CN117560961A - 显示面板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请提供了一种显示面板和显示装置。本申请将第一连接线和第二连接线错层设置，以使得连接导线所在的膜层数增多，相比于现有技术中将连接导线采用同一层布线的方式，本申请减小了连接导线所在的拉伸区的宽度，从而提升了拉伸区的耐弯折性能，降低了显示面板在拉伸过程中断裂失效的风险；进一步地，将第一连接线和栅极通过第一金属层图案化形成，以及将第二连接线和源漏极层通过第二金属层图案化形成，使得第一连接线与栅极可以直接搭接无需通过过孔连接，以及第二连接线与源漏极层可以直接搭接无需通过过孔连接，在不影响显示面板的正常显示情况下，简化了连接导线的制备工艺。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
柔性可拉伸显示屏作为一种新形态的显示装置受到消费者的广泛关注，由于其可折叠、方便携带和应用范围广等优点可适用多场景的实际应用。作为可拉伸显示产品，当屏幕受到拉伸后，必然会承受拉伸等复杂外力的作用，可拉伸柔性屏幕内部会发生不同程度的延展变形，当屏幕延展变形到一定应变值时，可拉伸柔性屏幕中的薄膜场效应晶体管(thin film transistor，tft)、像素显示器件层极易损坏，会直接引起可拉伸柔性屏幕无法正常点亮。
发明内容
本申请主要解决的技术问题是提供一种显示面板和显示装置，解决现有技术可拉伸柔性屏幕无法正常点亮的问题。
为了解决上述技术问题，本申请提供的第一个技术方案为：提供一种显示面板，具有岛区和位于相邻所述岛区之间的拉伸区；其中，包括：
多个像素岛，位于所述岛区，且包括子像素和与所述子像素连接的的薄膜晶体管；
连接导线，位于所述拉伸区；每一所述连接导线连接相邻两个所述像素岛；所述连接导线包括错层设置的第一连接线和第二连接线；所述第一连接线用于与所述薄膜晶体管的栅极电连接；所述第二连接线用于所述薄膜晶体管的源漏极层电连接；
线路层，包括层叠设置的第一金属层和第二金属层；
平坦层，位于所述岛区和所述拉伸区，且位于所述线路层的上表面并覆盖所述线路层；
其中，所述第一金属层用于形成所述第一连接线和所述栅极；所述第二金属层用于形成所述第二连接线和所述源漏极层。
其中，所述连接导线还包括与所述第一连接线和所述第二连接线错层设置的第三连接线，所述第三连接线用于与所述子像素的阴极电连接。
其中，所述第三连接线与所述阴极通过同一导电层图案化形成。
其中，所述像素岛还包括设置于所述子像素侧边的导电隔离结构，所述导电隔离结构包括导电部和设置于所述导电部的上表面且遮挡所述导电部的绝缘部，所述导电部与所述子像素的阴极电连接以实现所述像素岛内子像素的阴极之间的相互电连接。
其中，所述第三连接线与所述导电部通过同一导电层图案化形成。
其中，相邻两个所述像素岛之间设置有至少两根所述连接导线。
其中，所述像素岛成阵列分布；所述第一连接线位于行方向上相邻两个所述像素岛之间的所述拉伸区内；所述第二连接线位于列方向上相邻两个所述像素岛之间的所述拉伸区内；所述第三连接线位于相邻两个所述像素岛之间的所述拉伸区内。
其中，所述线路层还包括栅极绝缘层和层间绝缘层；所述栅极绝缘层、所述第一金属层、所述层间绝缘层和所述第二金属层依次朝向靠近所述平坦层的方向层叠设置；
所述线路层上设置有贯穿所述栅极绝缘层和所述层间绝缘层的开口，所述开口位于所述拉伸区；定义位于所述行方向上相邻所述像素岛之间的所述拉伸区内的开口为第一开口，定义位于所述列方向上相邻所述像素岛之间的所述拉伸区内的开口为第二开口；
所述第一连接线部分设置于所述第一开口内；所述平坦层部分填充于所述第一开口，且与所述第一连接线位于所述第一开口内的部分接触设置；
所述第二连接线部分设置于所述第二开口内，所述平坦层部分填充于所述第二开口，且与所述第二连接线位于所述第二开口内的部分接触设置。
其中，所述显示面板还包括设置于所述平坦层远离所述线路层一侧的像素定义层，所述像素定义层上设置有位于所述岛区的像素开口，所述子像素位于所述像素开口内；所述导电隔离结构设置于所述像素定义层的上表面；所述像素定义层上还设置有贯穿所述像素定义层的上表面和所述像素定义层的下表面的第三开口，所述第三连接线部分设置于所述第三开口内，所述平坦层与所述第三连接线位于所述第三开口内的部分接触设置。
为了解决上述技术问题，本申请提供的第二个技术方案为：提供一种显示装置，其中，包括上述的显示面板。
