[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

CN116018372A - 具有改善的干涉条纹的多层结构膜和包括其的显示设备 - Google Patents

具有改善的干涉条纹的多层结构膜和包括其的显示设备 Download PDF

Info

Publication number
CN116018372A
CN116018372A CN202180044976.7A CN202180044976A CN116018372A CN 116018372 A CN116018372 A CN 116018372A CN 202180044976 A CN202180044976 A CN 202180044976A CN 116018372 A CN116018372 A CN 116018372A
Authority
CN
China
Prior art keywords
reflectance
film
substrate
coating layer
equation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202180044976.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN116018372B (zh
Inventor
安炳准
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kolon Industries Inc
Original Assignee
Kolon Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kolon Industries Inc filed Critical Kolon Industries Inc
Publication of CN116018372A publication Critical patent/CN116018372A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN116018372B publication Critical patent/CN116018372B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
    • G02B5/286—Interference filters comprising deposited thin solid films having four or fewer layers, e.g. for achieving a colour effect
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1039—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors comprising halogen-containing substituents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1042—Copolyimides derived from at least two different tetracarboxylic compounds or two different diamino compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1067—Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/14—Polyamide-imides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D163/00—Coating compositions based on epoxy resins; Coating compositions based on derivatives of epoxy resins
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/002—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of materials engineered to provide properties not available in nature, e.g. metamaterials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/0009—Materials therefor
    • G02F1/0063—Optical properties, e.g. absorption, reflection or birefringence
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/0102—Constructional details, not otherwise provided for in this subclass
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/19—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on variable-reflection or variable-refraction elements not provided for in groups G02F1/015 - G02F1/169
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/32—Epoxy compounds containing three or more epoxy groups
    • C08G59/3254—Epoxy compounds containing three or more epoxy groups containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or nitrogen
    • C08G59/3281—Epoxy compounds containing three or more epoxy groups containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or nitrogen containing silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2379/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
    • C08J2379/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2379/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2433/14—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2463/00—Characterised by the use of epoxy resins; Derivatives of epoxy resins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2227—Oxides; Hydroxides of metals of aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2237—Oxides; Hydroxides of metals of titanium
    • C08K2003/2241—Titanium dioxide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2244—Oxides; Hydroxides of metals of zirconium
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2203/00—Function characteristic
    • G02F2203/01—Function characteristic transmissive

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

本发明提供一种膜，包括：基板；和所述基板上的第一涂层，其中，根据通过测量380nm至780nm的波长范围内的反射率得到的反射率曲线，所述膜的反射率振荡比(Or)为1.0以下且反射率曲线斜率(Gr)为0.122以下，并且具有改善的干涉条纹。

