CN114867497A

CN114867497A - 抑菌方法

Info

Publication number: CN114867497A
Application number: CN202180007337.3A
Authority: CN
Inventors: 内藤敬祐
Original assignee: Ushio Denki KK
Current assignee: Ushio Denki KK
Priority date: 2020-02-18
Filing date: 2021-02-15
Publication date: 2022-08-05
Anticipated expiration: 2041-02-15
Also published as: JP7385818B2; JP2024023265A; EP4345863A3; WO2021166830A1; EP4109493A4; KR102680971B1; US20230130283A1; CN114867497B; EP4109493A1; KR20220114040A; JPWO2021166830A1; EP4345863A2

Abstract

提供一种抑菌方法，既抑制对人体的影响，又抑制菌类的增殖。一种抑菌方法，抑制对象区域内的菌类的增殖，其中，包含以由下述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)以下的平均照度对对象区域照射主峰值波长为200nm以上且230nm以下的紫外线的工序(a)：D_Max＝9391.1×exp(－0.043λ)…(1)，其中，在(1)式中，λ是主峰值波长(nm)。

Description

抑菌方法

技术领域

本发明涉及抑菌方法，特别是涉及利用紫外线的抑菌方法。

背景技术

以往，作为利用紫外线的杀菌方法，已知下述专利文献1所记载的技术。根据下述专利文献1，记载了通过照射0.008～0.17mW/cm²(8～170μW/cm²)的紫外线，能够对大肠杆菌、霉菌进行杀菌。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2014-136113号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，普遍知晓，DNA在波长260nm附近表现出最高的吸收特性。并且，低压水银灯在波长254nm附近表现出较高的发光光谱。因此，在使用紫外线进行杀菌处理时，一般使用低压水银灯作为光源。

在上述专利文献1中，虽未对波长作出严格意味下的记载，但若考虑到其涉及杀菌技术、仅规定了“紫外线灯”这一名称而未作特别说明、以及实验结果的内容，则可认为其使用了低压水银灯来作为光源。

然而，波长254nm附近的光照射到人体时有可能带来不良影响。也就是说，专利文献1所记载的杀菌方法只有在杀菌对象区域内切实地不存在人的情况下才能使用。因此，为了防止万一的事故，仅限在存在具有专业知识的人的特定环境下使用。

鉴于上述课题，本发明的目的在于提供一种既抑制对人体的影响又抑制菌类的增殖的抑菌方法。

用于解决课题的手段

在浴室、洗手间、盥洗室、厨房等用水场所以及空调的过滤器等霉菌等菌类容易增殖的部位，有着想要抑制菌类的增殖这一需求。另外，在医院等中，从提高院内感染的预防能力的观点来看，也有着想要抑制菌类的增殖这一需求。

在此，在抑制菌类的增殖时，的确是最好能够将所存在的菌类完全消灭、即进行杀菌。但是，即便假使不能实现“杀菌”状态，如果能够实现菌类的增殖受到抑制的所谓的“抑菌”状态的话，其好处也很多，例如打扫将变得轻松，或者能够降低清洁的频率等。

本发明是一种抑菌方法，抑制对象区域内的菌类的增殖，其特征在于，

包含以由下述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)以下的平均照度对所述对象区域照射主峰值波长为200nm以上且230nm以下的紫外线的工序(a)：

D_Max＝9391.1×exp(－0.043λ)…(1)

其中，在(1)式中，λ是所述主峰值波长(nm)。

主峰值波长为200nm以上且230nm以下所属的波段的紫外线即使照射于人体的皮肤也会被皮肤的角质层吸收，而不会行进到更内侧(基底层侧)。角质层所包含的角质细胞作为细胞来说是已死的状态，因此几乎不会像例如被照射波长254nm的紫外线的情况那样存在被棘层、颗粒层、真皮等活体的细胞吸收而使得DNA受到损伤的风险。

