CN114315372A - 一种高强度h-BN陶瓷的制备工艺 - Google Patents
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 27
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 25
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 23
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 18
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 15
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 claims description 10
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 claims description 9
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910026551 ZrC Inorganic materials 0.000 claims description 8
- OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N [C].[Zr] Chemical compound [C].[Zr] OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 6
- 238000007580 dry-mixing Methods 0.000 claims description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 abstract description 6
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000010439 graphite Substances 0.000 abstract description 4
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 abstract description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 abstract description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 abstract description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 abstract description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 6
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine powder Natural products NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
本发明涉及一种高强度h‑BN陶瓷的制备工艺,属于高温结构功能一体化陶瓷的技术领域。可适用于雷达的传递窗、天线罩材料、高温金属熔炼坩埚、热电偶保护管、散热片、核反应堆的结构材料等。六方氮化硼(h‑BN)是由硼原子和氮原子以共价键结合而成,具有类似于石墨的层状结构,有“白石墨”之称。BN是良好的绝缘体,热膨胀系数小,且抗震性很高的优点,还具有很高的化学稳定性和优异的热稳定性。本发明通过高温固相反应制备的高强度h‑BN陶瓷。制备方法简单,制备环境要求较低,可实现大规模产业化生产。实验制备的BN陶瓷性能优于传统工艺制备的BN陶瓷,能够达到高新技术领域的严格要求,具有更为广泛的用途。
Description
技术领域
本发明涉及一种高强度h-BN陶瓷的制备工艺,属于高温结构功能一体化陶瓷的技术领域,可适用于雷达的传递窗、天线罩材料、高温金属熔炼坩埚、热电偶保护管、散热片、核反应堆的结构材料等。
背景技术
六方氮化硼(h-BN)是是由硼原子和氮原子以共价键结合而成,具有类似于石墨的层状结构,有“白石墨”之称。BN是良好的绝缘体,热膨胀系数小,且抗震性很高的优点,还具有很高的化学稳定性和优异的热稳定性。
h-BN陶瓷的制备方法主要是采用h-BN粉体,通过高温烧结形成h-BN陶瓷。由于 h-BN 是一种强共价键化合物,其固相扩散系数低,并且其独特的片层结构在烧结过程中易形成卡片房式结构,因此烧结性能很差,难以获得致密度高的陶瓷。
本专利通过高温固相反应制备的高强度h-BN陶瓷。制备方法简单,制备环境要求较低,可实现大规模产业化生产。实验制备的BN陶瓷性能优于传统工艺制备的BN陶瓷,能够达到高新技术领域的严格要求,具有更为广泛的用途。
发明内容
本发明的目的是解决了h-BN陶瓷材料烧结性能差,难以获得致密度高、强度高的h-BN陶瓷。本发明通过高温固相反应制备的高强度BN陶瓷,提供了一种高效简洁的方法。该方法对原料要求简单,且危险性小,可大量制备。该方法以碳化锆、碳化硼、氮化硅、氮化硼为原料,通过高温固相反应生成纳米级h-BN晶粒,制备出高强度的碳氮化硼陶瓷材料。
本发明所采用的技术方案是:一种高强度h-BN陶瓷的制备工艺,包括如下步骤:
1)按照质量分数,将10~70%的碳化锆粉末、0~50%的碳化硼粉末、0~60%的氮化硅粉末、0~50%的氮化硼粉末混合均匀,得到原料;
2)将所述原料置于球磨机中对其进行球磨,待其混合均匀后,干燥,得到粒径小于20μm得到混合粉料,其中混合方式可以分为干混和湿混;
3)将均匀混合的粉体置于模具中,并防置于加热炉内,真空度约为1.0×101Pa,以3~15℃/min的速率升温到1300-2500℃,加压至20-50MPa,并保温保压1-6h后降温冷却,冷却速度为5℃/min,冷却至1000-1500℃后泄压;
4)将模具取出,并取出烧结后的样品,即得所述的含有超细碳化硅陶瓷材料;
进一步的,所述的碳化锆粉末、碳化硼粉末、氮化硅粉末、氮化硼粉末的粒径均小于20μm;
进一步的,步骤2)原料混合过程中的球磨方式分为干混和湿混两种方式,其中湿混的球磨介质为正己烷;
进一步的,所述的步骤3)的升温过程分为三步,第一步以10~15℃/min的速率由室温升温到1200~1400℃,第二步以6~10℃/min的速率升温到1500~1700℃,第三步以3~8℃/min的速率升温到1800~2500℃;
进一步的,所述的步骤3)所述的将温度升到1400~2500℃,并保温时间为1-6h;
进一步的,所述的步骤3)所述的加压压力为20-50MPa,并保温保压;
进一步的,所述的步骤4)所述的将温度升到1400~2500℃,并保温时间为1-6h;
进一步的,所述的步骤4)的降温冷却为5℃/min。冷却至1000-1500℃后泄压;
本发明的有益效果是:利用碳化锆、碳化硼、氮化硅为原料,通过冷压高温固相反应生成晶粒尺寸较小的高强度h-BN陶瓷。相比于其现有的h-BN陶瓷,通过固相反应制备的h-BN陶瓷晶粒尺寸较小,致密度较大,强度较高。且本发明提供的制备工艺简单,原料成本降低,安全性高,易于控制,可用于产业化生产。
