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CN118649927A - 一种立式转塔巨量转移固晶机 - Google Patents

一种立式转塔巨量转移固晶机 Download PDF

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Publication number
CN118649927A
CN118649927A CN202411152576.XA CN202411152576A CN118649927A CN 118649927 A CN118649927 A CN 118649927A CN 202411152576 A CN202411152576 A CN 202411152576A CN 118649927 A CN118649927 A CN 118649927A
Authority
CN
China
Prior art keywords
fixed
vertical
wafer
cleaning brush
assembly
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202411152576.XA
Other languages
English (en)
Inventor
曾雅琳
张维伦
廖志永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Zhuoxing Semiconductor Technology Co ltd
Original Assignee
Shenzhen Zhuoxing Semiconductor Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Zhuoxing Semiconductor Technology Co ltd filed Critical Shenzhen Zhuoxing Semiconductor Technology Co ltd
Priority to CN202411152576.XA priority Critical patent/CN118649927A/zh
Publication of CN118649927A publication Critical patent/CN118649927A/zh
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

本发明属于固晶机技术领域,具体涉及一种立式转塔巨量转移固晶机,该一种立式转塔巨量转移固晶机,包括底座、清洁机构、防溅部和吸尘部,清洁机构固定在底座上,清洁机构包括固定座、竖直气缸、固定板、水平气缸、固定架、电机、清洁刷和储杂盒,固定座固定在底座的上端。该发明,在清洁拾取头时,通过防溅部对清洁刷周围形成防护圈,避免在清洁刷旋转时使拾取头上的杂质飞溅到设备的各处,以保障清洁时的洁净度,避免杂质对设备造成影响;在清洁刷旋转对拾取头清洁时,通过吸尘部吸收从拾取头上飞溅的杂质,以减小杂质的飞溅幅度,提升杂质的收集效果;在对清洁刷进行更换时,通过快拆部可快速地对清洁刷进行拆卸安装,以减小设备的维护时间。

Description

一种立式转塔巨量转移固晶机
技术领域
本发明属于固晶机技术领域,具体涉及一种立式转塔巨量转移固晶机。
背景技术
固晶机主要用于各种金丝超声波焊接设备的引线柜架压板,以及各种芯片贴装设备的各种吸嘴、顶针、点胶头、瓷咀、通针、马达、碳刷、编码器、传动皮带,自动化设备的各种零配件,仪器、仪表等等。传统设备采用小晶元环供给和小尺寸基板的生产,产能较低,因此衍生出多种多样的固晶机,其中就包括立式转塔巨量转移固晶机,具有晶元角度自动校正、取晶及固晶实时侦测和拾取头清洁功能等特点。
但是,立式转塔巨量转移固晶机在对拾取头清洁时,易造成杂质飞溅在设备表面的各处,降低了洁净度,而飞溅的杂质,易对设备上传感器、晶元、图像采集设备等,造成损坏,使得设备故障率增加。
如中国专利公开号为CN115295452A,公开了一种固晶机及固晶方法,由清洁机构对拾取头正压清洁和同时拾取头进行Z轴伸出和拾取头自旋转与清洁位的清洁介质摩擦起到清洁作用;但是,在清洁时,并没有针对清洁时,杂质防护的处理,易导致杂质飞溅到设备的各处,对设备造成影响。