根据上述方法，通过以与使用以往的杀菌方法照射的照度相比极小的照度，照射与从低压水银灯出射的紫外线的波段相比对人体的影响较低的波长的紫外线，可起到抑菌作用。由此，可在极力抑制对人体的影响的状态下抑制对象区域内的菌类的增殖。对于这一点，将随后在“具体实施方式”一项中描述。

此外，在本说明书中，所谓“菌类”，是包含细菌和霉菌(真菌)的概念。

作为该紫外线的光源，可以使用封入了包含Kr及Cl的发光气体的准分子灯。该情况下，来自准分子灯的紫外线的主峰值波长在222nm附近。

也可以为，所述工序(a)是以1μW/cm²以下的照度对所述对象区域照射所述紫外线的工序。

也可以为，所述菌类是黄色葡萄球菌，

所述工序(a)是以0.4μW/cm²以上的照度对所述对象区域照射所述紫外线的工序。

也可以为，所述菌类是霉菌，

所述工序(a)是以0.29μW/cm²以上的照度对所述对象物照射所述紫外线的工序。

也可以为，所述工序(a)以2小时以下的时间间隔间歇地执行。

如随后在“具体实施方式”一项中描述的那样，确认了：若在前面刚刚执行完照射紫外线的工序(a)之后经过2小时以上的时间，则抑菌的效果降低。根据上述方法，不用始终照射紫外线，就能够对对象区域实现较高的抑菌效果。

也可以为，所述抑菌方法具有：

利用人感传感器感测在所述对象区域内是否存在人的工序(b)；以及

以比由所述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)高的平均照度对所述对象区域照射所述紫外线的工序(c)；

若通过所述工序(b)感测到在所述对象区域内存在人，则从所述工序(c)进入到所述工序(a)。

根据该方法，在对象区域内不存在人的情况下，以有可能对人体带来影响的、比D_Max(μW/cm²)高的照度照射紫外线，在对象区域内存在人的情况下，紫外线的照度被降低到D_Max(μW/cm²)以下。由此，可进一步提高在抑制对人体的影响的同时抑制对象区域内的菌类的增殖的效果。

发明效果

根据本发明，能够既抑制对人体的影响又抑制菌类的增殖。

附图说明

图1是示意性地表示本发明的抑菌方法的实施状态的附图。

图2是示意性地表示紫外线照射装置的外观的一个例子的立体图。

图3是从图2分解了紫外线照射装置的灯壳的主体外壳部和盖部的立体图。

图4是示意性地表示准分子灯与电极块的位置关系的俯视图。

图5是表示从发光气体中包含KrCl的准分子灯出射的紫外线的光谱的附图。

图6是用于对由下述(1)式规定的阈值照度D_Max(μW/cm²)进行说明的线图。

图7是示意性地表示本发明的抑菌方法的实施状态的另一附图。

图8A是表示验证1中的比较例1的结果的照片。

图8B是表示验证1中的比较例2的结果的照片。

图8C是表示验证1中的实施例1的结果的照片。

图9A是表示验证2中的比较例3(枝孢菌的孢子液)的结果的照片。

图9B是表示验证2中的比较例3(枝孢菌的菌株)的结果的照片。

图9C是表示验证2中的实施例2(枝孢菌的孢子液)的结果的照片。

图9D是表示验证2中的实施例2(枝孢菌的菌株)的结果的照片。

图9E是表示验证2中的比较例4(枝孢菌的孢子液)的结果的照片。

图9F是表示验证2中的比较例4(枝孢菌的菌株)的结果的照片。

图9G是表示验证2中的实施例3(枝孢菌的孢子液)的结果的照片。

图9H是表示验证2中的实施例3(枝孢菌的菌株)的结果的照片。

图9I是表示污染状态(#2)的枝孢菌的孢子液的实施例4、实施例6及实施例7的结果的照片。

图9J是表示污染状态(#2)的枝孢菌的菌株的实施例4、实施例6及实施例7的结果的照片。

具体实施方式

适当参照附图对本发明的抑菌方法的实施方式进行说明。

图1是示意性地表示本发明的抑菌方法的实施状态的附图。本发明的抑菌方法涉及一种通过从紫外线照射装置1对对象区域40照射紫外线L1来抑制对象区域40内的菌类的增殖的方法。在图1中，示意性地示出了紫外线照射装置1被搭载于壳体50且从紫外线照射装置1的光取出面10对对象区域40照射紫外线L1的样子。