附图说明
图1:h-BN晶体结构示意图;
图2:实施例一h-BN陶瓷SEM图;
图3:实施例一h-BN陶瓷SEM图;
图4:实施例二h-BN陶瓷SEM图;
图5:实施例二h-BN陶瓷SEM图;
图6:实施例一h-BN陶瓷数据。
具体实施方式
以下结合实施例对本发明h-BN陶瓷制备方法进行详细描述。
实施例一
一种合成高强h-BN陶瓷材料的制备方法,包括如下步骤:
1)按照体积分数,将8.5g碳化锆、5.6g碳化硼、8.5g氮化硅和41g氮化硼粉末混合均匀,得到原料;
2)将所述原料置于球磨机中,按照原料与刚玉球质量比为1:3加入刚玉球,湿法球磨2h后烘干,得到粒径小于20μm的混合粉料;
3)将原料放入模具中,并置于加热炉内,煅烧制度为:以10℃/min的升温速率从室温升温至500 ℃;再以7℃/min的升温速率升温至1400 ℃;然后以5℃/min的升温速率升温至2000℃;加压30MPa,保温保温保压60min;随炉冷却;即得h-BN陶瓷材料。
实施例二
一种合成h-BN陶瓷材料的制备方法,包括如下步骤:
1)按照物质的量之比,将氮化锆、硼粉和氮化硼的物质的量之比为3:2:1的粉末混合均匀,得到原料;
2)将所述原料置于球磨机中,按照原料与刚玉球质量比为1:3加入刚玉球,湿法球磨2.5h后烘干,得到粒径小于20μm的混合粉料;
3)将样品置入模具中,并置于真空加热炉内,煅烧制度为:以10℃/min的升温速率从室温升温至500 ℃;再以7℃/min的升温速率升温至1400 ℃;然后以5℃/min的升温速率升温至1900℃;压力30MPa,保温保压30min;随炉冷却;即得h-BN陶瓷材料。
实施例三
一种合成高强h-BN陶瓷材料的制备方法,包括如下步骤:
1)按照物质的量之比,将硼粉和三聚氰胺物质的量之比为3:2的粉末混合均匀,得到原料;
2)将所述原料置于球磨机中,按照原料与刚玉球质量比为1:3加入刚玉球,湿法球磨2.5h后烘干,得到粒径小于20μm的混合粉料;
3)将样品置入橡胶模具中,在50MPa冷等静压下成型,脱模后得到坯料;
4)将所述坯料置于真空加热炉内,煅烧制度为:以10℃/min的升温速率从室温升温至500 ℃;再以7℃/min的升温速率升温至1400 ℃;然后以5℃/min的升温速率升温至1800℃;保温180min;随炉冷却;即得含有h-BN陶瓷材料。
综上,本发明公开了一种制备高强h-BN陶瓷的方法,包括如下步骤:1)按照质量分数,将10~70%的碳化锆粉末、0~50%的碳化硼粉末、0~60%的氮化硅粉末、0~50%的氮化硼粉末混合均匀,得到原料; 2)将所述原料置于球磨机中对其进行球磨,待其混合均匀后,干燥,得到粒径小于20μm得到混合粉料,其中混合方式可以分为干混和湿混;3)将均匀混合的粉体置于模具中,并防置于加热炉内,真空度约为1.0×101Pa,以3~15℃/min的速率升温到1300-2500℃,加压至20-50MPa,并保温保压1-6h后降温冷却,冷却速度为5℃/min,冷却至1000-1500℃后泄压。4)将模具取出,并取出烧结后的样品,即得所述的含有超细碳化硅陶瓷材料。该制备方法简单,可大规模制备。尽管上面对本发明的优选实施例进行了描述,但是本发明并不局限于上述的具体实施方式,上述的具体实施方式仅仅是示意性的,并不是限制性的,本领域的技术人员在本发明的启示下,在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下,还可以做出很多形式,这些均属于本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种高强度氮化硼陶瓷的制备工艺,其特征在于,包括如下实验步骤:1)按照质量分数,将10~70%的碳化锆粉末、0~50%的碳化硼粉末、0~60%的氮化硅粉末、0~50%的氮化硼粉末混合均匀,得到原料; 2)将所述原料置于球磨机中对其进行球磨,待其混合均匀后,干燥,得到粒径小于20μm得到混合粉料,其中混合方式可以分为干混和湿混;3)将均匀混合的粉体置于模具中,并防置于加热炉内,真空度约为1.0×101Pa,以3~15℃/min的速率升温到1300-2500℃,加压至20-50MPa,并保温保压1-6h后降温冷却,冷却速度为5℃/min,冷却至1000-1500℃后泄压,4)将模具取出,并取出烧结后的样品,即得所述的含有超细碳化硅陶瓷材料。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤1)所述的碳化锆粉末、碳化硼粉末、氮化硅粉末、氮化硼粉末的粒径均小于20μm。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤2)原料混合过程中的球磨方式分为干混和湿混两种方式,其中湿混的球磨介质为正己烷。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤3)的升温过程分为三步,第一步以10~15℃/min的速率由室温升温到1200~1400℃,第二步以6~10℃/min的速率升温到1500~1700℃,第三步以3~8℃/min的速率升温到1800~2500℃。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤3)所述的将温度升到1400~2500℃,并保温时间为1-6h。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤3)所述的加压压力为20-50MPa,并保温保压。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤4)的降温冷却为5℃/min,
冷却至1000-1500℃后泄压。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011054362.0A CN114315372A (zh) | 2020-09-30 | 2020-09-30 | 一种高强度h-BN陶瓷的制备工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011054362.0A CN114315372A (zh) | 2020-09-30 | 2020-09-30 | 一种高强度h-BN陶瓷的制备工艺 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN114315372A true CN114315372A (zh) | 2022-04-12 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202011054362.0A Pending CN114315372A (zh) | 2020-09-30 | 2020-09-30 | 一种高强度h-BN陶瓷的制备工艺 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN114315372A (zh) |
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PB01 | Publication | ||
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