再如中国专利公告号为CN114141670B,公开了一种固晶机,使晶片吸嘴与清洁头之间相互摩擦,以此实现给晶片吸嘴进行清洁;但是,在清洁时,也并没有针对清洁时,杂质防护的处理,易导致杂质飞溅到设备的各处,对设备造成影响。
发明内容
本发明的目的是提供一种立式转塔巨量转移固晶机,能够在清洁拾取头时,进行防护处理,避免杂质飞溅到设备的各处,以保障的设备的正常运行,提升设备的良品率。
本发明采取的技术方案具体如下:
一种立式转塔巨量转移固晶机,包括:
底座;
清洁机构,所述清洁机构固定在底座上,所述清洁机构包括固定座、竖直气缸、固定板、水平气缸、固定架、电机、清洁刷和储杂盒,所述固定座固定在底座的上端,所述竖直气缸固定在固定座的外侧,所述固定板固定在竖直气缸的输出端,所述水平气缸固定在固定板的上端,所述固定架固定在电机的输出端,所述电机固定在固定架远离水平气缸的一侧,所述清洁刷安装在电机的输出端,所述储杂盒固定在固定架远离水平气缸的一侧且位于清洁刷的下部;
防溅部,所述防溅部安装在储杂盒上,所述防溅部用于在清洁刷清洁时减小杂质的飞溅;
吸尘部,所述吸尘部安装在储杂盒上,所述吸尘部用于在清洁刷清洗时吸取杂质。
在一种优选方案中,所述防溅部包括固定盒、连接杆、拉绳、发条弹簧、直齿轮、防溅围挡和齿条,所述固定盒固定在储杂盒的下端,所述连接杆转动连接在防溅部的内部,所述拉绳缠绕在连接杆的表面,所述拉绳远离连接杆的一端安装有缓冲部,所述缓冲部安装在固定板的内部,所述发条弹簧安装在连接杆的外侧,所述发条弹簧的一端固定在连接杆的表面,所述发条弹簧的另一端固定在固定盒的内部,所述直齿轮固定在连接杆的端部,所述防溅围挡滑动连接在储杂盒的内部,所述齿条固定在防溅围挡靠近直齿轮的位置处,所述直齿轮与齿条啮合连接。
在一种优选方案中,所述缓冲部包括拉杆、磁铁a、磁铁b、弹簧a和拉环,所述拉杆滑动连接在固定板的内部,所述磁铁a固定在拉杆位于固定板内部的一端,所述磁铁b固定在固定板的内部且靠近磁铁a的位置处,所述磁铁a与磁铁b相互吸引,所述弹簧a设置在拉杆的外侧,且靠近磁铁a的位置处,所述拉环固定在拉杆远离固定板的一端,所述拉绳远离连接杆的一端与拉环固定连接。
在一种优选方案中,在所述水平气缸推动固定架移动时,使得所述发条弹簧受力扭转并产生弹力,同时使所述拉绳从固定盒的内部拉出并带动连接杆转动,进而使所述直齿轮带动齿条在储杂盒的内部向上移动,使得所述防溅围挡在储杂盒的内部向上移动对清洁刷的周围形成防护。
在一种优选方案中,所述磁铁a与磁铁b之间的吸引力大于发条弹簧的弹力,所述弹簧a的弹力大于发条弹簧的弹力。
在一种优选方案中,在所述拉绳从固定盒的内部拉出后,呈现完全伸展状态时,继续使所述水平气缸推动固定架移动时,使得所述磁铁a与磁铁b分离,进而使所述拉杆从固定板的内部拉出。
在一种优选方案中,所述防溅围挡的上端与下端均安装有限位条。
在一种优选方案中,所述吸尘部包括风机、集尘盒、多孔挡板、过滤棉a和过滤棉b,所述风机安装在储杂盒的下端,所述风机的输入端与储杂盒连通,所述集尘盒固定在储杂盒的下端,且所述风机的输出端与集尘盒连通,所述多孔挡板滑动连接在集尘盒的下端,所述过滤棉a设置在集尘盒的内部,所述过滤棉b设置在储杂盒的内部。
在一种优选方案中,所述电机的输出端与清洁刷之间安装有快拆部,所述快拆部包括固定轴、凹面杆、卡球、弹簧b、矩形杆和顶杆,所述固定轴固定在电机的输出端,所述凹面杆滑动连接在固定轴的内部,所述卡球设置在固定轴的内部且靠近凹面杆的位置处,所述弹簧b设置在固定轴的内部且靠近凹面杆的位置处,所述矩形杆固定在清洁刷靠近固定轴的一端,所述矩形杆插接在固定轴的内部,所述矩形杆滑动连接在清洁刷的内部且贯穿矩形杆。
在一种优选方案中,所述清洁刷远离矩形杆的一端安装有磁环,所述磁环与顶杆之间的吸引力小于弹簧b的弹力。
在一种优选方案中,所述底座的上端固定有邦头板,所述邦头板的上端装配有立式转塔机构,且所述立式转塔机构的输出端延伸至邦头板的下端,所述立式转塔机构的下端固定有多工位转盘,所述多工位转盘在立式转塔机构的驱动下做单向圆周运动,所述多工位转盘的外侧环形分布有多个垂向滑台组件,还包括:
晶元拾取矫正组件,所述晶元拾取矫正组件装配于垂向滑台组件上,所述晶元拾取矫正组件的内部开设有真空气道,所述垂向滑台组件能够带动晶元拾取矫正组件在垂直方向上移动;
吸嘴,所述吸嘴装配于晶元拾取矫正组件的内部,所述吸嘴的内部开设有三条吸附气道;
拾取气路,所述拾取气路由吸附气道和真空气道组合而成,所述吸嘴通过拾取气路能够一次完成一个像素R、G、B晶元的拾取;