本申请的有益效果：区别于现有技术，本申请提供了一种显示面板和显示装置，显示面板具有岛区和位于岛区之间的拉伸区。显示面板包括多个像素岛、连接导线和平坦层。多个像素岛位于岛区，且包括子像素和与子像素连接的薄膜晶体管。连接导线位于拉伸区。每一连接导线连接相邻两个像素岛。连接导线包括错层设置的第一连接线和第二连接线。第一连接线用于与薄膜晶体管的栅极电连接。第二连接线用于与薄膜晶体管的源漏极层电连接。线路层包括层叠设置的第一金属层和第二金属层。平坦层位于岛区和拉伸区，且位于线路层的上表面并覆盖线路层。其中，第一金属层用于形成第一连接线和栅极。第二金属层用于形成第二连接线和源漏极层。本申请将第一连接线和第二连接线错层设置，以使得连接导线所在的膜层数增多，相比于现有技术中将连接导线采用同一层布线的方式，本申请减小了连接导线所在的拉伸区的宽度，从而提升了拉伸区的耐弯折性能，降低了显示面板在拉伸过程中断裂失效的风险；进一步地，将第一连接线和栅极通过第一金属层图案化形成，以及将第二连接线和源漏极层通过第二金属层图案化形成，使得第一连接线与栅极可以直接搭接无需通过过孔连接，以及第二连接线与源漏极层可以直接搭接无需通过过孔连接，在不影响显示面板的正常显示情况下，简化了连接导线的制备工艺。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出任何创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1是本申请提供的显示面板一实施例的结构示意图；
图2是图1中A1处的局部放大图；
图3是图2中E-E处的剖面结构示意图；
图4是图2中F-F处的剖面结构示意图；
图5是图2中H-H处的剖面结构示意图；
图6是图1中A2处的局部放大图；
图7是图6中K-K处的剖面结构示意图；
图8是图6中L-L处的剖面结构示意图；
图9是图2中I-I处的剖面结构示意图；
图10是图2中J-J处的剖面结构示意图。
附图标号说明：
10、像素岛；11、子像素；111、阳极；112、发光层；113、阴极；R、红色像素；G、绿色像素；B、蓝色像素；12、薄膜晶体管；121、栅极；122、源漏极层；123、源极；124、漏极；125、有源层；13、导电隔离结构；131、导电部；132、绝缘部；20、连接导线；21、第一连接线；22、第二连接线；23、第三连接线；30、线路层；31、第一金属层；32、第二金属层；33、栅极绝缘层；34、层间绝缘层；35、第一开口；36、第二开口；37、开口；40、平坦层；50、像素定义层；51、像素开口；52、第三开口；60、钝化层；70、缓冲层；80、衬底；100、岛区；200、拉伸区。
具体实施方式
下面结合说明书附图，对本申请实施例的方案进行详细说明。
以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了诸如特定系统结构、接口、技术之类的具体细节，以便透彻理解本申请。
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
本申请中的术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。本申请实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
请参阅图1至图8，图1是本申请提供的显示面板一实施例的结构示意图，图2是图1中A1处的局部放大图，图3是图2中E-E处的剖面结构示意图，图4是图2中F-F处的剖面结构示意图，图5是图2中H-H处的剖面结构示意图，图6是图1中A2处的局部放大图，图7是图6中K-K处的剖面结构示意图，图8是图6中L-L处的剖面结构示意图。
本申请提供一种显示面板，显示面板具有岛区100和位于岛区100之间的拉伸区200。显示面板包括多个像素岛10、连接导线20和平坦层40。多个像素岛10位于岛区100，且包括子像素11和与子像素11连接的薄膜晶体管12。连接导线20位于拉伸区200。每一连接导线20连接相邻两个像素岛10。连接导线20包括错层设置的第一连接线21和第二连接线22。第一连接线21用于与薄膜晶体管12的栅极121电连接。第二连接线22用于薄膜晶体管12的源漏极层122电连接。线路层30包括层叠设置的第一金属层31和第二金属层32。平坦层40位于岛区100和拉伸区200，且位于线路层30的上表面并覆盖线路层30。其中，第一金属层31用于形成第一连接线21和栅极121。第二金属层32用于形成第二连接线22和源漏极层122。