Description

具有改善的干涉条纹的多层结构膜和包括其的显示设备
技术领域
本公开涉及一种用于显示设备的膜、包括所述膜的显示设备和聚酰亚胺类膜。
背景技术
具有优异的不溶性、耐化学性、耐热性、耐辐射性和低温特性的聚合物树脂被用作汽车材料、航空材料、航天器材料、绝缘涂料、绝缘膜、保护膜等。
近来，为了减少显示设备的厚度和重量以及提高柔韧性的目的，已经考虑使用由聚合物树脂形成的聚合物膜代替玻璃作为显示设备的覆盖窗。为了使聚合物膜能够用作显示设备的覆盖窗，聚合物膜需要具有优异的物理性能如硬度、耐磨性和柔韧性。为了赋予显示设备期望的物理性能，在基板上形成涂层。
然而，由于涂层与基板之间的光学性能的差异，在包括形成在基板上的涂层的膜中发生光学干涉。因此，在膜的表面上产生如彩虹光的干涉条纹，由此存在膜的可见性劣化的问题。
发明内容
技术问题
因此，鉴于上述问题而做出本公开，并且本公开的一个目的是提供一种反射率振荡比(Or)为1.0以下的膜。
本公开的另一目的是提供一种反射率曲线斜率(Gr)为0.122以下的膜。
技术方案
根据本公开，上述和其它目的可以通过提供一种膜来实现，所述膜包括基板和设置在所述基板上的第一涂层，其中，基于通过测量在380nm至780nm的波长范围内的反射率得到的反射率曲线，所述膜利用下面等式1计算的反射率振荡比Or为1.0以下，利用下面等式2计算的反射率曲线斜率Gr为0.122以下：
<等式1>
Or＝[(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1，Om2)
<等式2>
Gr＝|(Rm1-Rm2)|/Rm2
其中，在等式1中，Om1是500nm至550nm的波长范围内的反射率振荡值的平均Om，Om2是650nm至780nm的波长范围内的反射率振荡值的平均Om，
其中，反射率振荡值的平均Om1和平均Om2使用下面等式3计算，Min(Om1，Om2)是反射率振荡值的平均Om1和平均Om2中较小的平均Om，
其中，在等式2中，Rm1是在反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的第一峰P1对应的反射率值和第一谷V1对应的反射率值的算术平均值，Rm2是在反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的最终峰Pf对应的反射率值和最终谷Vf对应的反射率值的算术平均值，
<等式3>
Om＝(1/n)*∑(Ok)
其中，在等式3中，Ok是在相应的波长范围内的振荡值，n是在相应的波长范围内的振荡值的个数，
其中，所述振荡值各自是彼此相邻的一对峰Pk和谷Vk对应的反射率值的差(|Pk对应的反射率-Vk对应的反射率|)。
所述基板可以是双折射的。
所述基板的X轴方向折射率Nx可以为1.57至1.67，Y轴方向折射率Ny可以为1.57至1.67，Z轴方向折射率Nz可以为1.53至1.57。
所述第一涂层的折射率N1可以满足下面等式4：
<等式4>
0.927*Nx≤N1≤0.978*Ny
所述膜还可以包括设置在所述基板上的第二涂层。
所述第二涂层可以设置在所述基板与所述第一涂层之间。
所述第一涂层可以设置在所述基板与所述第二涂层之间。
所述第二涂层的折射率N2可以满足下面等式5：
<等式5>
0.793*Nx≤N2≤0.975*Ny
所述膜还可以包括设置在所述基板上的第三涂层。
所述第三涂层的折射率(N3)可以满足下面等式6：
<等式6>
0.793*Nx≤N3≤0.975*Ny
所述第一涂层可以包括透光基质和分散在所述透光基质中的粒子。
所述透光基质可以包括硅氧烷类树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯类树脂或环氧类树脂中的至少一种。
所述粒子可以包括氧化锆(ZrO2)、二氧化硅(SiO2)、氧化铝(Al2O3)、二氧化钛(TiO2)、苯乙烯或丙烯酸类化合物中的至少一种。
所述第一层涂层的厚度可以为0.01μm至3.4μm。
所述第二涂层的厚度可以为1μm至14μm。
所述第三涂层的厚度可以为1μm以下。
根据本公开的另一方面，提供一种聚酰亚胺类膜，包括聚酰亚胺类基板和设置在所述聚酰亚胺类基板上的第一涂层，其中，基于通过测量在380nm至780nm的波长范围内的反射率得到的反射率曲线，所述膜利用下面等式1计算的反射率振荡比Or为1.0以下，利用下面等式2计算的反射率曲线斜率Gr为0.122以下：
<等式1>
Or＝[(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1，Om2)
<等式2>
Gr＝|(Rm1-Rm2)|/Rm2
其中，在等式1中，Om1是500nm至550nm的波长范围内的反射率振荡值的平均Om，Om2是650nm至780nm的波长范围内的反射率振荡值的平均Om，
其中，反射率振荡值的平均Om1和平均Om2使用下面等式3计算，Min(Om1，Om2)是反射率振荡值的平均Om1和平均Om2中较小的平均Om，
其中，在等式2中，Rm1是在反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的第一峰P1对应的反射率值和第一谷V1对应的反射率值的算术平均值，Rm2是在反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的最终峰Pf对应的反射率值和最终谷Vf对应的反射率值的算术平均值，
<等式3>
Om＝(1/n)*∑(Ok)
其中，在等式3中，Ok是在相应的波长范围内的振荡值，n是在相应的波长范围内的振荡值的个数，
其中，所述振荡值各自是彼此相邻的一对峰Pk和谷Vk对应的反射率值的差(|Pk对应的反射率-Vk对应的反射率|)。
根据本公开的另一方面，提供一种显示设备，包括显示面板和设置在所述显示面板上的所述膜。
有益效果
通常，与玻璃不同，聚合物膜包括在基板上的涂层以便改善物理性能如硬度、耐磨性和柔韧性，但是由于基板与涂层之间的光学性能的差异，在包括基板和涂层的膜中会出现干涉条纹。
根据本公开的一个实施方案，通过将膜的反射率振荡比Or调节至1.0以下，并将膜的反射率曲线斜率Gr调节至0.122以下，可以制造防止干涉条纹形成并且改善可见性的膜。
此外，根据本公开的实施方案的膜具有优异的光学和机械性能，因此，当用作显示设备的覆盖窗时，有效地保护显示设备的显示表面。
附图说明
图1是示出根据本公开的一个实施方案的膜100的示意图。
图2是使用来自Hitachi，Ltd的UH4150设备在380nm至780nm的波长范围内测量膜的光反射率而得到的膜的反射率曲线。
图3是在任意波长范围Wx中的膜的放大反射率曲线。
图4示出了在膜的反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的斜率。
图5是示出根据本公开的一个实施方案的第一涂层20的放大图。
图6是示出根据本公开的另一实施方案的还包括溶胀层12的膜101的示意图。
图7是示出根据本公开的另一实施方案的还包括第二涂层30的膜102的示意图。
图8是示出根据本公开的另一实施方案的还包括第二涂层30的膜102的另一配置的示意图。
图9是示出根据本公开的另一实施方案的还包括第三涂层40的膜103的示意图。
具体实施方式
下文中，将参照附图更详细地描述本公开的优选实施方案。提供这些实施方案用于说明，使得本公开内容将是彻底和完整的，并且不应理解为限制本公开的范围。
在用于描述本公开的实施方案的附图中公开的形状、尺寸、比例、角度、数字等是示例性的，因此，本公开不限于附图中所示的事项。在附图的整个描述中，相同的参考数字是指相同的要素。当相关公知技术的详细描述会不必要地使本公开的主题不明确时，可以省略这些详细描述。
当使用本文中提及的术语“包括”、“具有”和“由……组成”等时，除非使用表达“仅”，否则可以加入另一要素。单数形式也意在包括复数形式，除非上下文另外明确说明。此外，即使没有明确说明，构成要素也应当理解为包括误差范围。
在位置关系的描述中，例如，当使用“上”、“上部”、“下”和“挨着”来描述两个要素之间的位置关系时，除非使用术语“紧靠”或“直接”，否则这两个要素之间可以存在至少一个其它要素。
本文中可以使用空间相对术语如“下”、“下方”，“下部”、“上方”或“上部”来描述如图中所示的设备或元件与另一设备或另一元件的关系。应当理解的是，除了附图中描述的方向之外，空间相对术语意在包括在设备的使用或操作过程中设备的不同方向。例如，如果将一个附图中的设备倒置，则描述为在其它要素“下”或“下方”的要素将会在该其它要素“上方”。因此，示例性术语“下”或“下方”可以包括下方和上方两个方向。以相同的方式，示例性术语“上”或“上方”可以包括上方和下方两个方向。
在时间关系的描述中，例如，当时间顺序被描述为“之后”、“随后”、“接下来”和“之前”时，可以包括不连续的情况，除非使用“恰好”或“直接”。
应当理解的是，尽管本文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种要素，但是这些要素不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个要素与另一要素区分开。因此，在本公开的技术构思内，下面描述的第一要素可以称为第二要素。
应当理解的是，术语“至少一个”包括与任意一个事项相关的所有组合。例如，“第一要素、第二要素和第三要素中的至少一个”可以包括从第一要素、第二要素和第三要素中选择的两个或更多个要素的所有组合，以及第一要素、第二要素和第三要素中的各个要素。
本公开的各种实施方案的特征可以彼此部分或完全地耦合或结合，并且可以不同地相互操作和在技术上驱动，这是本领域技术人员容易理解的。本公开的实施方案可以彼此独立地进行，或者可以以相互关联的方式一起进行。
图1是示出根据本公开的一个实施方案的膜100的示意图。
如图1中所示，根据本公开的实施方案的膜100包括基板10和第一涂层20。
在一个方面，基于通过测量在380nm至780nm的波长区域中的反射率得到的反射率曲线，所述膜利用下面等式1计算的反射率振荡比Or为1.0以下，利用下面等式2计算的反射率曲线斜率Gr为0.122以下：
<等式1>
Or＝[(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1，Om2)
<等式2>
Gr＝|(Rm1-Rm2)|/Rm2
下文中，将参照图2和图3描述膜的反射率振荡比Or。在本公开中，振荡也称为“振幅”。
图2是使用来自Hitachi，Ltd的UH4150设备通过测量在380nm至780nm的波长范围内的膜的光反射率而得到的膜的反射率曲线。提供图2的曲线仅作为一个实例，并且曲线的形状和结果值会根据各个膜而不同，因此，本公开不限于此。