图像采集组件,所述图像采集组件装配于底座的上端,所述图像采集组件能够对R、G、B晶元的摆放角度进行检测;
其中,所述R、G、B晶元能够跟随吸嘴同步转动以调整像R、G、B晶元的摆放角度。
在一种优选方案中,还包括基板夹持组件、多个晶元供给组件和多个图像定位组件,所述基板夹持组件和多个晶元供给组件均装配于底座的上端,且所述晶元供给组件和图像采集组件一一对应,多个所述图像定位组件均装配于邦头板的上端,多个所述图像定位组件和多个晶元供给组件以及图像定位组件和基板夹持组件之间均一一对应,且所述基板夹持组件和底座以及晶元供给组件和底座之间均装配有十字工作台,通过所述十字工作台能够在水平方向调节基板夹持组件和晶元供给组件的位置。
本发明取得的技术效果为:
本发明,在清洁拾取头时,通过防溅部对清洁刷周围形成防护圈,避免在清洁刷旋转时使拾取头上的杂质飞溅到设备的各处,以保障清洁时的洁净度,避免杂质对设备造成影响;
本发明,在清洁刷旋转对拾取头清洁时,通过吸尘部吸收从拾取头上飞溅的杂质,以减小杂质的飞溅幅度,提升杂质的收集效果;
本发明,在对清洁刷进行更换时,通过快拆部可快速地对清洁刷进行拆卸安装,以减小设备的维护时间,保障设备的工作效率;
本发明通过立式转塔机构带动多工位转盘单向转动,通过多工位转盘外侧的多个晶元拾取矫正组件交替对晶元进行拾取、搬运和贴合,缩减了固晶路径和单次固晶的时间,提高了固晶效率,减少了固晶平台的运行次数,相对提高了装置运行的稳定性和固晶性能。
附图说明
图1是本发明的整体结构示意图;
图2是本发明清洁机构的结构示意图;
图3是本发明清洁机构的主视图;
图4是本发明储杂盒、防溅围挡和齿条连接的结构示意图;
图5是本发明储杂盒底部的结构示意图;
图6是本发明固定盒的剖视图;
图7是本发明固定板的剖视图;
图8是本发明缓冲部的结构示意图;
图9是本发明吸尘部与储杂盒连接的结构示意图;
图10是本发明快拆部的剖视图;
图11是本发明的实施例一中整体结构的后视图;
图12是本发明的底座上端的结构示意图;
图13是本发明的转塔和晶元拾取矫正组件的结构示意图;
图14是本发明的晶元拾取矫正组件的结构剖视图。
附图中,各标号所代表的部件列表如下:
1、底座;2、邦头板;
10、清洁机构;11、固定座;12、竖直气缸;13、固定板;14、水平气缸;15、固定架;16、电机;17、清洁刷;18、储杂盒;
20、防溅部;21、固定盒;22、连接杆;23、拉绳;24、发条弹簧;25、直齿轮;26、防溅围挡;27、齿条;
30、缓冲部;31、拉杆;32、磁铁a;33、磁铁b;34、弹簧a;35、拉环;
40、吸尘部;41、风机;42、集尘盒;43、多孔挡板;44、过滤棉a;45、过滤棉b;
50、快拆部;51、固定轴;52、凹面杆;53、卡球;54、弹簧b;55、矩形杆;56、顶杆;
112、吸嘴;
120、立式转塔机构;121、多工位转盘;122、垂向滑台组件;
130、晶元拾取矫正组件;
140、图像采集组件;
160、基板夹持组件;
170、晶元供给组件;
180、图像定位组件。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合说明书附图对本发明的具体实施方式作详细的说明。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明,但是本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广,因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
其次,此处所称的“一个实施例”或“实施例”是指可包含于本发明至少一个实现方式中的特定特征、结构或特性。在本说明书中不同地方出现的“在一个较佳的实施方式中”并非均指同一个实施例,也不是单独的或选择性地与其他实施例互相排斥的实施例。
再其次,本发明结合示意图进行详细描述,在详述本发明实施例时,为便于说明,表示器件结构的剖面图会不依一般比例作局部放大,而且所述示意图只是示例,其在此不应限制本发明保护的范围。此外,在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。
实施例1
