CN114625264A - 显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种显示装置,采用像素界定层上的第一成像小孔和遮光层上的第二成像小孔构成准直结构,第一成像小孔和第二成像小孔可将指纹反射的光线近于准直化的筛选出,使其到达下方指纹识别器件,指纹识别器件可以探测读取光线的强度,由于指纹的谷与脊向下透射光的能量不同,指纹识别器件探测得到的光强不同,由此获取指纹信息,实现指纹识别;并且指纹识别器件集成于显示区,可实现大面积指纹识别。另外,本发明通过在显示装置内部膜层上采用构图工艺制作两个成像小孔即可达到较好的准直效果,将指纹的反射光收集到对应的像素单元的指纹识别器件上,实现指纹采集,进而实现指纹识别;本发明可以减少模组厚度,利用现有工艺,降低成本。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种显示装置。
背景技术
有机发光显示面板集成指纹识别技术,是一种在不降低有机发光显示面板有效显示面积的同时提供指纹识别能力的面板集成技术。现有的有机发光显示面板通常集成光学的指纹识别单元。自有机发光显示面板出射的光线在手指表面反射再次进入有机发光显示面板内被指纹识别单元接收。指纹识别单元能够根据手指纹路的谷与脊对光线反射的差异产生不同的识别信息,从而能够识别不同的手指纹路信息。
发明内容
本发明实施例提供的一种显示装置,包括:
衬底基板,具有多个像素单元,每一所述像素单元包括至少两个不同颜色的子像素;
多个指纹识别器件,分别位于对应的所述像素单元内,且所述指纹识别器件在所述衬底基板上的正投影与对应的所述像素单元内的子像素在所述衬底基板上的正投影不交叠;
像素界定层,位于所述衬底基板上,所述像素界定层具有与各所述子像素对应的多个像素开口,以及具有与各所述指纹识别器件对应的多个第一成像小孔;
遮光层,位于所述像素界定层背离所述衬底基板的一侧,所述遮光层具有与所述第一成像小孔对应的多个第二成像小孔;其中,
所述第一成像小孔和对应的所述第二成像小孔被配置为:将指纹成像到所述指纹识别器件上。
可选地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,还包括:位于所述像素界定层背离所述衬底基板的一侧的封装层,以及位于所述封装层背离所述衬底基板一侧的触控层;所述遮光层位于所述触控层。
可选地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,所述触控层仅包括第一金属层,所述遮光层位于所述第一金属层;或
所述触控层包括:位于所述封装层背离所述衬底基板一侧层叠设置的第一金属层和第二金属层;所述遮光层位于所述第一金属层,或所述遮光层位于所述第二金属层。
可选地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,还包括:位于所述像素界定层和所述遮光层之间的封装层,位于所述封装层和所述遮光层之间的触控层;其中,
所述触控层具有与所述第一成像小孔对应的多个透光孔。
可选地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,所述遮光层的材料为黑色聚合物。
可选地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,还包括位于所述触控层和所述遮光层之间的平坦层。
可选地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,所述遮光层的材料为金属,所述显示装置还包括位于所述触控层和所述遮光层之间的平坦层。
可选地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,还包括位于所述平坦层和所述遮光层之间的缓冲层。
可选地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,还包括:位于所述遮光层背离所述衬底基板一侧的微透镜,所述微透镜在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第二成像小孔在所述衬底基板上的正投影。
可选地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,还包括位于所述第一成像小孔四周且与所述像素界定层接触设置的环状遮挡结构,所述环状遮挡结构的材料与所述像素界定层的材料相同,所述环状遮挡结构的厚度为1μm-3μm。
可选地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,所述第一成像小孔、所述第二成像小孔和所述透光孔的尺寸相同。