图3是在任意波长区域Wx中的膜的放大反射率曲线。
所述膜的反射率振荡比Or可以由图2的膜的反射率曲线根据上面等式1计算。
在等式1中，Om1是500nm至550nm的波长范围内的反射率振荡值的平均Om，Om2是650nm至780nm的波长范围内的反射率振荡值的平均Om，并且Min(Om1，Om2)是反射率振荡值的平均Om1和平均Om2中较小的平均Om。
反射率振荡值的平均值Om1和Om2使用下面等式3计算：
<等式3>
Om＝(1/n)*∑(Ok)
其中，Ok是在相应的波长范围内的振荡值，n是在相应的波长范围内的振荡值的个数。
下文中，将参照图2和图3更详细地描述根据等式3计算反射率振荡值的平均Om1和平均Om2的方法。
在图2的曲线中，将在各个光波长下来自膜的光的反射程度表示为百分比(％)。如图2中所示，由于基板与涂层之间的光学性能的差异，在包括涂层的膜中发生光学干涉。因此，产生了反射率的峰和谷不规则地重复的振幅(振荡)。取决于波长的反射率的振幅在膜的表面上引起干涉条纹。
如图3中所示，随着在任意波长范围(Wx)的膜的反射率曲线中的波长增加，重复地出现峰(Pk＝P1、P2、P3、…、Pn)和谷(Vk＝V1、V2、V3、…、Vn)。在这种情况下，彼此相邻的一对峰(Pk)和谷(Vk)构成一个振荡，并且彼此相邻的一对峰Pk和谷Vk对应的反射率值的差(|Pk对应的反射率-Vk对应的反射率|)构成一个振荡值。通过将计算出的n个振荡值(Ok＝O1，O2，O3，…，On)应用于上面等式3，可以计算反射率振荡值的平均Om。
使用利用等式3在500nm至550nm的波长范围W1内计算的反射率振荡值的平均Om1，以及利用等式3在650nm至780nm的波长范围W2内计算的反射率振荡值的平均Om2，可以使用上面等式1来计算来反射率振荡比Or。
根据本公开的一个实施方案，反射率振荡比Or为1.0以下。
本公开的反射率振荡比Or是指当波长变化时由光学干涉引起的膜的反射率的变化程度，并且随着反射率振荡比Or增大，光学干涉增加，随着反射率振荡比Or减小，光学干涉减小。
当反射率振荡比Or为1.0以下时，根据波长变化的反射率的变化程度减小，反射光在人眼看来是均匀的，因此，观察不到干涉条纹。另一方面，当反射率振荡比Or大于1.0时，根据波长变化的反射率的变化程度增加，反射光在人眼看来是不均匀的，并且在膜的表面上会产生以窄的间隔形成的各种颜色的干涉条纹。
下文中，将参照图4描述反射率曲线斜率Gr。
图4示出了在膜的反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的曲线的斜率。图4的曲线仅作为一个实例提供，并且曲线的形状和结果值会根据各个膜而不同，因此，本公开不限于此。
膜的反射率曲线斜率Gr可以由图4的膜的反射率曲线根据上面等式2计算。
在等式2中，Rm1是在反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的第一峰P1对应的反射率值和第一谷V1对应的反射率值的算术平均值，Rm2是在反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的最终峰Pf对应的反射率值和最终谷Vf对应的反射率值的算术平均值。
如图4中所示，对于包括涂层的膜的反射率，随着波长增加，振幅变得不规则。因此，可以测量反射率曲线中任意特定点的斜率，但是难以测量在500nm至780nm的整个波长范围内的斜率。
因此，在本公开的一个实施方案中，通过从反射率曲线得到500nm至780nm的波长区域中的第一峰P1对应的反射率值和第一谷V1对应的反射率值的平均Rm1，以及最终峰Pf对应的反射率值和最终谷Vf对应的反射率值的平均Rm2，可以根据上面等式2计算反射率曲线斜率Gr，其可以用于确定500nm至780nm的整个波长范围内的斜率行为。
根据本公开的一个实施方案，反射率曲线斜率Gr为0.122以下。
本公开的反射率曲线斜率Gr是指根据波长的膜的反射率的增加程度或减少程度，当反射率随着波长的变化而迅速增加或减少时，反射率曲线斜率Gr增加。随着反射率曲线斜率Gr增加，反射光在人眼看来是不均匀的，因此，在宽的区域内出现各种颜色的干涉条纹。另一方面，随着反射率曲线斜率Gr减小，反射光在人眼看来是均匀的。
当反射率曲线斜率Gr为0.122以下时，光学干涉减小并且不产生干涉条纹。另一方面，当反射率曲线斜率Gr大于0.122时，光学干涉会增加，并且在膜的表面上会产生干涉条纹。
根据本公开的一个实施方案，基板10包括透明聚合物。根据本公开的一个实施方案，可以使用任意透明聚合物作为基板10，而没有特别地限制。聚合物的实例包括：均聚物，如聚酰亚胺类聚合物、聚酯类聚合物、聚烯烃类聚合物、降冰片烯类聚合物、聚碳酸酯类聚合物、聚醚砜类聚合物、聚芳酯类聚合物、聚丙烯酸类聚合物、聚对苯二甲酸乙二醇酯类聚合物和纤维素类聚合物；它们的共聚物；它们的环氧类聚合物；等等。
特别地，聚酰亚胺类聚合物具有优异的物理性能，如热性能、硬度、耐磨性和柔韧性，以及光学性能，如透光率和雾度，因此，优选用作显示设备的覆盖窗的膜的基板，但是本公开不限于此。在本公开中，聚酰亚胺类聚合物是指在主链结构中包括具有酰亚胺官能团的重复单元的聚合物，并且通常通过胺与羧酸酐之间的缩合形成。此外，聚酰亚胺类聚合物可以包括酰胺重复单元。例如，根据本公开的一个实施方案的聚酰亚胺类聚合物是聚酰胺-酰亚胺聚合物。
膜100的类型可以根据基板10的聚合物而不同。例如，包括包含聚酰亚胺类聚合物的基板10的膜100可以称为“聚酰亚胺类膜”。
根据本公开的一个实施方案，所述聚合物是光学各向异性的，因此，基板10是双折射的。
基板10的X轴方向折射率Nx为1.57至1.67，Y轴方向折射率Ny为1.57至1.67，Z轴方向折射率Nz为1.53至1.57。
在本公开中，基板的Z轴方向是指基板的高度方向，并且基板的X轴方向和Y轴方向根据水平方向和垂直方向上的折射率来确定。在本公开中，在水平方向的折射率和垂直方向的折射率中，较大的折射率值的方向是X轴方向，较小的折射率值的方向是Y轴方向。
因此，基板的X轴方向的折射率Nx是指基板的水平方向的折射率和垂直方向的折射率中较大的折射率，基板的Y轴方向的折射率Ny是指基板的水平方向的折射率和垂直方向的折射率中较小的折射率，并且基板的Z轴方向的折射率Nz是指基板的高度方向上的折射率。
当基板的各个方向上的折射率不在上述范围内时，由于基板与涂层之间的折射率差异，会产生干涉条纹。
根据本公开的一个实施方案，基板10的厚度可以为100μm以下。
下文中，将参照图5详细描述本公开的第一涂层20。
图5是示出根据本公开的一个实施方案的第一涂层20的放大图。
第一涂层20设置在基板10上，用于控制膜的反射率振荡比Or和反射率曲线斜率Gr。
根据本公开的一个实施方案，第一涂层20可以包括透光基质21和分散在透光基质21中的粒子22。
图5中示出了包括透光基质21和分散在透光基质21中的粒子22的第一涂层20。
分散在第一涂层20的透光基质中的粒子22控制膜的反射率振荡比Or和膜的反射率曲线斜率Gr，从而控制第一涂层20的折射率。
根据本公开的一个实施方案，第一涂层20的透光基质21可以包括硅氧烷类树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯类树脂或环氧类树脂中的至少一种。
在本公开的一个实施方案中，所述粒子包括氧化锆(ZrO2)、二氧化硅(SiO2)、氧化铝(Al2O3)、二氧化钛(TiO2)、苯乙烯或丙烯酸类化合物中的至少一种。特别地，氧化锆的有利之处在于，通过控制第一涂层的折射率并且控制膜的反射率振荡比Or和膜的反射率曲线斜率Gr来防止产生干涉条纹。
第一涂层20可以使用第一涂层组合物形成。第一涂层组合物可以包括硅氧烷类树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯类树脂或环氧类树脂中的至少一种。第一涂层组合物可以包含粒子。第一涂层组合物可以包含溶剂。
为了制造反射率振荡比Or为1.0以下的膜100，可以控制第一涂层20的透光基质21的类型、第一涂层20中包括的粒子22的类型、第一涂层20中包括的粒子22含量、第一涂层20的折射率、第一涂层20的厚度以及用于形成第一涂层20的“第一涂层组合物的溶剂”。
根据本公开的一个实施方案，可以控制第一涂层20的透光基质21的类型，以便制造反射率振荡比Or为1.0以下且反射率曲线斜率Gr为0.122以下的膜100。
第一涂层20的透光基质21可以包括硅氧烷类树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯类树脂或环氧类树脂中的至少一种。
根据第一涂层20的透光基质21的类型，第一涂层20的折射率会变化，并且反射率振荡比Or和反射率曲线斜率Gr可以得到控制。
根据本公开的一个实施方案，可以控制第一涂层20中包括的粒子22，以便制造反射率振荡比Or为1.0以下且反射率曲线斜率Gr为0.122以下的膜100。
粒子22可以包括氧化锆、二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、苯乙烯或丙烯酸类化合物中的至少一种。优选地，粒子22可以包括氧化锆。
第一涂层20中的粒子22可以控制第一涂层20的折射率，从而将膜的反射率振荡比Or调节至1.0以下，并将膜的反射率曲线斜率Gr调节至0.122以下。特别地，氧化锆的使用使得容易控制第一涂层20的折射率。
根据本公开的一个实施方案，可以控制第一涂层20中包括的粒子22的含量，以便制造反射率振荡比Or为1.0以下且反射率曲线斜率Gr为0.122以下的膜100。
根据本公开的一个实施方案，基于100重量份的透光基质21，粒子22以10重量份至50重量份的量存在于第一涂层20中。
当基于100重量份的透光基质21，粒子22以小于10重量份或大于50重量份的量存在于第一涂层20中时，膜的反射率振荡比Or大于1，或者膜的反射率曲线斜率Gr大于0.122。
根据本公开的一个实施方案，考虑基板的X轴和Y轴折射率，第一涂层20可以具有使用下面等式4确定的折射率N1。
<等式4>
0.927*Nx≤N1≤0.978*Ny
当第一涂层20的折射率N1不在上述范围内时，膜100的反射率振荡比Or大于1，或者膜100的反射率曲线斜率Gr大于0.122。
因此，为了将膜100的反射率振荡比Or调节为1.0以下并将反射率曲线斜率Gr调节为0.122以下，可以将第一涂层20的折射率控制在上面等式4的范围内。
根据本公开的一个实施方案，第一涂层20的厚度可以为0.01μm至3.4μm，厚度优选为0.07μm至1.3μm，以便制造反射率振荡比Or为1.0以下且反射率曲线斜率Gr为0.122以下的膜100。