请参阅附图1至图3所示,为本发明第一个实施例,该实施例提供了一种立式转塔巨量转移固晶机,包括底座1、清洁机构10、防溅部20和吸尘部40,清洁机构10固定在底座1上,清洁机构10包括固定座11、竖直气缸12、固定板13、水平气缸14、固定架15、电机16、清洁刷17和储杂盒18,固定座11固定在底座1的上端,竖直气缸12固定在固定座11的外侧,固定板13固定在竖直气缸12的输出端,水平气缸14固定在固定板13的上端,固定架15固定在电机16的输出端,电机16固定在固定架15远离水平气缸14的一侧,清洁刷17安装在电机16的输出端,储杂盒18固定在固定架15远离水平气缸14的一侧且位于清洁刷17的下部,防溅部20安装在储杂盒18上,防溅部20用于在清洁刷17清洁时减小杂质的飞溅,吸尘部40安装在储杂盒18上,吸尘部40用于在清洁刷17清洗时吸取杂质。
具体的,在对拾取头进行清洁时,启动水平气缸14,驱动储杂盒18移动,并带动防溅部20运行,对清洁刷17的周围形成防护,启动竖直气缸12,使得清洁刷17移动至被清洁的拾取头下部,启动电机16,使得清洁刷17转动,对拾取头进行清洁,在清洁的同时,启动吸尘部40,以收取被清洁的杂质。
在一个较佳的实施方式中,请参阅图4至图6,防溅部20包括固定盒21、连接杆22、拉绳23、发条弹簧24、直齿轮25、防溅围挡26和齿条27,固定盒21固定在储杂盒18的下端,连接杆22转动连接在防溅部20的内部,拉绳23缠绕在连接杆22的表面,拉绳23远离连接杆22的一端安装有缓冲部30,缓冲部30安装在固定板13的内部,发条弹簧24安装在连接杆22的外侧,发条弹簧24的一端固定在连接杆22的表面,发条弹簧24的另一端固定在固定盒21的内部,直齿轮25固定在连接杆22的端部,防溅围挡26滑动连接在储杂盒18的内部,齿条27固定在防溅围挡26靠近直齿轮25的位置处,直齿轮25与齿条27啮合连接。
需要说明的是,防溅围挡26的上端与下端均安装有限位条,避免防溅围挡26在储杂盒18的内部移动时,与储杂盒18分离,保障防溅围挡26正常运行。
在该实施方式中,水平气缸14驱动固定架15移动时,使得拉绳23受力产生拉力,从而将连接杆22表面缠绕的拉绳23,与连接杆22分离,从固定盒21的内部拉出,使得连接杆22受力转动,进而使发条弹簧24受力发生扭转,并产生弹力,在连接杆22转动时,带动直齿轮25转动,从而使得防溅围挡26在储杂盒18的内部向上移动,对清洁刷17的周围形成防护圈,以减小清洁刷17对拾取头清洁时,导致的杂质飞溅的范围。
其次,请再次参阅图3、图7和图8,缓冲部30包括拉杆31、磁铁a32、磁铁b33、弹簧a34和拉环35,拉杆31滑动连接在固定板13的内部,磁铁a32固定在拉杆31位于固定板13内部的一端,磁铁b33固定在固定板13的内部且靠近磁铁a32的位置处,磁铁a32与磁铁b33相互吸引,弹簧a34设置在拉杆31的外侧,且靠近磁铁a32的位置处,拉环35固定在拉杆31远离固定板13的一端,拉绳23远离连接杆22的一端与拉环35固定连接。
需要说明的是,在水平气缸14推动固定架15移动时,使得发条弹簧24受力扭转并产生弹力,同时使拉绳23从固定盒21的内部拉出并带动连接杆22转动,进而使直齿轮25带动齿条27在储杂盒18的内部向上移动,使得防溅围挡26在储杂盒18的内部向上移动对清洁刷17的周围形成防护。
值得一提的是,磁铁a32与磁铁b33之间的吸引力大于发条弹簧24的弹力,弹簧a34的弹力大于发条弹簧24的弹力。
再进一步地,在拉绳23从固定盒21的内部拉出后,呈现完全伸展状态时,继续使水平气缸14推动固定架15移动时,使得磁铁a32与磁铁b33分离,进而使拉杆31从固定板13的内部拉出。
上述,在水平气缸14驱动固定架15移动,使得拉绳23被拉动,使得拉绳23从固定盒21内部完全伸展后,水平气缸14继续推动固定架15移动时,可使拉杆31受力,使得磁铁a32与磁铁b33分离,使得拉杆31从固定板13的内部被拉出,进而使弹簧a34受力压缩,以避免拉绳23在被拉直后,水平气缸14的继续移动,导致的拉绳23受到过大的力,而产生绷断的问题,可适用不同长度的拉绳23,提升使用的便捷性,在水平气缸14驱动固定架15恢复原来的位置时,通过弹簧a34的弹力,使得拉杆31移回固定板13的内部,进行复位。
再其次,请再次参阅图10,电机16的输出端与清洁刷17之间安装有快拆部50,快拆部50包括固定轴51、凹面杆52、卡球53、弹簧b54、矩形杆55和顶杆56,固定轴51固定在电机16的输出端,凹面杆52滑动连接在固定轴51的内部,卡球53设置在固定轴51的内部且靠近凹面杆52的位置处,弹簧b54设置在固定轴51的内部且靠近凹面杆52的位置处,矩形杆55固定在清洁刷17靠近固定轴51的一端,矩形杆55插接在固定轴51的内部,矩形杆55滑动连接在清洁刷17的内部且贯穿矩形杆55。