本申请将第一连接线21和第二连接线22错层设置，以使得连接导线20所在的膜层数增多，相比于现有技术中将连接导线20采用同一层布线的方式，本申请减小了连接导线20所在的拉伸区200的宽度，从而提升了拉伸区200的耐弯折性能，降低了显示面板在拉伸过程中断裂失效的风险；进一步地，将第一连接线21和栅极121通过第一金属层31图案化形成，以及将第二连接线22和源漏极层122通过第二金属层32图案化形成，使得第一连接线21与栅极121可以直接搭接无需通过过孔连接，以及第二连接线22与源漏极层122可以直接搭接无需通过过孔连接，在不影响显示面板的正常显示情况下，简化了连接导线20的制备工艺。
本申请的显示面板为可拉伸显示面板。显示面板中位于岛区100的部分在拉伸过程中不发生形变，即使发生形变也是较小的形变，可以忽略不计。显示面板中位于拉伸区200的部分在拉伸过程中可以发生形变和形变的恢复以实现显示面板的拉伸变形。
像素岛10包括子像素11和与子像素11连接的薄膜晶体管12。每个像素岛10包括至少一个子像素11。子像素11包括依次层叠设置的阳极111、发光层112和阴极113。子像素11为OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)。子像素11的阳极111与薄膜晶体管12的源漏极层122电连接。一个子像素11对应一种颜色像素。此处对子像素11的形状和大小，以及子像素11的排布方式不作限制，根据实际需求进行选择。此处对每个像素岛10内子像素11的数量不作限制。不同像素岛10内的子像素11的数量可以相同，也可以不相同，此处不作限制。
薄膜晶体管12除了包括栅极121和源漏极层122之外，还包括有源层125。此处对薄膜晶体管12的材质和类型不作过多限制，根据实际需求进行选择。薄膜晶体管12为多个，一个薄膜晶体管12对应一个子像素11设置。
需要说明的是，源漏极层122指的是源极123和漏极124，本申请中的与薄膜晶体管12的源漏极层122电连接、以及与源漏极层122电连接均指的是与源极123和漏极124中的一个电连接，并非同时与源极123和漏极124电连接。
在本申请中，像素岛10成阵列排布。子像素11为矩形。每个像素岛10均包括三个颜色不相同的子像素11。每个像素岛10内子像素11的排布方式均相同。每个像素岛10内，三个颜色不相同的子像素11依次沿行方向并排设置。三个不同颜色的子像素11分别为红色像素R、绿色像素G和蓝色像素B。每个像素岛10内的红色像素R、绿色像素G和蓝色像素B依次并排设置。
应当可以理解，在其他实施例中，子像素11还可以是其他颜色像素，此处不作限制，根据实际需求进行选择。
需要强调的是，本申请的行方向指的是像素岛10的行方向，列方向指的是像素岛10的列方向。
每一连接导线20连接相邻两个像素岛10，指得是每一连接导线20的两端分别连接相邻两个像素岛10的阴极113，或者，每一连接导线20的两端分别连接相邻两个像素岛10的栅极121，又或者，每一连接导线20的两端分别连接相邻两个像素岛10的源漏极层122。
每一连接导线20的两端分别连接相邻两个像素岛10的源漏极层122，指的是每一连接导线20的两端分别连接相邻两个像素岛10的源极123，或每一连接导线20的两端分别连接相邻两个像素岛10的漏极124。
第一金属层31用于形成第一连接线21和栅极121。可以理解为，第一连接线21和栅极121通过第一金属层31图案化形成，使得第一连接线21可以与栅极121直接搭接，无需通过过孔连接。第二金属层32用于形成第二连接线22和源漏极层122。可以理解为，第二连接线22和源漏极层122通过第二金属层32图案化形成，使得第二连接线22可以与源漏极层122直接搭接，无需通过过孔连接。也就是说，本申请的连接导线20与薄膜晶体管12之间无需进行过孔连接，可以简化连接导线20的制备工艺。
请参阅图3、图9和图10，图9是图2中I-I处的剖面结构示意图，图10是图2中J-J处的剖面结构示意图。
连接导线20还包括与第一连接线21和第二连接线22错层设置的第三连接线23，第三连接线23用于与子像素11的阴极113电连接。不同像素岛10的阴极113之间通过第三连接线23实现相互导通。第三连接线23可以与阴极113直接搭接形成电连接，或者，第三连接线23还可以与阴极113通过其他导电体实现电连接，此处不作过多限制。
第三连接线23的材料可以与阴极113相同，也可以与阴极113不相同。当第三连接线23的材料与阴极113相同时，第三连接线23与阴极113通过同一导电层图案化形成，使得第三连接线23与阴极113之间可以直接搭接，无需通过过孔连接，可以简化第三连接线23的制备工艺。