图2是示意性地表示紫外线照射装置1的外观的立体图。图3是从图2分解了紫外线照射装置1的灯壳2的主体外壳部2a和盖部2b的立体图。不过，以下所说明的紫外线照射装置1的构造只不过是一个例子，本发明的抑菌方法中所用的光源的构造不受限定。

在以下的各图中，参照将紫外线L1的取出方向设为X方向、将与X方向正交的平面设为YZ平面的X-Y-Z坐标系进行说明。更详细来说，如随后参照自图3起的附图描述的那样，将准分子灯3的管轴方向设为Y方向，将与X方向及Y方向正交的方向设为Z方向。

如图2及图3所示，紫外线照射装置1具备在一个面上形成有光取出面10的灯壳2。灯壳2具备主体外壳部2a和盖部2b，在主体外壳部2a内收容有准分子灯3和电极块(11、12)。在图3中，作为一个例子，示出了在灯壳2内收容有四根准分子灯3的情况。电极块(11、12)与供电线8电连接，构成用于对各准分子灯3供电的电极。图4是示意性地表示准分子灯3与电极块(11、12)的位置关系的俯视图。

如图2～图4所示，本实施方式的紫外线照射装置1以与各个准分子灯3的发光管的外表面接触的方式配置有两个电极块(11、12)。电极块(11、12)配置于沿Y方向分离的位置。电极块(11、12)由导电性的材料构成，优选的是，电极块(11、12)由对从准分子灯3出射的紫外线表现出反射性的材料构成。作为一个例子，电极块(11、12)都由Al、Al合金、不锈钢等构成。电极块(11、12)均与各准分子灯3的发光管的外表面接触，并且在Z方向上跨各准分子灯3配置。

准分子灯3具有将Y方向作为管轴方向的发光管，在沿Y方向分离的位置，准分子灯3的发光管的外表面与各电极块(11、12)接触。在准分子灯3的发光管中封入有发光气体3G。若通过供电线8(参照图2)向各电极块(11、12)之间施加例如10kHz～5MHz左右的高频的交流电压，则经由准分子灯3的发光管对发光气体3G施加所述电压。此时，在封入有发光气体3G的放电空间内产生放电等离子体，发光气体3G的原子被激发而变为准分子状态，在该原子进入基底状态时产生准分子发光。

发光气体3G由在进行准分子发光时出射主要的发光波长为200nm以上且230nm以下的紫外线L1的材料构成。作为一个例子，作为发光气体3G，包含KrCl、KrBr。此外，也可以在所述的气体种类基础上混合氩(Ar)、氖(Ne)等惰性气体。

例如，在发光气体3G中包含KrCl的情况下，从准分子灯3出射主要的峰值波长为222nm附近的紫外线L1。在发光气体3G中包含KrBr的情况下，从准分子灯3出射主要的峰值波长为207nm附近的紫外线L1。图5是表示从发光气体3G中包含KrCl的准分子灯3出射的紫外线L1的光谱的附图。

在实施本发明的抑菌方法的情况下，从紫外线照射装置1以由下述(1)式规定的阈值照度D_Max(μW/cm²)以下的平均照度对对象区域40照射紫外线L1(工序(a))。其中，在(1)式中，λ是紫外线L1的主峰值波长(nm)。即，在紫外线照射装置1所搭载的光源是发光气体3G中包含KrCl的准分子灯3的情况下，λ＝222nm。

D_Max＝9391.1×exp(－0.043λ)…(1)

此外，exp(x)与e^x同义。

紫外线照射装置1可以具备未图示的控制部，由该控制部通过供电线8对各电极块(11、12)进行通电控制。并且，该控制部以紫外线L1对对象区域40的平均照度为D_Max(μW/cm²)以下的方式控制对各电极块(11、12)供给的电力。