需要说明的是,清洁刷17远离矩形杆55的一端安装有磁环,磁环与顶杆56之间的吸引力小于弹簧b54的弹力,避免磁环吸引顶杆56导致的凹面杆52移动,以提升矩形杆55被锁紧的稳定性。
值得一提的是,矩形杆55的表面开设有卡槽,以便卡球53移入卡槽内,对矩形杆55进行限定。
上述,在更换清洁刷17时,按压顶杆56,使得顶杆56推动凹面杆52远离清洁刷17,并使弹簧b54受力压缩,进而使得凹面杆52远离卡球53,取消对卡球53的限定,移动清洁刷17,使矩形杆55从固定轴51的内部移出,从而使卡球53与矩形杆55分离,以便对清洁刷17的更换,在更换清洁刷17时,使矩形杆55插入固定轴51的内部,并使卡球53卡接在矩形杆55的表面,通过弹簧b54的弹力,使凹面杆52对卡球53进行限定,以保障清洁刷17与固定轴51连接的稳定性。
实施例2
请参阅附图9所示,为本发明第二个实施例,该实施例提供了一种立式转塔巨量转移固晶机,还包括吸尘部40,吸尘部40包括风机41、集尘盒42、多孔挡板43、过滤棉a44和过滤棉b45,风机41安装在储杂盒18的下端,风机41的输入端与储杂盒18连通,集尘盒42固定在储杂盒18的下端,且风机41的输出端与集尘盒42连通,多孔挡板43滑动连接在集尘盒42的下端,过滤棉a44设置在集尘盒42的内部,过滤棉b45设置在储杂盒18的内部。
在该实施方式中,在清洁的同时,启动风机41,使得储杂盒18的内部产生负压,进而吸收清洁刷17对拾取头清洁时产生的杂质,被过滤棉b45过滤,使得杂质被吸附在过滤棉b45的表面,或部分杂质被吸收在集尘盒42的内部,被过滤棉a44过滤,在对过滤棉b45或过滤棉a44进行清洁更换时,直接使过滤棉b45从储杂盒18的内部取出,对过滤棉b45进行更换清洁,移动多孔挡板43,使多孔挡板43从集尘盒42的内部移出对集尘盒42内部的过滤棉a44进行,更换清洁。
实施例3
请参阅附图11至图14,为本发明第三个实施例,该实施例提供了一种立式转塔巨量转移固晶机,底座1的上端固定有邦头板2,邦头板2的上端装配有立式转塔机构120,且立式转塔机构120的输出端延伸至邦头板2的下端,立式转塔机构120的上端设置有电气滑环,立式转塔机构120的下端固定有多工位转盘121,多工位转盘121在立式转塔机构120的驱动下做单向圆周运动,多工位转盘121的外侧环形分布有多个垂向滑台组件122,还包括:
晶元拾取矫正组件130,晶元拾取矫正组件130装配于垂向滑台组件122上,晶元拾取矫正组件130的内部开设有真空气道,垂向滑台组件122能够带动晶元拾取矫正组件130在垂直方向上移动;
吸嘴112,吸嘴112装配于晶元拾取矫正组件130的内部,吸嘴112的内部开设有三条吸附气道;
拾取气路,拾取气路由吸附气道和真空气道组合而成,吸嘴112通过拾取气路能够一次完成一个像素R、G、B晶元的拾取;
图像采集组件140,图像采集组件140装配于底座1的上端,图像采集组件140能够对R、G、B晶元的摆放角度进行检测;
其中,R、G、B晶元能够跟随吸嘴112同步转动以调整像R、G、B晶元的摆放角度。
在此,与晶元拾取矫正组件130配套使用的有一真空泵,真空泵运转后,拾取气路内部形成负压,吸嘴112通过拾取气路内部的负压对R、G、B晶元进行拾取。
在该实施方式中,启动立式转塔机构120,通过立式转塔机构120和多工位转盘121的固定连接,使得立式转塔机构120带动多工位转盘121做单向圆周运动,由于垂向滑台组件122分布于多工位转盘121的外侧,使得多工位转盘121带动垂向滑台组件122转动,进而带动晶元拾取矫正组件130和吸嘴112转动,当吸嘴112转动至晶元上方时,启动垂向滑台组件122,通过垂向滑台组件122带动晶元拾取矫正组件130在垂直方向移动,进而使得吸嘴112向靠近晶元的方向移动,当吸嘴112和晶元贴合后,启动真空泵,使得拾取气路内部形成负压,通过吸嘴112内部的吸附气道对晶元进行拾取,同时,由于吸嘴112内部开设有三条吸附气道,使得吸嘴112一次完成一个像素R、G、B晶元的拾取,吸嘴112拾取完毕后,通过立式转塔机构120带动吸嘴112转动,当吸嘴112转动至图像采集组件140上方后,通过图像采集组件140对R、G、B晶元的摆放角度进行检测,当R、G、B晶元的摆放角度出现偏差时,启动晶元拾取矫正组件130,通过晶元拾取矫正组件130带动吸嘴112转动,进而通过吸嘴112对R、G、B晶元的摆放角度进行矫正,使得装置具备了对晶元摆放角度进行检测和矫正的功能,避免R、G、B晶元贴合在基板上时,摆放角度出现偏差,导致基板良品率下降,提高了产品质量,降低了生产成本。