通过将第一层涂层20的厚度控制在0.01μm至3.4μm的范围内，可以制造反射率振荡比Or为1.0以下且反射率曲线斜率Gr为0.122以下的膜100。
当第一涂层20的厚度小于0.01μm时，涂层稳定性和溶胀层12的厚度降低，因此，控制反射率振荡比Or的效果不足。此外，当第一涂层20的厚度大于3.4μm时，反射率振荡比Or大于1.0。
根据本公开的一个实施方案，通过控制用于形成第一涂层20的第一涂层组合物的溶剂，可以制造反射率振荡比Or为1.0以下且反射率曲线斜率Gr为0.122以下的膜。
具体地，第一涂层组合物的溶剂可以包含甲基乙基酮(MEK)、甲基异丁基酮(MIBK)、丙二醇甲醚(PGME)或乙酸乙酯(EA)中的至少一种。具体地，所述溶剂优选包含MEK。
根据本公开的一个实施方案，第一涂层组合物的溶剂可以包含MEK，以及MIBK、PGME或EA中的至少一种。
根据本公开的一个实施方案，在第一涂层组合物的溶剂中，MEK与MIBK、PGME或EA中的至少一种的质量比可以为8∶2至6∶4。
由第一涂层组合物的溶剂可以形成溶胀层。
根据本公开的另一实施方案，膜101还可以包括溶胀层12。
溶胀层12可以设置在剩余基板层11与第一涂层20之间。
图6是示出根据本公开的另一实施方案的还包括溶胀层12的膜101的示意图。
下文中，将参照图6描述溶胀层12。
溶胀层12可以由第一涂层组合物的溶剂形成。
如图6中所示，溶胀层12是设置在剩余基板层11与第一涂层20之间的层，并且在使用第一涂层组合物在基板上形成第一涂层20的过程中，第一涂层组合物中包含的溶剂会使膜101的基板10溶胀。因此，溶胀层12可以形成在基板10上。在这种情况下，基板10的未溶胀的部分称为“剩余基板层11”。
根据本公开的一个实施方案，基板10可以包括剩余基板层11和溶胀层12。
通过在剩余基板层11与第一涂层20之间设置溶胀层12，可以将膜101的反射率振荡比Or设置为1.0以下，并且可以将其反射率曲线斜率Gr设置为0.122以下。
溶胀层12的折射率可以为1.66以下。
为了将膜101的反射率振荡比Or和反射率曲线斜率Gr分别调节为1.0以下和0.122以下，可以将溶胀层12的折射率控制为1.66以下。
当溶胀层12的折射率大于1.66时，不利地，反射率振荡比Or大于1.0，并且在膜101的表面上观察到干涉条纹。
溶胀层12的厚度可以为第一涂层20的厚度的10％至50％。
为了将膜101的反射率振荡比Or和反射率曲线斜率Gr分别调节为1.0以下和0.122以下，可以将溶胀层12的厚度控制在第一涂层20的厚度的10％至50％的范围内。
当溶胀层12的厚度小于第一涂层20的厚度的10％时，基板10与第一涂层20之间的粘合性会劣化。另一方面，当溶胀层12的厚度大于50％时，膜101的柔韧性会降低。
溶胀层12的厚度可以根据“第一涂层组合物的溶剂”的类型、含量和含量比以及第一涂层20的干燥时间和温度而变化。
为了将溶胀层12的厚度调节为第一涂层20的厚度的10％至50％，第一涂层组合物的溶剂包含MEK以及MIBK、PGME或EA中的至少一种。
为了将溶胀层12的厚度调节为第一涂层20的厚度的10％至50％，第一涂层组合物的溶剂的MEK以及MIBK、PGME或EA中的至少一种可以以8：2至6：4的重量比混合。
为了将溶胀层12的厚度调节为第一涂层20的厚度的10％至50％，可以将第一涂层20的厚度调节为0.01μm至3.4μm。
当第一涂层20的厚度小于0.01μm时，涂层稳定性劣化并且溶胀层12的厚度减小，因此，控制反射率振荡比Or的效果不足。此外，当第一涂层20的厚度大于3.4μm时，反射率振荡比Or大于1.0，产生干涉条纹，并且膜的可见性会劣化。
为了将溶胀层12的厚度调节为第一涂层20的厚度的10％至50％，在制备第一涂层20的过程中，可以以逐步方式进行分级干燥，包括在50℃至60℃下干燥1至2分钟，在70℃至80℃下干燥2至3分钟，以及在90℃至100℃下干燥2至3分钟。
当各个步骤中的温度高于制造第一涂层20的过程中的上限时，会出现溶剂快速挥发和不充分地形成溶胀层12的问题，当各个步骤的温度低于下限时，会出现溶胀层12的厚度大于本公开中限定的范围的问题。
当第一涂层20的干燥时间长于各个步骤中的上限时，会出现溶胀层12的厚度大于本公开中限定的范围的问题，当时间短于各个步骤的下限时，会出现溶胀层12不充分形成的问题。
可以控制制造方法，以便制造反射率振荡比Or为1.0以下且反射率曲线斜率Gr为0.122以下的膜100。例如，为了制造反射率振荡比Or为1.0以下且反射率曲线斜率Gr为0.122以下的膜100，可以在制造第一涂层20的过程中控制干燥方法。
例如，当制备第一涂层20时，可以以逐步方式进行分级干燥，即在50℃至60℃下干燥1至2分钟，在70℃至80℃下干燥2至3分钟，然后在90℃至100℃下干燥2至3分钟。
这样，通过调节第一涂层20的组分、折射率、厚度和制造方法，可以控制膜的反射率振荡比Or和反射率曲线斜率Gr，并且可以控制第一涂层的折射率。
根据本公开的另一实施方案，膜102还可以包括在基板10上的第二涂层30。
图7和图8是示出根据本公开的另一实施方案的还包括第二涂层30的膜102的示意图。
如图7中所示，第二涂层30可以设置在基板10与第一涂层20之间。
如图8中所示，第一涂层20可以设置在基板10与第二涂层30之间。
也可以使用第二涂层30来控制膜102的反射率振荡比Or和反射率曲线斜率Gr。
第二涂层30是保护基板10或第一涂层20和与膜102粘附的被粘物免受外部环境影响的层，并且第二涂层30可以是硬涂层。
根据本公开的一个实施方案，基于基板的X轴和Y轴折射率，第二涂层30可以具有根据下面等式5确定的折射率N2。
<等式5>
0.793*Nx≤N2≤0.975*Ny
当第二涂层30的折射率N2不在上述范围内时，膜的反射率振荡比Or大于1，或者膜的反射率曲线斜率Gr大于0.122。
根据本公开的另一实施方案，第二涂层30可以包括透光基质。
第二涂层30的透光基质可以包括硅氧烷类树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯类树脂或环氧类树脂中的至少一种。第二涂层30的透光基质可以与第一涂层20的透光基质相同或不同，但是本公开不限于此。然而，优选使用相同的透光基质，因为第一涂层和第二涂层之间的粘合性增加。
根据本公开的另一实施方案，第二涂层30的厚度可以为1μm至14μm，厚度优选为3μm至7μm，但是本公开不限于此。
通过控制第二涂层30的厚度，可以控制膜102的反射率振荡比Or和膜的反射率曲线斜率Gr，并且可以控制第二涂料层30的折射率。
第二涂层30可以使用第二涂层组合物形成。第二涂层组合物可以包括硅氧烷类树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯类树脂或环氧类树脂中的至少一种。第二涂层组合物可以包含溶剂。
根据本公开的另一实施方案，膜103还可以包括在基板10上的第三涂层40。
图9是示出根据本公开的另一实施方案的还包括第三涂层40的膜103的示意图。
根据本公开的另一实施方案，基于基板的X轴和Y轴折射率，第三涂层40可以具有满足下面等式6的折射率N3。
<等式6>
0.793*Nx≤N3≤0.975*Ny
当第三涂层40的折射率N3不在上述范围内时，膜的反射率振荡比Or大于1，或者膜的反射率曲线斜率Gr大于0.122。
根据本公开的另一实施方案，第三涂层40可以包括透光基质。
第三涂层40的透光基质可以包括硅氧烷类树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯类树脂或环氧类树脂中的至少一种。第三涂层40的透光基质可以与第一涂层20或第二涂层30的透光基质相同或不同，但是本公开不限于此。
根据本公开的另一实施方案，第三涂层40的厚度可以为1μm以下，厚度优选为0.1μm以下，但是本公开不限于此。
通过控制第三涂层40的厚度，可以控制膜102的反射率振荡比Or和膜的反射率曲线斜率Gr，并且可以控制第二涂层30的折射率。
可以使用第三涂层组合物形成第三涂层40。第三涂层组合物可以包括硅氧烷类树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯类树脂或环氧类树脂中的至少一种。第三涂层组合物可以包含溶剂。
在另一方面，本公开涉及一种显示设备，包括显示面板和设置在显示面板上的所述膜。所述显示设备的膜可以包括根据本公开的一个实施方案的膜。
所述显示面板包括基板、在基板上的薄膜晶体管(TFT)和与薄膜晶体管(TFT)连接的有机发光器件。所述有机发光器件包括第一电极、在第一电极上的有机发光层和在有机发光层上的第二电极。所述显示设备可以是有机发光显示设备。
所述基板可以由玻璃或塑料制成。具体地，所述基板可以由塑料如聚酰亚胺类树脂或聚酰亚胺类膜制成。可以在基板上设置缓冲层。
薄膜晶体管(TFT)设置在基板上。薄膜晶体管(TFT)包括：半导体层；与半导体层绝缘并且与半导体层的至少一部分重叠的栅电极；与半导体层连接的源电极；和与源电极隔开并与半导体层连接的漏电极。
在栅电极和半导体层之间设置栅极绝缘膜。在栅电极上可以设置层间绝缘层，并且可以在层间绝缘层上设置源电极和漏电极。
在薄膜晶体管TFT上设置平坦化层，以使薄膜晶体管TFT的顶部平坦化。
在平坦化层上设置第一电极。第一电极通过设置在平坦化层中的接触孔与薄膜晶体管TFT连接。
在平坦化层上的第一电极的一部分中设置堤层，以限定像素区域或发光区域。例如，堤层以矩阵的形式设置在多个像素之间的相应边界中，以限定各自的像素区域。
有机发光层设置在第一电极上。有机发光层也可以设置在堤层上。有机发光层可以包括一个发光层或在垂直方向上层叠的两个发光层。有机发光层可以发出红色、绿色和蓝色中的任意一种颜色的光，其也可以发出白光。
第二电极设置在有机发光层上。
第一电极、有机发光层和第二电极可以层叠以构成有机发光器件。
当有机发光层发射白光时，各个像素可以包括滤色器，用于基于各个波长过滤从有机发光层发出的白光。滤色器形成在光的通路上。
可以在第二电极上设置薄膜封装层。该薄膜封装层可以包括至少一个有机层和至少一个无机层，并且所述至少一个有机层和所述至少一个无机层可以交替地设置。
根据本公开的一个实施方案的膜设置在具有上述层叠结构的显示面板上。
下文中，将参照制备例和实施例更详细地描述本公开。提供制备例和实施例仅用于更好地理解本公开，并且不应理解为限制本公开的范围。
<制备例1：制备高折射率聚酰亚胺类基板>