此外，在从紫外线照射装置1对对象区域40连续地照射紫外线L1的情况下，可以以照度为D_Max(μW/cm²)以下的方式进行设定。另一方面，在如后述那样紫外线照射装置1间歇点亮的情况下，以对象区域40中的平均照度为D_Max(μW/cm²)以下的方式进行设定。

如上面在“发明所要解决的课题”一项中描述的那样，普遍知晓，DNA表现出较高的吸收特性的260nm附近的紫外线会对人体带来较高的影响。因此，在操作紫外线时，课以限制，当前，推荐的是设于由ACGIH(American Conference of Governmental IndustrialHygienists：美国政府工业卫生学家会议)规定的限制值以内。下述表1是在ACGIH中规定的TLV(Threshold Limit Values：极限阈值)。TLV是考虑了产业劳动者通常1日从事8小时劳动的、表示该时间内允许被辐射的上限值的阈值。

[表1]

波长(nm)	TLV(mJ/cm2)
		200	100
210	40
		220	25
230	16
		240	10
250	7
		254	6
260	4.6
		270	3

表1所示的值规定了8小时期间的被辐射照射剂量。将其按照每单位时间(秒)进行换算并作成线图而得的线与图6中(a)所示的曲线对应。此外，如表1所示，在ACGIH中，按照波长离散地规定了被辐射照射剂量。因此，通过在将各波长下的值换算成每单位时间(秒)的值之后进行直线插补，示出了图6的(a)曲线。

在图6中，(b)曲线是基于使(a)所示的ACGIH-TLV值乘以安全系数0.9而得的值制作的。另一方面，(c)曲线是由上述(1)式规定的曲线。如图6所示，可知：(c)曲线在200nm～270nm的范围内不超过基于使ACGIH-TLV值乘以安全系数0.9而得的值的(b)曲线的值。

也就是说，通过从紫外线照射装置1以由上述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)以下的平均照度对对象区域40照射紫外线L1，即使在对象区域40内存在人的情况下，也能够抑制对人体的影响。特别是，在对象区域40是同一个人停留超过8小时的可能性较低的场所的情况下，即使在对象区域40内存在人，对该人的人体的影响也极低。

例如，如果对象区域40是浴室、洗手间、盥洗室、厨房等用水场所、空调的过滤器等场所，一般就不会想象会有同一个人在该位置停留超过8小时。另外，即使在本发明的方法被用在医院内的出于院内感染预防的观点的抑菌处理中的情况下，对于同一个人停留超过8小时的可能性较低的区域，通过以D_Max(μW/cm²)以下的照度照射紫外线L1，也能够在抑制对人体的影响的同时确保抑菌效果。

如果是主峰值波长为200nm以上且230nm以下的紫外线L1，则即使是由上述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)以下这一极低的照度，也可获得抑制对象区域40内的菌类的增殖的效果，这是本发明人通过深入研究而最新发现的研究成果。在例如主峰值波长为222nm的紫外线L1的情况下，根据图6，该值低于1μW/cm²。这种极其微弱的紫外线L1有着抑制菌类的增殖的效果，这到目前为止尚属未知，实属预想不到的效果。对于这一点，将随后参照实施例进行描述。

另外，主峰值波长为200nm以上且230nm以下的紫外线L1几乎不会被氧吸收，因此不会产生臭氧，从这一点来看也可以说其对人体的影响极低。

此外，如图7所示，壳体50除了紫外线照射装置1以外，还可以具有能够感测在对象区域40内是否存在人的人感传感器30。人感传感器30若感测到在对象区域40内存在人(工序(b))，则对紫外线照射装置1所具备的控制部输出该意思的信号，控制部进行使从紫外线照射装置1照射的紫外线L1的照度降低的控制(工序(c))。

也就是说，在对象区域40内不存在人的情况下，图7的方式从紫外线照射装置1以超过由上述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)的照度对对象区域40照射紫外线L1。由此，实现对象区域40内的较强的抑菌效果及杀菌效果。另一方面，若利用人感传感器30确认到对象区域40内存在(可能存在)人，则使来自紫外线照射装置1的紫外线L1在对象区域40中的照度降低到由上述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)以下。由此，即使在对象区域40内存在人的情况下，也可确保对象区域40内的抑菌效果。