其次,请一并参阅图11和图12,还包括基板夹持组件160、多个晶元供给组件170和多个图像定位组件180,基板夹持组件160和多个晶元供给组件170均装配于底座1的上端,且晶元供给组件170和图像采集组件140一一对应,多个图像定位组件180均装配于邦头板2的上端,多个图像定位组件180和多个晶元供给组件170以及图像定位组件180和基板夹持组件160之间均一一对应,且基板夹持组件160和底座1以及晶元供给组件170和底座1之间均装配有十字工作台,通过十字工作台能够在水平方向调节基板夹持组件160和晶元供给组件170的位置。
进一步的,基板夹持组件160上设置有夹持治具,夹持治具用于对基板进行夹持,晶元供给组件170上设置有晶元供给环,用于向吸嘴112供给R、G、B晶元,晶元供给环上设置有蓝膜,底座1的上端且位于晶元供给环的下端装配有顶起装置,当吸嘴112吸住晶元后,启动顶起装置,通过顶起装置能够将晶元顶起,使得晶元与蓝膜脱离,图像定位组件180上设置有工业相机,工业相机用于晶元进行精确定位,且基板夹持组件160和晶元供给组件170在位于其下端的十字工作台的下,能够在水平方向调整位置,进而带动基板、晶元供给环及晶元供给环上的R、G、B晶元调整位置。
优选的,在本实施例中,吸嘴112和晶元拾取矫正组件130的数量为八个,且相邻的两个晶元拾取矫正组件130之间的水平夹角为图像采集元件45度,在八个吸嘴112均拾取有R、G、B晶元的情况下,相邻的两次固晶周期中,R、G、B晶元的通过吸嘴112搬运时转动的角度为图像采集元件45度,进而缩短了一个固晶路径和单次固晶的时间,晶元供给组件170的数量为三个,八个晶元拾取矫正组件130能够交替拾取三个晶元供给组件170上的晶元,同时,通过吸嘴112拾取晶元时,通过其内部开设的三条吸附吸道,在拾取气路内部形成负压后,通过吸嘴112能够一次完成一个像素R、G、B晶元的拾取,缩短了晶元供给组件170的运行次数,提高了固晶效率和产能。
在该实施方式中,在吸嘴112拾取R、G、B晶元之前,通过图像定位组件180精准获取晶元供给环上的晶元位置,当晶元位置出现偏差,不在吸嘴112的移动轨迹上时,启动该晶元供给环下端的十字工作台,通过十字工作台调整该晶元供给环上晶元的位置,使得吸嘴112能够准确的拾取到R、G、B晶元,当吸嘴112拾取R、G、B晶元完毕后,启动顶起装置,通过顶起装置将晶元顶起,使其与蓝膜脱离,在立式转塔机构120的驱动下,使得该吸嘴112转动,并途经图像采集组件140的上端并停留在基板夹持组件160上的基板上端,吸嘴112带动R、G、B晶元转动至图像采集组件140上端时,通过图像采集组件140对吸嘴112下端的R、G、B晶元的摆放角度进行检测,若该吸嘴112下端的R、G、B晶元摆放角度出现偏差,通过晶元拾取矫正组件130对其摆放角度进行矫正,该吸嘴112转动至基板上端后,将吸嘴112拾取的R、G、B晶元放置于基板上,在该吸嘴112将R、G、B晶元放置于基板之前,通过与基板夹持组件160相适配的图像定位组件180对基板的位置进行定位,避免R、G、B晶元放置位置出现偏差,当基板的位置出现偏差时,启动基板夹持组件160下端的十字工作台,对基板的位置进行调整。
通过立式转塔机构120带动吸嘴112转动至晶元供给组件170上端,通过吸嘴112拾取R、G、B晶元,在吸嘴112拾取R、G、B晶元之前,通过图像定位组件180精准获取晶元供给组件170上的晶元位置,当晶元位置出现偏差,通过该晶元供给组件170下端的十字工作台调整该晶元供给组件170上晶元供给环上晶元的位置,启动晶元拾取矫正组件130,使得多个吸嘴112交替拾取晶元,当吸嘴112拾取R、G、B晶元完毕后,启动顶起装置,通过顶起装置将晶元顶起,使其与蓝膜脱离,在立式转塔机构120的驱动下,使得该吸嘴112转动,并途经图像采集组件140的上端并停留在基板夹持组件160上的基板上端,吸嘴112带动R、G、B晶元转动至图像采集组件140上端时,通过图像采集组件140对吸嘴112下端的R、G、B晶元的摆放角度进行检测,并启动晶元拾取矫正组件130对该吸嘴112下端的R、G、B晶元进行矫正,该吸嘴112转动至基板上端后,将吸嘴112拾取的R、G、B晶元放置于基板上,在该吸嘴112将R、G、B晶元放置于基板之前,通过与基板夹持组件160相适配的图像定位组件180对基板的位置进行定位,避免R、G、B晶元放置位置出现偏差,当基板的位置出现偏差时,启动基板夹持组件160下端的十字工作台,对基板的位置进行调整。