将735.264g的N，N-二甲基乙酰胺(DMAc)装入配备有搅拌器、氮气注射器、滴液漏斗、温度控制器和冷却器的1L的反应器中，在氮气通过反应器的同时将反应器的温度调节至25℃，在其中溶解54.439g(0.17mol)的2，2′-双(三氟甲基)联苯胺(TFDB)，并将得到的溶液保持在25℃下。向其中加入10.003g(0.034mol)的联苯-四甲酸二酐(BPDA)，接着搅拌3小时以彻底溶解BPDA，然后向其中加入15.105g(0.034mol)的4，4′-(六氟异丙烯)二酞酸酐(6FDA)并在其中完全溶解。将反应器温度降低至10℃，向其中加入20.716g(0.102mol)的对苯二甲酰氯(TPC)，并使反应在25℃下进行12小时，以得到固体含量为12重量％的聚合物溶液。
将11.833g的吡啶和15.110g的乙酸酐加入到得到的聚合物溶液中，接着搅拌30分钟，然后在70℃下进一步搅拌1小时。将得到的产物冷却至室温，向得到的聚合物溶液中加入20L的甲醇以析出固体粉末，并将析出的固体粉末过滤、粉碎、用2L的甲醇再次洗涤，然后在真空中在100℃下干燥6小时，以得到粉末状聚酰亚胺类聚合物固体。此处制备的聚酰亚胺类聚合物固体粉末是聚酰胺-酰亚胺聚合物固体粉末。
在1L的反应器中加入550g的DMAc，然后在将反应器的温度保持在10℃的同时搅拌预定时间。然后，向其中加入75g制备的聚酰亚胺类聚合物固体粉末，将得到的混合物搅拌1小时，并将温度升高至25℃以制备液体聚酰亚胺类树脂溶液。
使用涂布器将得到的聚酰亚胺类树脂溶液涂布到玻璃基板上，并在130℃下用热空气干燥30分钟以制备膜，然后将制备的膜从玻璃基板上剥离下来，并使用销固定至框架。
将固定有所述膜的框架放置在真空烘箱中，经2小时从100℃缓慢加热至300℃，然后缓慢冷却并与框架分离，以得到高折射率聚酰亚胺类基板。将该高折射率聚酰亚胺类基板在250℃下热处理5分钟。
所述高折射率聚酰亚胺类基板的厚度为50μm，其是透光性的和双折射的。该基板的折射率为Nx＝Ny＝1.65且Nz＝1.55。
<制备例2：制备低折射率聚酰亚胺类基板>
将734.06g的N，N-二甲基乙酰胺(DMAc)装入配备有搅拌器、氮气注射器、滴液漏斗、温度控制器和冷却器的1L的反应器中，在氮气通过反应器的同时将反应器的温度调节至25℃，在其中溶解44.832g(0.14mol)的TFDB，并将得到的溶液保持在25℃下。向其中加入8.238g(0.028mol)的BPDA，接着搅拌3小时以彻底溶解BPDA，然后向其中加入49.756g(0.112mol)的6FDA并使反应在25℃下进行12小时，以得到固体含量为12重量％的聚合物溶液。
将24.36g的吡啶和31.11g的乙酸酐加入到得到的聚合物溶液中，接着搅拌30分钟，然后在70℃下进一步搅拌1小时。将所得物冷却至室温，向得到的聚合物溶液中加入20L的甲醇以析出固体粉末，并将析出的固体粉末过滤、粉碎、用2L的甲醇再次洗涤，然后在真空中在100℃下干燥6小时，以得到粉末状聚酰亚胺类聚合物固体。此处制备的聚酰亚胺类聚合物固体粉末是聚酰胺-酰亚胺聚合物固体粉末。
然后，使用制备的聚酰亚胺类聚合物固体粉末，以与制备例1相同的方式制备低折射率聚酰亚胺类基板。
所述低折射率聚酰亚胺类基板的厚度为50μm，其是透光性的和双折射的。该基板的折射率为Nx＝Ny＝1.57且Nz＝1.53。
<制备例3：制备中等折射率聚酰亚胺类基板>
将776.655g的N，N-二甲基乙酰胺(DMAc)装入配备有搅拌器、氮气注射器、滴液漏斗、温度控制器和冷却器的1L的反应器中，在氮气通过反应器的同时将反应器的温度调节至25℃，在其中溶解54.439g(0.17mol)的TFDB，并将得到的溶液保持在25℃下。向其中加入15.005g(0.051mol)的BPDA，接着搅拌3小时以彻底溶解BPDA，然后向其中加入22.657g(0.051mol)的6FDA并在其中完全溶解，将反应器温度降低至10℃，向其中加入13.805g(0.068mol)的TPC，并使反应在25℃下进行12小时，以得到固体含量为12重量％的聚合物溶液。
将17.75g的吡啶和22.92g的乙酸酐加入到得到的聚合物溶液中，接着搅拌30分钟，然后在70℃下进一步搅拌1小时。将所得物冷却至室温，向得到的聚合物溶液中加入20L的甲醇以析出固体粉末，并将析出的固体粉末过滤、粉碎、用2L的甲醇再次洗涤，然后在真空中在100℃下干燥6小时，以得到粉末状聚酰亚胺类聚合物固体。此处制备的聚酰亚胺类聚合物固体粉末是聚酰胺-酰亚胺聚合物固体粉末。
然后，使用制备的聚酰亚胺类聚合物固体粉末，以与制备例1相同的方式制备中等折射率聚酰亚胺类基板。
所述中等折射率聚酰亚胺类基板的厚度为50μm，其是透光性的和双折射的。该基板的折射率为Nx＝Ny＝1.62且Nz＝1.54。
<实施例1>
以747.66mL∶38.28mL∶93.88mL的比例混合2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷(TCI CO.，LTD.)、TEOS(原硅酸四乙酯，Sigma-Aldrich，Inc.)和H2O，将得到的混合物加入到1,500mL的烧瓶中，然后向其中加入0.1g的氢氧化钠作为催化剂，接着在60℃下搅拌10小时。然后，使用0.45um的聚四氟乙烯(Teflon)过滤器过滤得到的产物，以得到环氧类树脂。
然后，将600mL的比例为8∶2的MEK(甲基乙基酮)和MIBK(甲基异丁基酮)的稀释液加入到制备的环氧类树脂中，并且基于固体，向制备的环氧类树脂中加入相对于环氧类树脂的重量3重量份的IRGACURE 250(BASF Corporation)作为光引发剂，并向其中加入相对于环氧类树脂30重量份的KT-300Z-S-KR(固体含量为42重量％，环己酮+MIBK+脂肪族溶剂，Toyochem Co.，Ltd.)作为氧化锆分散体，以得到固化时的折射率为1.57的第一涂层组合物。
使用在制备例1中制造的高折射率聚酰亚胺类基板作为基板10。
使用棒将第一涂层组合物涂布至制备例1的高折射率聚酰亚胺类基板的上表面，然后在60℃下干燥2分钟，在80℃下干燥3分钟并在100℃下干燥3分钟，以在基板上形成由溶剂得到的平均厚度为25nm的溶胀层。
然后，由紫外线灯以1J/cm2的剂量照射波长为315nm的光，以制造包括厚度为100nm的第一涂层的第一膜。
然后，通过从第一涂层组合物中排除作为氧化锆分散体的KT-300Z-S-KR(Toyochem Co.，Ltd.)来制备固化时的折射率为1.50的第二涂层组合物。使用棒将第二涂层组合物涂布至第一膜的固化膜的上表面，并在100℃下干燥10分钟，并且由紫外线灯以2J/cm2对其照射波长为315nm的光，以制造包括厚度为5μm的第二涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<实施例2>
除了基于固体，加入相对于制备的环氧类树脂43重量份的氧化锆分散体KT-300Z-S-KR(Toyochem Co.，Ltd.)之外，以与实施例1相同的方式制备第一涂层组合物。第一涂层组合物固化时的折射率为1.60。
以与实施例1相同的方式制备第二涂层组合物。
使用制备的第一涂层组合物和第二涂层组合物，以与实施例1相同的方式在制备例1中制造的高折射率聚酰亚胺类基板的上表面上制造包括第一涂层和第二涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<实施例3>
除了基于固体，加入相对于制备的环氧类树脂17重量份的氧化锆分散体KT-300Z-S-KR(Toyochem Co.，Ltd.)之外，以与实施例1相同的方式制备第一涂层组合物。第一涂层组合物固化时的折射率为1.54。
以与实施例1相同的方式制备第二涂层组合物。
使用制备的第一涂层组合物和第二涂层组合物，以与实施例1相同的方式在制备例1中制造的高折射率聚酰亚胺类基板的上表面上制造包括第一涂层和第二涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<实施例4>
除了基于固体，加入相对于制备的环氧类树脂13重量份的氧化锆分散体KT-300Z-S-KR(Toyochem Co.，Ltd.)之外，以与实施例1相同的方式制备第一涂层组合物。第一涂层组合物固化时的折射率为1.53。
以与实施例1相同的方式制备第二涂层组合物。
使用制备的第一涂层组合物和第二涂层组合物，以与实施例1相同的方式在制备例2中制造的低折射率聚酰亚胺类基板的上表面上制造包括第一涂层和第二涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<实施例5>
除了基于固体，加入相对于制备的环氧类树脂22重量份的氧化锆分散体KT-300Z-S-KR(Toyochem Co.，Ltd.)之外，以与实施例1相同的方式制备第一涂层组合物。第一涂层组合物固化时的折射率为1.55。
以与实施例1相同的方式制备第二涂层组合物。
使用制备的第一涂层组合物和第二涂层组合物，以与实施例1相同的方式在制备例3中制造的中等折射率聚酰亚胺类基板的上表面上制造包括第一涂层和第二涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<实施例6>
以与实施例1相同的方式制备具有第一涂层和第二涂层的第二膜。
然后，使用棒将第二涂层组合物涂布至第二膜的另一表面，然后在60℃下干燥2分钟，在80℃下干燥3分钟，并在100℃下干燥3分钟，以在基板上形成由溶剂得到的平均厚度为0.2μm的溶胀层。然后，使用紫外线灯以2J/cm2的剂量对其照射波长为315nm的光，以制造包括厚度为0.8μm的第三涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<实施例7>
以747.66mL∶38.28mL∶93.88mL的比例混合甲基丙烯酸3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基酯(Sigma-Aldrich，Inc.)、TEOS(Sigma-Aldrich，Inc.)和H2O，将得到的混合物加入到1,500mL的烧瓶中，然后向其中加入0.1g的氢氧化钠作为催化剂，接着在60℃下搅拌10小时。然后，使用0.45um的聚四氟乙烯过滤器过滤得到的产物，以得到丙烯酸类树脂。
然后，将600mL的比例为8∶2的MEK(甲基乙基酮)和MIBK(甲基异丁基酮)的稀释液加入到制备的丙烯酸类树脂中，并且基于固体，向制备的丙烯酸类树脂中加入相对于丙烯酸类树脂3重量份的IRGACURE 250(BASF Corporation)作为光引发剂，并向其中加入相对于丙烯酸类树脂30重量份的KT-300Z-S-KR(固体含量为42重量％，环己酮+MIBK+脂肪族溶剂，Toyochem Co.，Ltd.)作为氧化锆分散体，以得到固化时的折射率为1.57的第一涂层组合物。