菌类表现出只要没有完全灭活就会随着时间的经过而增殖的性质。另外，即使一度进行了杀菌处理，只要是搁置不管，就十分有可能随着时间的经过而从外部附着菌类。并且，菌类一旦增殖而形成菌落，就要在去除菌类的作业中耗费大量的劳动。但是，通过如上述的方法那样以几乎对人体没有影响的水平的照度向对象区域40内照射紫外线L1，即使不能使菌类完全灭活，也会抑制菌类的增殖，能够使去除菌类的作业大幅度减少劳动。特别是，通过在进行了杀菌处理之后继续以由上述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)以下的照度照射紫外线L1，既能够抑制对人体的影响，又能够防止菌类在对象区域40内增殖。

从确保更高的安全性的观点来看，可以仅在利用人感传感器30确认到对象区域40内不存在人的情况下才进行照射紫外线L1的控制。即，紫外线照射装置1可以仅限于在对象区域40内不存在人的情况下以由上述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)以下的照度对对象区域40照射紫外线L1，另一方面，若利用人感传感器30确认到在对象区域40内存在人，则停止紫外线L1的照射。

[验证]

以下，关于即使紫外线L1对对象区域40的照度是由上述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)以下这一极低的值也能够抑制对象区域40内的菌类的增殖这一点，参照实施例对其进行说明。

(验证1：黄色葡萄球菌)

以黄色葡萄球菌为对象进行了实验。为了模拟菌类的生存环境，在无负荷状态(理想状态)、清洁状态、污染状态这三个模式下进行了实验。在对杀灭细菌活性进行评价的基本试验法即EN试验法中，作为表示对象区域中想象的不同污染程度的状态，规定了清洁状态及污染状态。它们均对应为了模拟污染状态而加入了负荷物质的状态。在本验证中，除了这两个状态以外，对完全不加入负荷物质的无负荷状态(理想状态)也进行了验证。

作为无负荷状态、清洁状态及污染状态的各样本，均使用了将蛋白质(BSA：Bovineserum albumin，牛血清白蛋白)作为模拟污垢添加到黄色葡萄球菌液中并涂抹于培养皿内的标准琼脂培养基而成的样本。下述表2示出了用于制作这些样本的黄色葡萄球菌及BSA的量。

[表2]

此外，在表2中，CFU表示菌落形成单位(Colony forming unit)。

对于上述表2中的各状态的样本，确认了(比较例1)不照射紫外线的情况下、(比较例2)照射了波长254nm的紫外线的情况下、(实施例1)照射了波长222nm的紫外线的情况下的各个样本的样子。

在比较例1中，对样本未作任何处理，原样进行了放置。在比较例2中，从低压水银灯以由上述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)以下的0.22μW/cm²的照度照射了波长254nm的紫外线72小时。在实施例1中，以由上述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)以下的0.43μW/cm2的照度照射了来自KrCl准分子灯的波长222nm的紫外线72小时。在比较例2及实施例1中，照射处理后，在放置一夜之后确认了样本。图8A～图8C及表3中示出了各自的结果。

此外，就表3中的评价而言，将通过目视未能确认到菌落的形成的情况(抑菌效果极高的情况)设为“A”，将确认到微量地形成了菌落的情况(可看出抑菌效果的情况)设为“B”，将确认到大量形成了菌落的情况(未能抑制菌类的增殖的情况)设为“C”。

[表3]

根据实施例1，确认到了尽管是污染状态，即使为0.43μW/cm²这一极低照度的紫外线，通过持续地进行照射，也能够抑制黄色葡萄球菌的增殖。另一方面，在比较例1及比较例2中，均确认到了菌落的形成。在比较例2中，在为污染程度较低的“清洁状态”的情况下，略微抑制了菌落的增殖，但在为污染程度较高的“污染状态”的情况下，未能抑制菌落的增殖。像比较例2这样，在与来自一般用作杀菌灯的低压水银灯的紫外线的主峰值波长对应的254nm的紫外线的情况下，由于由上述(1)式规定的D_Max的值比222nm小，因此认为即使持续地照射紫外线，也未能充分获得抑菌效果。