在本实施例中，第三连接线23与阴极113通过其他导电体实现电连接。像素岛10还包括设置于子像素11侧边的导电隔离结构13，导电隔离结构13包括导电部131和设置于导电部131的上表面且遮挡导电部131的绝缘部132，导电部131与子像素11的阴极113电连接以实现像素岛10内子像素11的阴极113之间的相互电连接。此处对导电部131的材质不作限制，根据实际需求进行选择。绝缘部132凸出于导电部131的上表面设置，且朝向相邻的导电隔离结构13延伸出导电部131。也就是说，绝缘部132的投影面积大于导电部131的投影面积，以便于在蒸镀子像素11时，可通过绝缘部132调整阴极113和发光层112的蒸镀角，以保证阴极113覆盖发光层112能与导电部131形成良好的搭接。此处对绝缘部132的形状不作限制，根据实际需求进行选择。
本实施例中，第三连接线23与导电部131通过同一导电层图案化形成，使得第三连接线23可以与导电部131直接搭接，无需通过过孔连接。第三连接线23与阴极113之间通过导电部131实现电连接。
应当可以理解，在其他实施例中，即使像素岛10包括导电隔离结构13，第三连接线23也可以与阴极113通过同一导电层图案化形成。第三连接线23可以与导电部131搭接，使得第三连接线23与阴极113之间通过导电部131实现电连接。
本实施例中，在像素岛10内设置导电隔离结构13，使得像素岛10内的子像素11之间可通过导电隔离结构13实现相互电连接，从而可以实现去精细金属掩模版化、显著提升像素开口51率；进一步地，导电隔离结构13中的导电部131相比于有机层和无机层具有更好的韧性，可以提升像素岛10的结构刚性，使拉伸延展变形发生在拉伸区200而非岛区100，保护薄膜晶体管12和子像素11不受损坏，以保证显示面板的正常显示，提升显示面板的品质。
相邻两个像素岛10之间设置有至少两根连接导线20。像素岛10成阵列分布。第一连接线21位于行方向上相邻两个像素岛10之间的拉伸区200内。第二连接线22位于列方向上相邻两个像素岛10之间的拉伸区200内。第三连接线23位于相邻两个像素岛10之间的拉伸区200内。
可以理解为，在行方向上，相邻两个像素岛10之间的拉伸区200内均设置有至少一个第一连接线21和至少一个第三连接线23；在列方向上，相邻两个像素岛10之间的拉伸区200内均设置有至少一个第二连接线22和至少一个第三连接线23。此处对每个拉伸区200内第一连接线21的数量和第三连接线23的数量不作限制，以及对每个拉伸区200内第二连接线22的数量和第三连接线23的数量不作限制，根据实际需求进行选择。在垂直于平坦层40的方向上，第一连接线21和第三连接线23可以至少部分重叠设置，也可以错位设置，此处不作限制，根据实际需求进行选择。同理，在垂直于平坦层40的方向上，第二连接线22和第三连接线23可以至少部分重叠设置，也可以错位设置，此处不作限制，根据实际需求进行选择。
在本实施例中，在行方向上，相邻两个像素岛10之间的拉伸区200内均设置有多个第一连接线21和多个第三连接线23；在列方向上，相邻两个像素岛10之间的拉伸区200内均设置有多个第二连接线22和多个第三连接线23，以保证连接导线20与像素岛10之间的良好搭接，防止连接导线20断裂而引起出现显示不良的问题。
平坦层40为有机材料。此处对平坦层40的材料不作限制，根据实际需求进行选择。
线路层30还包括栅极绝缘层33和层间绝缘层34。栅极绝缘层33、第一金属层31、层间绝缘层34和第二金属层32依次朝向靠近平坦层40的方向层叠设置。线路层30上设置有贯穿栅极绝缘层33和层间绝缘层34的开口37，开口37位于拉伸区200。定义位于行方向上相邻像素岛10之间的拉伸区200内的开口37为第一开口35，定义位于列方向上相邻像素岛10之间的拉伸区200内的开口37为第二开口36。
第一连接线21部分设置于第一开口35内。平坦层40部分填充于第一开口35，且与第一连接线21位于第一开口35内的部分接触设置。第二连接线22部分设置于第二开口36内，平坦层40部分填充于第二开口36，且与第二连接线22位于第二开口36内的部分接触设置。可以理解为，线路层30位于拉伸区200的部分进行开口设计，使得平坦层40可以尽可能多地填充于拉伸区200，以提升显示面板的拉伸性。
显示面板还包括设置于平坦层40远离线路层30一侧的像素定义层50，像素定义层50上设置有位于岛区100的像素开口51，子像素11位于像素开口51内。导电隔离结构13设置于像素定义层50的上表面。像素定义层50上还设置有贯穿像素定义层50的上表面和像素定义层50的下表面的第三开口52，第三连接线23部分设置于第三开口52内，平坦层40与第三连接线23位于第三开口52内的部分接触设置。
显示面板还包括钝化层60、缓冲层70和衬底80，钝化层60设置于平坦层40与线路层30之间。缓冲层70设置于衬底80与线路层30之间。此处对钝化层60、缓冲层70和衬底80的材料不作限制，根据实际需求进行选择。