使用在制备例1中制造的高折射率聚酰亚胺类基板作为基板10。
使用棒将第一涂层组合物涂布至制备例1的高折射率聚酰亚胺类基板的上表面，然后在60℃下干燥2分钟，在80℃下干燥3分钟并在100℃下干燥3分钟，以在基板上形成由溶剂得到的平均厚度为25nm的溶胀层。
然后，使用紫外线灯以1J/cm2的剂量照射波长为315nm的光，以制造包括厚度为100nm的第一涂层的第一膜。
然后，通过从第一涂层组合物中排除作为氧化锆分散体的KT-300Z-S-KR(Toyochem Co.，Ltd.)来制备固化时的折射率为1.50的第二涂层组合物。使用棒将第二涂层组合物涂布至第一膜的固化膜的上表面，并在100℃下干燥10分钟，并且由紫外线灯以2J/cm2照射波长为315nm的光，以制造具有厚度为5μm的第二涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<比较例1>
以747.66mL∶38.28mL∶93.88mL的比例混合2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷(TCI CO.，LTD.)、TEOS(原硅酸四乙酯，Sigma-Aldrich，Inc.)和H2O，将得到的混合物加入到1,500mL的烧瓶中，然后向其中加入0.1g的氢氧化钠作为催化剂，接着在60℃下搅拌10小时。然后，使用0.45um的聚四氟乙烯过滤器过滤得到的产物，以得到环氧类树脂。
然后，将600mL的比例为8∶2的MEK(甲基乙基酮)和MIBK(甲基异丁基酮)的稀释液加入到制备的环氧类树脂中，并且向制备的环氧类树脂中加入相对于环氧类树脂3重量份的IRGACURE 250(BASF Corporation)作为光引发剂，以得到固化时的折射率为1.50的环氧类树脂组合物。
使用在制备例1中制造的高折射率聚酰亚胺类基板作为基板10。
使用棒将环氧类树脂组合物涂布至制备例1的高折射率聚酰亚胺类基板的上表面，然后在60℃下干燥2分钟，在80℃下干燥3分钟并在100℃下干燥3分钟，以在基板上形成由溶剂得到的平均厚度为25nm的溶胀层。
然后，由紫外线灯以2J/cm2的剂量照射波长为315nm的光，以制造包括厚度为5μm的单一涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<比较例2>
除了基于固体，加入相对于制备的环氧类树脂60重量份的氧化锆分散体KT-300Z-S-KR(Toyochem Co.，Ltd.)之外，以与实施例1相同的方式制备第一涂层组合物。第一涂层组合物固化时的折射率为1.64。
以与实施例1相同的方式制备第二涂层组合物。
使用制备的第一涂层组合物和第二涂层组合物，以与实施例1相同的方式在制备例1中制造的高折射率聚酰亚胺类基板的上表面上制造包括第一涂层和第二涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<比较例3>
除了基于固体，加入相对于制备的环氧类树脂5重量份的氧化锆分散体KT-300Z-S-KR(Toyochem Co.，Ltd.)之外，以与实施例1相同的方式制备第一涂层组合物。第一涂层组合物固化时的折射率为1.51。
以与实施例1相同的方式制备第二涂层组合物。
使用制备的第一涂层组合物和第二涂层组合物，以与实施例1相同的方式在制备例1中制造的高折射率聚酰亚胺类基板的上表面上制造包括第一涂层和第二涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<比较例4>
以与实施例1相同的方式制备第一涂层组合物。第一涂层组合剂固化时的折射率为1.57。
向第一涂层组合物中进一步加入26重量份(总计56重量份)的氧化锆分散体KT-300Z-S-KR(Toyochem Co.，Ltd.)，以制备固化时的折射率为1.63的第二涂层组合物。
使用制备的第一涂层组合物和第二涂层组合物，以与实施例1相同的方式在制备例1中制造的高折射率聚酰亚胺类基板的上表面上制造包括第一涂层和第二涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<比较例5>
以与实施例1相同的方式制备第一涂层组合物。第一涂层组合物固化时的折射率为1.57。
使用棒将第一涂层组合物涂布至制备例1的高折射率聚酰亚胺类基板的上表面，然后在60℃下干燥2分钟，在80℃下干燥3分钟并在100℃下干燥3分钟，以在基板上形成由溶剂得到的平均厚度为1.25nm的溶胀层。
然后，由紫外线灯以1J/cm2的剂量照射波长为315nm的光，以制造包括厚度为100nm的第一涂层的第一膜。
然后，以与实施例1相同的方式制备第二涂层组合物。
使用制备的第二涂层组合物，通过以与实施例1相同的方式在固化的第一膜的上表面上形成第二涂层来制造包括第一涂层和第二涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<比较例6>
以与实施例1相同的方式制造包括第一涂层和第二涂层的第二膜。
然后，向第一涂层组合物中进一步加入26重量份(总计56重量份)的氧化锆分散体KT-300Z-S-KR(Toyochem Co.，Ltd.)，以制备固化时的折射率为1.63的第三涂层组合物。
然后，使用棒将第三涂层组合物涂布至第二膜的另一表面，然后在60℃下干燥2分钟，在80℃下干燥3分钟并在100℃下干燥3分钟，以在基板上形成由溶剂得到的平均厚度为0.2μm的溶胀层。然后，由紫外线灯以2J/cm2的剂量照射波长为315nm的光，以制造包括厚度为0.8μm的第三涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<比较例7>
以与实施例1相同的方式制造包括第一涂层和第二涂层的第二膜。
然后，使用棒将第二涂层组合物涂布至第二膜的另一表面，然后在60℃下干燥2分钟，在80℃下干燥3分钟并在100℃下干燥3分钟，以在基板上形成由溶剂得到的平均厚度为1.25μm的溶胀层。然后，由紫外线灯以2J/cm2的剂量照射波长为315nm的光，以制造包括厚度为5μm的第三涂层的透明聚酰亚胺类膜。
<测量例>
测量在实施例1至实施例7和比较例1至比较例7中制造的膜的下面特性。
(1)粘合性
根据ASTM D3359，使用来自TQC Ltd.的CC1000型号测量切割为网格图案后的剥落程度。
(2)透光率和雾度
将根据实施例和比较例制造的各个最终膜切割为50mm×50mm的尺寸，使用来自Murakami Color Research Lab.的HM-150雾度计，根据ASTM D1003测量其透光率和雾度5次，并确定其平均值。
(3)反射率振荡比(Or)和反射率曲线斜率(Gr)
使用来自Hitachi Ltd的UH4150设备在380nm至780nm的波长范围内测量光反射率。根据测得的膜的反射率曲线，计算利用下面等式1计算的反射率振荡比Or和利用下面等式2计算的反射率曲线斜率Gr。
<等式1>
Or＝[(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1，Om2)
<等式2>
Gr＝|(Rm1-Rm2)|/Rm2
其中，在等式1中，Om1是500nm至550nm的波长范围内的反射率振荡值的平均值(Om)，Om2是650nm至780m的波长范围内的反射率振荡值的平均值(Om)，
其中，使用下面等式3计算反射率振荡值的平均值Om1和Om2，并且Min(Om1，Om2)是反射率振荡值的平均值Om2和Om1中较小的平均值，
在等式2中，Rm1是在反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的第一峰P1对应的反射率值和第一谷V1对应的反射率值的算术平均值，Rm2是在反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的最终峰Pf对应的反射率值和最终谷Vf对应的反射率值的算术平均值。
<等式3>
Om＝(1/n)*∑(Ok)
在等式3中，Ok是在相应的波长范围内的振荡值，n是在相应的波长范围内的振荡值的个数，
其中，所述振荡值各自是彼此相邻的一对峰Pk和谷Vk对应的反射率值的差(|Pk对应的反射率-Vk对应的反射率|)。
(4)干涉条纹
在三波长灯下对实施例和比较例的膜进行目视评价，并基于以下等级进行评价。
A：难以用肉眼观察膜。
B：少数专家肉眼可见，但是使用起来没有不便。
C：少数专家肉眼可见，对层叠结构的使用可能会受到限制。
D：大多数普通人肉眼可见，无法使用。
E：大多数普通人肉眼清晰可见，无法使用。
测量结果示于下面表1中。
[表1]
Figure BDA0004014393450000261
Figure BDA0004014393450000271
由表1中所示的测量结果可以看出，根据本公开的实施方案的膜表现出优异的光学性能如透光率和雾度，以及基板与涂层之间的粘合性和柔韧性。
由实施例1和比较例1可以看出，通过在第二涂层与基板之间应用第一涂层而具有本公开中限定的范围内的反射率振荡比Or和反射率曲线斜率Gr的膜表现出比未应用涂层的膜更好的干涉条纹。
将实施例1至实施例3与比较例2至比较例3进行比较，即使在第二涂层与基板之间应用第一涂层的结构中，也可以看出，当折射率不在本公开限定的范围内时，换言之，当反射率振荡比Or大于1.0时，也不能得到减轻干涉条纹的效果。
此外，由实施例1和比较例5可以看出，尽管在第二涂层与基板之间应用第一涂层，但是当第一涂层的厚度偏离预定范围并由此反射率曲线斜率Gr大于0.122时，同样地，不能得到减轻干涉条纹的效果。
类似地，将实施例1与比较例4进行比较，可以看出，尽管在第二涂层与基板之间应用具有适当的折射率和厚度的第一涂层，但是当第一涂层的折射率偏离预定范围并由此反射率振荡比Or大于1.0时，不能得到减轻干涉条纹的效果。
此外，可以看出，将实施例6与比较例6和比较例7进行比较，当在第二涂层与基板之间应用有具有适当的折射率和厚度的第一涂层的结构的另一表面上形成第三涂层时，在第三涂层的折射率和厚度偏离预定范围并且反射率振荡比Or大于1.0的情况下，不能得到改善干涉条纹的效果。
此外，由实施例4和实施例5可以看出，当基板的折射率改变但满足预定范围，并由此反射率振荡比Or和反射率曲线斜率Gr满足本公开的范围时，可以得到减轻干涉条纹的效果。
此外，由实施例1和实施例7可以看出，即使当第一涂层组合物和第二涂层组合物不仅是环氧类树脂组合物而且是丙烯酸类树脂组合物时，也可以得到相同的结果。
[附图标记说明]
100、101、102、103：膜
10：基板
11：剩余基板层
12：溶胀层
20：第一涂层
21：透光基质
22：粒子
30：第二涂层
40：第三涂层