(验证2：霉菌)

以作为黑霉菌的一种的枝孢菌(Cladosporium cladosporioides(NBRC.6368))、青霉菌(Penicillium citrinum(NBRC 6352))、黑曲霉菌(Aspergillus niger(NBRC105649))为对象进行了实验。与验证1相同，为了模拟菌类的生存环境，在无负荷状态(理想状态)、清洁状态、污染状态这三个模式下进行了实验。

而且，在本验证2中，为了模拟存在未生长的霉菌的状态和霉菌已经生长的状态这两者，准备了将霉菌的孢子液导入培养基而成的样本和将向生理盐水中掺入菌株本身所得的物质导入到培养基而成的样本这两个种类。前者模拟了眼睛无法看见霉菌的存在但霉菌实际存在的情况，后者模拟了霉菌生长到了能够观察到的程度的情况。

孢子液按照JIS Z 2911的霉菌抗性试验调整成了10⁴/mL～10⁶/mL。作为培养基，使用了市售的马铃薯葡萄糖琼脂培养基(PDA培养基)，其被导入到了培养皿内。另外，对于清洁状态及污染状态的各样本，使用了将BSA作为模拟污垢涂抹于琼脂培养基而成的样本。下述表4汇总了在本验证2中准备的样本的制作条件。

[表4]

对于上述表4中的各状态的样本#1～#6对，确认了(比较例3～比较例4)不照射紫外线的情况下、(实施例2～实施例8)照射了波长222nm的紫外线的情况下的各个样本的样子。此外，进行比较例3及实施例2的验证的季节和进行比较例4及实施例3～实施例8的验证的季节相互是不同的，因此验证时的环境的温度及湿度这些条件是不同的。具体而言，比较例3及实施例2的验证时的环境温度为15～18℃，湿度为30％RH左右。另外，比较例4、实施例3～实施例8的验证时的环境温度为22～26℃，湿度为40％RH左右。

以下，对实施例2～实施例8的照射条件进行说明。实施例2～实施例3对应连续照射，实施例4～实施例8对应间歇照射。

[连续照射]

(实施例2)以由上述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)以下的0.76μW/cm²的照度对样本照射了来自KrCl准分子灯的波长222nm的紫外线72小时。

(实施例3)将照度设为0.29μW/cm²，除此以外以与实施例2相同的条件对样本照射了紫外线。

[间歇照射]

(实施例4)在以0.76μW/cm²的照度对样本照射45分钟之后，使照射停止15分钟，在72小时内反复进行了这一处理，除此以外以与实施例2相同的条件进行了实施。该情况下，72小时内的平均照度对应0.57μW/cm²。

(实施例5)使照射时间的周期与实施例4不同。具体而言，在照射30分钟之后，使照射停止30分钟，反复进行了这一处理，除此以外以与实施例4相同的条件进行了实施。该情况下，72小时内的平均照度对应0.38μW/cm²。

(实施例6)使照射时间的周期与实施例4不同。具体而言，在照射2小时之后，使照射停止2小时，反复进行了这一处理，除此以外以与实施例4相同的条件进行了实施。该情况下，72小时内的平均照度对应0.38μW/cm²。

(实施例7)使照射时间的周期与实施例4不同。具体而言，在照射3小时之后，使照射停止3小时，反复进行了这一处理，除此以外以与实施例4相同的条件进行了实施。该情况下，72小时内的平均照度对应0.38μW/cm²。

(实施例8)使照射时间的周期与实施例4不同。具体而言，在照射4小时之后，使照射停止4小时，反复进行了这一处理，除此以外以与实施例4相同的条件进行了实施。该情况下，72小时内的平均照度对应0.38μW/cm²。