应当可以理解，在其他实施例中，显示面板可以不包括缓冲层70。
本申请提供一种显示装置，显示装置包括上述的显示面板。
以上仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利保护范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种显示面板，具有岛区和位于相邻所述岛区之间的拉伸区；其特征在于，包括：
多个像素岛，位于所述岛区，且包括子像素和与所述子像素连接的的薄膜晶体管；
连接导线，位于所述拉伸区；每一所述连接导线连接相邻两个所述像素岛；所述连接导线包括错层设置的第一连接线和第二连接线；所述第一连接线用于与所述薄膜晶体管的栅极电连接；所述第二连接线用于所述薄膜晶体管的源漏极层电连接；
线路层，包括层叠设置的第一金属层和第二金属层；
平坦层，位于所述岛区和所述拉伸区，且位于所述线路层的上表面并覆盖所述线路层；
其中，所述第一金属层用于形成所述第一连接线和所述栅极；所述第二金属层用于形成所述第二连接线和所述源漏极层。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述连接导线还包括与所述第一连接线和所述第二连接线错层设置的第三连接线，所述第三连接线用于与所述子像素的阴极电连接。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第三连接线与所述阴极通过同一导电层图案化形成。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述像素岛还包括设置于所述子像素侧边的导电隔离结构，所述导电隔离结构包括导电部和设置于所述导电部的上表面且遮挡所述导电部的绝缘部，所述导电部与所述子像素的阴极电连接以实现所述像素岛内子像素的阴极之间的相互电连接。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第三连接线与所述导电部通过同一导电层图案化形成。
6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，相邻两个所述像素岛之间设置有至少两根所述连接导线。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述像素岛成阵列分布；所述第一连接线位于行方向上相邻两个所述像素岛之间的所述拉伸区内；所述第二连接线位于列方向上相邻两个所述像素岛之间的所述拉伸区内；所述第三连接线位于相邻两个所述像素岛之间的所述拉伸区内。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述线路层还包括栅极绝缘层和层间绝缘层；所述栅极绝缘层、所述第一金属层、所述层间绝缘层和所述第二金属层依次朝向靠近所述平坦层的方向层叠设置；
所述线路层上设置有贯穿所述栅极绝缘层和所述层间绝缘层的开口，所述开口位于所述拉伸区；定义位于所述行方向上相邻所述像素岛之间的所述拉伸区内的开口为第一开口，定义位于所述列方向上相邻所述像素岛之间的所述拉伸区内的开口为第二开口；
所述第一连接线部分设置于所述第一开口内；所述平坦层部分填充于所述第一开口，且与所述第一连接线位于所述第一开口内的部分接触设置；
所述第二连接线部分设置于所述第二开口内，所述平坦层部分填充于所述第二开口，且与所述第二连接线位于所述第二开口内的部分接触设置。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述平坦层远离所述线路层一侧的像素定义层，所述像素定义层上设置有位于所述岛区的像素开口，所述子像素位于所述像素开口内；所述导电隔离结构设置于所述像素定义层的上表面；所述像素定义层上还设置有贯穿所述像素定义层的上表面和所述像素定义层的下表面的第三开口，所述第三连接线部分设置于所述第三开口内，所述平坦层与所述第三连接线位于所述第三开口内的部分接触设置。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至9中任一项所述的显示面板。
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2023
- 2023-10-31 CN CN202311441802.1A patent/CN117560961A/zh active Pending
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