可选地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,还包括:位于所述像素界定层的像素开口内的阳极,位于所述阳极和所述封装层之间的发光层,以及位于所述发光层和所述封装层之间的阴极。
可选地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,还包括位于所述衬底基板和所述指纹识别器件之间的驱动电路,所述驱动电路包括薄膜晶体管,所述薄膜晶体管与所述指纹识别器件电连接。
可选地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,还包括:位于所述遮光层背离所述衬底基板一侧的偏光片,以及位于所述偏光片背离所述衬底基板一侧的盖板;所述盖板为柔性盖板。
h1为所述指纹识别器件上表面和所述遮光层上表面之间的距离,h2为所述遮光层上表面和所述盖板上表面之间的间距,w1为所述第二成像小孔的孔径。
本发明实施例的有益效果如下:
本发明实施例提供的上述显示装置,采用像素界定层上的第一成像小孔和遮光层上的第二成像小孔构成准直结构,第一成像小孔和第二成像小孔可将手指反射后的光线近于准直化的筛选出,使其到达下方指纹识别器件,指纹识别器件可以探测读取光线的强度,由于指纹的谷与脊向下透射光的能量不同,指纹识别器件探测得到的光强不同,由此获取指纹信息,实现指纹识别;并且本发明的指纹识别器件集成于显示区,可以实现大面积指纹识别。另外,本发明通过在显示装置内部的膜层上采用构图工艺制作两个成像小孔即可达到较好的准直效果,将指纹的反射光收集到对应的像素单元的指纹识别器件上,实现指纹的采集,进而实现指纹识别;本发明可以减少模组厚度,利用现有工艺,降低了成本。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种显示装置的剖面结构示意图;
图2为本发明实施例提供的又一种显示装置的剖面结构示意图;
图3为本发明实施例提供的又一种显示装置的剖面结构示意图;
图4为本发明实施例提供的又一种显示装置的剖面结构示意图;
图5为本发明实施例提供的又一种显示装置的剖面结构示意图;
图6为本发明实施例提供的又一种显示装置的剖面结构示意图;
图7为图1中一个像素单元的剖面结构示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例的附图,对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。并且在不冲突的情况下,本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于所描述的本发明的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
除非另外定义,本发明使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明中使用的“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“内”、“外”、“上”、“下”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。
需要注意的是,附图中各图形的尺寸和形状不反映真实比例,目的只是示意说明本发明内容。并且自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。
当前全屏AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode,有源矩阵有机发光二极体)显示屏的指纹识别多采用在屏幕背面放置光学指纹识别传感器,通过在传感器上设置准直光学器件,实现指纹光学传感器采集指纹反射光,实现指纹的采集和识别。一方面传感器置于屏幕背后增加了模组厚度,另一方面采用集成电路芯片制作光学指纹识别传感器成本高,实现大面积指纹识别的成本较高。
有鉴于此,本发明实施例提供的一种显示装置,如图1-图6所示,包括:
衬底基板1,具有多个像素单元11,每一像素单元11包括至少两个不同颜色的子像素;具体地,以每一像素单元11包括红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B为例;衬底基板1为柔性衬底,例如聚酰亚胺(PI);
多个指纹识别器件2,分别位于对应的像素单元11内,即每个像素单元11由至少两个发光的显示子像素和包含指纹识别器件2的传感子像素构成,且指纹识别器件2在衬底基板1上的正投影与对应的像素单元11内的子像素(R、G、B)在衬底基板1上的正投影不交叠,这样可以实现显示和指纹识别互不影响;
像素界定层3,位于衬底基板1上,像素界定层3具有与各子像素(R、G、B)对应的多个像素开口,以及具有与各指纹识别器件2对应的多个第一成像小孔31;