表5～表6、图9A～图9H中示出了各自的结果。此外，在表5中，省略了对实施例3～实施例8中的无负荷状态(#6)的验证，但参考比较例3及实施例2的结果即可预想到其至少能够获得清洁状态(#1)同等以上的结果，因此省掉了验证。

各图的照片分别对应以下的状态。此外，将表5及表6中记载了结果的部位的照片全部登载下来是极其庞大的，因此在附图中仅摘录表示了枝孢菌的有代表性的照片。

图9A是表示比较例3(枝孢菌的孢子液)的结果的照片。

图9B是表示比较例3(枝孢菌的菌株)的结果的照片。

图9C是表示实施例2(枝孢菌的孢子液)的结果的照片。

图9D是表示实施例2(枝孢菌的菌株)的结果的照片。

图9E是表示比较例4(枝孢菌的孢子液)的结果的照片。

图9F是表示比较例4(枝孢菌的菌株)的结果的照片。

图9G是表示实施例3(枝孢菌的孢子液)的结果的照片。

图9H是表示实施例3(枝孢菌的菌株)的结果的照片。

此外，图9I及图9J中的“45分/15分”这一记载是如下意思：在照射45分钟紫外线之后，使照射停止15分钟，重复进行这一循环。“2小时/2小时”、“3小时/3小时”这些记载也是一样的。

[表5]

[表6]

此外，在本验证2中，出于对间歇照射的效果的差异进行确认的目的，将验证1所使用的评价B进一步分成了评价B1～评价B3这三个等级。即，将可看出抑菌效果的情况(评价B)中的菌落数少于30的情况设为评价B1，将菌落数为30以上且少于300的情况设为评价B2，将菌落数为300以上但没有确认到菌丝的情况设为评价B3。另外，作为评价C，是指菌落数形成了很多而且确认到了菌丝的情况。

此外，菌落数少于30这一数值与处于微生物学上的检测极限以下这一情况对应。另外，菌落数为300以上这一数值与达到计数极限这一情况对应。

根据实施例2，对于孢子液的情况和菌株的情况这两者，都确认到了即使是0.76μW/cm²这一极低照度的紫外线，也能够抑制黑霉菌的增殖。另一方面，在比较例3中，对于孢子液的情况和菌株的情况这两者，都确认到了菌落的形成。特别是，根据实施例2，如利用样本#3～#5所模拟的那样，确认到了即使在霉菌已经生长的情况下，也能够通过照射波长222nm的紫外线来抑制霉菌的增殖。

根据实施例3，确认到了即使是比实施例2更低的值的0.29μW/cm²这一照度的紫外线，也能够抑制黑霉菌的增殖。不过，与实施例2相比，黑霉菌的增殖抑制作用稍有降低。

实施例4～实施例8对应间歇照射紫外线的情况。确认到了：在从前面刚刚进行了照射开始的未照射时间为3小时以上的实施例7及实施例8的情况下，与未照射时间为2小时以下的实施例4～实施例6相比，黑霉菌的增殖抑制作用降低。也就是说，可作如下推定：将对样本照射的紫外线的平均照度设为相同的D_Max以下，即使在以相同的时间(72小时)照射了紫外线的情况下，若未照射时间较长，则在该时间内黑霉菌也表现出增殖的趋势。换句话说，可知：为了抑制菌类的增殖，在间歇照射紫外线的情况下，优选将照射间隔设定在2小时以内。

此外，若将环境温度及湿度这些条件相同的图9F所示的比较例4的污染状态(#4)的照片与图9J的实施例7的照片进行比较，则虽然照片图像有些难以看清，但在比较例4的照片中能够确认到菌丝，而在实施例7的照片未能确认到菌丝。由此可知，即使在将紫外线以3小时为周期照射了紫外线的实施例7的情况下，与不照射紫外线的比较例3相比，也是能够抑制菌类增殖的。不过，与图9J所示的实施例4、实施例6相比，在实施例7中菌落数变多，因此在间歇照射紫外线的情况下，从进一步提高抑菌效果的观点来看，优选将未照射时间设为2小时以内。