可以实现高速高精度(产能90K/H以上,贴合精度±10µm)和大尺寸基板(500*600mm以上)的贴合,同时具有晶元角度自动校正、取晶及固晶实时侦测和拾取头清洁功能等特点。
本发明的工作原理为:在对拾取头进行清洁时,启动水平气缸14,驱动储杂盒18移动,并带动防溅部20运行,对清洁刷17的周围形成防护,启动竖直气缸12,使得清洁刷17移动至被清洁的拾取头下部,启动电机16,使得清洁刷17转动,对拾取头进行清洁,避免在清洁刷17旋转时使拾取头上的杂质飞溅到设备的各处,以保障清洁时的洁净度,避免杂质对设备造成影响,在清洁的同时,启动吸尘部40,以收取被清洁的杂质,以减小杂质的飞溅幅度,提升杂质的收集效果,在对清洁刷17进行更换时,通过快拆部50可快速地对清洁刷17进行拆卸安装,以减小设备的维护时间,保障设备的工作效率。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。本发明中未具体描述和解释说明的结构、装置以及操作方法,如无特别说明和限定,均按照本领域的常规手段进行实施。

Claims (12)

1.一种立式转塔巨量转移固晶机,其特征在于:包括:
底座(1);
清洁机构(10),所述清洁机构(10)固定在底座(1)上,所述清洁机构(10)包括固定座(11)、竖直气缸(12)、固定板(13)、水平气缸(14)、固定架(15)、电机(16)、清洁刷(17)和储杂盒(18),所述固定座(11)固定在底座(1)的上端,所述竖直气缸(12)固定在固定座(11)的外侧,所述固定板(13)固定在竖直气缸(12)的输出端,所述水平气缸(14)固定在固定板(13)的上端,所述固定架(15)固定在电机(16)的输出端,所述电机(16)固定在固定架(15)远离水平气缸(14)的一侧,所述清洁刷(17)安装在电机(16)的输出端,所述储杂盒(18)固定在固定架(15)远离水平气缸(14)的一侧且位于清洁刷(17)的下部;
防溅部(20),所述防溅部(20)安装在储杂盒(18)上,所述防溅部(20)用于在清洁刷(17)清洁时减小杂质的飞溅;
吸尘部(40),所述吸尘部(40)安装在储杂盒(18)上,所述吸尘部(40)用于在清洁刷(17)清洗时吸取杂质。
2.根据权利要求1所述的立式转塔巨量转移固晶机,其特征在于:所述防溅部(20)包括固定盒(21)、连接杆(22)、拉绳(23)、发条弹簧(24)、直齿轮(25)、防溅围挡(26)和齿条(27),所述固定盒(21)固定在储杂盒(18)的下端,所述连接杆(22)转动连接在防溅部(20)的内部,所述拉绳(23)缠绕在连接杆(22)的表面,所述拉绳(23)远离连接杆(22)的一端安装有缓冲部(30),所述缓冲部(30)安装在固定板(13)的内部,所述发条弹簧(24)安装在连接杆(22)的外侧,所述发条弹簧(24)的一端固定在连接杆(22)的表面,所述发条弹簧(24)的另一端固定在固定盒(21)的内部,所述直齿轮(25)固定在连接杆(22)的端部,所述防溅围挡(26)滑动连接在储杂盒(18)的内部,所述齿条(27)固定在防溅围挡(26)靠近直齿轮(25)的位置处,所述直齿轮(25)与齿条(27)啮合连接。
3.根据权利要求2所述的立式转塔巨量转移固晶机,其特征在于:所述缓冲部(30)包括拉杆(31)、磁铁a(32)、磁铁b(33)、弹簧a(34)和拉环(35),所述拉杆(31)滑动连接在固定板(13)的内部,所述磁铁a(32)固定在拉杆(31)位于固定板(13)内部的一端,所述磁铁b(33)固定在固定板(13)的内部且靠近磁铁a(32)的位置处,所述磁铁a(32)与磁铁b(33)相互吸引,所述弹簧a(34)设置在拉杆(31)的外侧,且靠近磁铁a(32)的位置处,所述拉环(35)固定在拉杆(31)远离固定板(13)的一端,所述拉绳(23)远离连接杆(22)的一端与拉环(35)固定连接。
4.根据权利要求3所述的立式转塔巨量转移固晶机,其特征在于:在所述水平气缸(14)推动固定架(15)移动时,使得所述发条弹簧(24)受力扭转并产生弹力,同时使所述拉绳(23)从固定盒(21)的内部拉出并带动连接杆(22)转动,进而使所述直齿轮(25)带动齿条(27)在储杂盒(18)的内部向上移动,使得所述防溅围挡(26)在储杂盒(18)的内部向上移动对清洁刷(17)的周围形成防护。