遮光层4,位于像素界定层3背离衬底基板1的一侧,遮光层4具有与第一成像小孔31对应的多个第二成像小孔41;其中,
第一成像小孔31和对应的第二成像小孔41被配置为:将指纹成像到指纹识别器件上;例如经指纹100反射的光线通过第二成像小孔41和对应的第一成像小孔31入射至指纹识别器件2,指纹识别器件2将光信号转换为电信号输入至处理电路,处理电路根据指纹的脊与谷反射的光线强度不同实现指纹识别。
本发明实施例提供的上述显示装置,采用像素界定层上的第一成像小孔和遮光层上的第二成像小孔构成准直结构,第一成像小孔和第二成像小孔可将手指反射后的光线近于准直化的筛选出,使其到达下方指纹识别器件,指纹识别器件可以探测读取光线的强度,由于指纹的谷与脊向下透射光的能量不同,指纹识别器件探测得到的光强不同,由此获取指纹信息,实现指纹识别;并且本发明的指纹识别器件集成于每一个像素单元内,因此可以实现大面积指纹识别。另外,本发明通过在显示装置内部的膜层上采用构图工艺制作两个成像小孔即可达到较好的准直效果,将指纹的反射光收集到对应的像素单元的指纹识别器件上,实现指纹的采集,进而实现指纹识别;本发明可以减少模组厚度,利用现有工艺,降低了成本。
在具体实施时,如图7所示,图7为图1中一个像素单元11的示意图,该显示装置可以为采用自发光单元作为显示像素的自发光显示屏,例如可以为OLED显示屏或者LED显示屏。从而,显示屏可以作为激励光源,例如向用户的手指100发射激励光(向上实线箭头所示),激励光经手指100反射形成目标光信号(向下实线箭头所示),第一成像小孔31和第二成像小孔41可将手指100反射后的光线近于准直化的筛选出,使其到达下方指纹识别器件2,指纹识别器件2可以探测读取光线的强度,由于指纹的谷与脊向下透射光的能量不同,指纹识别器件2探测得到的光强不同,由此获取指纹信息,实现指纹识别。
具体地,如图1-图7所示,像素界定层3的材料可以采用黑色树脂,用于防止侧向漏光传导。在指纹识别器件2处,像素界定层3开孔形成第一成像小孔31用于透光。指纹识别器件2还可使用打印或蒸镀方式形成于像素界定层3的第一成像小孔31处。
下面本发明实施例以图1-图6所示的显示装置为OLED显示屏为例,对图1-图6所示的显示装置的结构进行说明。
在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图1所示,还包括:位于像素界定层3背离衬底基板1的一侧的封装层5,以及位于封装层5背离衬底基板1一侧的触控层6;遮光层4位于触控层6。
在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图1所示,触控层6包括:位于封装层5背离衬底基板1一侧层叠设置的第一金属层61和第二金属层62;遮光层4可以位于第二金属层62。这样,只需要在形成第二金属层62时改变原有的构图图形,即可通过一次构图工艺形成遮光层4与第二金属层62的图形,不用增加单独制备遮光层4的工艺,可以简化制备工艺流程,节省生产成本,提高生产效率。当然,遮光层4也可以位于第一金属层61,这样,只需要在形成第一金属层61时改变原有的构图图形,即可通过一次构图工艺形成遮光层4与第一金属层61的图形,不用增加单独制备遮光层4的工艺,可以简化制备工艺流程,节省生产成本,提高生产效率。
具体地,如图1所示,第一金属层61可以为制作桥接电极的膜层,第二金属层62可以为制作感应电极(Rx)和驱动电极(Tx)的膜层。
在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示装置中,触控层也可以仅包括第一金属层,遮光层位于第一金属层,即采用单层触控方式。
在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图2所示,还包括:位于像素界定层3和遮光层4之间的封装层5,位于封装层5和遮光层4之间的触控层6;其中,
触控层6具有与第一成像小孔31对应的多个透光孔61。
具体地,图2-图4以触控层6包括第一金属层61和第二金属层62,且透光孔61设置在第二金属层62为例进行说明。
在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图2所示,遮光层4的材料可以为黑色聚合物,例如黑矩阵材料(BM)。这样遮光层4可以直接制作在触控层6的第二金属层62上方。
在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图3所示,还包括位于触控层6和遮光层4之间的平坦层7。