此外，在实施例1中，利用照度0.43μW/cm²的紫外线进行了验证，在实施例2中，利用照度0.76μW/cm²的紫外线进行了验证，在实施例3中，利用照度0.29μW/cm²的紫外线进行了验证。另外，间歇地进行照射的实施例4～实施例8中，在实施例4中，平均照度被设为0.57μW/cm²，在实施例5～实施例8中，平均照度被设为0.38μW/cm²。但是，显然是照度越高则越能够提高抑菌效果。也就是说，通过在由上述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)以下的范围内提高平均照度，能够在抑制对人体的影响的同时显现出较高的抑菌效果。

[其它实施方式]

以下，对其它实施方式进行说明。

〈1〉在上述实施方式中，对使用搭载准分子灯3作为光源的紫外线照射装置1的情况进行了说明，但只要是出射主要的发光波长为200nm以上且230nm以下的紫外线L1的光源即可，对光源的构造不作限定。例如，也可以是LED、半导体激光元件等固体光源。

另外，在紫外线照射装置1于光取出面10处具备将230nm以上的光截断的滤波器的情况下，还能够以在200nm～230nm的波段的一部分中有光输出为限，使用在超过230nm的波段中也有光输出的光源。该情况下，经由滤波器从光取出面10取出的紫外线L1的主峰值波长为200nm以上且230nm以下。

〈2〉也可以出于对从紫外线照射装置1照射的紫外线L1的照度进行感测的目的而在被照射紫外线L1的区域(相当于图1中的对象区域40)设置照度计。作为这种照度计的一个例子，可以使用分光放射照度计，具体可以使用优志旺电机公司制的USR-45D。

并且，也可以对紫外线照射装置1发送该照度计的感测结果。紫外线照射装置1也可以具备控制部，通过在该控制部对对象波段区域(200nm～230nm)的照度进行积分处理来计算照度的平均值。另外，也可以在照度计侧搭载运算处理功能，对紫外线照射装置1发送与平均照度相关的信息。

紫外线照射装置1的控制部也可以确认推算出的平均照度Ai是否在由上述(1)式规定的D_Max(μW/cm²)以下的范围内。在该情况下，可以为：在Ai＜D_Max的情况下，控制部继续对搭载于紫外线照射装置1的光源以使其持续照射紫外线L1不变的方式进行控制，另一方面，在Ai接近D_Max的值而即将有可能出现Ai＞D_Max的情况下，例如通过进行使光源降低输出或者熄灭的控制而以持续满足Ai＜D_Max的方式进行控制。

〈3〉在上述实施方式中，成为“平均照度”的推算基准的时间是任意的，但作为典型的一个例子，可以参照ACGIH的基准而将时间设为紧靠前面的8小时。也就是说，可以用使以当前时刻为基准的过去8小时的照度的积分值除以8小时而得的值作为平均照度。

附图标记说明

1：紫外线照射装置

2：灯壳

2a：主体外壳部

2b：盖部

3：准分子灯

3G：发光气体

8：供电线

10：光取出面

30：人感传感器

40：对象区域

50：壳体

D_Max：阈值照度

L1：紫外线

Claims

1.一种抑菌方法，抑制对象区域内的菌类的增殖，其特征在于，

D_Max＝9391.1×exp(－0.043λ)…(1)

其中，在(1)式中，λ是所述主峰值波长(nm)。

2.根据权利要求1所述的抑菌方法，其特征在于，

所述工序(a)是以1μW/cm²以下的照度对所述对象区域照射所述紫外线的工序。

3.根据权利要求1或2所述的抑菌方法，其特征在于，

所述菌类是黄色葡萄球菌，

4.根据权利要求1或2所述的抑菌方法，其特征在于，

所述菌类是霉菌，

所述工序(a)是以0.29μW/cm²以上的照度对所述对象区域照射所述紫外线的工序。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的抑菌方法，其特征在于，具有：

6.根据权利要求1～5中任一项所述的抑菌方法，其特征在于，

所述工序(a)是从封入了包含Kr及Cl的发光气体的准分子灯照射所述紫外线的工序。