5.根据权利要求3所述的立式转塔巨量转移固晶机,其特征在于:所述磁铁a(32)与磁铁b(33)之间的吸引力大于发条弹簧(24)的弹力,所述弹簧a(34)的弹力大于发条弹簧(24)的弹力。
6.根据权利要求5所述的立式转塔巨量转移固晶机,其特征在于:在所述拉绳(23)从固定盒(21)的内部拉出后,呈现完全伸展状态时,继续使所述水平气缸(14)推动固定架(15)移动时,使得所述磁铁a(32)与磁铁b(33)分离,进而使所述拉杆(31)从固定板(13)的内部拉出。
7.根据权利要求2所述的立式转塔巨量转移固晶机,其特征在于:所述防溅围挡(26)的上端与下端均安装有限位条。
8.根据权利要求1所述的立式转塔巨量转移固晶机,其特征在于:所述吸尘部(40)包括风机(41)、集尘盒(42)、多孔挡板(43)、过滤棉a(44)和过滤棉b(45),所述风机(41)安装在储杂盒(18)的下端,所述风机(41)的输入端与储杂盒(18)连通,所述集尘盒(42)固定在储杂盒(18)的下端,且所述风机(41)的输出端与集尘盒(42)连通,所述多孔挡板(43)滑动连接在集尘盒(42)的下端,所述过滤棉a(44)设置在集尘盒(42)的内部,所述过滤棉b(45)设置在储杂盒(18)的内部。
9.根据权利要求1所述的立式转塔巨量转移固晶机,其特征在于:所述电机(16)的输出端与清洁刷(17)之间安装有快拆部(50),所述快拆部(50)包括固定轴(51)、凹面杆(52)、卡球(53)、弹簧b(54)、矩形杆(55)和顶杆(56),所述固定轴(51)固定在电机(16)的输出端,所述凹面杆(52)滑动连接在固定轴(51)的内部,所述卡球(53)设置在固定轴(51)的内部且靠近凹面杆(52)的位置处,所述弹簧b(54)设置在固定轴(51)的内部且靠近凹面杆(52)的位置处,所述矩形杆(55)固定在清洁刷(17)靠近固定轴(51)的一端,所述矩形杆(55)插接在固定轴(51)的内部,所述矩形杆(55)滑动连接在清洁刷(17)的内部且贯穿矩形杆(55)。
10.根据权利要求9所述的立式转塔巨量转移固晶机,其特征在于:所述清洁刷(17)远离矩形杆(55)的一端安装有磁环,所述磁环与顶杆(56)之间的吸引力小于弹簧b(54)的弹力。
11.根据权利要求1所述的立式转塔巨量转移固晶机,其特征在于:所述底座(1)的上端固定有邦头板(2),所述邦头板(2)的上端装配有立式转塔机构(120),且所述立式转塔机构(120)的输出端延伸至邦头板(2)的下端,所述立式转塔机构(120)的下端固定有多工位转盘(121),所述多工位转盘(121)在立式转塔机构(120)的驱动下做单向圆周运动,所述多工位转盘(121)的外侧环形分布有多个垂向滑台组件(122),还包括:
晶元拾取矫正组件(130),所述晶元拾取矫正组件(130)装配于垂向滑台组件(122)上,所述晶元拾取矫正组件(130)的内部开设有真空气道,所述垂向滑台组件(122)能够带动晶元拾取矫正组件(130)在垂直方向上移动;
吸嘴(112),所述吸嘴(112)装配于晶元拾取矫正组件(130)的内部,所述吸嘴(112)的内部开设有三条吸附气道;
拾取气路,所述拾取气路由吸附气道和真空气道组合而成,所述吸嘴(112)通过拾取气路能够一次完成一个像素R、G、B晶元的拾取;
图像采集组件(140),所述图像采集组件(140)装配于底座(1)的上端,所述图像采集组件(140)能够对R、G、B晶元的摆放角度进行检测;
其中,所述R、G、B晶元能够跟随吸嘴(112)同步转动以调整像R、G、B晶元的摆放角度。
12.根据权利要求11所述的立式转塔巨量转移固晶机,其特征在于:还包括基板夹持组件(160)、多个晶元供给组件(170)和多个图像定位组件(180),所述基板夹持组件(160)和多个晶元供给组件(170)均装配于底座(1)的上端,且所述晶元供给组件(170)和图像采集组件(140)一一对应,多个所述图像定位组件(180)均装配于邦头板(2)的上端,多个所述图像定位组件(180)和多个晶元供给组件(170)以及图像定位组件(180)和基板夹持组件(160)之间均一一对应,且所述基板夹持组件(160)和底座(1)以及晶元供给组件(170)和底座(1)之间均装配有十字工作台,通过所述十字工作台能够在水平方向调节基板夹持组件(160)和晶元供给组件(170)的位置。
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