在具体实施时,为了能够实现不同厚度的折叠显示屏的结构堆叠,可以通过提高指纹识别器件上表面和遮光层上表面之间的距离,因此在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图4所示,遮光层4的材料可以为金属,显示装置还包括位于触控层6和遮光层4之间的平坦层7。
平坦层的材料一般为有机材料,由于金属材料与有机材料之间的附着力较差,为例防止采用金属材料制作的遮光层脱离平坦层,在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图4所示,还包括位于平坦层7和遮光层4之间的缓冲层8,缓冲层8材料为无机材料,可以增强平坦层7和遮光层4之间的附着力。
在具体实施时,为了获得比较清晰的指纹信息,在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图5和图6所示,还包括:位于遮光层4背离衬底基板1一侧的微透镜9,微透镜9在衬底基板1上的正投影覆盖第二成像小孔41在衬底基板1上的正投影。微透镜9具有汇聚作用,可以将各感光区的反射光汇聚到对应的成像小孔内,提高指纹识别精度。
本发明通过光学设计第一成像小孔、第二成像小孔可以具有准直功能,可将手指反射后的光线近于准直化的筛选出,使其到达下方指纹识别器件,实现指纹识别。
具体地,在封装层上方设触控层,触控层由1层或多层金属网格构成,网孔和子像素对应,金属走线和像素界定层对应。为了避免杂散光,在感光区的遮光层尽可能延伸至其他相邻子像素边缘。根据产品视角要求控制遮光层与子像素的距离。
具体地,封装层为无机-有机-无机等三层或多层交替结构,且封装层为透光膜层,这样从手指反射的光可以通过第一成像小孔、第二成像小孔入射至指纹识别器件,实现指纹识别。
在具体实施时,为了进一步遮挡第一成像小孔侧面漏光,在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图1-图6所示,还包括位于第一成像小孔31四周且与像素界定层3接触设置的环状遮挡结构10,环状遮挡结构10的材料与像素界定层3的材料相同,即可以为黑色树脂,环状遮挡结构10的厚度可以为1μm-3μm。像素界定层3的厚度可以为1um~3um。
在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图1-图7所示,第一成像小孔31、第二成像小孔41和透光孔61的尺寸可以相同。第一成像小孔31、第二成像小孔41和透光孔61的孔型可以是圆形、椭圆形或矩形等形状。具体地,开孔形状以圆形为佳,可根据透光量要求和与发光子像素距离进行适当调整,形成椭圆形或矩形。
在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图1-图7所示,还包括:位于像素界定层3的像素开口内的阳极(未示出),位于阳极和封装层5之间的发光层(R、G、B),以及位于发光层(R、G、B)和封装层5之间的阴极(未示出),阴极为整面设置的结构。
在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图1-图7所示,还包括位于衬底基板1和指纹识别器件2之间的驱动电路20,驱动电路20包括薄膜晶体管(未示出),薄膜晶体管与指纹识别器件2电连接。
具体地,指纹识别器件可以是具有二极管作用的晶体管或光敏二极管(PIN)或有机光敏二极管。
需要说明的是,本发明实施例图1-图6中的指纹识别器件2和驱动电路20的位置关系仅是示意性说明,详细的电路结构以及与指纹识别器件2的电连接关系与相关技术中相同,在此不做详述。
在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图1-图7所示,还包括:位于遮光层4背离衬底基板1一侧的偏光片30,以及位于偏光片30背离衬底基板1一侧的盖板40;盖板40为柔性盖板,如PI,盖板40可以通过光学胶50(OCA)和偏光片30粘合在一起。具体地,本发明通过将触控层6集成在显示装置内,可以降低显示装置的厚度,偏光片30主要起到防反射的作用。
在具体实施时,在本发明实施例提供的上述显示装置中,如图1所示,第一成像小孔31和第二成像小孔41在衬底基板1上的正投影完全重叠的区域构成套孔结构(准直结构),起到对入射至该位置的各个角度的光线进行准直的作用,使与垂直于准直结构表面的法线呈在一定范围角度(小角度)的光线可以通过该套孔结构,超过该范围角度(大角度)的光线被截止。
具体地,在本发明实施例提供的上述显示装置中,以图1所示的显示装置为例,指纹识别的基本原理为:
当手指100接触盖板40时,控制OLED全屏点亮发出光线,光线从发光层(R、G、B)发出后,向上分别经过阴极、封装层5、触控层6、偏光片30、光学胶50和盖板40等膜层到达指纹界面,即手指100与盖板40的接触界面,在界面上反射与散射回的光线经过上述膜层时,第一成像小孔31、第二成像小孔41可将手指100反射后的光线近于准直化的筛选出,使其到达下方指纹识别器件2,指纹识别器件2可以探测读取光线的强度,由于手指100的谷与脊向下透射光的能量不同,指纹识别器件2探测得到的光强不同,由此获取指纹信息。