Claims (18)

1.一种用于显示设备的膜，包括：
基板；和
设置在所述基板上的第一涂层，
其中，基于通过测量在380nm至780nm的波长范围内的反射率得到的反射率曲线，所述膜利用下面等式1计算的反射率振荡比Or为1.0以下，利用下面等式2计算的反射率曲线斜率Gr为0.122以下：
<等式1>
Or＝[(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1，Om2)
<等式2>
Gr＝|(Rm1-Rm2)|/Rm2
其中，在等式1中，Om1是500nm至550nm的波长范围内的反射率振荡值的平均Om，Om2是650nm至780nm的波长范围内的反射率振荡值的平均Om，
其中，反射率振荡值的平均Om1和平均Om2使用下面等式3计算，Min(Om1，Om2)是反射率振荡值的平均Om1和平均Om2中较小的平均Om，
其中，在等式2中，Rm1是在所述反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的第一峰P1对应的反射率值和第一谷V1对应的反射率值的算术平均值，Rm2是在所述反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的最终峰Pf对应的反射率值和最终谷Vf对应的反射率值的算术平均值，
<等式3>
Om＝(1/n)*∑(Ok)
其中，在等式3中，Ok是在相应的波长范围内的振荡值，n是在相应的波长范围内的振荡值的个数，
其中，所述振荡值各自是彼此相邻的一对峰Pk和谷Vk对应的反射率值的差(|Pk对应的反射率-Vk对应的反射率|)。
2.根据权利要求1所述的用于显示设备的膜，其中，所述基板是双折射的。
3.根据权利要求1所述的用于显示设备的膜，其中，所述基板的X轴方向折射率Nx为1.57至1.67，Y轴方向折射率Ny为1.57至1.67，Z轴方向折射率Nz为1.53至1.57。
4.根据权利要求3所述的用于显示设备的膜，其中，所述第一涂层的折射率N1满足下面等式4：
<等式4>
0.927*Nx≤N1≤0.978*Ny。
5.根据权利要求3所述的用于显示设备的膜，还包括设置在所述基板上的第二涂层。
6.根据权利要求5所述的用于显示设备的膜，其中，所述第二涂层设置在所述基板与所述第一涂层之间。
7.根据权利要求5所述的用于显示设备的膜，其中，所述第一涂层设置在所述基板与所述第二涂层之间。
8.根据权利要求5所述的用于显示设备的膜，其中，所述第二涂层的折射率N2满足下面等式5：
<等式5>
0.793*Nx≤N2≤0.975*Ny。
9.根据权利要求3所述的用于显示设备的膜，还包括设置在所述基板上的第三涂层。
10.根据权利要求9所述的用于显示设备的膜，其中，所述第三涂层的折射率N3满足下面等式6：
<等式6>
0.793*Nx≤N3≤0.975*Ny。
11.根据权利要求1所述的用于显示设备的膜，其中，所述第一涂层包括透光基质和分散在所述透光基质中的粒子。
12.根据权利要求11所述的用于显示设备的膜，其中，所述透光基质包括硅氧烷类树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯类树脂或环氧类树脂中的至少一种。
13.根据权利要求11所述的用于显示设备的膜，其中，所述粒子包括氧化锆(ZrO2)、二氧化硅(SiO2)、氧化铝(Al2O3)、二氧化钛(TiO2)、苯乙烯或丙烯酸类化合物中的至少一种。
14.根据权利要求1所述的用于显示设备的膜，其中，所述第一涂层的厚度为0.01μm至3.4μm。
15.根据权利要求5所述的用于显示设备的膜，其中，所述第二涂层的厚度为1μm至14μm。
16.根据权利要求9所述的用于显示设备的膜，其中，所述第三涂层的厚度为1μm以下。
17.一种聚酰亚胺类膜，包括：
聚酰亚胺类基板；和
设置在所述聚酰亚胺类基板上的第一涂层，
其中，基于通过测量在380nm至780nm的波长范围内的反射率得到的反射率曲线，所述聚酰亚胺类膜利用下面等式1计算的反射率振荡比Or为1.0以下，利用下面等式2计算的反射率曲线斜率Gr为0.122以下：
<等式1>
Or＝[(Om1*Om2)-(Om1+Om2)]/Min(Om1，Om2)
<等式2>
Gr＝|(Rm1-Rm2)|/Rm2
其中，在等式1中，Om1是500nm至550nm的波长范围内的反射率振荡值的平均Om，Om2是650nm至780nm的波长范围内的反射率振荡值的平均Om，
其中，反射率振荡值的平均Om1和平均Om2使用下面等式3计算，Min(Om1，Om2)是反射率振荡值的平均Om1和平均Om2中较小的平均Om，
其中，在等式2中，Rm1是在所述反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的第一峰P1对应的反射率值和第一谷V1对应的反射率值的算术平均值，Rm2是在所述反射率曲线中在500nm至780nm的波长范围内的最终峰Pf对应的反射率值和最终谷Vf对应的反射率值的算术平均值，
<等式3>
Om＝(1/n)*∑(Ok)
其中，在等式3中，Ok是在相应的波长范围内的振荡值，n是在相应的波长范围内的振荡值的个数，
其中，所述振荡值各自是彼此相邻的一对峰Pk和谷Vk对应的反射率值的差(|Pk对应的反射率-Vk对应的反射率|)。
18.一种显示设备，包括：
显示面板；和
设置在所述显示面板上的根据权利要求1至16中任一项所述的用于显示设备的膜。
CN202180044976.7A 2020-06-23 2021-06-18 具有改善的干涉条纹的多层结构膜和包括其的显示设备 Active CN116018372B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2020-0076134 2020-06-23
KR1020200076134A KR102458462B1 (ko) 2020-06-23 2020-06-23 간섭 무늬가 개선된 다층 구조의 필름 및 이를 포함하는 표시장치
PCT/KR2021/007679 WO2021261848A1 (ko) 2020-06-23 2021-06-18 간섭 무늬가 개선된 다층 구조의 필름 및 이를 포함하는 표시장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN116018372A true CN116018372A (zh) 2023-04-25
CN116018372B CN116018372B (zh) 2024-07-05

