单元43分别为红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元中的任一种。

可以理解的是当第一颜色色阻单元41为红色色阻单元时，则第一颜色色阻子单元5的颜色即为红色；当第一颜色色阻单元41为绿色色阻单元时，则第一颜色色阻子单元5的颜色即为绿色；当第一颜色色阻单元41为蓝色色阻单元时，则第一颜色色阻子单元5的颜色即为蓝色。同理当第二颜色色阻单元42为红色色阻单元时，则第二颜色色阻子单元6的颜色即为红色；当第二颜色色阻单元42为绿色色阻单元时，则第二颜色色阻子单元6的颜色即为绿色；当第二颜色色阻单元42为蓝色色阻单元时，则第二颜色色阻子单元6的颜色即为蓝色。同理当第三颜色色阻单元43为红色色阻单元时，则第三颜色色阻子单元7的颜色即为红色；当第三颜色色阻单元43为绿色色阻单元时，则第三颜色色阻子单元7的颜色即为绿色；当第三颜色色阻单元43为蓝色色阻单元时，则第三颜色色阻子单元7的颜色即为蓝色。

第一颜色色阻子单元5的颜色与第一颜色色阻单元41的颜色相同，所以在制作彩膜基板时可以同一制程制作，在制作第一颜色色阻单元41的同时制作第一颜色色阻子单元5，不增加制程。

同理第二颜色色阻子单元6的颜色与第二颜色色阻单元42的颜色相同，在制作第二颜色色阻单元42的同时制作第二颜色色阻子单元6，所以在制作彩膜基板时可以同一制程制作，不增加制程。

同理第三颜色色阻子单元7的颜色与第三颜色色阻单元43的颜色相同，在制作第三颜色色阻单元43的同时制作第三颜色色阻子单元7，所以在制作彩膜基板时可以同一制程制作，不增加制程。

继续参照图5，第一颜色色阻子单元5为蓝色色阻单元。蓝色色阻的反射率小于黑矩阵3的反射率，蓝色色阻的反射率在4.5％-4.8之间，低于黑矩阵3的反射率(6.5％-7％)，环境光在第一颜色色阻子单元5(蓝色色阻单元)和基板1接触的界面发生反射，所以可以降低彩膜基板100的反射率，最终即可降低显示装置的反射率。

继续参照图5，黑矩阵3的光学密度值大于等于4.0。

由于本发明中的黑矩阵3未添加低反射剂，所以其光学密度值能够大于等于4.0。黑矩阵3的光学密度值大于等于4.0能够保证黑矩阵3和第一颜色色阻子单元5叠合后整体遮光性；或者黑矩阵3的光学密度值大于等于4.0能够保证黑矩阵3和第一颜色色阻子单元5、第二颜色色阻子单元6叠合后整体遮光性；或者黑矩阵3的光学密度值大于等于4.0能够保证黑矩阵3和第一颜色色阻子单元5、第二颜色色阻子单元6、第三颜色色阻子单元7叠合后整体遮光性。

实质上，只有黑矩阵作为遮光层时的光学密度值为4.2，而黑矩阵3与第一颜色色阻子单元5(蓝色色阻单元)叠合后的光学密度值为5.2，黑矩阵3与第一颜色色阻子单元5(蓝色色阻单元)、第二颜色色阻子单元6(绿色色阻单元)叠合后的光学密度值为5.5，显然经过叠合后的光学密度值要高于仅有黑矩阵的情况。

可见，本发明的彩膜基板不但能够降低反射率，而且光学密度值增大提高了遮光性。

参照图7，图7是图2中A-A向的又一种剖面图。彩膜层2远离基板1的一侧还包括平坦化层8。当在垂直于基板1所在平面的方向上，黑矩阵3与彩膜层2不在同一平面时，彩膜基板100表面会出现不平的情况，所以在彩膜层上设置平坦化层8，使得彩膜基板8更平整。

基于同一发明思想，本发明还提供一种彩膜基板的制作方法，参照图8，图8是本发明提供的彩膜基板的一种制作方法流程图，用于制作图4中彩膜基板的机构，包括以下步骤：

步骤S101，提供基板；

步骤S102，在基板上形成第一颜色色阻单元，以及与所述第一颜色色阻单元颜色相同的第一颜色色阻子单元；

步骤S103，在基板上形成第二颜色色阻单元和/或第三颜色色阻单元；

步骤S104，在第一颜色色阻子单元远离基板的一侧形成黑矩阵，第一颜色色阻子单元在基板所在平面的正投影位于黑矩阵在基板所在平面的正投影内，且第一颜色色阻子单元的反射率小于黑矩阵的反射率。

本实施例中彩膜基板的制作顺序为同时制作第一颜色色阻单元和第一颜色色阻子单元，然后制作第二颜色色阻单元和/或第三颜色色阻单元、最后制作黑矩阵。本发明中第一颜色色阻子单元的颜色与第一颜色色阻单元的颜色相同，所以在制作彩膜基板时可以同一制程制作，在制作第一颜色色阻单元的同时制作第一颜色色阻子单元，可实现在不增加制程的前提下可降低反射率，而且能够保证充分的遮光性。

基于同一发明思想，本发明还提供一种彩膜基板的制作方法，参照图9，图9是本发明提供的彩膜基板的又一种制作方法流程图，用于制作图3中彩膜基板的机构，包括以下步骤：

步骤S201，提供基板；

步骤S202，在基板上形成第一颜色色阻单元，以及与第一颜色色阻单元颜色相同的第一颜色色阻子单元；

步骤S203，在第一颜色色阻子单元远离基板的一侧形成黑矩阵，第一颜色色阻子单元在基板所在平面的正投影位于黑矩阵在基板所在平面的正投影内，且第一颜色色阻子单元的反射率小于黑矩阵的反射率；

步骤S204，在基板上形成第二颜色色阻单元和第三颜色色阻单元。

本实施例中彩膜基板的制作顺序为同时制作第一颜色色阻单元和第一颜色色阻子单元，然后制作黑矩阵，最后制作第二颜色色阻单元和/或第三颜色色阻单元。

本发明中第一颜色色阻子单元的颜色与第一颜色色阻单元的颜色相同，所以在制作彩膜基板时可以同一制程制作，在制作第一颜色色阻单元的同时制作第一颜色色阻子单元，可实现在不增加制程的前提下可降低反射率，而且能够保证充分的遮光性。

可以理解的是无论是先制作黑矩阵，还是先制作第二颜色色阻单元和/或第三颜色色阻单元，第一步均是同时制作第一颜色色阻单元和第一颜色色阻子单元，均不增加工艺制程，产品能够降低反射率，还提高遮光性。

基于同一发明原理，本发明还提供了一种显示面板。请参考图10所示，图10是本发明提供的显示面板的一种结构示意图。本实施例的显示面板200包括本发明上述任一实施例提供的彩膜基板100、以及与所述彩膜基板相对设置的阵列基板(图中未示出)，其中，彩膜基板100包括了本发明上述任一实施例提供的黑矩阵3和第一颜色色阻子单元5。图10仅以手机为例对显示面板100进行说明，可以理解的是，本发明实施例提供的显示面板100也可以为液晶面板、电子纸、电视机、电子手表、车载显示装置等其他具有显示功能的显示面板，本发明对此不作具体限制。本发明实施例提供的显示面板具有上述任一彩膜基板100所具有的有益效果，本实施例在此不再赘述。

通过上述实施例可知，本发明提供的彩膜基板及其制作方法、显示面板，至少实现了如下的有益效果：

本发明在至少部分相邻的色阻单元之间设有第一颜色色阻子单元，黑矩阵位于第一颜色色阻子单元远离基板的一侧；第一颜色色阻子单元在基板所在平面的正投影位于黑矩阵在基板所在平面的正投影内，第一颜色色阻子单元的反射率小于黑矩阵的反射率。由于第一颜色色阻子单元的反射率小于黑矩阵的反射率，环境光在第一颜色色阻子单元和基板接触的界面发生反射，所以可以降低彩膜基板的反射率，最终即可降低显示装置的反射率；

本发明中黑矩阵与第一颜色色阻子单元叠合后，相较于只有黑矩阵的情况本，本发明的黑矩阵与第一颜色色阻子单元叠合后光学密度更大，遮光效果更好，暗态和对比度均较高，同时由于黑矩阵中未添加低反射剂，所以未影响抗静电性；

本发明中第一颜色色阻子单元的颜色与第一颜色色阻单元的颜色相同，所以在制作彩膜基板时可以同一制程制作，在制作第一颜色色阻单元的同时制作第一颜色色阻子单元，可实现在不增加制程的前提下可降低反射率，而且能够保证充分的遮光性。

虽然已经通过例子对本发明的一些特定实施例进行了详细说明，但是本领域的技术人员应该理解，以上例子仅是为了进行说明，而不是为了限制本发明的范围。本领域的技术人员应该理解，可在不脱离本发明的范围和精神的情况下，对以上实施例进行修改。本发明的范围由所附权利要求来限定。

Claims (12)

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括基板、以及设置在所述基板一侧的彩膜层和黑矩阵，其中，

所述彩膜层包括多个阵列排布的色阻单元，所述色阻单元包括第一颜色色阻单元、第二颜色色阻单元和第三颜色色阻单元，所述第一颜色色阻单元、所述第二颜色色阻单元和所述第三颜色色阻单元依次交替设置，至少部分相邻的所述色阻单元之间设有第一颜色色阻子单元，所述第一颜色色阻子单元的颜色与所述第一颜色色阻单元的颜色相同；

所述黑矩阵位于所述第一颜色色阻子单元远离所述基板的一侧；

所述第一颜色色阻子单元在所述基板所在平面的正投影位于所述黑矩阵在所述基板所在平面的正投影内；

所述第一颜色色阻子单元的反射率小于所述黑矩阵的反射率。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵在所述基板所在平面的正投影与所述色阻单元在所述基板所在平面的正投影有交叠。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，

任意相邻的所述色阻单元之间设有第一颜色色阻子单元。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，至少部分相邻的所述色阻单元之间还包括第二颜色色阻子单元，所述第二颜色色阻子单元位于所述第一颜色色阻子单元远离所述基板的一侧，所述第二颜色色阻子单元在所述基板所在平面的正投影位于所述黑矩阵在所述基板所在平面的正投影内，所述第二颜色色阻子单元的颜色与所述第二颜色色阻单元的颜色相同。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，至少部分相邻的所述色阻单元之间还包括第三颜色色阻子单元，所述第三颜色色阻子单元位于所述第二颜色色阻子单元远离所述基板的一侧，所述第三颜色色阻子单元在所述基板所在平面的正投影位于所述黑矩阵在所述基板所在平面的正投影，所述第三颜色色阻子单元的颜色与所述第三颜色色阻单元的颜色相同。

6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一颜色色阻单元、所述第二颜色色阻单元、和所述第三颜色色阻单元分别为红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元中的任一种。

7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一颜色色阻子单元为蓝色色阻单元。

8.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵的光学密度值大于等于4.0。

9.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜层远离所述基板的一侧还包括平坦化层。

10.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，应用于权利要求1所述的彩膜基板，包括步骤：

提供基板；

在所述基板上形成第一颜色色阻单元，以及与所述第一颜色色阻单元颜色相同的第一颜色色阻子单元；

在所述第一颜色色阻子单元远离所述基板的一侧形成黑矩阵，所述第一颜色色阻子单元在所述基板所在平面的正投影位于所述黑矩阵在所述基板所在平面的正投影内，且所述第一颜色色阻子单元的反射率小于所述黑矩阵的反射率；

在形成所述黑矩阵之前，在所述基板上形成所述第二颜色色阻单元和/或所述第三颜色色阻单元。

11.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，应用于权利要求1所述的彩膜基板，包括步骤：

提供基板；

在所述基板上形成第一颜色色阻单元，以及与所述第一颜色色阻单元颜色相同的第一颜色色阻子单元；

在所述第一颜色色阻子单元远离所述基板的一侧形成黑矩阵，所述第一颜色色阻子单元在所述基板所在平面的正投影位于所述黑矩阵在所述基板所在平面的正投影内，且所述第一颜色色阻子单元的反射率小于所述黑矩阵的反射率；

在所述基板上形成所述第二颜色色阻单元和所述第三颜色色阻单元。

12.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1至9任一所述的彩膜基板，以及与所述彩膜基板相对设置的阵列基板。