在具体实施时,如图1-图7所示,当手指100触摸屏幕时,可以通过设置压力传感器(可放置于屏幕下方)或利用触控屏判断是否有手指按压,或根据使用场景判断是否启动指纹识别的动作。
在具体实施时,如图1-图7所示,当需要启动指纹识别,可以均匀点亮手指100按压下方的OLED显示屏,OLED发光照射至手指100,手指100产生漫反射。指纹脊和谷的差异会使得垂直反射到下方的光线强度不同。若控制反射光线垂直反射至指纹识别器件2,避免其他杂散光线进入指纹识别器件2,即可将指纹反射的光线强度转换成电压或电流信号的强弱,用于指纹图像的采集,进行指纹识别。
如图1-图7所示,为了确保反射的光线垂直入射至指纹识别器件2,防止散射光线,需要对光路进行遮蔽。以图1为例,设置在第二金属层62的第二成像小孔41就起到了这个作用,光路如图1所示。第二金属层62的第二成像小孔41的直径为w1,像素界定层3的第一成像小孔31的直径为w2,可感光区域为w3。指纹识别器件2上表面和遮光层4上表面之间的距离为h1,遮光层4上表面和盖板40上表面之间的间距为h2,收光角为θ。收光角θ的角度与w1、w2和h1的尺寸有关:
由于光路计算还需要考虑各层材料的折射率,为便于计算说明,各折射率设置为相等。
由于在产品中,h2远大于h1,所以为了获得比较清晰的指纹信息,w3需尽可能小,且符合指纹识别的要求,w1和w2尽可能小,根据常规工艺,w1和w2尺寸可实现直径为3um~5um,本发明实施例以4um举例。通常指纹识别的分辨率需要控制在300dpi~600dpi,为了能够与显示屏集成,需要尽可能与显示屏的像素密度一致。而通常手机产品的显示屏像素密度为300ppi~600ppi,所以只要像素密度保持一致,即可支持常规指纹识别的要求。
假设产品显示像素密度为a,单位为ppi(pixels per inch),如图1-图6所示,指纹识别周期为b。为了避免交叠指纹交叠,设置在盖板40侧相邻两个感光区之间的距离为w4,则指纹识别周期b为w3+w4,且w4≥0。若w4<0,会导致图像交叠,绝对值较小时,也可以实现指纹图像的采集和识别,但绝对值过大时,也就是交叠区域过大时,会造成相邻像素的采集光强无法区分,造成图像识别困难。其中,
综合w4≥0,则遵循的原则如下:
当设置w1=w2时,则
h1为指纹识别器件2上表面和遮光层4上表面之间的距离,h2为遮光层4上表面和盖板40上表面之间的间距,w1为第二成像小孔41的孔径。
因通光量的考虑和工艺限制,假设w1和w2设计值为4um,w4最小值(min)为0.0,最大值(max)为8.0um,指纹识别周期b可以根据像素密度ppi计算出,从而能够得到w3。
因此可以通过改变像素密度(ppi)和h1的值,计算出h2的值,对应h2的设计需求如下:
表1
由表1可见,h2无法实现传统手机产品采用0.5mm厚度的玻璃产品。但可以使用于采用柔性塑料盖板的折叠、卷曲等产品。
根据指纹识别器件光感度的性能,w1和w2可进行适当调整。如w1减小到3um。h2高度的需求如下:
表2
举例说明:如表3所示,若设计440ppi的折叠产品,使用显示区的指纹识别器件实现指纹识别。若h1为15um,则h2最小为85.74um。为了能够扩展h2的厚度选择范围,通常折叠产品从驱动电路(TFT)层至盖板表面厚度130um~260um。如表3可知,此时h2最高为195.45um厚度。可以实现折叠产品的结构堆叠。但需要考虑将h1提升到25um。w1为3um,可提高h1约24um厚度。
表3
综上,采用本发明实施例的方式实现指纹识别,对开孔区距离盖板表面的距离有一定要求,随着未来折叠产品的模组厚度逐渐减薄,本发明实施例更具有竞争性。因此本发明实施例通过采用像素界定层3制作第一成像小孔31,采用遮光层4制作第二成像小孔41,通过利用显示装置内部现有膜层或重新增加的膜层作为遮光层4,以及合理设计表1-表3中的各参数,以实现不同厚度的折叠产品的结构堆叠。
本发明实施例提供的上述显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的,在此不做赘述,也不应作为对本发明的限制。
本发明实施例提供的上述显示装置,采用像素界定层上的第一成像小孔和遮光层上的第二成像小孔构成准直结构,第一成像小孔和第二成像小孔可将手指反射后的光线近于准直化的筛选出,使其到达下方指纹识别器件,指纹识别器件可以探测读取光线的强度,由于指纹的谷与脊向下透射光的能量不同,指纹识别器件探测得到的光强不同,由此获取指纹信息,实现指纹识别;并且本发明的指纹识别器件集成于显示区,可以实现大面积指纹识别。另外,本发明通过在显示装置内部的膜层上采用构图工艺制作两个成像小孔即可达到较好的准直效果,将指纹的反射光收集到对应的像素单元的指纹识别器件上,实现指纹的采集,进而实现指纹识别;本发明可以减少模组厚度,利用现有工艺,降低了成本。
尽管已描述了本发明的优选实施例,但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念,则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以,所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
显然,本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明实施例的精神和范围。这样,倘若本发明实施例的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (15)
1.一种显示装置,其特征在于,包括:
衬底基板,具有多个像素单元,每一所述像素单元包括至少两个不同颜色的子像素;
多个指纹识别器件,分别位于对应的所述像素单元内,且所述指纹识别器件在所述衬底基板上的正投影与对应的所述像素单元内的子像素在所述衬底基板上的正投影不交叠;
像素界定层,位于所述衬底基板上,所述像素界定层具有与各所述子像素对应的多个像素开口,以及具有与各所述指纹识别器件对应的多个第一成像小孔;
遮光层,位于所述像素界定层背离所述衬底基板的一侧,所述遮光层具有与所述第一成像小孔对应的多个第二成像小孔;其中,
所述第一成像小孔和对应的所述第二成像小孔被配置为:将指纹成像到所述指纹识别器件上。
2.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,还包括:位于所述像素界定层背离所述衬底基板的一侧的封装层,以及位于所述封装层背离所述衬底基板一侧的触控层;所述遮光层位于所述触控层。
3.如权利要求2所述的显示装置,其特征在于,所述触控层仅包括第一金属层,所述遮光层位于所述第一金属层;或
所述触控层包括:位于所述封装层背离所述衬底基板一侧层叠设置的第一金属层和第二金属层;所述遮光层位于所述第一金属层,或所述遮光层位于所述第二金属层。
4.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,还包括:位于所述像素界定层和所述遮光层之间的封装层,位于所述封装层和所述遮光层之间的触控层;其中,
所述触控层具有与所述第一成像小孔对应的多个透光孔。
5.如权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述遮光层的材料为黑色聚合物。
6.如权利要求5所述的显示装置,其特征在于,还包括位于所述触控层和所述遮光层之间的平坦层。
7.如权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述遮光层的材料为金属,所述显示装置还包括位于所述触控层和所述遮光层之间的平坦层。
8.如权利要求7所述的显示装置,其特征在于,还包括位于所述平坦层和所述遮光层之间的缓冲层。
9.如权利要求2或4所述的显示装置,其特征在于,还包括:位于所述遮光层背离所述衬底基板一侧的微透镜,所述微透镜在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第二成像小孔在所述衬底基板上的正投影。
10.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,还包括位于所述第一成像小孔四周且与所述像素界定层接触设置的环状遮挡结构,所述环状遮挡结构的材料与所述像素界定层的材料相同,所述环状遮挡结构的厚度为1μm-3μm。
11.如权利要求2所述的显示装置,其特征在于,所述第一成像小孔、所述第二成像小孔和所述透光孔的尺寸相同。
12.如权利要求2或4所述的显示装置,其特征在于,还包括:位于所述像素界定层的像素开口内的阳极,位于所述阳极和所述封装层之间的发光层,以及位于所述发光层和所述封装层之间的阴极。
13.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,还包括位于所述衬底基板和所述指纹识别器件之间的驱动电路,所述驱动电路包括薄膜晶体管,所述薄膜晶体管与所述指纹识别器件电连接。
14.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,还包括:位于所述遮光层背离所述衬底基板一侧的偏光片,以及位于所述偏光片背离所述衬底基板一侧的盖板;所述盖板为柔性盖板。
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