Family

ID=79178612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202180044976.7A Active CN116018372B (zh) 2020-06-23 2021-06-18 具有改善的干涉条纹的多层结构膜和包括其的显示设备

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20230305206A1 (zh)
EP (1) EP4169974A4 (zh)
JP (1) JP7453415B2 (zh)
KR (1) KR102458462B1 (zh)
CN (1) CN116018372B (zh)
TW (1) TWI758198B (zh)
WO (1) WO2021261848A1 (zh)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1575970A (zh) * 2003-06-30 2005-02-09 东丽株式会社 硬涂层薄膜、防反射薄膜以及图像显示装置
JP2005301004A (ja) * 2004-04-13 2005-10-27 Seiichi Suzuki 反射防止フィルム
CN101019043A (zh) * 2004-10-20 2007-08-15 日本油脂株式会社 减反射层积膜和使用该减反射层积膜的显示装置
CN105899581A (zh) * 2013-12-26 2016-08-24 可隆工业株式会社 透明聚酰胺-酰亚胺树脂及使用该树脂的薄膜
CN109073788A (zh) * 2016-08-23 2018-12-21 琳得科株式会社 硬涂膜
JP2019124908A (ja) * 2018-01-11 2019-07-25 東洋紡株式会社 積層フィルム及びそれを用いた偏光板
CN110621493A (zh) * 2017-05-19 2019-12-27 东友精细化工有限公司 硬涂膜和包括该硬涂膜的图像显示装置
CN110709739A (zh) * 2017-06-01 2020-01-17 三星Sdi株式会社 偏光板与包含其的液晶显示装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7378136B2 (en) * 2004-07-09 2008-05-27 3M Innovative Properties Company Optical film coating
KR20100007441A (ko) * 2008-07-14 2010-01-22 동우 화인켐 주식회사 간섭무늬를 제거한 광학필름, 이를 이용한 편광판 및화상표시 장치
JP5051328B1 (ja) * 2012-01-27 2012-10-17 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
TWI683837B (zh) * 2015-06-26 2020-02-01 南韓商可隆股份有限公司 聚醯胺醯亞胺前驅物組成物、聚醯胺醯亞胺薄膜及顯示裝置
TWI702415B (zh) * 2015-07-17 2020-08-21 日商大日本印刷股份有限公司 光學構件用積層體及影像顯示裝置
KR101813707B1 (ko) * 2015-11-04 2017-12-29 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
US20200319378A1 (en) * 2016-07-28 2020-10-08 Lg Chem, Ltd. Optical film for protecting polarizer, polarizing plate and image display device comprising the same
WO2018180304A1 (ja) * 2017-03-29 2018-10-04 大日本印刷株式会社 光学フィルムおよび画像表示装置
JP7000701B2 (ja) * 2017-04-13 2022-01-19 大日本印刷株式会社 光学フィルムおよび画像表示装置
KR20190063306A (ko) * 2017-11-29 2019-06-07 삼성에스디아이 주식회사 광학표시장치의 보호 필름, 이를 포함하는 광학 부재 및 이를 포함하는 광학표시장치
KR102032316B1 (ko) * 2018-07-09 2019-10-15 에스케이씨 주식회사 광학 다층 필름, 이를 포함하는 광학 부품 및 표시장치

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1575970A (zh) * 2003-06-30 2005-02-09 东丽株式会社 硬涂层薄膜、防反射薄膜以及图像显示装置
JP2005301004A (ja) * 2004-04-13 2005-10-27 Seiichi Suzuki 反射防止フィルム
CN101019043A (zh) * 2004-10-20 2007-08-15 日本油脂株式会社 减反射层积膜和使用该减反射层积膜的显示装置
CN105899581A (zh) * 2013-12-26 2016-08-24 可隆工业株式会社 透明聚酰胺-酰亚胺树脂及使用该树脂的薄膜
CN109073788A (zh) * 2016-08-23 2018-12-21 琳得科株式会社 硬涂膜
CN110621493A (zh) * 2017-05-19 2019-12-27 东友精细化工有限公司 硬涂膜和包括该硬涂膜的图像显示装置
CN110709739A (zh) * 2017-06-01 2020-01-17 三星Sdi株式会社 偏光板与包含其的液晶显示装置
JP2019124908A (ja) * 2018-01-11 2019-07-25 東洋紡株式会社 積層フィルム及びそれを用いた偏光板

Also Published As

Publication number Publication date
EP4169974A1 (en) 2023-04-26
US20230305206A1 (en) 2023-09-28
JP2023524971A (ja) 2023-06-14
EP4169974A4 (en) 2024-07-17
TW202200687A (zh) 2022-01-01
KR102458462B1 (ko) 2022-10-24
KR20210157966A (ko) 2021-12-30
WO2021261848A1 (ko) 2021-12-30
CN116018372B (zh) 2024-07-05
JP7453415B2 (ja) 2024-03-19
TWI758198B (zh) 2022-03-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4639241B2 (ja) 光学用部材、それを用いた光学系及び光学用部材の製造方法
TW200416750A (en) Transparent conductive lamination, touch panel and liquid crystal display device with the touch panel
KR20190109481A (ko) 폴리이미드계 필름 및 적층체
CN112041707B (zh) 光学膜、光学层叠体及柔性图像显示装置
JP2008163107A (ja) 光学部材
KR102077152B1 (ko) 적층체 및 그 제조 방법
JP2020193343A (ja) 光学フィルム
JP2012150284A (ja) 光学用部材及びその製造方法
TW202033628A (zh) 光學膜
CN112339378B (zh) 层叠体
KR20190129553A (ko) 눈부심 방지 필름 및 디스플레이 장치
CN116018372B (zh) 具有改善的干涉条纹的多层结构膜和包括其的显示设备
TW202020021A (zh) 光學膜
JP2013164499A (ja) 光学用部材及びその製造方法
CN110969941B (zh) 光学膜
TWI832356B (zh) 具有多層結構之光學膜以及包括其之顯示裝置
JP2008310119A (ja) 反射防止フィルム
JP7424454B2 (ja) 位相差フィルム、並びに、これを用いた光学積層体、表示パネル及び画像表示装置
TW201617644A (zh) 透鏡陣列構件及其製造方法、透鏡單元及其製造方法以及照相機模組及其製造方法、透鏡陣列構件的製造套件
WO2022113577A1 (ja) 易接着性ポリエステルフィルム
KR102668772B1 (ko) 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치 및 광학 필름의 선정 방법
JP5535052B2 (ja) 光学用部材、それを用いた光学系
CN111763428B (zh) 聚酰亚胺薄膜及使用其的柔性显示装置覆盖基板
CN117467348A (zh) 聚酰亚胺系树脂清漆及光学膜
WO2024143295A1 (ja) 透明フィルム、ハードコートフィルムおよびディスプレイ

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant